JP2020136502A - 情報処理装置、プログラム、リソグラフィ装置、物品の製造方法、及び物品の製造システム - Google Patents
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Abstract
Description
本実施形態では、リソグラフィ装置としてインプリント装置を用いた例について説明する。図1はインプリント装置を示した図である。まず、図1を用いて、インプリント装置の代表的な構成について説明する。インプリント装置100は、基板101上に供給されたインプリント材122と型111(原版)とを接触させ、インプリント材122に硬化用のエネルギーを与えることにより、型111の凹凸パターンが転写された硬化物のパターンを形成する装置である。
次に、第2実施形態に係る補正システム500及び装置システム510について説明する。なお、ここで言及しない事項は、第1実施形態に従いうる。本実施形態では、サブシステム700が補正システム500ではなく、装置システム510に組み込まれて運用される。
本実施例における物品の製造方法について説明する。図11は、物品の製造方法を説明するための図である。インプリント装置を用いて形成した硬化物のパターンは、各種物品の少なくとも一部に恒久的に、或いは各種物品を製造する際に一時的に、用いられる。物品とは、電気回路素子、光学素子、MEMS、記録素子、センサ、或いは、型等である。電気回路素子としては、DRAM、SRAM、フラッシュメモリ、MRAMのような、揮発性或いは不揮発性の半導体メモリや、LSI、CCD、イメージセンサ、FPGAのような半導体素子等が挙げられる。型としては、インプリント用のモールド等が挙げられる。
Claims (15)
- 基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置において行われる処理を定める条件を補正する補正データを出力する第1システムを用いて前記補正データを出力する情報処理装置であって、
前記第1システムは、前記処理が行われた結果を示す処理結果が入力されると前記補正データを出力する第1モデルと、前記条件が入力されると前記処理結果を出力する第2モデルと、を備え、
前記第1システムは、前記第1モデルから出力された前記補正データを用いて前記条件を補正し、補正された前記条件を前記第2モデルに入力することにより出力された前記処理結果に基づいて、前記補正データを出力することを特徴とする情報処理装置。 - 前記第1システムは、前記処理結果が予め定めた許容範囲に収まる場合に、前記補正データを出力することを特徴とする、請求項1に記載の情報処理装置。
- 前記第1システムは、前記処理結果が予め定めた許容範囲に収まらない場合に、前記処理結果を前記第1モデルに入力することにより出力された前記補正データを用いて前記条件を再度、補正することを特徴とする、請求項1または2に記載の情報処理装置。
- 前記第1モデルは、前記処理結果と前記補正データを学習データとして用いた機械学習により生成される学習済モデルを含むことを特徴とする、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 前記第2モデルは、前記条件と前記処理結果を学習データとして用いた機械学習により生成される学習済モデルを含むことを特徴とする、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 前記リソグラフィ装置は原版のパターン部と基板上のインプリント材とを接触させてパターンを形成するインプリント装置であって、
前記処理結果は、前記原版に形成されたマークの位置に関する計測値、前記基板に形成されるマークの位置に関する計測値、前記原版に形成されたマークを撮像した画像、前記基板に形成されるマークを撮像した画像、前記パターン部に接触した前記インプリント材を撮像した画像、前記原版に作用する力の計測値、前記パターンの位置ずれ量、前記パターンの線幅の寸法、基準を満たさない前記パターンの有無、基準を満たさない前記パターンの位置、前記パターンが形成された前記基板から製造された半導体デバイスの電気特性のうち少なくとも1つの情報を含み、
前記条件は、前記基板上に供給される前記インプリント材の量、前記インプリント材が供給される位置、前記原版に形成されるマークの位置、前記基板に形成されるマークの位置、前記パターン部と前記基板上の前記インプリント材を接触させる時間、前記パターン部と前記基板上の前記インプリント材を接触させる状態で前記原版に加えられる力の大きさ、前記インプリント材に照射させる光の光量、前記光を照射させる時間、前記原版に加えられる力の大きさ、前記基板を加熱させるために照射される光の照射量、照射量分布、及び照射時間のうち少なくとも1つの情報を含むことを特徴とする、請求項1ないし5のいずれか1項に記載の情報処理装置。 - 前記補正データは、前記条件に含まれる情報を補正するための情報を含むことを特徴とする、請求項6に記載の情報処理装置。
- 前記条件を前記リソグラフィ装置に出力する第2システムに前記第1システムに関する情報を出力することを特徴とする、請求項1ないし7のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 前記第1システムは、前記条件を前記リソグラフィ装置に出力する第2システムから前記条件および前記処理結果を取得して、前記条件および前記処理結果に基づき取得した前記補正データを、前記第2システムに出力することを特徴とする、請求項1ないし8のいずれか1項に記載の情報処理装置。
- 基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置において行われる処理を定める条件を補正する補正データを出力する第1システムを用いてコンピュータに前記補正データを出力させるプログラムであって、
前記第1システムは、前記処理が行われた結果を示す処理結果が入力されると前記補正データを出力する第1モデルと、前記条件が入力されると前記処理結果を出力する第2モデルと、を備え、
前記第1システムは、前記第1モデルから出力された前記補正データを用いて前記条件を補正し、補正された前記条件を前記第2モデルに入力することにより出力された前記処理結果に基づいて、前記補正データを出力することを特徴とするプログラム。 - 基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、請求項1ないし9のいずれか1項に記載の情報処理装置を有し、
前記リソグラフィ装置において行われる処理の条件を補正する補正データを出力するシステムを用いて前記補正データを出力することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項11に記載のリソグラフィ装置を用いて、パターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、を有し、
前記処理された基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。 - 請求項1ないし9のいずれか1項に記載の情報処理装置と、
原版を用いて基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置と、
基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置において行われる処理を定める条件を前記リソグラフィ装置に出力する第2システムと、を有し
前記第2システムは、前記第1システムを用いて出力された補正データを用いて補正された前記条件を前記リソグラフィ装置に出力することを特徴とする物品の製造システム。 - 前記リソグラフィ装置によりパターンが形成された基板を検査する検査装置を有し、
前記処理結果は、前記検査装置により検査された結果のデータを含むことを特徴とする、請求項13に記載の物品の製造システム。 - 複数の前記リソグラフィ装置を有し、
複数の前記リソグラフィ装置のうち少なくとも1つに用いられる前記第1システムは、他の前記リソグラフィ装置に用いられる前記第1システムとは異なることを特徴とする請求項13または14に記載の物品の製造システム。
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