CN105588860B - 过渡金属氧化物表面异质外延金属有机框架壳层及其制备方法和用途 - Google Patents
过渡金属氧化物表面异质外延金属有机框架壳层及其制备方法和用途 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105588860B CN105588860B CN201510923722.9A CN201510923722A CN105588860B CN 105588860 B CN105588860 B CN 105588860B CN 201510923722 A CN201510923722 A CN 201510923722A CN 105588860 B CN105588860 B CN 105588860B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- tmo
- mofs
- core
- shell structure
- dimensional array
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 10
- 229910000314 transition metal oxide Inorganic materials 0.000 title description 42
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 38
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 33
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 239000012621 metal-organic framework Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 claims abstract description 23
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 18
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000013110 organic ligand Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 18
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 claims description 14
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 12
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 8
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 7
- XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 4-methylimidazole Chemical compound CC1=CNC=N1 XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 claims description 6
- YSWBFLWKAIRHEI-UHFFFAOYSA-N 4,5-dimethyl-1h-imidazole Chemical compound CC=1N=CNC=1C YSWBFLWKAIRHEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NC=CN1 PQAMFDRRWURCFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical group [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229940011182 cobalt acetate Drugs 0.000 claims description 4
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L cobalt(II) acetate Chemical group [Co+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O QAHREYKOYSIQPH-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 239000011540 sensing material Substances 0.000 claims description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 claims description 4
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 claims description 4
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 claims description 4
- PTBPTNCGZUOCBK-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-trimethyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC(C)=C(C)N1 PTBPTNCGZUOCBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000004729 solvothermal method Methods 0.000 claims description 3
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 claims description 2
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 claims description 2
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 claims description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 14
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 5
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 abstract description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 abstract description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 39
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 18
- 239000013153 zeolitic imidazolate framework Substances 0.000 description 15
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000004044 response Effects 0.000 description 11
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N zinc nitrate Chemical compound [Zn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- -1 aromatics Chemical class 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N cobalt dinitrate Chemical compound [Co+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O UFMZWBIQTDUYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001981 cobalt nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 239000002073 nanorod Substances 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010058467 Lung neoplasm malignant Diseases 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000570 acute poisoning Toxicity 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 206010012601 diabetes mellitus Diseases 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 201000010099 disease Diseases 0.000 description 1
- 208000037265 diseases, disorders, signs and symptoms Diseases 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 201000005202 lung cancer Diseases 0.000 description 1
- 208000020816 lung neoplasm Diseases 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000001331 nose Anatomy 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000011056 performance test Methods 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 238000011895 specific detection Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000004154 testing of material Methods 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/12—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid
- G01N27/125—Composition of the body, e.g. the composition of its sensitive layer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Abstract
一种金属氧化物(TMO)@金属有机框架材料(MOFs)核壳结构一维阵列薄膜,其特征在于,膜厚度2‑10μm,由TMO@MOFs核壳结构组成,其中核心TMO纳米线直径50‑200nm,壳层MOFs厚度从1nm到200nm可调,MOFs的金属节点与有机链可调。典型的制备方法为,对TMO进行ZnO籽晶或咪唑基配体键合后,加入溶有金属盐和有机配体的水和DMF混合溶液中,密封反应釜后加热反应,反应完毕将薄膜表面冲洗干净,在空气中晾干。本发明提供的TMO@MOFs核壳结构一维阵列薄膜具有优异的气敏性能,既能选择性排除湿度干扰,又能通过钴催化作用降低工作温度和提高灵敏度。同时本发明还具有方法简单、成本低廉的优点。
Description
技术领域
本发明涉及气敏传感器领域,尤其涉及一种籽晶辅助异质外延法生长的用于选择性排除湿度干扰的检测挥发性有机化合物气敏传感器的过渡金属氧化物(TMO)@金属有机框架材料(MOFs)纳米核壳结构一维阵列薄膜及其制备方法和用途。
背景技术
挥发性有机化合物(volatile organic compounds,VOCs)是指在常温下,沸点50℃-260℃的各种有机化合物。VOCs已鉴定出的有300多种,按其化学结构,可以进一步分为:烷类、芳烃类、酯类、醛类和其他等。其中最常见的有丙酮、苯、甲苯、二甲苯、苯乙烯、三氯乙烯、三氯甲烷、三氯乙烷、二异氰酸酯(TDI)、二异氰甲苯酯等。一方面室内空气中VOCs浓度过高时很容易引起急性中毒甚至可能有生命危险,另一方面可利用人体呼出气体特定检测VOCs进行在线、快速疾病诊断(如糖尿病、肺癌等)。因此,对VOCs迅速准确地检测显得十分重要。
过渡金属氧化物(transitional metal oxide,TMO)气敏传感器因其灵敏度高、工作寿命长、价格便宜、易批量生产等优点得到广泛应用。然而,TMO气敏传感器在灵敏度提升和工作温度降低上虽然取得一定的成果,且已有部分产品可以根据特定性质(如p-n结、贵金属修饰、掺杂等)实现了对某类气体产生一定的选择性。尽管如此,目前对单一气体的选择性检测(selectivity)却一直缺乏普适性的技术。因此,发展一种廉价、简便、单一选择性并具有技术普适性的高灵敏度高选择性气敏材料,在扩展可选择性检测气体种类以及简化和替代电子鼻方面意义重大,同时为解决居室、智能汽车、可穿戴设备等实际应用所涉及的高湿度干扰和多组分复杂气氛交叉响应问题提供新的思路。
金属-有机骨架材料(Metal–Organic Frameworks,MOFs)是一类由无机节点(金属离子或金属簇)与有机配体通过它们之间相互作用(如配位作用、超分子作用、氢键等)自组装成的具有规则网络结构的晶态多孔材料。其超高孔隙率(可达90%)、比表面积(最高超过10000m2/g)和丰富的拓扑结构,能够为被检测气体提供丰富的气体吸附和反应位点,同时其孔径尺寸、孔道取向和内壁暴露位点及修饰的可调节性、可裁剪性使该材料在气体选择性吸附分离上具有潜在应用价值。
TMO表面生长MOFs层的研究已有少量报道,目前TMO-MOFs复合材料在制备上只是初步实现了TMO表面MOFs层的包覆,且需要借助表面活性剂(如聚乙烯吡咯烷酮)或同质外延(共享金属原子或有机配体)。然而,在没有表面活性剂,进行TMO表面异质外延生长MOFs薄膜的厚度、孔道取向和孔径壁饰的可控外延生长,并系统地研究其制备规律方面尚无报道。
发明内容
气体敏感层材料是气敏传感器的核心部分,其功能决定了气敏传感器的性能。TMO种类众多,性能各异,将MOFs成功包裹在高灵敏度的TMO材料外层,形成复合材料后,借助MOFs的强大的气体选择分离能力,有望在保持TMO高灵敏度等性能的同时提升TMO材料的气敏选择性。同时,咪唑基配体的Co系ZIFs是MOFs材料重要的一类分支,其催化能力具有提升TMO低温气体灵敏度的潜力,但热稳定较差(空气气氛中240℃即被破坏);Zn系ZIFs虽然没有明显的低温催化能力,但具有良好的热稳定性(空气气氛中稳定温度可达330℃);二者及其复合固溶体具有相同的晶体结构和相似的疏水能力,CoZn复合ZIFs能够同时实现良好的疏水性(抗湿度能力)和热稳定性(达330℃)。TMO-MOFs复合纳米材料将结合各自在灵敏度和选择性上的优点,从而解决目前TMO气敏材料选择性差的问题,制备出高选择性高灵敏度化学电阻式气敏传感器。
本发明的发明人,经过一系列的探索,在籽晶层基础上,借助溶液法,通过调控反应条件,在TMO纳米线表面不受表面活性剂和同质外延条件限制的基础上,异质外延生长CoZn混合ZIFs薄膜,获得了一种由Co、Zn金属比例可调、咪唑基配体可变、厚度及孔径壁饰可控的复合MOF层包覆的TMO@MOFs核壳结构一维纳米阵列薄膜。该材料以50-200nm的SnO2/TiO2/WO3纳米线为核心TMO导电网络和高灵敏度气敏材料,以CoZn混合ZIF薄膜的MOFs壳层为选择性抗湿度材料,同时CoZn混合ZIF薄膜靠近TMO表面的Co元素具有低温催化能力,进一步降低气敏工作温度和提升灵敏度,使得该材料具备极灵敏的低温VOCs检测能力和选择性地提升其抗湿度性能。
本发明提供的TMO@MOFs核壳结构一维纳米阵列薄膜,整体由TMO外包覆复合MOFs组成核壳结构的一维纳米阵列,单根TMO纳米线直径在50-200nm,复合ZIFs壳层厚度在1-200nm可调,复合ZIFs壳层中Co、Zn比例可控,有机配体类型可调。
在一些优选制备方法中,所述的TMO@MOFs核壳结构一维纳米阵列薄膜,所述TMO为SnO2,TiO2和WO3,所述MOFs为Co、Zn双金属混合ZIFs,所述ZIFs的有机配体为咪唑、2-甲基咪唑、2-乙基咪唑,4-甲基咪唑,4,5-二甲基咪唑,2,4,5-三甲基咪唑和苯并咪唑。
本发明还提供所述TMO@MOFs核壳结构一维纳米阵列薄膜的制备方法。典型的制备方法为,称取锌盐钴盐加水和DMF溶解于反应釜中,按照比例加入咪唑基配体搅拌,形成透明溶液,将籽晶层法在蓝宝石/多晶氧化铝片上水热/溶剂热生长的TMO一维阵列薄膜的TMO面朝下,放入溶液中,密封反应釜后加热反应,反应完毕将复合阵列薄膜表面冲洗干净,在空气中晾干。
在一些优选制备方法中,所述锌盐为醋酸锌、硫酸锌或氯化锌,所述钴盐为醋酸钴、硫酸钴或氯化钴。
在一些优选实施方案中,所述ZIF系列MOFs的有机配体为咪唑、2-甲基咪唑、2-乙基咪唑,4-甲基咪唑,4,5-二甲基咪唑,2,4,5-三甲基咪唑或苯并咪唑。
在一些优选实施方案中,所述锌盐:钴盐摩尔比为0:1-3:1。
在一些优选实施方案中,所述水热反应的反应温度为25-125℃,反应时间为0.5-36h。
在一些优选实施方案中,所述水与DMF的体积比为0:16–3:1。
本发明还提供所述TMO@MOFs核壳结构一维纳米阵列薄膜的用途,所述TMO@MOFs核壳结构一维阵列薄膜在挥发性有机化合物气敏传感器中的应用,所述TMO@MOFs核壳结构一维阵列薄膜作为气敏材料,所述TMO作为主体气敏响应材料,所述MOFs作为催化和气体吸附分离材料。。
本发明通过水热/溶剂热法在TMO纳米线表面外延生长热稳定的疏水CoZn复合ZIFs层,一方面CoZn复合ZIFs壳层既能选择性将水分子排除在外,又能将目标气体吸附送达TMO表面,实现选择性抗湿气敏响应;另一方面界面处的Co元素的低温催化能力,进一步提升TMO的低温灵敏度,实现低温下的高灵敏度检测(260℃最佳);二者综合,使得本发明提供的TMO@MOFs核壳结构一维阵列薄膜对挥发性有机化合物同时具有选择性抗湿能力和低温高灵敏度。同时本发明还具有方法简单、成本低廉、易于推广的优点。
附图说明
附图是本发明所制备的TMO@MOFs核壳结构一维阵列薄膜截面SEM图和单根纳米棒的TEM图(以二甲基咪唑为配体的TiO2@ZIF-CoZn为例)。
具体实施方式
以下结合附图对本发明做进一步说明。
TMO@MOFs核壳结构一维阵列薄膜的制备:将籽晶层法在蓝宝石/多晶氧化铝片上水热/溶剂热生长的TMO一维阵列薄膜的TMO面朝下,加入溶有金属盐和有机配体的水和DMF混合溶液中,密封反应釜后加热反应,反应完毕将复合阵列薄膜表面冲洗干净,在空气中晾干。
TMO@MOFs核壳结构一维阵列薄膜的表征:样品形貌采用扫描电子显微镜(SEM,JEOL JSM-6700F)和透射电子显微镜(TEM,JEOL JEM-2100)进行观察。
TMO@MOFs核壳结构一维阵列薄膜气敏性能测试:气敏传感器的基底采用长10mm宽8mm厚度为0.6mm的(001)晶面蓝宝石片或者长20mm宽10mm厚度为1mm的氧化铝陶瓷片,然后在两端涂上导电银浆固定住两根导电测试用的Au线,中间未涂导电银浆的绝缘部位为气敏材料测试主要区域,经550℃煅烧30min后取出并室温冷却。根据制备方法得到的在上述基片上生长的TMO@MOFs核壳结构一维阵列薄膜可直接作为气敏传感器。气敏传感器制备完成后,在220℃下稳定20h。管式炉为气敏传感器提供恒定的工作温度,特定浓度的VOCs气体则是通过质量流量计(CS-200C,北京七星华创电子股份有限公司)控制VOCs标准气(合成空气分散)和合成空气的比例来实现。进气流量恒定为600ml/min,工作电压为5V,电流收集由数字电流表完成(Keithley2602B Sourcemeter,Keithley Instrument Inc.,USA)。响应值(R,response)定义为空气中传感器电阻(Rair)与检测气中电阻(Rgas)之比,即R=Rair/Rgas–1。响应/恢复时间分别定义为传感器电阻到达/恢复至90%/10%各自在被检测气和合成空气中饱和电阻值的时间。
籽晶层法TMO一维阵列薄膜生长:
WO3一维阵列薄膜:基片经水、丙酮、乙醇超声清洗干燥后,参照Zheng等[1]的方法,将H2WO4(2.5g,0.01mol)溶解于20ml过氧化氢溶液(30wt%),通过旋涂法在基片上形成薄膜,然后在450℃中煅烧30min后,得到WO3籽晶层。取Na2WO4·2H2O(8.25g,0.025mol)溶于25ml去离子水中,搅拌状态下加入HCl(2M)将pH调至2.0,然后将溶液稀释至250ml,用草酸将溶液pH调为2.4。搅拌30min后,取20ml该溶液倒入50mL聚四氟乙烯(Teflon)内衬中,并加入0.005mol NaCl,将籽晶基片竖直浸入溶液中,旋紧密封好反应釜后,放入干燥箱中,170℃水热2小时。反应完成后,取出基片,于空气中用去离子水洗涤数次,室温干燥。
TiO2一维阵列薄膜:基片经水、丙酮、乙醇超声清洗干燥后,参照Aydil等[2]的方法,取20mL的钛酸四正丁酯溶于180mL的无水乙醇溶液中,搅拌30min,得到0.3M的钛酸四正丁酯乙醇溶液,然后将已经清洗干净的基片浸渍在0.3M的钛酸四正丁酯溶液中3小时,取出,在空气中自然晾干后,将其放入管式炉中500℃加热30min得到TiO2籽晶层。然后再取60ml 37%盐酸,60mL丁酮,6mL钛酸四正丁酯搅拌混合均匀,分装倒入20ml的聚四氟乙烯(Teflon)内衬中,将基片长有籽晶层的面朝下浸入溶液中,旋转密封好反应釜,放入干燥箱中200℃水热2小时.反应完成后,取出基片,于空气中用去离子水洗涤数次后,自然晾干,再在空气中400℃加热30min,得到二氧化钛阵列。
SnO2一维阵列薄膜:基片经水、丙酮、乙醇超声清洗干燥后,放入浓度为0.1M的SnCl4·5H2O的水溶液(已水解成溶胶状)浸渍1小时,缓慢提拉后用清水冲洗,120℃加热120min空气干燥后,升温至500℃保持1小时形成SnO2籽晶层。阵列生长参照Vayssieres等[3]的方法,配制100mL含0.034g SnCl4·5H2O,0.920g(NH2)2CO和5mL浓HCl(37%)的水溶液,将基片竖直浸入溶液中,95℃反应48小时。反应完成后,取出基片,于空气中用去离子水洗涤数次,室温干燥。
TMO一维阵列外延生长位点修饰:在TiO2和SnO2一维阵列表面外延生长ZIF系MOFs需要外延生长位点才能均匀包覆,ZnO籽晶包覆或咪唑基配体键合均可实现外延生长位点修饰。ZnO籽晶包覆采用Greene等[4]的籽晶法,区别是将空白基片换成了长有TMO阵列的基片;将0.005M ZnAc2乙醇溶液反复滴加(3-5次)基片上,10s后氮气吹干,循环3-5次后在空气中350℃加热20min,得到ZnO籽晶层;咪唑基配体键合采用的Hae-Kwon Jeong等[5]的热溶液接枝法,以2-甲基咪唑为例(其余配体按等摩尔量配制),取3.62g配体溶于50mL甲醇溶液中,在200℃的加热板上平放好基片,每次滴加0.5-1mL到基片上,20min后取下基片冷却,泡在干净甲醇中洗去未键合的配体,重复以上步骤约6次即可。
实施例1
称取氯化锌和氯化钴(Zn:Co=1:1,总摩尔浓度0.86mM)加2.5mL水和13.5mL DMF溶解于反应釜中,加入2-甲基咪唑(30.4mM)搅拌,形成透明溶液,将籽晶层法在蓝宝石片上水热生长的WO3一维阵列薄膜面朝下,放入溶液中,密封反应釜后60℃反应2h,反应完毕将复合阵列薄膜表面冲洗干净,在空气中晾干。
实施例2
称取硝酸锌和硝酸钴(Zn:Co=1:0,总摩尔浓度0.86mM)加12mL水和4mL DMF溶解于反应釜中,加入2-甲基咪唑(76.0mM)搅拌,形成透明溶液,将籽晶层法在蓝宝石片上溶剂热生长的TiO2一维阵列薄膜面朝下,放入溶液中,密封反应釜后60℃反应2h,反应完毕将复合阵列薄膜表面冲洗干净,在空气中晾干。
实施例3
称取氯化锌和氯化钴(Zn:Co=3:1,总摩尔浓度0.86mM)加4mL水和12mL DMF溶解于反应釜中,加入咪唑(30.4mM)搅拌,形成透明溶液,将籽晶层法在多晶氧化铝陶瓷片上水热生长的SnO2一维阵列薄膜面朝下,放入溶液中,密封反应釜后120℃反应0.5h,反应完毕将复合阵列薄膜表面冲洗干净,在空气中晾干。
实施例4
称取硝酸锌和硝酸钴(Zn:Co=1:3,总摩尔浓度8.60mM)加4mL水和12mL DMF溶解于反应釜中,加入2-乙基咪唑(76.0mM)搅拌,形成透明溶液,将籽晶层法在蓝宝石片上水热生长的WO3一维阵列薄膜面朝下,放入溶液中,密封反应釜后60℃反应12h,反应完毕将复合阵列薄膜表面冲洗干净,在空气中晾干。
实施例5
称取醋酸锌和醋酸钴(Zn:Co=3:1,总摩尔浓度0.86mM)加4mL水和12mL DMF溶解于反应釜中,加入苯并咪唑(76.0mM)搅拌,形成透明溶液,将籽晶层法在多晶氧化铝陶瓷片上水热生长的SnO2一维阵列薄膜面朝下,放入溶液中,密封反应釜后120℃反应3h,反应完毕将复合阵列薄膜表面冲洗干净,在空气中晾干。
实施例6
称取醋酸锌和醋酸钴(Zn:Co=3:1,总摩尔浓度0.86mM)加0mL水和12mL DMF溶解于反应釜中,加入4,5-二甲基咪唑(76.0mM)搅拌,形成透明溶液,将籽晶层法在多晶氧化铝陶瓷片上水热生长的TiO2一维阵列薄膜面朝下,放入溶液中,密封反应釜后125℃反应12h,反应完毕将复合阵列薄膜表面冲洗干净,在空气中晾干。
将制备得到的TMO@MOFs核壳结构一维阵列薄膜测试气敏性能。以TiO2包覆10nmCoZn混合ZIF(2-甲基咪唑)为例,表1对比了包覆前后的抗湿度性能和丙酮气敏响应,显示出该复合气敏材料不仅具有良好的低温气敏响应,而且具有良好的抗湿度性能(对湿度分别为0%,10%,30%,50%,70%和90%的10ppm丙酮的响应值R求标准方差后,与平均值的偏差百分比,即anti-humidity=stdev.(all)/average(all)×100%)。由于ZnO@ZIF-67样品热稳定性太差(220℃即分解,金属盐仅钴盐),ZnO@ZIF-8样品没有Co的低温催化导致200-300℃响应值过低(金属盐仅Zn盐),因而不适合用于性能对比。
表1不同样品的响应值和抗湿度性能对比
参考文献:
[1]Zheng,F.,Lu,H.,Guo,M.,et al.Effect of substrate pre-treatment oncontrollable synthesis of hexagonal WO3nanorod arrays and theirelectrochromic properties[J].CrystEngComm,2013,15:5828-5837.
[2]Liu,B.,Aydil,E.S.Growth of Oriented Single-crystalline rutileTiO2nanorods on transparent conducting substrates for dye-sensitized solarcells[J].J.Am.Chem.Soc.,2009,131,3985–3990.
[3]Vayssieres,L.,Graetzel.M.,Highly ordered SnO2nanorod arrays fromcontrolled aqueous growth[J].Angew.Chem.,2004,116,3752-3756.
[4]Greene,L.E.,Law,M.,Tan,D.H.,et al.General route to vertical ZnOnanowire arrays using textured ZnO seeds[J].Nano Lett,2005,5(7):1231-1236.
[5]McCarthy,MC,Varela-Guerrero,V,Barnett,GV,et al.Synthesis ofzeolitic imidazolate framework films and membranes with controlledmicrostructures[J].Langmuir.,2010,26(18):14636-14641.
Claims (9)
1.一种TMO@MOFs核壳结构一维阵列薄膜,其特征在于,整体薄膜厚度2-10μm,阵列薄膜由一维TMO@MOFs核壳结构组成,其中核心TMO纳米线直径50-200nm,壳层MOFs厚度从1nm到200nm可调,壳层MOFs的金属节点与有机链可调,所述TMO为SnO2、TiO2或WO3,所述MOFs为基于咪唑基配体的Co、Zn双金属混合MOFs。
2.一种权利要求1所述的TMO@MOFs核壳结构一维阵列薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
对籽晶层法在蓝宝石/多晶氧化铝片上水热/溶剂热生长的TMO进行ZnO籽晶层或咪唑基配体键合后,将其一维阵列薄膜的TMO面朝下,加入溶有锌盐、钴盐和有机配体的水和DMF混合溶液中,密封反应釜后加热反应,反应完毕将复合阵列薄膜表面冲洗干净,在空气中晾干。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述锌盐为醋酸锌、硫酸锌或氯化锌,所述钴盐为醋酸钴、硫酸钴或氯化钴。
4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述有机配体为咪唑、2-甲基咪唑、2-乙基咪唑、4-甲基咪唑、4,5-二甲基咪唑、2,4,5-三甲基咪唑或苯并咪唑。
5.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述溶剂热反应的反应温度为25-120℃,反应时间为0.5-36h。
6.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,水与DMF的体积比为2.5:13.5-3:1。
7.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述锌盐:钴盐摩尔比为1:3-3:1。
8.权利要求1所述的TMO@MOFs核壳结构一维阵列薄膜在挥发性有机化合物气敏传感器中的应用。
9.权利要求1所述的TMO@MOFs核壳结构一维阵列薄膜在气敏材料中的应用。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510923722.9A CN105588860B (zh) | 2015-12-13 | 2015-12-13 | 过渡金属氧化物表面异质外延金属有机框架壳层及其制备方法和用途 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510923722.9A CN105588860B (zh) | 2015-12-13 | 2015-12-13 | 过渡金属氧化物表面异质外延金属有机框架壳层及其制备方法和用途 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105588860A CN105588860A (zh) | 2016-05-18 |
CN105588860B true CN105588860B (zh) | 2018-09-28 |
Family
ID=55928603
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201510923722.9A Active CN105588860B (zh) | 2015-12-13 | 2015-12-13 | 过渡金属氧化物表面异质外延金属有机框架壳层及其制备方法和用途 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN105588860B (zh) |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106770557A (zh) * | 2017-01-09 | 2017-05-31 | 广西民族大学 | 一种高灵敏度的苯扎贝特分子印迹电化学传感器的制备方法 |
CN109675595B (zh) * | 2017-10-18 | 2020-05-05 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 一种碳化钨/多孔碳复合材料及其制备方法和在电化学产氢中的应用 |
CN109851802B (zh) * | 2017-11-30 | 2020-08-28 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 一种具有均匀连续包覆的核鞘结构的二氧化钛-金属有机骨架阵列及其制备方法和用途 |
CN110201669B (zh) * | 2019-06-11 | 2021-11-19 | 济南大学 | 一种可提高贵金属纳米粒子抗烧结性能的多孔氧化铝壳层材料的制备方法 |
CN110396006B (zh) * | 2019-07-16 | 2021-11-09 | 济南大学 | 一种ZIF-8膜包覆SnO2复合气敏材料及其制备方法和应用 |
CN111004403A (zh) * | 2019-11-05 | 2020-04-14 | 复旦大学 | 在氧化硅表面原位生长大面积Cu-BHT导电薄膜MOFs的方法 |
CN110898858B (zh) * | 2019-12-16 | 2023-01-06 | 桂林理工大学 | 一种NiZn-MOFs/WO3纳米片阵列复合光催化剂的制备方法 |
CN112808029A (zh) * | 2020-12-23 | 2021-05-18 | 华南理工大学 | 一种在陶瓷基底上快速生长zif-8膜的方法 |
CN114108053B (zh) * | 2021-11-16 | 2023-08-22 | 盐城工学院 | 一种金属有机框架修饰的wo3/w光阳极薄膜及其制备方法和应用 |
CN115178107B (zh) * | 2022-07-18 | 2023-07-07 | 成都理工大学 | 一种水热自生长制备mof-303/aao复合膜的方法及应用 |
CN115676874B (zh) * | 2022-10-20 | 2023-10-03 | 南开大学 | 金属-有机框架衍生的SnO2-ZnO复合物气敏材料及其制备方法 |
CN116283356B (zh) * | 2023-02-16 | 2024-04-02 | 安徽维纳物联科技有限公司 | 一种SnO2基甲烷气体传感器及其制备方法 |
CN116554047B (zh) * | 2023-07-07 | 2023-10-20 | 吉林省卓材新研科技有限公司 | 一种配体、金属有机框架材料及其应用和超级电容器 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104370820B (zh) * | 2013-08-13 | 2017-05-24 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种多孔金属有机骨架材料的制备方法及应用 |
CN104001547B (zh) * | 2014-06-16 | 2016-03-30 | 上海师范大学 | 一种环境友好型核壳一维纳米铜线-有机金属骨架zif-8复合催化剂的制备方法及其应用 |
CN104084238B (zh) * | 2014-07-08 | 2017-02-22 | 大连理工大学 | 一种ZIF‑8膜包覆Pd/ZnO核壳催化剂及其制备方法 |
CN104174388B (zh) * | 2014-08-08 | 2016-04-13 | 复旦大学 | 一种金属有机框架复合材料及其制备方法 |
-
2015
- 2015-12-13 CN CN201510923722.9A patent/CN105588860B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN105588860A (zh) | 2016-05-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105588860B (zh) | 过渡金属氧化物表面异质外延金属有机框架壳层及其制备方法和用途 | |
CN105510395B (zh) | 金属氧化物-金属有机框架纳米核壳结构一维阵列及其制备方法和用途 | |
Meng et al. | In-situ growth of ordered Pd-doped ZnO nanorod arrays on ceramic tube with enhanced trimethylamine sensing performance | |
Yang et al. | A novel sensor for fast detection of triethylamine based on rutile TiO2 nanorod arrays | |
Shankar et al. | Room temperature ethanol sensing properties of ZnO nanorods prepared using an electrospinning technique | |
CN109709160B (zh) | 一种电子导电金属有机框架薄膜及其制备方法和用途 | |
Jia et al. | Micro/nanostructured ordered porous films and their structurally induced control of the gas sensing performances | |
CN103059066B (zh) | 氢氧化物纳米线和有机配体在常温下快速制备金属有机框架物薄膜的方法 | |
CN102175724B (zh) | 一种复合电阻型nh3气敏气体传感器及其制备方法 | |
Wang et al. | Ammonia sensing properties of metal–organic frameworks-derived zinc oxide/reduced graphene oxide nanocomposite | |
CN107991350A (zh) | 一种棒状ZnO/ZIF-8的制备及其低温H2敏感效应 | |
CN109713355B (zh) | 一种薄膜基电学器件 | |
CN106442642A (zh) | 一种氧化锌/石墨烯复合材料的制备方法、电阻型气体传感器 | |
CN107364897A (zh) | 一种铁酸锌纳米材料的制备方法 | |
CN103406029A (zh) | 一种耐高温氧化锌纳米棒支撑的三明治结构含锌金属有机骨架膜的制备方法 | |
CN103364453A (zh) | 氧化锡-氧化锌复合空心微球气敏传感器件及制备方法 | |
CN109853030A (zh) | 一种金属有机框架薄膜包覆的金属氧化物纳米晶及其制备方法和用途 | |
CN109052453B (zh) | 一种ZnCo2O4/ZnO异质结构复合气敏材料及制备方法 | |
CN102557114A (zh) | 三维空心多级结构氧化铟基气敏材料的制备方法及其应用 | |
CN110270234A (zh) | 一种氧化石墨烯/金属有机框架复合膜及其制备方法及应用 | |
CN103274451B (zh) | 二氧化锡/氧化锌核壳结构纳米复合材料的合成及应用 | |
Okada et al. | Electrochemical sensing and catalysis using Cu 3 (BTC) 2 coating electrodes from Cu (OH) 2 films | |
CN107311234A (zh) | 一种氧化锌/铁酸锌纳米复合材料的制备方法与应用 | |
CN111796013A (zh) | 沸石咪唑酯骨架结构/金属氧化物/硫化钼复合材料、其制备及其应用 | |
CN104230962B (zh) | 一种制备介孔金属有机框架物结构晶体的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |