CN105977273A - 显示装置及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

提供了一种显示装置及其制造方法。该显示装置包括：第一基板，包括具有多个像素的显示区域和在显示区域周围的外围区域；薄膜晶体管，位于第一基板上；像素电极层，位于薄膜晶体管上并且包括位于显示区域中的多于一个的像素电极；像素限定层，位于像素电极层上并且包括与电压传输电极叠置的外围部分。外围部分包括间隔件和倾斜部分，倾斜部分连接到间隔件并且位于间隔件的第一侧，倾斜部分具有凹的倾斜表面。

Description

显示装置及其制造方法
本申请要求于2015年3月10日提交的第10-2015-0033310号韩国专利申请的优先权和所有权益，通过引用将该韩国专利申请的全部内容包含于此。
技术领域
本公开涉及一种显示装置及其制造方法。
背景技术
诸如以液晶显示器(LCD)、有机发光二极管(OLED)显示器和电泳显示器为例的显示装置包括场发生电极和电光活性层。例如，LCD装置包括作为电光活性层的液晶层。场发生电极连接到诸如薄膜晶体管的开关元件以接收数据信号，电光活性层将数据信号转换成光学信号以显示图像。
在显示装置之中，因为作为自发光类型的有机发光二极管(OLED)显示器不需要单独的光源，所以它在功耗方面是有优势的，并且它的响应速度、视角和对比度是卓越的。
有机发光二极管(OLED)显示器包括诸如红色像素、蓝色像素、绿色像素和白色像素的多个像素，并且可以通过组合像素表达全色。每个像素包括有机发光元件和用于驱动有机发光元件的多个薄膜晶体管。
有机发光二极管(OLED)显示器的发光元件包括像素电极、对电极和位于这两个电极之间的发光层。像素电极和对电极中的一个被称为阳极，而另一个电极被称为阴极。从阴极注入的电子和从阳极注入的空穴在发光层中相互结合以形成激子，激子在释放能量的同时发光。对电极贯穿多个像素来形成以传递预定的共电压。
在显示装置中，当诸如水分或氧的杂质从周围环境流到显示装置中时，发生电极的氧化和剥离等，结果，使装置的寿命缩短或发光效率会劣化，并且会发生诸如发光颜色的变形的问题。
因此，在制造显示装置时，执行密封使得内部元件与外界分离开以防止诸如水分的杂质渗透。在有机发光二极管(OLED)显示器的情况下，就这样的密封方法而言通常可以是：将包括诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)的有机聚合物的层层压在完成的下基板上的方法、在包封基板上形成盖或帽并且用密封剂密封下基板和包封基板的盖的边缘的方法或类似方法。
在此背景技术部分中公开的上述信息仅用于增强对背景技术的理解，因此它可以包含不构成对于本领域的普通技术人员而言在本国已知的现有技术的信息。
发明内容
一种根据实施例的显示装置包括：第一基板，包括显示区域和外围区域，显示区域包括多个像素，外围区域位于显示区域周围；薄膜晶体管，位于第一基板上；像素电极层，位于薄膜晶体管上，并且包括位于显示区域中的多个像素电极和位于外围区域中的电压传输电极；像素限定层，位于像素电极层上并且包括与电压传输电极叠置的外围部分，其中，外围部分包括间隔件和连接到间隔件并且位于间隔件的第一侧的倾斜部分，其中，倾斜部分具有凹的倾斜表面。
外围部分还可以包括连接到间隔件并且位于间隔件的与第一侧相对的第二侧的主体部分。
还可以包括面对第一基板的第二基板和形成在第一基板与第二基板之间并且位于外围区域中的密封剂，主体部分可以位于面对密封剂的一侧。
间隔件的顶表面的相对于第一基板的高度可以比主体部分和倾斜部分的顶表面的高度高。
倾斜部分的厚度可以比主体部分的厚度小。
主体部分的底表面的高度可以比倾斜部分的底表面的高度低。
还可以包括位于外围区域中并且传输共电压的电压传输线以及位于薄膜晶体管与像素电极层之间的钝化层，其中，钝化层可以包括暴露电压传输线的边缘侧表面，电压传输电极可以包括覆盖钝化层的边缘侧表面的第一部分和连接到电压传输线的第二部分。
间隔件可以包括覆盖钝化层的边缘侧表面的至少一部分。
外围部分可以覆盖电压传输电极的边缘。
间隔件的处于第一侧的边缘可以具有凹凸形状并且包括交替地布置的凹部和凸部。
倾斜部分可以包括在平面图中位于凹部中的多个部分，包括在倾斜部分中的多个部分均可以具有凹的倾斜表面。
电压传输电极可以包括多个孔，倾斜部分的所述多个部分均可以各自与每个孔叠置。
所述多个孔之中的同与倾斜部分叠置的第一孔相邻的孔可以设置成与第一孔对齐。
所述多个孔之中的同与倾斜部分叠置的第一孔相邻的孔可以设置成从第一孔偏移。
间隔件的处于第一侧的具有凹凸形状的边缘可以包括具有相互不同的长度的第一凸状部分和第二凸状部分。
间隔件和倾斜部分可以沿第一基板的边缘侧延长。
一种根据实施例的制造显示装置的方法包括：在包括显示区域和在显示区域周围的外围区域的第一基板上形成薄膜晶体管；在薄膜晶体管上形成包括位于显示区域中的多个像素电极和位于薄膜晶体管上的外围区域中的电压传输电极的像素电极层；在像素电极层上涂覆感光材料以形成涂覆层；通过利用包括光透射部、光阻挡部和半透射部的光掩模对涂覆层进行曝光；对曝光后的涂覆层进行显影；对显影后的涂覆层进行硬化以形成包括与电压传输电极叠置的外围部分的像素限定层，其中，外围部分包括间隔件和连接到间隔件并且位于间隔件的第一侧的倾斜部分，其中，倾斜部分具有凹的倾斜表面。
外围部分还可以包括连接到间隔件且位于间隔件的与第一侧相对的第二侧的主体部分。
与主体部分对应的涂覆层的厚度可以比与倾斜部分对应的涂覆层的厚度厚。
根据实施例，当对包括密封剂的显示装置施加冲击时，冲击波被有效地分散，使得可以防止冲击波被传输到密封剂，从而增大了显示装置的强度。
可以增大包封区的粘合可靠性而没有包括密封剂的显示装置的电极的故障。
可以提供一种具有高强度同时具有窄边框的显示装置。
附图说明
图1是根据实施例的显示装置的布局图；
图2是根据实施例的显示装置的一个像素的剖视图；
图3是根据实施例的显示装置的外围区域的布局图；
图4是作为图3中示出的显示装置的外围区域的一部分的区域A、区域B或区域C的放大的布局图；
图5是沿线V-V截取的图4的显示装置的剖视图；
图6是沿线VI-VI截取的图4的显示装置的剖视图；
图7是示出根据实施例的显示装置的外围区域的平面形状的照片；
图8是示出当冲击作用于根据实施例的显示装置时在外围区域中防止冲击波的现象的图；
图9是根据实施例的显示装置的外围区域的布局图；
图10是作为图9中示出的显示装置的外围区域的一部分的区域A、区域B或区域C的放大的布局图；
图11是沿线XI-XI截取的图10的显示装置的剖视图；
图12、图13和图14分别是根据另一个示例性实施例的作为图3中示出的显示装置的外围区域的一部分的区域A、区域B或区域C的放大的布局图；
图15、图16、图17、图18、图19和图20是示出根据实施例的位于显示装置的外围区域中的像素限定层的外围部分的平面形状的顶部平面图；
图21是示出根据实施例的显示装置的外围区域的一部分的布置的照片；
图22是根据实施例的在显示装置的制造方法的一道工艺中用于像素限定层的涂覆层和光掩模的剖视图；
图23是根据实施例的在显示装置的制造方法的工艺之中的在图22中示出的工艺中的像素限定层的剖视图；以及
图24是根据实施例的在显示装置的制造方法的工艺之中的在图23中示出的工艺中的像素限定层的剖视图。
具体实施方式
以下将参照示出了本发明的某些实施例的附图更充分地描述本公开。如本领域的技术人员将认识到的，在不脱离本发明的精神或范围的情况下，可以以各种方式修改所描述的实施例。
在附图中，为了清晰可见，可以夸大层、膜、面板、区域等的厚度。在整个说明书中，同样的附图标记通常指示同样的元件。将理解的是，当诸如层、膜、区域或基板的元件被称作“在”另一元件“上”时，该元件可以直接在所述另一元件上，或者也可以存在中间元件。相反，当元件被称作“直接在”另一元件“上”时，不存在中间元件。
在整个本说明书和权利要求书中，当被描述为元件“结合”到另一元件时，该元件可以“直接结合”到所述另一元件或者通过第三元件“电结合”到所述另一元件。此外，除非明确描述为相反，否则词语“包括”及其变型(例如，“具有”或“包含”)将被理解为暗指包括所陈述的元件，但不排除任何其他元件。
将参照图1至图8描述根据实施例的显示装置。
图1是根据实施例的显示装置的布局图，图2是根据实施例的显示装置的一个像素的剖视图，图3是根据实施例的显示装置的外围区域的布局图，图4是作为图3中示出的显示装置的外围区域的一部分的区域A、区域B或区域C的放大的布局图，图5是沿线V-V截取的图4的显示装置的剖视图，图6是沿线VI-VI截取的图4的显示装置的剖视图。
首先，参照图1和图3，当在平面图中观看时，根据实施例的显示装置的显示面板1包括显示图像的区域的显示区域DA和在显示区域DA周围的外围区域PA。参照图2，当从剖视图看时，显示装置1包括彼此面对的下基板110和包封基板210。
下基板110包括显示区域DA和在显示区域DA周围的外围区域PA1，包封基板210包括显示区域DA和在显示区域DA周围的外围区域PA2。当在平面图中看时，包封基板210的外围区域PA2可以被包括在下基板110的外围区域PA1中。显示装置1的外围区域PA包括下基板110的外围区域PA1和包封基板210的外围区域PA2。
参照图3，包封基板210的边缘可以包括上侧边缘E1、面对上侧边缘E1的下侧边缘E2以及连接在上侧边缘E1和下侧边缘E2之间的右侧边缘E3和左侧边缘E4。如附图中所示，上侧边缘E1、下侧边缘E2、右侧边缘E3或左侧边缘E4均可以基本上是直线，它们中的至少一个可以包括曲线部分。
显示区域DA包括多条信号线和连接到信号线的多个像素PX。多个像素PX可以基本上以矩阵形式布置，然而它们不限于此。
信号线设置在下基板110上，并且包括传递扫描信号的多条栅极线或扫描信号线G1至Gn和传递数据电压的多条数据线D1至Dm。栅极线G1至Gn基本上沿行方向延伸并且几乎相互平行，数据线D1至Dm基本上沿列方向延伸并且几乎相互平行。
参照图1和图2，位于显示区域DA中的像素PX可以包括与栅极线G1至Gn中的至少一条、数据线D1至Dm中的至少一条和数据导线171连接的至少一个开关元件Qd，连接到开关元件Qd的至少一个像素电极191以及对电极270。在有机发光二极管(OLED)显示器的情况下，发光层位于像素电极191与对电极270之间以形成发光元件。开关元件Qd可以包括至少一个薄膜晶体管。对电极270可以传输共电压ELVSS。
为了实现颜色显示，每个像素PX可以显示原色中的一种，可以通过组合原色来识别期望的颜色。原色的示例可以包括诸如红色、绿色和蓝色等的三原色或四原色。每个像素PX还可以包括位于与每个像素电极对应的位置处且呈现原色中的一种颜色的滤色器，发光层可以是彩色发光层。
参照图1，包封基板210可以暴露下基板110的外围区域PA1的一部分，暴露部分被称为衬垫部分(pad part)。在衬垫部分中，用于驱动发光器件的至少一个数据驱动器500可以以至少一个IC芯片的类型安装。可选择的，驱动器500可以以TCP(带载封装件)的类型安装在将要附着到衬垫部分的柔性印刷电路(FPC)膜或印刷电路板上，或者可以与下基板110直接集成。从诸如显示区域DA的数据线D1至Dm的信号线延伸的端部可以位于衬垫部分中。数据驱动器500可以连接到数据线D1至Dm的所述端部并且将数据信号传输到数据线D1至Dm。
驱动发光器件的栅极驱动器400也可以位于下基板110的被包封基板210覆盖的外围区域PA1中。驱动器400可以以至少一个IC芯片的类型安装在下基板110上，或者可以以TCP的类型安装在将要附着到下基板110的柔性印刷电路(FPC)膜或印刷电路板上，或可以与下基板110集成。栅极驱动器400可以连接到栅极线G1至Gn并且将栅极信号传输到栅极线G1至Gn。
现在，将参照图1至图6描述根据实施例的显示装置的详细结构。
缓冲层111可以位于包括透明玻璃或塑料的下基板110的外围区域PA1和显示区域DA上。缓冲层111可以防止杂质渗透，它的表面可以是平坦的。缓冲层111可以包括氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)或氮氧化硅(SiOxNy)等。在一些实施例中可以省略缓冲层111。
至少一个半导体层位于缓冲层111上。
半导体层包括位于显示区域DA中的第一半导体154b。第一半导体154b可以包括沟道区152b与位于沟道区152b两侧且形成为被掺杂的源区153b和漏区155b。半导体层还可以包括位于下基板110的外围区域PA1中的至少一个第二半导体150d(见图5)。虽然未示出，但是第二半导体150d可以包括沟道区与位于沟道区两侧且形成为被掺杂的源区和漏区。
半导体层可以包括非晶硅、多晶硅或氧化物半导体。
包括氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)的栅极绝缘层140位于半导体层上。
多个栅极导体位于栅极绝缘层140上。栅极导体包括位于显示区域DA中的第一控制电极124b。第一控制电极124b可以与第一半导体154b的一部分(尤其是沟道区)叠置。栅极导体还可以包括位于外围区域PA1和PA2中的至少一个第二控制电极120d(见图5)。第二控制电极120d可以包括与第二半导体150d(尤其是第二半导体150d的沟道区)叠置的一部分。
栅极导体还可以包括位于外围区域PA1和PA2中的热传输层23(见图5)。
第一钝化层180a位于栅极绝缘层140和栅极导体上。第一钝化层180a和栅极绝缘层140在显示区域DA中可以包括暴露第一半导体154b的源区153b的接触孔183b和暴露漏区155b的接触孔185b。第一钝化层180a和栅极绝缘层140在外围区域PA1和PA2中可以包括分别暴露第二半导体150d的源区和漏区的接触孔(未示出)。
多个数据导体位于第一钝化层180a上。
数据导体可以包括多条数据导线171、驱动电压线(未示出)和多个第一输出电极175b。驱动电压线传输驱动电压ELVDD并且可以包括朝向第一控制电极124b延伸的多个第一输入电极173b。第一输出电极175b在第一半导体154b上面对第一输入电极173b。第一输入电极173b和第一输出电极175b可以分别通过接触孔183b和185b连接到第一半导体154b的源区153b和漏区155b。
数据导体还可以包括位于外围区域PA1和PA2中的电压传输线177(见图5)。电压传输线177传输共电压ELVSS。
参照图3，电压传输线177可以包括主传输部分177a和连接到主传输部分177a的端部177b。主传输部分177a沿显示区域DA的边缘形成并且沿包封基板210的上侧边缘E1、右侧边缘E3和左侧边缘E4延伸。端部177b定位为靠近下侧边缘E2并且可以延伸到下基板110的衬垫部分。端部177b可以包括位于主传输部分177a的对应端部且在下侧边缘E2附近彼此分离的两个部分，但不限于此。
数据导体还可以包括位于外围区域PA1和PA2中的至少一个第二输入/输出电极170d(见图5)。数据导体还可以包括位于外围区域PA1和PA2中的测试信号线17te(见图5)。在一些实施例中可以省略测试信号线17te。
第一控制电极124b、第一输入电极173b和第一输出电极175b沿第一半导体154b形成作为晶体管的开关元件Qd。开关元件Qd的结构不限于此，而是可以在各种实施例中改变。
第二控制电极120d、第二输入/输出电极170d和第二半导体150d可以一起形成至少一个晶体管411。晶体管411可以被包括在驱动器中以驱动发光器件。这个驱动器可以是将栅极信号输出到栅极线G1至Gn的栅极驱动器。
包括无机绝缘材料和/或有机绝缘材料的第二钝化层180b位于数据导体上。第二钝化层180b可以具有基本平坦的表面以提高将形成于其上的有机发光元件的发射效率。第二钝化层180b在显示区域DA中可以具有暴露第一输出电极175b的接触孔185c。
在外围区域PA1中，第二钝化层180b暴露电压传输线177的至少一部分。参照图5和图6，第二钝化层180b包括位于外围区域PA1中的边缘侧表面186，边缘侧表面186可以包括位于电压传输线177的顶表面中的底侧。因此，第二钝化层186b可以在外围区域PA1中暴露电压传输线177。
像素电极层位于第二钝化层180b上。
像素电极层包括位于显示区域DA的每个像素PX中的像素电极191。像素电极191通过第二钝化层180b的接触孔185c物理连接到且电连接到第一输出电极175b。
像素电极层还可以包括位于外围区域PA1和PA2中的电压传输电极197。参照图5和图6，电压传输电极197包括覆盖外围区域PA1和PA2中的第二钝化层180b的边缘侧表面186的一部分并且物理连接到且电连接到电压传输线177，从而接收共电压ELVSS。电压传输电极197可以在覆盖第二钝化层180b的边缘侧表面186的部分上形成阶梯。
参照图3，电压传输电极197可以沿显示区域DA形成，例如，可以由包围显示区域DA的闭合线形成，但其不限于此。电压传输电极197可以以如所示的均一的宽度延伸，然而它可以根据位置具有不同的宽度。当电压传输电极197具有不均一的宽度时，具有不同宽度的部分可以交替地设置。
电压传输电极197可以包括多个孔97。多个孔97形成在第二钝化层180b上。作为示例，孔97可以以诸如矩阵形状的预定类型布置，或不以此类型布置。当在后续工艺中施加热时，孔97提供排出第二钝化层180b中产生的气体的出口，从而防止电压传输电极197被气体从第二钝化层180b抬起。
像素电极层可以包括半透射导电材料或反射导电材料。
参照图2，基板110上的层(例如，从缓冲层111到第二钝化层180b的层)一起被称为晶体管层TFL。
像素限定层360位于第二钝化层180b和像素电极层上。
参照图2、图5和图6，像素限定层360包括间隔件360F，间隔件360F具有相对于主体部分360H和下基板110比主体部分360H的顶表面高的顶表面。间隔件360F形成为比主体部分360H高，使得顶表面可以接触包封基板210的表面。间隔件360F可以均匀地保持包封基板210与下基板110之间的分离距离。
位于显示区域DA中的像素限定层360的主体部分360H具有暴露每个像素电极191的、限定每个像素PX的区域的多个孔365。像素限定层360的位于显示区域DA中的间隔件360F连接到主体部分360H。在显示区域DA中，间隔件360F可以位于相邻的像素PX之间。
像素限定层360的位于外围区域PA1和PA2中的主体部分360H包括多个部分，其中，每个部分覆盖电压传输电极197的对应孔97。主体部分360H的覆盖孔97的部分基本上位于第二钝化层180b的顶表面上。主体部分360H的均覆盖对应孔97的部分可以彼此分离，使得主体部分360H的覆盖孔97的每个部分可以具有岛形。图5描绘了设置这样的岛形主体部分360H的剖视图，而图6描绘了没有设置这样的岛形的主体部分360H的剖视图。
位于外围区域PA1和PA2中的像素限定层360包括外围部分360E。外围部分360E可以覆盖电压传输电极197的边缘，并且包括与电压传输电极197叠置的部分。外围部分360E位于第二钝化层180b的边缘侧表面186上从而包括与边缘侧表面186叠置的部分。外围部分360E可以包括与电压传输线177的一部分的顶表面直接接触的部分。外围部分360E位于下面描述的密封剂310与靠近密封剂310设置的显示区域DA之间。
详细的说，参照图4、图5和图6，外围部分360E包括彼此连接的主体部分360H、间隔件360F和倾斜部分360N。间隔件360F位于主体部分360H与倾斜部分360N之间。
外围部分360E的主体部分360H位于电压传输电极197上，并且覆盖电压传输电极197的边缘以使电压传输电极197不被暴露于外部。外围部分360E的主体部分360H可以沿电压传输电极197的边缘延长。此外，在外围部分360E中，主体部分360H可以包括与包封基板210的上侧边缘E1、右侧边缘E3和左侧边缘E4中的至少一个平行地延伸的部分。在外围部分360E中，主体部分360H可以包括与电压传输线177的顶表面接触的部分。外围部分360E的主体部分360H可以位于与下面描述的密封剂310相对的一侧。
外围部分360E的间隔件360F连接到主体部分360H并且可以具有比主体部分的高度高的高度。在外围部分360E中，间隔件360F的顶表面的至少一部分可以与包封基板210的下表面直接接触。外围部分360E的间隔件360F的厚度可以比主体部分360H的厚度厚。在外围部分360E中，间隔件360F位于第二钝化层180b的边缘侧表面186上并且可以包括与边缘侧表面186叠置的部分，然而，其不限于此。
参照图4，在外围部分360E的间隔件360F的边缘之中不与主体部分360H接触的边缘可以具有凸起和凹陷形状、锯齿形状或之字形状等。间隔件360F的具有凸起和凹陷形状的边缘可以包括交替地布置的凹状部分(凹陷)36D和凸状部分(凸起)36P。间隔件360F的凸起和凹陷形状的边缘的凹状部分36D和凸状部分36P的形状可以是诸如圆形形状或椭圆形形状的环形形状，然而，其不限于此，例如，它可以是诸如三角形或四边形的各种形状。此外，在外围部分360E中，间隔件360F的凸起和凹陷形状的边缘的凹状部分36D和凸状部分36P的形状可以沿间隔件360F的延伸方向是均匀的，或者相互不同的形状可以规律地布置。
倾斜部分360N连接到外围部分360E的间隔件360F。倾斜部分360N的最顶表面的高度低于间隔件360F的最顶表面的高度，倾斜部分360N的厚度可以小于间隔件360F的厚度。此外，在外围部分360E中，相对于间隔件360F位于外侧的主体部分360H的厚度可以比相对于间隔件360F邻近显示区域DA定位的倾斜部分360N的厚度厚。外围部分360E的主体部分360H位于相对于第二钝化层180b的边缘侧表面186不具有第二钝化层180b的区域上，外围部分360E的倾斜部分360N可以位于相对于第二钝化层180b的边缘侧表面186存在第二钝化层180b的区域上。因此，外围部分360E的主体部分360H的底表面的高度可以比倾斜部分360N的底表面的高度低。
作为倾斜部分360N的顶表面的倾斜表面36S可以是朝向显示区域DA的倾斜表面。
倾斜部分360N的倾斜表面36S相对于下基板110的一个高度可以距离连接到间隔件360F的部分越远而越低。参照图4，倾斜部分360N的倾斜表面36S可以较低以靠近于相邻的间隔件360F的凹状部分36D和凸状部分36P。
尤其是，倾斜部分360N的倾斜表面36S可以形成凹的倾斜表面。如图5中所示，在显示装置的剖视图中，离连接到间隔件360F的部分越远，与倾斜部分360N的倾斜表面36S接触的假想切线的斜率可以具有减小的绝对值。倾斜部分360N的倾斜表面36S可以形成凹表面。倾斜部分360N的倾斜表面36S可以具有与沙丘的凹倾斜表面相似的形状。
如图4至图6所示，在平面图中，倾斜部分360N可以被间隔件360F的凸状部分36P划分成多个部分。图5描绘设置了倾斜部分360N的剖视图，图6描绘没有设置倾斜部分360N的剖视图。在平面图中，倾斜部分360N的每个部分可以位于与间隔件360F对应的凹状部分36D中。倾斜部分360N的每个倾斜表面36S可以具有凹的倾斜表面。倾斜部分360N的每个部分的倾斜面36S的高度可以基本上朝向不与间隔件360F相邻的外边缘36N的中心CT而减小。
图6示出没有设置倾斜部分360N的剖视图。参照图6，间隔件360F的与邻近的倾斜部分360N之间的部分对应的右侧侧表面可以具有与倾斜部分360N的倾斜表面36S不同的形状，但是可以具有与间隔件360F的左侧侧表面相似的形状或具有与间隔件360F的左侧侧表面相似或相同的倾斜程度。然而，实施例不限于此，间隔件360F的与邻近的倾斜部分360N之间的部分对应的右侧侧表面可以具有与间隔件360F的左侧侧表面不同的形状。据此，间隔件360F的右侧侧表面的倾斜程度可以比间隔件360F的左侧侧表面更缓慢地变化，间隔件360F的右侧侧表面可以具有与倾斜部分360N的倾斜表面36S比较类似的形状。即，根据实施例的倾斜部分360N可以沿间隔件360F的右侧连续地形成，而不是以多个分离的部分形成。在这种情况下，连续的倾斜部分360N的倾斜表面的形状或倾斜程度可以沿间隔件360F的右侧周期性地变化。
倾斜部分360N的被凸状部分36P划分的每个部分与间隔件360F相邻所处的边缘侧的形状可以取决于间隔件360F的凹状部分36D的形状。当凹状部分36D的形状是曲线时，倾斜部分360N的每个部分与间隔件360F相邻所处的边缘侧的形状可以由曲线形成。在这种情况下，作为示例，倾斜部分360N的每个部分可以由诸如抛物线形沙丘的形状形成。
图7是示出与图4对应的显示装置的平面形状的照片。参照图7，如上面描述的，对于倾斜部分360N，在下基板110之上的倾斜表面36S的高度朝向倾斜部分360N的外边缘36N(如箭头AR所示)而降低。此外，图7示出倾斜部分360N的每个部分与间隔件360F相邻所处的边缘侧的形状形成诸如圆的曲线的示例。
返回参照图4，倾斜部分360N的不与到外围部分360E的间隔件360F连接的外边缘36N可以与间隔件360F的凸状部分36P的外侧近似对齐，然而，它不限于此，而是它可以偏移。
如图4和图7所示，倾斜部分360N可以与电压传输电极197的多个孔97的部分叠置。详细的说，倾斜部分360N可以与电压传输电极197的多个孔97之中的最接近电压传输线177设置的一列孔97对应地设置。当倾斜部分360N被间隔件360F的凸状部分36P划分成多个部分时，倾斜部分360N的每个部分可以与如上面描述的电压传输电极197的一个孔97或者两个或更多个孔97对应地设置。
像素限定层360可以包括诸如聚丙烯酸酯树脂或聚酰亚胺系列的感光材料。
在显示区域DA中，发射构件370位于像素限定层360和像素电极191上。参照图2，发射构件370可以包括顺序层叠的第一有机公共层371、多个发射层373和第二有机公共层375。
第一有机公共层371可以包括空穴注入层(HIL)和空穴传输层(HTL)中的至少一个。第一有机公共层371可以形成在设置有像素PX的整个显示区域之上，或者可以仅形成在每个像素PX区域中。
发射层373可以位于每个对应的像素PX的像素电极191上。发射层373可以包括唯一地发射诸如红色、绿色和蓝色的原色的光的有机材料，并且可以具有发射不同颜色的光的多个有机材料层层叠的结构。根据实施例，发射层373可以包括呈现白色的白色发射层。
第二有机公共层375可以包括例如电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)中的至少一个。
在一些实施例中可以省略第一有机公共层371和第二有机公共层375中的至少一个。
传输共电压ELVSS的对电极270设置在发射构件370上。对电极270如图5和图6所示主要位于显示区域DA中并延伸到外围区域PA1和PA2，并且通过像素限定层360的主体部分360H的接触孔366物理地连接到且电连接到电压传输电极197，从而接收共电压ELVSS。
对电极270可以包括透明导电材料。例如，当对电极270包括诸如以Ca、Ba、Mg、Al和Ag为例的金属时，金属层可以薄薄地形成以具有透光功能。
每个像素PX的像素电极191、发射构件370和对电极270形成发光二极管，像素电极191和对电极270中的一个作为阴极，而另外一个作为阳极。
面对下基板110的包封基板210位于对电极270上。
包封基板210可以通过对发射构件370和对电极270进行包封来防止水分和/或氧从外部穿入。
密封剂310位于下基板110与包封基板210之间。密封剂310位于下基板110的外围区域PA1与包封基板210的外围区域PA2中，并且在形成闭合线的同时包围显示区域DA。密封剂310使下基板110和包封基板210结合并固定并且防止来自外部的诸如水分和氧的杂质渗透到下基板110和包封基板210之间，从而包封发光器件的电光活性层。
密封剂310可以包括具有优异的防潮性的玻璃料，并且也可以包括有机密封剂和吸湿剂。尤其是，密封剂310可以包括位于下基板110与包封基板210之间的密封剂以通过施加热来使下基板110与包封基板210融合。在这种情况下，可以通过利用红外线灯或激光等来施加热。可选择的，密封剂310也可以包括可以吸收激光或红外光等的光吸收剂。玻璃料可以通常使用玻璃粉末中包括的氧化物粉末，并且可以包括有机材料从而处于糊状。当通过施加热使涂覆在下基板110与包封基板210之间的玻璃料熔化时，下基板110和包封基板210可以通过炽热的玻璃料彼此结合，并且显示装置的内部元件可以被完全地包封。
密封剂310与下基板110上的热传输层23叠置，使得在制造工艺中可以通过热传输层23容易地传输热。
在一个实施例中，如果像素限定层360的外围部分360E中包括的倾斜部分360N形成凹的倾斜表面，那么当对显示装置1施加冲击时，通过倾斜部分360N使冲击波分散或抵消，使得传输到密封剂的冲击波的量可以减少。下面参照图8对此进行描述。
图8中的部分(A)示出当将冲击施加到显示装置1时，冲击波传输到显示装置1的边缘侧的形状，部分(B)和部分(C)是冲击波在显示装置1的右侧外围区域和左侧外围区域中的倾斜部分360N中被分散或抵消使得冲击波没有传输到密封剂310位于的边缘区的形状。尤其是，倾斜部分360N的倾斜表面36S形成凹的倾斜表面，使得冲击波可以被进一步有效地分散。
根据一个实施例，可以有效地防止冲击波传输到密封剂310，从而显示装置1的刚度可以得到改善，并且可以获得大于大约10％的落锤强度改善结果(falling weight strength improvement result)。
此外，显示装置1的强度得以改善，使得密封剂310的宽度可以减小，从而减小外围区域PA1和PA2或边框的面积。
如图5和图6所示，密封剂310可以不与电压传输电极197叠置，然而，其不限于此，它可以与电压传输电极197的一部分叠置。根据实施例，覆盖电压传输电极197的边缘的外围部分360E包括厚的间隔件360F，使得虽然密封剂310与外围部分360E叠置，但是通过密封剂310的压力没有传输到电压传输电极197，从而可以防止电压传输电极197被轻易地损坏。因此，可以防止由电压传输电极197与其他电极之间的短路造成的显示区域DA的显示故障。
另外，根据实施例，因为密封剂310与电压传输电极197叠置，所以可以减小密封剂310的宽度。因此，可以改善下基板110与包封基板210之间的粘附性，使得粘附可靠性增加并且可以增加显示装置1的强度。此外，与传统技术相比，可以减小形成密封剂310时的工艺余量使得密封剂310可以靠近显示区域DA形成，从而减小了显示装置1的外围区域PA1和PA2或者边框的面积。
此外，根据实施例，在像素限定层360的外围部分360E中，具有比间隔件360F的高度低的高度的主体部分360H和倾斜部分360N位于间隔件360F的两侧，使得当组合的下基板110与包封基板210之间的距离部分地发生变化时，所述变化是平滑的，从而整体地保持下基板110与包封基板210之间的均匀的距离。外围部分360E可以作为均匀地保持下基板110与包封基板210之间距离的缓冲件，在密封剂310附近下基板110和包封基板210之间的距离与在显示区域DA附近下基板110和包封基板210之间的距离可以得以平衡。因此，当下基板110与包封基板210之间的间隔不均匀时，由从外部入射的光产生的光学干涉现象可以造成牛顿环。因此，通过本发明可以避免牛顿环。
接下来，将参照图9至图11以及先前描述的附图来描述根据另一实施例的显示装置。由相同的附图标记指示与上面描述的实施例相同的组成元件，省略重复的描述。
图9是根据实施例的显示装置的外围区域的布局图，图10是作为图9中示出的显示装置的外围区域的一部分的区域A、区域B或区域C的放大的布局图，图11是沿线XI至XI截取的图10的显示装置的剖视图。
参照图9至图11，显示装置1与上述实施例中的大部分相同，但是示出的是密封剂310与像素限定层360的外围部分360E叠置的示例。图10和图11示出密封剂310与像素限定层360的外围部分360E之中的主体部分360H叠置的示例，然而其不限于此，密封剂310可以与像素限定层360的外围部分360E的主体部分360H和间隔件360F叠置。
接下来，将参照图12至图14以及先前描述的附图来描述显示装置1的外围区域的结构的各种示例。与上面描述的实施例相同的组成元件指示相同的附图标记，省略重复的描述。
图12、图13和图14分别是作为图3中示出的显示装置的外围区域的一部分的区域A、区域B或区域C的放大的布局图。
参照图12，显示装置1与图1至图8示出的实施例中的大部分相同，但是像素限定层360的外围部分360E的倾斜部分360N不与电压传输电极197的孔97叠置。在这种情况下，倾斜部分360N形成凹的倾斜表面，并且其倾斜表面36S的高度是减小的，可以使冲击波分散或抵消。
然而，当倾斜部分360N与电压传输电极197的多个孔97中的一部分叠置时，倾斜部分360N的凹倾斜表面与如图12所示的倾斜部分360N不与孔97叠置的情况相比可以更凹。
参照图13，显示装置1与图1至图8示出的实施例中的大部分相同，但是像素限定层360的外围部分360E的间隔件360F与倾斜部分360N的形状会有所不同。
外围部分360E的间隔件360F的边缘之中的不连接到主体部分360H的边缘可以是基本直线。在间隔件360F的边缘之中，连接到主体部分360H的边缘和不连接到主体部分360H的边缘可以延伸为基本平行。因此，延伸为与包封基板的上侧边缘E1、右侧边缘E3和左侧边缘E4之中的至少一个平行的倾斜部分360N可以整体地连接。
倾斜部分360N的连接到间隔件360F的边缘和不连接到间隔件360F的边缘可以延伸为基本平行。倾斜部分360N可以具有延伸为与包封基板的上侧边缘E1、右侧边缘E3和左侧边缘E4之中的至少一个平行的直线形状。
倾斜部分360N的倾斜表面36S远离与间隔件360F连接的部分而降低。在一个实施例中，倾斜部分360N的倾斜表面36S可以朝向显示区域DA降低。对于倾斜部分360N的倾斜表面36S的切线的斜率具有远离与间隔件360F连接的部分(即，靠近显示区域DA)而减小的绝对值，使得倾斜部分360N的倾斜表面36S可以形成凹曲面。作为示例，倾斜部分360N的边缘可以具有诸如直沙丘(straight dune)的形状。
倾斜部分360N可以与电压传输电极197的多个孔97的一部分叠置，具体的说，与最接近电压传输线177设置的一列孔97叠置。
参照图14，显示装置1与图13示出的实施例中的大部分相同，但是像素限定层360的外围部分360E的倾斜部分360N与电压传输电极197的孔97不叠置。在这种情况下，倾斜部分360N也形成凹的倾斜表面，倾斜部分360N的凹的倾斜表面36S可以分散或抵消冲击波。
接下来，将参照图15至图21描述位于显示装置1的外围区域中的像素限定层的外围部分360E平面形状的各种示例。
图15、图16、图17、图18、图19和图20是示出根据实施例的位于显示装置的外围区域中的像素限定层的外围部分的平面形状的顶部平面图，图21是示出根据实施例的显示装置的外围区域的一部分的布置的照片。
首先，参照图15，像素限定层360的外围部分与图1至图8中示出的实施例的外围部分360E的大部分相同。图15是间隔件360F的凹状部分36D、凸状部分36P的边缘侧和倾斜部分360N的边缘是四边形或直线的示例。
参照图16，像素限定层360的外围部分与图1至图8中示出的实施例的外围部分360E的大部分相同，但是间隔件360F的凹状部分36D和凸状部分36P的边缘侧形成至少部分的曲线形状。因此，倾斜部分360N的与间隔件360F相邻的边缘也可以由曲线形状形成。倾斜部分360N的由间隔件360F的凸状部分36P划分的多个部分的每个外边缘36N可以由直线形状形成。参照图16，间隔件360F的凸状部分36P的外边缘可以位于倾斜部分360N的多个部分的外边缘36N的延伸线的外侧，然而它不限于此，
参照图17，像素限定层360的外围部分与图1至图8中示出的实施例的外围部分360E的大部分相同，但是间隔件360F和倾斜部分360N的边界线具有锯齿形状或之字形状。因此，倾斜部分360N的与间隔件360F相邻的边缘也可以由锯齿形状或之字形状形成。倾斜部分360N的由间隔件360F的凸状部分36P划分的多个部分的每个外边缘36N可以由基本直线形状形成。参照图17，间隔件360F的凸状部分36P的尖端可以与倾斜部分360N的多个部分的外边缘36N的延伸线对齐，但是它不限于此。
参照图18，像素限定层360的外围部分与图1至图8中示出的实施例的外围部分360E的大部分相同，但是间隔件360F的凸状部分36P的平面长度不一致。例如，在间隔件360F的具有凸起和凹陷的边缘中，长度长的凸状部分36P和长度短的凸状部分36P可以根据间隔件360F的延伸方向交替地设置。
参照图19，像素限定层360的外围部分与图1至图8中示出的实施例或图15示出的实施例的外围部分360E的大部分相同。图19示出这样的示例：当倾斜部分360N由间隔件360F的凸状部分36P划分成多个部分时，倾斜部分360N的每个部分与电压传输电极197的孔97对应地设置以与孔97叠置。此外，同与倾斜部分360N叠置的孔97相邻的孔97跟与倾斜部分360N叠置的孔97对齐，从而形成近似矩阵形式。
参照图20，像素限定层360的外围部分与图19中示出的实施例的大部分相同，但是同与倾斜部分360N叠置的孔97相邻的孔97不对齐，而是从与倾斜部分360N叠置的孔97偏移。即，同与倾斜部分360N叠置的孔97相邻的孔97可以设置在同与倾斜部分360N叠置的孔97之间的空间平行的线上。图21示出对应于图20的显示装置的平面图。
接下来，将参照图22至图24以及上面描述的附图来描述根据实施例的显示装置的制造方法。
图22是根据实施例的在显示装置的制造方法的一道工艺中用于像素限定层的涂覆层和光掩模的剖视图，图23是根据实施例的在显示装置的制造方法的工艺中的在图22中示出的工艺中的像素限定层的剖视图，图24是根据实施例的在显示装置的制造方法的工艺中的在图23中示出的工艺中的像素限定层的剖视图。
首先，参照图22以及图5和图6，在包括透明玻璃或塑料的下基板110上形成缓冲层111、半导体层、栅极绝缘层140、多个栅极导体、第一钝化层180a、多个数据导体和第二钝化层180b，并且在这些元件上形成包括像素电极191和电压传输电极197的像素电极层。
像素电极层包括具有高的部分和低的部分的顶表面，其中，高的部分和低的部分通过下面的阶梯(例如，由于上面描述的第二钝化层180b的边缘侧表面186而引起的阶梯)而形成。
接下来，将诸如聚丙烯酸酯树脂或聚酰亚胺树脂的感光材料涂覆在像素电极层上以形成涂覆层3600。
随后，在涂覆层3600上设置光掩模50，并且执行曝光。光掩模50包括透射大部分光的透射部T、部分地透射光的半透射部H和不透射大部分光的光阻挡部O。为了控制透射量，半透射部H可以包括诸如狭缝或栅格的图案，或者可以包括半透明层。
接下来，参照图23，对通过光掩模50曝光的涂覆层3600进行显影以形成主体部分360H和间隔件360F。当没有被光照射到的部分被去除的涂覆层3600具有负型感光性时，形成与光掩模50的半透射部H对应的主体部分360H和与光掩模50的透射部T对应的间隔件360F，可以去除与光掩模50的光阻挡部O对应的涂覆层3600。间隔件360F的厚度比主体部分360H的厚度大。尤其是，在显示装置的外围部分中，主体部分360H分别位于覆盖电压传输电极197的边缘的间隔件360F的两侧，两个主体部分360H连接到间隔件360F。根据像素电极层的阶梯，主体部分360H的连接到间隔件360F的左侧的底表面可以比主体部分360H的连接到间隔件360F的右侧的底表面低。这里，间隔件360F的右侧可以是更靠近显示区域DA的一侧。主体部分360H的连接到间隔件360F的左侧的厚度可以比主体部分360H的连接到间隔件360F的右侧的厚度大。
当涂覆层3600中包括的感光材料具有与负型感光性相反的正型感光性时，光掩模50的透射率发生相反的变化，对涂覆层3600进行曝光，从而形成主体部分360H和间隔件360F。
接下来，参照图24，执行对主体部分360H和间隔件360F施加热或紫外线的硬化工艺，以形成像素限定层360。在这种情况下，在显示装置的外围区域中，主体部分360H的与覆盖电压传输电极197的边缘的间隔件360F的左侧连接的顶表面可以由凸曲面形成，主体部分360H的与间隔件360F的右侧连接的顶表面可以由凹倾斜表面36S形成，从而形成倾斜部分360N。这是连接到间隔件360F的左侧的主体部分360H的厚度相对厚而连接到间隔件360F的右侧的主体部分360H的厚度相对薄的原因之一。
当连接到间隔件360F的右侧的主体部分360H与电压传输电极197的孔97叠置时，可以更好地形成倾斜部分360N的凹倾斜表面36S。
根据另一个实施例，在像素限定层360的外围部分360E中，可以省略位于间隔件360F与密封剂310之间的主体部分360H，并且主体部分360H可以具有与间隔件360F的顶表面基本有相同高度的顶表面。
虽然已经结合某些实施例描述了本发明，但是将理解的是，本发明不限于所公开的实施例，而是相反，意图覆盖包括在权利要求的精神和范围之内的各种修改和等价布置。

Claims (10)

1.一种显示装置，所述显示装置包括：
第一基板，包括：显示区域，包括多个像素；外围区域，位于所述显示区域周围；
薄膜晶体管，位于所述第一基板上；
像素电极层，位于所述薄膜晶体管上并且包括位于所述显示区域中的多个像素电极；以及
像素限定层，位于所述像素电极层上并且包括与电压传输电极叠置的外围部分，
其中，所述外围部分包括：间隔件；倾斜部分，连接到所述间隔件并且位于所述间隔件的第一侧，其中，所述倾斜部分具有凹的倾斜表面。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，
所述外围部分还包括：主体部分，连接到所述间隔件，并且位于所述间隔件的与所述第一侧相对的第二侧。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括：
第二基板，面对所述第一基板；以及
密封剂，形成在所述第一基板与所述第二基板之间并且位于所述外围区域中，
其中，所述主体部分位于面对所述密封剂的一侧。
4.根据权利要求3所述的显示装置，其特征在于，
所述间隔件的顶表面的相对于所述第一基板的高度比所述主体部分的顶表面和所述倾斜部分的顶表面的高度高。
5.根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于，
所述倾斜部分的厚度比所述主体部分的厚度小。
6.根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于，
所述主体部分的底表面的高度比所述倾斜部分的底表面的高度低。
7.根据权利要求6所述的显示装置，其特征在于，所述显示装置还包括：
电压传输线，位于所述外围区域中并且传输共电压；以及
钝化层，位于所述薄膜晶体管与所述像素电极层之间，
其中，所述钝化层包括暴露所述电压传输线的边缘侧表面，
位于所述外围区域中的所述电压传输电极包括覆盖所述钝化层的所述边缘侧表面的第一部分和连接到所述电压传输线的第二部分。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，
所述间隔件的处于所述第一侧的边缘具有凹凸形状并且包括交替地布置的凹部和凸部。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，
所述倾斜部分包括在平面图中位于所述凹部中的多个部分，以及
包括在所述倾斜部分中的所述多个部分均具有凹的倾斜表面。
10.一种用于制造显示装置的方法，所述方法包括：
在包括显示区域和在所述显示区域周围的外围区域的第一基板上形成薄膜晶体管；
在所述薄膜晶体管上形成包括位于所述显示区域中的多个像素电极的像素电极层；
在所述像素电极层上涂覆感光材料，以形成涂覆层；
通过利用包括光透射部、光阻挡部和半透射部的光掩模对所述涂覆层进行曝光；
对所述曝光的涂覆层进行显影；以及
对所述显影的涂覆层进行硬化以形成包括与电压传输电极叠置的外围部分的像素限定层，
其中，所述外围部分包括间隔件和连接到所述间隔件并且位于所述间隔件的第一侧的倾斜部分，
其中，所述倾斜部分具有凹的倾斜表面。
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