JP6971599B2 - インプリント装置、欠陥検査方法、パターン形成方法および物品製造方法 - Google Patents
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- 基板の上のインプリント材に型を接触させ硬化させることによって前記基板の上にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記基板の上のインプリント材と前記型とが接触した状態を撮像する撮像部を含み、前記撮像部によって撮像された画像に基づいて前記パターンにおける欠陥を検査する検査部を備え、
前記検査部は、前記検査部による検査結果と外部に配置された欠陥検査装置による前記パターンの検査結果との差が小さくなるように、前記検査部において欠陥を検査するための条件を決定し、
前記検査部は、前記検査部による検査結果が前記欠陥検査装置による前記パターンの検査結果と異なる場合に前記条件を変更し、変更される前記条件は、前記パターンにおける欠陥を検査するための画像の撮像タイミングを含む、
ことを特徴とするインプリント装置。 - 前記撮像部は、前記基板の上のインプリント材と前記型とが接触した状態で複数回にわたって撮像を行うことによって複数の画像を生成し、前記検査部は、前記検査部による検査結果が前記欠陥検査装置による前記パターンの検査結果と異なる場合に、前記複数の画像のうち前記検査のために使用すべき画像を変更する、
ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。 - 前記検査部による検査結果が前記パターンに欠陥があることを示す一方で、前記欠陥検査装置による検査結果が前記パターンに欠陥がないことを示す場合に、前記検査部は、前記複数の画像のうち前記検査のために使用すべき画像を、前記複数の画像のうち、より遅いタイミングで撮像された画像に変更する、
ことを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置。 - 前記検査部による検査結果が前記パターンに欠陥がないことを示す一方で、前記欠陥検査装置による検査結果が前記パターンに欠陥があることを示す場合に、前記検査部は、前記複数の画像のうち前記検査のために使用すべき画像を、前記複数の画像のうち、より早いタイミングで撮像された画像に変更する、
ことを特徴とする請求項2又は3に記載のインプリント装置。 - 変更される前記条件は、前記撮像部によって撮像された画像を処理する条件を含む、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 基板の上のインプリント材に型を接触させ硬化させることによって前記基板の上にパターンを形成する処理において前記パターンに生じうる欠陥を検査する欠陥検査方法であって、
前記基板の上のインプリント材と前記型とが接触した状態を撮像した画像に基づいて前記パターンにおける欠陥を検査する検査工程と、
前記検査工程における検査のための条件を決定する決定工程と、を含み、
前記決定工程では、前記検査工程での検査結果と、前記検査工程で用いられた装置とは異なる欠陥検査装置による前記パターンの検査結果との差が小さくなるように前記条件を決定し、
前記決定工程では、前記検査工程による検査結果が前記欠陥検査装置による前記パターンの検査結果と異なる場合に前記条件を変更し、変更される前記条件は、前記パターンにおける欠陥を検査するための画像の撮像タイミングを含む、
ことを特徴とする欠陥検査方法。 - 基板の上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
前記基板の上のインプリント材に型を接触させ硬化させることによって前記基板の上に前記パターンを形成する工程と、
前記基板の上のインプリント材と前記型とが接触した状態を撮像した画像に基づいて前記パターンにおける欠陥を検査する検査工程と、
前記検査工程における検査のための条件を決定する決定工程と、を含み、
前記決定工程では、前記検査工程での検査結果と、前記検査工程で用いられた装置とは異なる欠陥検査装置による前記パターンの検査結果との差が小さくなるように前記条件を決定し、
前記決定工程では、前記検査工程による検査結果が前記欠陥検査装置による前記パターンの検査結果と異なる場合に前記条件を変更し、変更される前記条件は、前記パターンにおける欠陥を検査するための画像の撮像タイミングを含む、
ことを特徴とするパターン形成方法。 - 請求項1乃至5のいずれか1項に記載のインプリント装置により基板の上にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。 - 請求項7に記載のパターン形成方法により基板の上にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
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