CN105551524A - 一种存储单元的擦除方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种存储单元的擦除方法,其特征在于,包括:S1、接收编程操作指令;S2、对存储单元进行选择,选中的存储单元的字线以及位线接第一编程电压,未被选中的存储单元的字线悬空,位线接电压源;S3、对选中的存储单元的字线加编程脉冲;S4、对选中的存储单元的阱CWELL加擦除电压脉冲;S5、进行编程验证,如果验证成功则结束编程操作,否则执行步骤S2。本发明实施例提供的一种存储单元的擦除方法,在每次对存储单元编程后,通过在存储单元的阱上加擦除脉冲,以实现擦除掉存储单元表层俘获的电子,进而增强存储单元对数据的保持特性。
Description
技术领域
本发明实施例涉及存储技术领域,具体涉及一种存储单元的擦除方法。
背景技术
非易失闪存介质(norflash/nandflash)是一种很常见的存储芯片,兼有随机存储器(RamdomAccessMemory,RAM)和只读存储器(ReadOnlyMemory,ROM)的优点,数据掉电不会丢失,是一种可在系统进行电擦写的存储器,同时它的高集成度和低成本使它成为市场主流。Flash芯片是由内部成千上万个存储单元组成的,每个储存单元存储一位数据,多个存储单元构成页,多个页组成块,正是由于该特殊的物理结构,在norflash/nandflash中是以页为单位进行读写数据,以块为单位进行擦除数据的。
目前主流的3DNandFlash均是I型结构,即在叠层上打竖直向下的孔,形成I型沟道,如图1所示为现有技术中一种3DNandFlash的切面示意图。所述图1中的存储单元处于编程状态,图2为图1对应的电路图,其中,图1和图2中的符号表示为:WL:字线;SSL:串连选择线;DMWL:冗余字线;GSL:地选择线;CWELL:存储单元的阱。当存储单元处于编程状态时,字线WL0、WL1、WL2以及WL3可以浮空或者接0V电压;串连选择线SSL浮空;地选择线GSL浮空;DMWL浮空或者接0V电压;存储单元的阱CWELL接3V电压;其中所述0V电压是指0V附件的值。这种结构的存储单元采用的是硅-氧化层-氮化层-氧化层-硅结构(SiliconOxideNitrideOxideSemiconductor,SONOS),工作原理是:通常采用沟道热电子注入(ChannelHotElectronInjection,CHE)效应或F-N隧穿效应,将电荷(通常是电子)通过隧穿氧化层注入到氮化硅层,并被氮化硅层中的电荷陷阱俘获,从而引起存储单元阀值电压的改变,达到数据存储的效果。但是由于在编程和擦除时,存在浅层和深层的存储层俘获电荷不均匀的情况,因此当所述存储单元静止不动或者被执行某些操作的过程中,浅层存储层俘获的电子由于自身的运动或其它干扰,很容易跑出俘获层,导致编程的数据发生变化,使得数据不能很好地保持住。
因此,非常有必要设计一种提高数据保持特性的方法。
发明内容
本发明提供一种存储单元的擦除方法,以提高数据的保持特性。
该方法包括:
S1、接收编程操作指令;
S2、对存储单元进行选择,选中的存储单元的字线以及位线接第一编程电压,未被选中的存储单元的字线悬空,位线接电压源;
S3、对选中的存储单元的字线加编程脉冲;
S4、对选中的存储单元的阱CWELL加擦除电压脉冲;
S5、进行编程验证,如果验证成功则结束编程操作,否则执行步骤S2。
示例性的,所述第一编程电压为-5V~10V。
进一步的,未被选中的存储单元的字线悬空,位线接电压源,包括:通过电容耦合效应,将未被选中的存储单元的字线电压提高至第二编程电压。
示例性的,所述第二编程电压为3V~15V,电压源电压为1.5V~2.5V。
示例性的,所述进行编程验证包括:对比读出的数据与写入的数据是否一致,如果一致,则说明验证成功,否则,验证失败。
优选的,对选中的存储单元的字线加编程脉冲包括:对选中的存储单元的字线加至少两个编程脉冲。
本发明实施例提供的一种存储单元的擦除方法,在每次对存储单元编程后,通过在存储单元的阱上加擦除脉冲,以实现擦除掉存储单元俘获的电子,进而增强存储单元对数据的保持特性。
附图说明
图1是现有技术中一种3DNandFlash的切面示意图;
图2是图1对应的电路示意图;
图3是本发明实施例一中的一种存储单元的擦除方法流程图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明,而非对本发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
实施例一
图3为本发明实施例一提供的一种存储单元的擦除方法流程图,本实施例可适用于需要提高存储单元的数据保持特性的情况。参加图3,本实施例提供的存储单元的擦除方法具体包括如下步骤:
S1、接收编程操作指令;
S2、对存储单元进行选择,选中的存储单元的字线以及位线接第一编程电压,未被选中的存储单元的字线悬空,位线接电压源;
上述操作具体可以是,通过编程操作指令中存储单元的地址对存储单元进行选择。选中的存储单元的字线以及位线接第一编程电压,未被选中的存储单元的字线悬空,位线接电压源;
其中,所述第一编程电压可以为但不限于-5V~10V之间的任意值,包括-5V和10V。电压源电压为1.5V~2.5V,包括1.5V和2.5V。
未被选中的存储单元的字线悬空,位线接电压源,包括:通过电容耦合效应,将未被选中的存储单元的字线电压提高至第二编程电压。
示例性的,所述第二编程电压为3V~15V,包括3V和15V。通过电容耦合效应,将未被选中的存储单元的字线电压提高至第二编程电压,目的是为了使未被选中的存储单元不被擦除。
S3、对选中的存储单元的字线加编程脉冲;
示例性的,对选中的存储单元的字线可以加一个编程脉冲,或也可以连续加至少两个编程脉冲。SONOS结构的3DNandFlash中,所述编程脉冲可以是20V的脉冲信号。当存储单元的字线收到编程脉冲信号后,系统执行编程操作,存储单元被写0。很多情况下,为了确保编程的正确性,即存储单元被写0成功,都需要对存储单元的字线加多个编程脉冲,系统多次执行编程操作,例如,一共加了20个编程脉冲,此时,步骤S4和S5可以在20个编程脉冲全部加完之后执行,也可以在某次或者某些次编程脉冲之后执行,例如,在加完第2个编程脉冲后执行步骤S4和S5,或者加完前6个编程脉冲后执行步骤S4和S5。
S4、对选中的存储单元的阱CWELL加擦除电压脉冲;
示例性的,所述擦除电压脉冲可以是3V。对选中的存储单元的阱CWELL加擦除电压脉冲,目的是为了擦除掉存储单元表层俘获的电子。如果存储单元表层俘获的电子不被擦除,所述电子会影响存储单元中存储的数据。
S5、进行编程验证,如果验证成功则结束编程操作,否则执行步骤S2。
示例性的,进行编程验证包括:对比读出的数据与写入的数据是否一致,如果一致,则说明验证成功,结束编程操作,否则,验证失败,继续执行步骤S2。
此步骤中读出的数据是执行完步骤S4后选中的存储单元中的数据,写入的数据是执行步骤S4之前选中的存储单元中的数据。目的是为了确保在对存储单元的阱CWELL加擦除电压脉冲前后,存储单元中的数据没有被破坏。
本发明实施例提供的一种存储单元的擦除方法,在每次对存储单元编程后,通过在存储单元的阱上加擦除脉冲,以实现擦除掉存储单元俘获的电子,进而增强存储单元对数据的保持特性。
注意,上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本发明不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明,但是本发明不仅仅限于以上实施例,在不脱离本发明构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。
Claims (6)
1.一种存储单元的擦除方法,其特征在于,包括:
S1、接收编程操作指令;
S2、对存储单元进行选择,选中的存储单元的字线以及位线接第一编程电压,未被选中的存储单元的字线悬空,位线接电压源;
S3、对选中的存储单元的字线加编程脉冲;
S4、对选中的存储单元的阱CWELL加擦除电压脉冲;
S5、进行编程验证,如果验证成功则结束编程操作,否则执行步骤S2。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一编程电压为-5V~10V。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,未被选中的存储单元的字线悬空,位线接电压源,包括:通过电容耦合效应,将未被选中的存储单元的字线电压提高至第二编程电压。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述第二编程电压为3V~15V,电压源电压为1.5V~2.5V。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述进行编程验证包括:对比读出的数据与写入的数据是否一致,如果一致,则说明验证成功,否则,验证失败。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对选中的存储单元的字线加编程脉冲包括:
对选中的存储单元的字线加至少两个编程脉冲。
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