CN105934399B - 包括弯曲部件的设备、包括施加力的方法、以及介质处理设备 - Google Patents

Abstract

描述了一种设备，其具有弯曲部件（70），所述弯曲部件被构造成向介质处理装置（10）的介质路径（20）内的介质的第一部分施加力。所述设备具有支撑部分（80），所述支撑部分（80）被构造成将所述设备联接至所述介质处理装置。所述介质路径提供所述介质沿着其被运送的路径并且具有进给区（30）。所述弯曲使所述介质的第二部分运动远离所述介质路径的所述进给区。还描述了一种向介质施加力的方法。

Description

包括弯曲部件的设备、包括施加力的方法、以及介质处理设备

背景技术

许多介质处理装置，诸如打印机和扫描仪，被构造成沿着介质路径运送介质。例如，打印机可以将油墨沉积在沿着介质路径运送的纸上，并且扫描仪可以捕获穿过一个或多个图像获取装置的文件的图像。在这些介质处理装置中，介质通常利用沿着介质路径或者在介质路径的起始处布置的一个或多个进给区进入介质路径。介质进给区可以使用摩擦来运送介质。例如，介质进给区可以包括一个或多个旋转辊，该一个或多个旋转辊定位成接触介质路径内的介质。从而，在旋转辊和介质之间的摩擦使介质沿着介质路径运送。

附图说明

图1是示出通过根据对比示例的介质处理装置的横截面的示意图；

图2是示出根据对比示例的介质处理装置的介质进给区的特写的示意图；

图3是示出通过根据示例的已经联接至设备的介质处理装置的横截面的示意图；

图4a是示出在根据示例的设备的存在情况下介质的第一部分的示意图；

图4b是示出在根据示例的设备不存在的情况下介质的第一部分的示意图；

图5a是示出在联接至图3的设备的介质处理装置的介质进给区附近的介质的第二部分的示意图；

图5b是示出在根据对比示例的介质处理装置的介质进给区附近的介质的第二部分的示意图；

图6a是示出用于根据示例的设备的示例性支撑部分的示意透视图；

图6b是示出用于根据示例的设备的示例性臂部分的示意透视图；

图6c是示出用于根据示例的设备的示例性辊的示意透视图；

图6d是示出根据示例的设备的示意图透视；

图7是示出联接至根据示例的设备的介质处理装置的示意图；

图8a和图8b是示出用于根据示例的设备的支撑部分的示例性轴孔的示意图；以及

图9是图示根据示例的方法的流程图。

具体实施方式

某些介质处理装置包括介质运送件，该介质运送件布置成紧接着介质处理将介质送回到初始区。例如，可以在两个相对方向上沿着介质运送件驱动介质和/或可以按路径运送介质以便使用共同的介质保持区。在这些情况下，如果已经由介质处理装置处理过的介质被送回到该装置中，那么可能有麻烦。这种行为可能导致介质逐渐堵塞在介质路径中和/或损坏介质。这在使用批量扫描装置时可能会发生。

图1是示出通过示例性介质处理装置10的横截面的示意图。介质处理装置10具有由上表面20a和下表面20b限定的介质路径20。该介质路径通常在介质处理装置内延伸，从而驱动介质40通过一个或多个致动器和/或传感器，例如，打印头和/或电荷耦合装置阵列。该介质路径可以是线性的和/或弯曲的。介质处理装置10包括进给区30，进给区30用于将介质40进给到装置中并且沿着介质运送件。该介质运送件可以包括，除其他外，皮带驱动机械装置和/或辊驱动机械装置。进给区30可以被视为是介质运送件的起点。在图1中，首先将介质40定位在到介质运送件的入口处的介质托盘45上。在这种情况下，介质40的一部分沿着介质路径20延伸。在图1中所示的具体示例中，进给区30包括两个辊30a和30b，在这两个辊30a、30b之间运送介质40。辊30a、30b的旋转使在这两个辊30a、30b之间的任何介质40均沿着介质路径20运送。例如，一张纸可以接触下辊30b。然后，下辊30b可以在顺时针方向上旋转。在这种情况下，纸和下辊30b之间的摩擦力驱动纸在这两个辊30a、30b之间前进，即，在图1中从左到右。

在包括进给区30的介质处理装置中，诸如在图1所示的介质处理装置中，可以将已经由该装置处理过的介质40送回到介质运送件中。例如，可以经由进给区30将介质40进给到介质处理装置中。介质40可以通过一个或多个致动器和/或传感器，并且然后可以返回到介质托盘45。可以经由环形带机械装置或者通过逆转一个或多个辊（例如，辊30a和30b）的旋转方向来返回介质。一旦介质40已经被处理，然后介质40安置在介质托盘45上，直到被介质处理装置的使用者移除。在这种情况下，虽然介质40正安置在介质托盘45上并且等待使用者移除，但是介质40可能仍与进给区30接触或者在进给区30附近。这可能会导致介质40被进给区30再次捕获并且送回到介质进给路径或者介质处理装置10的其他部分中。

为了辅助解释，图2示出了示例性介质进给区30的特写，介质进给区30包括上辊30a和下辊30b。在所示的示例性布置中，上辊30a在顺时针方向上旋转，并且下辊30b在逆时针方向上旋转。因此，在向左方向上运送介质40。当介质40从辊30a、30b出来时，重力使得介质40的一部分（在这种情况下为后部分）仍然保持与下辊30b接触。下辊30b的继续或者随后旋转，以及下辊30b和介质40 的后部分之间的摩擦能够使介质40的后部分被辊30b“再次捕获”。

作为具体示例，在辊30a、30b随后改变旋转方向同时介质40仍然保持在辊30a、30b附近的情况下，介质40的后部分可以被辊30a、30b“再次捕获”并且拉回到介质路径20中。

作为另一个示例，下辊30b在相同（即，逆时针）方向上的继续旋转可能会使介质40的后部分被拉到在下辊30b和下壁20b之间的间隙50中。下辊30b的进一步继续旋转能够使介质40的更多部分进给到间隙50中。介质40可能会卡在间隙50中从而堵塞介质路径20。替代地或额外地，介质40可能会被损坏。

通常，将理解的是，介质40和进给区30的运动部分的任何接触均能够使介质40被捕获并且进给到介质处理装置10的非期望的一部分中，即，介质40不应该被送入的部分中。

通过介质处理装置10的进给区30对处理过的介质40的再次捕获可以在成批处理介质40（例如，一片或多片介质）的介质处理装置中发现。这是因为，一旦第一片介质40已经通过介质处理装置处理，第一片介质40的后部分通常将仍保持在第一片介质40从其排出的最后进给区30附近。当进给区30开始再次操作（以便沿着介质路径20运送第二片介质40）时，第一片介质40能够通过进给区40被再次捕获。因此，为了避免这种情况，在处理第二片介质之前，必须将第一片介质从介质处理装置移除。这对介质处理装置10的使用者来说有些繁重，特别是在需要处理大批量的介质40时。

图3示意性地示出了介质处理装置10的示例性修改，该装置可以提供独特优势。图3的介质处理装置20装配有设备60，设备60包括弯曲部件70。弯曲部件70用于引起介质40弯曲。更具体地，弯曲部件70被构造成使得在介质40正沿着介质路径20被运送并且通过弯曲部件70的同时，弯曲部件70与介质40的一部分接触并且向介质40的该部分施加力。该力使得介质40在弯曲部件70周围弯曲从而在介质40中产生弯曲。这继而会使得刚刚从进给区30出来的介质40的第二部分（在这种情况下为后部分）运动远离进给区30。这种效果可以在图4a、图4b、图5a和图5b中更清楚地看出。

更具体地，图4a示出了设备60，并且更具体地弯曲部件70，的特写。在所示的示例中，当在弯曲部件70下方运送介质40时，弯曲部件70对在弯曲部件70下方的介质40的第一部分40a施加基本上向下的力。这使得介质40的第一部分40a在弯曲部件70周围弯曲从而在介质40的第一部分40a中产生弯曲。图4b示出了在不存在弯曲部件70的情况下介质40的第一部分40a。如可以看到的，在图4b描绘的介质40中不存在弯曲。

图5a和图5b示出了介质处理装置10的进给区30的特写。图5a示出了使用弯曲部件的情况；图5b示出了对比情况。在这些示例中，在进给区30附近存在介质40的第二部分40b。如上所述，在该具体示例中，上辊30a在逆时针方向上旋转，并且下辊30b在顺时针方向上旋转以将介质40进给到装置中。图5a和图5b示出了当介质位于介质托盘45中时介质40的第二部分40b。图5a示出了当介质处理装置装配有设备60时介质40的第二部分40b的位置。另一方面，图5b示出了当介质处理装置未装配有设备60时介质40的第二部分40b的位置。

如下面将看到的，当应用弯曲部件70时，图5a中的介质40的第二部分40b与进给区30相距一定距离。例如，在图5a中的当前情况下，这片介质的末端从右到左沿着介质路径40退回。因此，与图5b中的介质40的第二部分40b相比，该末端与进给区30相距更远。这是因为，在图5a的布置中的介质40中的弯曲已经使第二部分40b运动远离进给区30。更具体地，在这种情况下，在介质40的第一部分40a中的弯曲已经使介质的第二部分40b既向上远离下辊30b的表面和间隙50运动，又还使介质的第二部分40b向左运动，如与在图5b的布置中的第二部分40b的位置相比较。如可在图4a中看出，弯曲部件70施加使介质位移和/或弯曲的力，从而改变其在介质路径20中的平面几何形状。介质的曲率与图4b的对比情况不同，这导致了介质相对于进给区30的侧向位移。

因此，简言之，通过引起介质40的第一部分40a弯曲，第二部分40b运动远离介质处理装置10的进给区30，从而减少了第二部分40b将被进给区30再次捕获的风险。

现在将对实施弯曲部件的示例进行描述。再次参照图3，设备60还包括支撑部分80，支撑部分80被构造成将设备60联接至介质处理装置10。支撑部分80可以与介质处理装置10一体成型，或者其可以例如以能移除的方式附接至介质处理装置10。在一个实施例中，支撑部分80将设备60的弯曲部件70维持在弯曲部件70能够向位于介质托盘45中的介质40施加力的位置中。

在图3所示的示例性布置中，弯曲部件70包括至少一个辊90。每个辊均可以围绕垂直于介质运送方向的轴线旋转。在使用中，辊部分被定位成以便在弯曲部件70下方运送介质40时接触介质40。因此，当在弯曲部件70下方运送介质40时，该至少一个辊90旋转并且因此使得在未对介质40造成损坏的情况下能够使介质40在弯曲部件下方通过。例如，在从右向左运送介质（例如，紧接着处理介质被运送到介质托盘45中）时可能是上述情况。有利地，辊90可以在顺时针和逆时针二者方向上旋转。这使介质40能够在两个方向上沿着介质路径20在弯曲部件70下方被运送。这在介质处理装置10执行需要将介质40沿着介质路径20多次来回进给的过程的情况下可能是有用的。在介质处理装置10包括扫描仪的情况下，需要将介质沿着介质路径20来回进给的这样的过程可以是，例如，校准过程，诸如针对扫描仪的电荷耦合装置阵列。

该至少一个辊90可以是，例如，柱形辊，如图6c中所描绘的。在某些情况下，诸如图6d中图示的，可以使用多个辊。然而，将理解的是，该至少一个辊90可以是不同形状的，例如，辊部分90可以大体上呈球形。在其他示例中，可以替代地施加非旋转负载，其中，在需要时从介质路径移除该负载以允许介质通过。

额外地，或替代地，弯曲部件70可以围绕偏离弯曲部件70的重心的联接轴线100可旋转地联接至支撑部分80。因此，弯曲部件70可以被偏置以在朝着平衡位置的重力的作用下围绕联接轴线100旋转。在图3中，弯曲部件70的重心侧向地偏离联接轴线100，例如，偏离图中的轴线100的左侧一定距离。

这种布置在弯曲部件70下方运送介质40的情况下尤其有用。在这种布置中，平衡位置可以包括弯曲部件70安置在介质路径20的下壁20b上的情况。因此，当介质40被运送出介质处理装置时，例如，在图3中从右向左，介质40在弯曲部件70下方运送。在这种情况下，由进给区30的辊施加的力使介质40从右向左运动并且使弯曲部件70发生位移，即，允许弯曲部件70在图中向上旋转，其中，该至少一个辊90随着介质40通过旋转。一旦介质40处于介质托盘45中，由于重力，经由弯曲部件70向介质40施加力。如上所述，通过经由弯曲部件70向介质40施加该力，引起介质40弯曲，从而使介质的一部分40b运动远离介质处理装置10的进给区30。上述布置的优势在于制造相对简单且便宜。然而，将理解的是，存在替代布置，通过这些替代布置能够经由弯曲部件70向介质40施加力。作为示例，能够偏置弯曲部件70以在弹簧的作用下向介质40施加力。作为另一示例，可以通过机动部件施加力，诸如在马达的作用下运动以向介质40施加力的杆。在这些布置中，可以在任何方向上施加力。例如，在介质路径基本垂直并且在垂直方向上运送介质40的情况下，可以将弯曲部件70构造成向介质40施加水平力。

可以以与介质运送方向成任何角度来施加力。施加力的角度将改变弯曲的形状。因此，力的方向能够被选择成使得所得弯曲的形状与介质路径20和/或介质进给区30的具体形状和构型匹配。

有利地，经由弯曲部件70向介质40施加的力足以引起介质40偏转，该偏转大到足以使介质40的第二部分40b运动远离进给区30足够远，以致于被进给区30捕获的风险很小或者没有风险。然而，该力还没有大到使其对介质造成损坏。将理解的是，最佳力将针对不同介质40变化，并且可能取决于各种因素，诸如介质40的厚度和刚性，以及制成介质40的材料。照此，取决于实施例中所使用的介质和/或介质路径构型，弯曲部件可以以特定方式，例如，使用重量负载、弹簧负载和机动负载中的一个或多个，来施加负载。

在弯曲部件70包括至少一个辊90并且弯曲部件70还能围绕偏离弯曲部件70的重心的联接轴线100旋转地联接至支撑部分80的布置中，弯曲部件70可以包括用于将辊部分90链接至支撑部分80的臂部分110。在图3中示意性地示出了这种布置。臂部分110在一端处联接至支撑部分80，并且在另一端处联接至该至少一个辊90。

在一种情况下，由上辊30a和下辊30a中的一个或多个施加的力决定了是否排出介质使得介质不被介质处理装置再次捕获。例如，在排出的情况下，上辊30a和/或下辊30b施加第一力，该第一力推进一片介质的前缘越过上述设备的该至少一个辊90。在这种情况下，虽然弯曲部件70正施加向下的重量负载，但是该至少一个辊90也会旋转，从而允许介质片越过介质托盘45一定距离。通过校准第一力和重量负载，介质能够被排出成使得图5a中所示的情况发生。相对而言，在重新进给的情况下，上辊30a和/或下辊30b施加第二力，该第二力推进一片介质的前缘越过该至少一个辊90，但是不如在排出情况下那么远，例如，第二力小于第一力。在重新进给的情况下，介质被运送成使得图5a中所示的情况发生，例如，介质处于准备被重新进给的状态。在这种情况下，可以校准第二力和重量负载以限制介质被排出的距离。在一个示例中，可以通过控制上辊30a和下辊30b中的一个或多个的速度来校准第一力和第二力。该速度可以通过介质处理装置的特定操作模式被设置。在这两种情况下，弯曲部件70在不损坏介质的情况下提供制动力。

图6a至图6d更加详细地示出了示例性设备60的部件。更具体地，图6a示出了示例性支撑部分80，支撑部分80包括用于将支撑部分80能移除地联接至介质处理装置10的联接部件80a。在图6a中，联接部件80a包括托架或者臂。基底部分82在托架的一端处，用于将支撑部分80紧固至介质处理装置。在图3中，该基底部分82固定附接至介质处理装置的内部结构。然后该托架包括在基底部分82和头部分86之间延伸的细长构件84。头部分86为弯曲部件70提供可旋转联接。

图6b示意性地示出了弯曲部件70的示例性臂部分110。臂部分110包括两个轴部分，其中，第一轴部分110a在图中可见。在使用中，每个轴部均位于支撑部分80的相应轴孔内。在图6a中示出了第一轴孔80b。如在图8中更详细示出的，当在相应轴孔内的适当位置时，轴部分使臂部分110能够围绕与轴部分共线的轴线旋转。

如图6b中所示的臂部分110还适于接收两个辊90。在图6b中，臂部分与轴部分相对的端部包括两个辊支撑件115。每个辊支撑件115均包括两个侧向间隔开的构件。每个构件均具有孔，该孔被布置成接收在辊90的一端处的轴。每个辊90均可以利用每个辊支撑件115能移除地被安装；例如，这些构件中的至少一个构件可以包括弹性构件，该弹性构件可以侧向运动使得辊的轴不再位于该构件的孔内。

图6d示出了根据示例的组装的设备60。因此，在图6d中所示的示例性布置中，弯曲部件70包括臂部分110和两个辊部分90；弯曲部件70联接至支撑部分80。

在一个示例中，弯曲部件70在垂直于介质运送方向的方向上的宽度基本上等于介质40在垂直于相同方向的方向上的宽度。例如，在图6d中，两个辊90的宽度基本上等于一片介质的宽度。在另一种情况下，弯曲部件70可以包括任何数量的辊，这些辊的组合长度基本上等于介质40的宽度。在这样的布置中，当将介质40保持在介质托盘45内时，弯曲部件70在介质40的基本上整个宽度上施加力。这在介质40的宽度上产生基本上均匀的弯曲。如与在其中比方说弯曲部件70仅向介质40的宽度的中心部分施加力的布置相比，这进而减少了介质40的一部分将被进给区30再次捕获的可能性。将理解的是，在弯曲部件仅向介质40的宽度的中心部分施加力的情况下，介质的第二部分40b的边缘部分可能会朝着进给区30向下翻或落下，并且可能被进给区30再次捕获。

在替代实施例中，设备60可以包括多个弯曲部件70，该多个弯曲部件70在基本上垂直于介质运送方向的方向上在介质路径20上每隔一定距离分布。在图7中示意性地描绘了这种布置。在图7中，多个介质支撑翅部45a为位于介质托盘45中的介质40提供支撑。在这种情况下，介质支撑翅部45a包括带有多个薄支撑构件（“翅部”）的弯曲细长结构，该弯曲细长结构的边缘支撑介质40的表面。然后，多个弯曲部件70a相对于该多个介质支撑翅部被布置。该布置也会在介质40的整个宽度上产生基本上均匀的弯曲，并且从而进一步减小了介质40的一部分将被进给区30再次捕获的可能性。

如关于图6a和图6b所提及的，设备60的支撑部分80可以包括用于将弯曲部件70的轴部分110a可旋转地联接至支撑部分80的轴孔80b。图8a和图8b更加详细地示出了示例性轴孔80b。在所示的具体示例中，轴孔包括两个孔部分120a和120b。在该示例中，弯曲部件70的轴部分110a被构造成在第一孔部分120a和第二孔部分120b之间运动。在图8a和图8b的示例中，包括两个轴孔80a、80b的组合孔的形状使得轴部分能够在组合孔内运动。例如，突出部130延伸到组合孔中。在第一孔位置120a中，突出部130的端部支撑轴部分的下侧。当突出部130延伸到组合孔中时，例如，当孔部分135围绕突出部130时，可以展现出使轴部分能够运动的一定量的弹力。

当轴部分110a在第一孔部分120a中时，使弯曲部件70处于缩回位置，在该缩回位置处弯曲部件70被举起并离开介质路径20。另一方面，当轴部分110a在第二孔部分120b中时，弯曲部件70被保持在上面关于图3所述的位置中，在该位置中弯曲部件接触位于介质路径20中的介质40并且向介质40施加力。图8a示出了在轴部分110a正在第一孔部分120a和第二孔部分120b之间运动时的弯曲部件70。图8b示出了当轴部分110a接合在第二孔部分120b中时的弯曲部件70。因为其使得弯曲部件70能够退出介质路径20，从而使介质处理装置的使用者能够进入介质路径20，所以验证带有第一和第二孔部分120a、120b的轴孔80b（如上所述）是有用的。

轴部分110a可以被构造成通过使用者打开在轴部分110a附近的介质处理装置10的盖的动作从第二孔部分120b运动至第一孔部分120a。例如，该盖可以被构造成在抬起盖时，将轴部分110a从第二孔部分120b提至第一孔部分120a。因此，当打开介质处理装置10的盖时，弯曲部件70被保持在缩回位置中，离开介质路径20，从而使得使用者能够轻易地进入介质路径20。例如，使用者可能希望进入介质路径20以清除介质路径20内的障碍或者修理介质路径20内的部件。

当使用者随后关上介质处理装置10的盖时，该盖可被构造成将轴部分110a推回到第二孔部分120b中。因此，当关闭介质处理装置10的盖时，弯曲部件被保持在如上面关于图3所述的位置中，在该位置中弯曲部件接触位于介质路径20中的介质40并且向介质40施加力。

在一个变型中，弯曲部件70可以是能伸缩的，使得弯曲部件70能够在介质40中选择性地产生弯曲。这进而意味着介质40能够被介质处理装置10的进给区30选择性地再次捕获。在其他情况下，例如，在利用重量负载的排出情况之后，在使用者已经重新构造介质托盘中的介质后，介质可以被介质处理装置再次捕获。例如，使用者可以在沿着介质路径的行进方向上向介质施加小的力，该力可以使介质朝着进给区运动并且允许通过摩擦辊的方式使介质进给到介质处理装置。

图9是示出根据示例的方法的流程图。该方法可以使用先前图中的设备60或者替代设备执行。该方法包括第一框B1：向在介质处理装置的介质进给路径内的介质的第一部分施加力。如上所述，该力可以经由弯曲部件来施加，该弯曲部件可以经由支撑部分联接至介质处理装置。上面已经探讨了弯曲部件70的各种示例性构型。在具体示例中，该弯曲部件可以包括一个或多个辊，并且该方法可以包括经由弯曲部件的一个或多个辊向介质的第一部分施加力。

在一些示例中，该方法可以包括使用弯曲部件的重量向介质施加负载，借此向介质的第一部分施加上述力。这可以例如通过围绕偏离弯曲部件的重心的轴线将弯曲部件能旋转地联接至支撑部分来实现。这种构型已经在上面关于图3进行了更加详细地探讨。在一些示例中，向介质的第一部分施加的力可以在介质上沿基本上垂直于介质运送方向的方向延伸。这有助于如上所述的在介质的宽度上产生基本上均匀的弯曲。

替代地，该方法可包括向介质的多个第一部分施加力，该多个第一部分在介质上在基本上垂直于介质运送方向的方向上沿着介质路径延伸。这可以例如通过使用设备（诸如图7中所描绘的用以施加力的设备）来实现。该示例性设备包括多个弯曲部件，该多个弯曲部件在介质路径上沿着基本上垂直于介质运送方向的方向每隔一定距离分布。各个弯曲部件均向介质的相应第一部分施加力。

再次参照图9，由于在第一框B1中向介质施加的力，在框B2处，在介质中产生弯曲。这继而使得介质的第二部分运动远离介质路径的进给区（在框B3处），从而减小了第二部分将被进给区再次捕获的风险。

在一个示例中，在经由位于介质路径中的弯曲部件向介质的第一部分施加上述力的情况下，该方法可包括另一个步骤：将弯曲部件从介质路径缩回。在介质处理装置的使用者希望进入介质处理装置的介质路径的情况下，以这种方式缩回弯曲部件是有用的。替代地，或者额外地，可以进行弯曲部件的缩回以使介质被进给区再次捕获并且送回到介质路径。

如上所述，图8a和图8b描绘了以这种方式促进弯曲部件70的缩回的示例性设备60。在这种情况下，可以通过在设备60的支撑部分80的第一孔部分120a和第二孔部分120b之间使弯曲部件70的轴部分110a运动，使弯曲部件70从介质路径20缩回。

上述实施例应被理解为说明性示例。可以构想其他示例。尤其将理解的是，本文中所使用的术语“介质”指的是能够通过介质处理装置（诸如扫描仪或者打印机）处理的任何材料。尤其，“介质”可以包括片状材料，诸如纸片、硬纸板、塑料、或者织品。已经在本文中使用的一片介质的“弯曲”指的是由向介质施加的力所产生的、并且改变了介质路径内介质的平面几何形状的介质的任何位移和/或弯曲，例如，由施加的负载所引起的介质的任何偏转。术语“进给区”已经在本文中使用以指示使介质沿着介质路径运送的介质处理装置的任何区域，并且不应受限于，例如，利用摩擦运送介质的进给区。作为具体示例，进给区可以利用重力和/或手动进给系统以便沿着介质路径运送介质。

应该理解的是，关于任一示例描述的任何特征均可以单独使用或者与所描述的其他特征结合使用，并且也可以与这些示例中的任何其他示例的一个或多个特征结合使用，或者可以与这些示例中的任何其他示例的任何组合结合使用。而且，也可以采用上面没有描述的等效物和修改。

Claims (14)

1.一种介质处理装置，其包括：

介质保持区；

介质路径，介质沿着所述介质路径被运送；

进给区，以便从所述介质保持区沿着所述介质路径运送介质；

所述介质处理装置的特征在于：

所述进给区被构造成将介质从所述介质路径经过所述进给区运送到所述介质保持区，以及在于

所述介质处理装置包括：

弯曲部件，所述弯曲部件被构造成向从所述介质路径传送到所述介质保持区并随后位于所述介质保持区中的介质的一部分施加力，从而引起所述介质弯曲，所述弯曲使所述介质的边缘运动远离所述进给区。

2.根据权利要求1所述的介质处理装置，其中，所述弯曲部件包括用于向所述介质的所述部分施加所述力的至少一个辊。

3.根据权利要求1或2所述的介质处理装置，其中，所述弯曲部件围绕垂直于所述介质沿着所述介质路径的运送方向的轴线能旋转地联接至支撑部分。

4.根据权利要求1或2所述的介质处理装置，其中，所述弯曲部件围绕偏离所述弯曲部件的重心的轴线能旋转地联接至支撑部分。

5.根据权利要求2所述的介质处理装置，其中，所述弯曲部件包括臂部分，所述臂部分包括使辊部分联接至支撑部分的细长构件。

6.根据权利要求1或2所述的介质处理装置，其中，所述弯曲部件经由轴联接至支撑部分的轴孔，并且其中，所述轴孔被构造成使得所述弯曲部件能够缩回到所述介质路径外，从而使所述弯曲部件维持在所述弯曲部件不再向所述介质施加力的位置中。

7.根据权利要求1或2所述的介质处理装置，其中，所述弯曲部件在介质的所述部分上沿着基本上垂直于所述介质运送方向的方向延伸，借此在所述介质的宽度上产生基本上均匀的弯曲。

8.根据权利要求1或2所述的介质处理装置，包括：

多个弯曲部件，所述多个弯曲部件在所述介质的所述部分上沿着基本上垂直于所述介质运送方向的方向延伸，所述多个弯曲部件中的每一个均被构造成向所述介质的所述部分的相应段施加力，借此在所述介质的宽度上产生基本上均匀的弯曲。

9.一种操作根据权利要求1至8中任一项所述的介质处理装置的方法，其包括：

经由所述进给区将介质片从所述介质保持区进给到所述介质路径以便进行处理；

所述方法的特征在于：

使所述介质片在处理后从所述介质路径经由所述进给区返回所述介质保持区，包括将所述介质片的后边缘运输经过所述进给区；以及

向所述介质保持区内的所述介质片的一部分施加力，

其中，所述力引起所述介质片弯曲，所述弯曲使所述介质片的后边缘运动远离所述进给区。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述方法包括经由至少一个辊向所述介质片的所述部分施加所述力。

11.根据权利要求9或10所述的方法，其中，向所述介质片的所述部分施加力包括利用弯曲部件的重量向所述介质片施加负载。

12.根据权利要求9或10所述的方法，其中，所述力经由所述弯曲部件施加，并且所述方法进一步包括使所述弯曲部件从所述介质片缩回，借此停止向所述介质片的所述部分施加所述力。

13.根据权利要求9或10所述的方法，其中，所述方法包括向所述介质片的所述部分施加所述力，所述部分在所述介质片上沿着基本上垂直于介质运送方向的方向延伸。

14.根据权利要求9或10所述的方法，其中，所述方法包括向所述介质片的多个部分施加力，所述多个部分在所述介质片上沿着基本上垂直于介质运送方向的方向延伸。