CN108520892A - 显示面板及其制造方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明是关于一种显示面板及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。显示面板包括：衬底基板；衬底基板上依次设置有栅极金属图形、栅绝缘层和源漏极金属图形，栅极金属图形包括多个栅极子图形；设置有源漏极金属图形的衬底基板上设置有遮挡层；设置有遮挡层的衬底基板通过封装胶与盖板密封贴合；其中，遮挡层包括多个凸起结构，每个栅极子图形在衬底基板上的正投影位于一个凸起结构在衬底基板上的正投影之内，相邻的两个凸起结构之间形成的容纳槽能够容纳封装胶内的异物颗粒，解决了相关技术中显示面板质量较差的问题，提高了显示面板质量，用于显示装置。

Description

显示面板及其制造方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板及其制造方法、显示装置。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示面板因其自发光、轻薄、宽视角、高亮度、高对比度等特点，逐渐成为显示领域的主流。OLED显示面板广泛应用于智能手机、平板电脑、电视等终端产品。
在相关技术中，在制造OLED显示面板时，是直接通过封装胶将设置有栅极金属图形、栅绝缘层和源漏极金属图形的衬底基板与盖板进行密封贴合，完成对显示面板的封装，避免外界的污染物、水汽以及氧气等进入显示面板内而对显示面板造成损害。而封装胶中通常存在异物颗粒，这些异物颗粒经常会压穿源漏极金属图形和栅绝缘层，最终压穿栅极金属图形，导致源漏极金属图形和栅极金属图形短接，产生贯穿屏幕的暗线，造成显示面板质量下降甚至损坏失效。
发明内容
本发明实施例提供了一种显示面板及其制造方法、显示装置，可以解决相关技术中封装胶中异物颗粒压穿源漏极金属图形和栅极金属图形，导致源漏极金属图形和栅极金属图形短接，产生贯穿屏幕的暗线，造成显示面板质量下降甚至损坏失效的问题。所述技术方案如下：
根据本发明实施例的第一方面，提供一种显示面板，包括：
衬底基板；
所述衬底基板上依次设置有栅极金属图形、栅绝缘层和源漏极金属图形，所述栅极金属图形包括多个栅极子图形；
设置有所述源漏极金属图形的衬底基板上设置有遮挡层；
设置有所述遮挡层的衬底基板通过封装胶与盖板密封贴合；
其中，所述遮挡层包括多个凸起结构，每个所述栅极子图形在所述衬底基板上的正投影位于一个凸起结构在所述衬底基板上的正投影之内，相邻的两个凸起结构之间形成的容纳槽能够容纳所述封装胶内的异物颗粒。
可选的，每个所述凸起结构的纵截面为半圆形结构。
可选的，每个所述凸起结构的侧面为凹面。
可选的，每个所述栅极子图形为条形图形，所述条形图形的宽度为2.4微米，每个所述凸起结构的直径大于或等于2.4微米。
根据本发明实施例的第二方面，提供一种显示装置，包括第一方面所述的显示面板。
根据本发明实施例的第三方面，提供一种显示面板的制造方法，所述方法包括：
在衬底基板上依次形成栅极金属图形、栅绝缘层和源漏极金属图形，所述栅极金属图形包括多个栅极子图形；
在形成有所述源漏极金属图形的衬底基板上形成遮挡层；
将形成有所述遮挡层的衬底基板通过封装胶与盖板密封贴合；
其中，所述遮挡层包括多个凸起结构，每个所述栅极子图形在所述衬底基板上的正投影位于一个凸起结构在所述衬底基板上的正投影之内，相邻的两个凸起结构之间形成的容纳槽能够容纳所述封装胶内的异物颗粒。
可选的，所述在形成有所述源漏极金属图形的衬底基板上形成遮挡层，包括：
在形成有所述源漏极金属图形的衬底基板上涂覆一层紫外正性光刻胶；
采用掩膜版对涂覆有所述紫外正性光刻胶的衬底基板依次进行曝光、显影和固化处理，以形成所述多个凸起结构，所述掩膜版设置有全透光区域和不透光区域。
可选的，所述在形成有所述源漏极金属图形的衬底基板上形成遮挡层，包括：
在形成有所述源漏极金属图形的衬底基板上涂覆一层紫外正性光刻胶；
采用灰阶掩膜版对涂覆有所述紫外正性光刻胶的衬底基板依次进行曝光、显影和固化处理，以形成所述多个凸起结构，所述灰阶掩膜版设置有全透光区域、不透光区域和半透光区域。
可选的，每个所述凸起结构的纵截面为半圆形结构。
可选的，每个所述凸起结构的侧面为凹面。
本发明实施例提供的技术方案至少包括以下有益效果：
本发明实施例提供的显示面板及其制造方法、显示装置，由于衬底基板上设置有遮挡层，遮挡层包括多个凸起结构，每个栅极子图形在衬底基板上的正投影位于一个凸起结构在衬底基板上的正投影之内，相邻的两个凸起结构之间形成的容纳槽能够容纳封装胶内的异物颗粒，该遮挡层对栅极金属图形起到了保护作用，所以可以避免异物颗粒压穿源漏极金属图形和栅极金属图形，避免源漏极金属图形和栅极金属图形短接，进而避免产生贯穿屏幕的暗线，因此，提高了显示面板质量。
附图说明
为了更清楚地说明本发明的实施例，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图2是本发明实施例提供的显示面板的仰视图的示意图；
图3是图2所示的显示面板的俯视图的示意图；
图4是本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；
图5是本发明实施例提供的又一种显示面板的结构示意图；
图6是本发明实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程图；
图7是本发明实施例提供的在衬底基板上形成的源漏极金属图形的结构示意图；
图8是本发明实施例提供的形成的遮挡层的结构示意图；
图9是本发明实施例提供的一种形成遮挡层的流程图；
图10是本发明实施例提供的另一种形成遮挡层的流程图；
图11是本发明实施例提供的灰阶掩膜的厚度的示意图。
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部份实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供了一种显示面板，如图1所示，该显示面板包括：
衬底基板01；
衬底基板01上依次设置有栅极金属图形02、栅绝缘层03和源漏极金属图形04，栅极金属图形02包括多个栅极子图形021；
设置有源漏极金属图形04的衬底基板01上设置有遮挡层05；
设置有遮挡层05的衬底基板01通过封装胶06与盖板07密封贴合；
其中，遮挡层05包括多个凸起结构051，每个栅极子图形021在衬底基板01上的正投影位于一个凸起结构051在衬底基板01上的正投影之内，相邻的两个凸起结构051之间形成的容纳槽能够容纳封装胶06内的异物颗粒061。
在本发明实施例中，源漏极金属图形04至少包括源极金属图形和漏极金属图形。另外，该显示面板还包括有源层图形，图1中未画出。图1中的显示面板的栅极金属图形、栅绝缘层和源漏极金属图形等结构可以参考相关技术中的显示面板。
示例的，盖板07可以为玻璃盖板。
相关技术中，用于封装显示面板的封装胶比如玻璃胶(英文：Frit)，在研磨不均或者被激光照射时，易产生异物颗粒。由于显示面板内部为真空环境，所以在进行封装操作时，盖板会受到来自显示面板外部的大气的压力，再加上盖板本身受重力作用，导致封装胶中的异物颗粒会压穿源漏极金属图形和栅绝缘层，最终压穿栅极金属图形，导致源漏极金属图形和栅极金属图形短接，产生贯穿屏幕的暗线。而在本发明实施例中，衬底基板上的遮挡层包括多个凸起结构，每个栅极子图形在衬底基板上的正投影位于第一凸起结构在衬底基板上的正投影之内，栅极子图形被凸起结构遮挡住，相邻的两个凸起结构之间形成容纳槽，这样一来，在对显示面板进行封装操作时，当封装胶中存在异物颗粒时，异物颗粒会在显示面板外部的大气压力和盖板的重力作用的影响下，滑落至该容纳槽中，因此，可以避免异物颗粒压穿源漏极金属图形和栅极金属图形。
综上所述，本发明实施例提供的显示面板，由于衬底基板上设置有遮挡层，遮挡层包括多个凸起结构，每个栅极子图形在衬底基板上的正投影位于一个凸起结构在衬底基板上的正投影之内，相邻的两个凸起结构之间形成的容纳槽能够容纳封装胶内的异物颗粒，该遮挡层对栅极金属图形起到了保护作用，所以该显示面板可以避免异物颗粒压穿源漏极金属图形和栅极金属图形，避免源漏极金属图形和栅极金属图形短接，进而避免产生贯穿屏幕的暗线，因此，提高了显示面板质量。
在本发明实施例中，显示面板的源漏极金属图形还可以贯穿设置有过孔，该过孔中可以填充有封装胶，该过孔所在区域没有源漏极金属图形，所以不会出现异物颗粒压穿源漏极金属图形和栅极金属图形，源漏极金属图形和栅极金属图形短接的现象，因此，过孔所在区域可以不对应设置凸起结构。
图2示例性示出了显示面板的仰视图的示意图。参见图2，衬底基板上依次设置有栅极金属图形、栅绝缘层03和源漏极金属图形，栅极金属图形02包括多个栅极子图形021，源漏极金属图形还可以设置有过孔001。图3示例性示出了图2所示的显示面板的俯视图的示意图，遮挡层05包括多个凸起结构051。设置有遮挡层的衬底基板通过封装胶06与盖板密封贴合。
在一种可实现方式中，如图4所示，每个凸起结构051的纵截面可以为半圆形结构。半圆形结构使得位于凸起结构顶部的异物颗粒能够较快地滑落至相邻的两个凸起结构051之间形成的容纳槽中。
在另一种可实现方式中，如图5所示，每个凸起结构051的侧面可以为凹面。侧面为凹面的凸起结构使得位于凸起结构顶部的异物颗粒能够更加快速地滑落至相邻的两个凸起结构051之间形成的容纳槽中，这种山形结构的凸起结构，使相邻的两个凸起结构之前形成的容纳槽能够容纳更多的异物颗粒。
需要说明的是，在本发明实施例中，遮挡层包括的凸起结构的大小可以根据栅极金属图形中的栅极子图形在衬底基板上的正投影面积大小来确定，比如，当栅极子图形在衬底基板上的正投影面积较大时，可以将凸起结构设置的较大些；当栅极子图形在衬底基板上的正投影面积较小时，可以将凸起结构设置的较小些，本发明实施例对凸起结构的大小不作限定。
参见图4，当凸起结构051的纵截面为半圆形结构时，示例的，如图2所示，每个栅极子图形021为条形图形，参见图4，该条形图形的宽度b为2.4微米，每个凸起结构051的直径d可以大于或等于2.4微米。比如，凸起结构051的直径d可以为2.4微米，或者凸起结构051的直径d也可以为3微米。
示例的，条形图形的宽度也可以为5.6微米，凸起结构的直径可以为5.6微米。
示例的，本发明实施例提供的显示面板可以为OLED显示面板。
本发明实施例提供的显示面板中的遮挡层对栅极金属图形起到了保护作用，避免了封装胶中的异物颗粒压穿源漏极金属图形和栅极金属图形，避免源漏极金属图形和栅极金属图形短接，可以避免产生贯穿屏幕的暗线，达到了保护驱动集成电路(integratedcircuit，IC)端背板线路的效果。
综上所述，本发明实施例提供的显示面板，由于衬底基板上设置有遮挡层，遮挡层包括多个凸起结构，每个栅极子图形在衬底基板上的正投影位于一个凸起结构在衬底基板上的正投影之内，相邻的两个凸起结构之间形成的容纳槽能够容纳封装胶内的异物颗粒，该遮挡层对栅极金属图形起到了保护作用，所以该显示面板可以避免异物颗粒压穿源漏极金属图形和栅极金属图形，避免源漏极金属图形和栅极金属图形短接，进而避免产生贯穿屏幕的暗线，因此，提高了显示面板质量。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括上述显示面板，该显示面板可以如图1、图4或图5所示。
图6是本发明实施例提供的一种显示面板的制造方法的流程图，参见图4，该制造方法可以包括：
步骤601、在衬底基板上依次形成栅极金属图形、栅绝缘层和源漏极金属图形。
其中，栅极金属图形包括多个栅极子图形。源漏极金属图形至少包括源极金属图形和漏极金属图形。
示例的，参见图7，在衬底基板01上依次形成栅极金属图形02、栅绝缘层03和源漏极金属图形04，栅极金属图形02包括多个栅极子图形021。图7示出的是衬底基板的侧视图。
步骤602、在形成有源漏极金属图形的衬底基板上形成遮挡层。
示例的，参见图8，在形成有源漏极金属图形04的衬底基板01上形成遮挡层05。
参见图8，遮挡层05包括多个凸起结构051，每个栅极子图形021在衬底基板01上的正投影位于一个凸起结构051在衬底基板01上的正投影之内，相邻的两个凸起结构051之间形成的容纳槽能够容纳封装胶内的异物颗粒。
在本发明实施例中，在形成有源漏极金属图形的衬底基板上形成遮挡层有多种可实现方式，现以以下两种可实现方式为例进行说明。
在第一种可实现方式中，如图9所示，步骤602可以包括：
步骤6021、在形成有源漏极金属图形的衬底基板上涂覆一层紫外正性光刻胶。
步骤6022、采用掩膜版对涂覆有紫外正性光刻胶的衬底基板依次进行曝光、显影和固化处理，以形成多个凸起结构。
其中，掩膜版设置有全透光区域和不透光区域。
通过掩膜版的遮光作用，有选择性地使耐高温的紫外正性光刻胶感光，完成曝光过程。然后再进行显影，比如可以通过化学作用，将感光的紫外正性光刻胶溶解去掉。之后，对未感光的紫外正性光刻胶进行固化处理，在胶体表面张力的作用下，最终形成如图8所示的多个凸起结构051。
在第二种可实现方式中，如图10所示，步骤602可以包括：
步骤6023、在形成有源漏极金属图形的衬底基板上涂覆一层紫外正性光刻胶。
步骤6024、采用灰阶掩膜版对涂覆有紫外正性光刻胶的衬底基板依次进行曝光、显影和固化处理，以形成多个凸起结构。
其中，该灰阶掩膜版设置有全透光区域、不透光区域和半透光区域。
可选的，可以在掩膜版上设置一层灰阶掩膜，设置有灰阶掩膜的掩膜版为灰阶掩膜版。灰阶掩膜对应的区域为灰阶掩膜版的不透光区域和半透光区域。其中，半透光区域用于使光线部分通过。不同厚度的灰阶掩膜通过的光线量不同。灰阶掩膜的厚度越大，通过的光线量越小，曝光强度越低。因此，可以根据待形成的凸起结构的厚度来确定对应位置的灰阶掩膜的厚度。示例的，如图11所示，由于待形成的凸起结构051的区域P2处的厚度大于区域P1处的厚度，所以区域P2处的曝光强度应该小于区域P1处的曝光强度，因此，区域P2处对应的灰阶掩膜的厚度h1大于区域P1处对应的灰阶掩膜的厚度h2。
通过灰阶掩膜版对涂覆有紫外正性光刻胶的衬底基板依次进行曝光、显影和固化处理，也可以形成如图8所示的多个凸起结构051。
示例的，除了可以采用紫外正性光刻胶之外，还可以采用其他类型的耐高温的光刻胶，示例的，可以采用组成成分包括丙二醇、甲醚、醋酸酯、苯甲醇、氮氧化物等的光刻胶。
在步骤602中，可以根据遮挡层的材料来确定遮挡层的形成方式。本发明实施例对遮挡层的材料以及遮挡层的形成方式不作限定。
在本发明实施例中，一方面，如图4所示，每个凸起结构051的纵截面可以为半圆形结构。半圆形结构使得位于凸起结构顶部的异物颗粒能够较快地滑落至相邻的两个凸起结构051之间形成的容纳槽中。
另一方面，如图5所示，每个凸起结构051的侧面可以为凹面。侧面为凹面的凸起结构使得位于凸起结构顶部的异物颗粒能够更加快速地滑落至相邻的两个凸起结构051之间形成的容纳槽中，这种山形结构的凸起结构，使相邻的两个凸起结构之前形成的容纳槽能够容纳更多的异物颗粒。
其中，在形成凸起结构时，凸起结构的大小可以根据栅极金属图形中的栅极子图形在衬底基板上的正投影面积大小来确定，比如，当栅极子图形在衬底基板上的正投影面积较大时，可以形成较大的凸起结构；当栅极子图形在衬底基板上的正投影面积较小时，可以形成较小的凸起结构。
步骤603、将形成有遮挡层的衬底基板通过封装胶与盖板密封贴合。
示例的，参见图1，将形成有遮挡层05的衬底基板01通过封装胶06与盖板07密封贴合。
综上所述，本发明实施例提供的显示面板的制造方法，由于在形成有源漏极金属图形的衬底基板上形成遮挡层，再将形成有遮挡层的衬底基板通过封装胶与盖板贴合，其中，遮挡层包括多个凸起结构，每个栅极子图形在衬底基板上的正投影位于一个凸起结构在衬底基板上的正投影之内，相邻的两个凸起结构之间形成的容纳槽能够容纳封装胶内的异物颗粒，该遮挡层对栅极金属图形起到了保护作用，所以该制造方法可以避免异物颗粒压穿源漏极金属图形和栅极金属图形，避免源漏极金属图形和栅极金属图形短接，进而避免产生贯穿屏幕的暗线，因此，提高了显示面板质量。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里发明的发明后，将容易想到本发明的其它实施方案。本申请旨在涵盖本发明的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本发明的一般性原理并包括本发明未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本发明的真正范围和精神由权利要求指出。
应当理解的是，本发明并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本发明的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
衬底基板；
所述衬底基板上依次设置有栅极金属图形、栅绝缘层和源漏极金属图形，所述栅极金属图形包括多个栅极子图形；
设置有所述源漏极金属图形的衬底基板上设置有遮挡层；
设置有所述遮挡层的衬底基板通过封装胶与盖板密封贴合；
其中，所述遮挡层包括多个凸起结构，每个所述栅极子图形在所述衬底基板上的正投影位于一个凸起结构在所述衬底基板上的正投影之内，相邻的两个凸起结构之间形成的容纳槽能够容纳所述封装胶内的异物颗粒。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，每个所述凸起结构的纵截面为半圆形结构。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，每个所述凸起结构的侧面为凹面。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，每个所述栅极子图形为条形图形，所述条形图形的宽度为2.4微米，每个所述凸起结构的直径大于或等于2.4微米。
5.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至4任一所述的显示面板。
6.一种显示面板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
在衬底基板上依次形成栅极金属图形、栅绝缘层和源漏极金属图形，所述栅极金属图形包括多个栅极子图形；
在形成有所述源漏极金属图形的衬底基板上形成遮挡层；
将形成有所述遮挡层的衬底基板通过封装胶与盖板密封贴合；
其中，所述遮挡层包括多个凸起结构，每个所述栅极子图形在所述衬底基板上的正投影位于一个凸起结构在所述衬底基板上的正投影之内，相邻的两个凸起结构之间形成的容纳槽能够容纳所述封装胶内的异物颗粒。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述在形成有所述源漏极金属图形的衬底基板上形成遮挡层，包括：
在形成有所述源漏极金属图形的衬底基板上涂覆一层紫外正性光刻胶；
采用掩膜版对涂覆有所述紫外正性光刻胶的衬底基板依次进行曝光、显影和固化处理，以形成所述多个凸起结构，所述掩膜版设置有全透光区域和不透光区域。
8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述在形成有所述源漏极金属图形的衬底基板上形成遮挡层，包括：
在形成有所述源漏极金属图形的衬底基板上涂覆一层紫外正性光刻胶；
采用灰阶掩膜版对涂覆有所述紫外正性光刻胶的衬底基板依次进行曝光、显影和固化处理，以形成所述多个凸起结构，所述灰阶掩膜版设置有全透光区域、不透光区域和半透光区域。
9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，每个所述凸起结构的纵截面为半圆形结构。
10.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，每个所述凸起结构的侧面为凹面。
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