CN105189396B - 玻璃板及玻璃板的制造方法 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 157
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 238000000280 densification Methods 0.000 claims abstract description 32
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 41
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 10
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 8
- -1 siloxanes Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 2
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 41
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 39
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 18
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 16
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 15
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 12
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Inorganic materials [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 2
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-O oxonium Chemical compound [OH3+] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/007—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in gaseous phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B18/00—Shaping glass in contact with the surface of a liquid
- C03B18/02—Forming sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B18/00—Shaping glass in contact with the surface of a liquid
- C03B18/02—Forming sheets
- C03B18/14—Changing the surface of the glass ribbon, e.g. roughening
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
- C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
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Abstract
本发明的玻璃板是采用将熔融的玻璃原料在熔融金属上成形成板状的浮法成形出的厚度为1.6mm以下的玻璃板。所述玻璃板中,将成形时与所述熔融金属接触的表面作为第1表面,将与所述第1表面相反侧的表面作为第2表面时,至少对所述第1表面实施了形成致密化的脱碱层的处理。在将50℃、0.1质量%的氢氟酸用作蚀刻液的情况下将所述第1表面的蚀刻率设为ERl(nm/min)并将所述第2表面的蚀刻率设为ER2(nm/min)时,ER1与ER2满足ER2/ER1≤0.8的关系。
Description
技术领域
本发明涉及一种用浮法制造并进一步实施了脱碱处理的玻璃板、与其制造方法。
背景技术
在便携电话、智能手机及便携信息终端(PDA)等便携设备的图像显示装置中,装入触控面板,或者为了表面保护而配置保护玻璃。对于触控面板及保护玻璃,一般使用化学强化后的厚度为1.6mm以下的薄玻璃板。作为薄玻璃板的有效的化学强化,一般应用基于碱离子置换的化学强化方法。
对用浮法制造的玻璃板进行化学强化时,有时玻璃板产生翘曲。以往,该翘曲被认为是由于在浮法浴中锡成分侵入与熔融锡接触的玻璃表面(底面)而形成的锡层的影响而造成的。即,化学强化后的玻璃板的翘曲被认为是由于底面与顶面(成形时不与熔融锡接触的玻璃表面)之间产生的压缩应力差而产生的。该压缩应力差是在基于碱离子置换的化学强化时,来自底面的K+离子的侵入量被锡层所抑制,来自底面的K+离子的侵入量变得少于来自顶面的K+离子的侵入量,由此发生的。
专利文献1中提出的浮法玻璃的化学强化方法中,在化学强化处理之前,进行降低不与熔融锡接触的顶面的钠离子浓度的化学性处理。可以认为通过该化学性处理,化学强化处理中的顶面处的碱离子置换受到限制,因而顶面与底面的碱离子的侵入量之差变小,化学强化后的玻璃板的翘曲得到抑制。需要说明的是,此处的化学性处理是指,将氟利昂气体、氟化氢气体(HF气体)、亚硫酸气体(SO2气体)等氧化性气体喷吹到玻璃板的表面,使其与玻璃板表面的钠成分反应的处理。
另一方面,以往,为了防止在玻璃的制造工序、运送及加工工序中发生的玻璃板的表面的损伤,提出了在制造工序中向玻璃板的表面喷吹SO2气体,从而使玻璃中含有的碱成分与SO2气体反应而在玻璃表面形成硫酸钠(芒硝)等保护覆膜(专利文献2)。在玻璃的制造工序中,由于容易在与运送辊接触的底面产生损伤,因此需要至少在底面侧充分形成保护覆膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开昭61-205641号公报
专利文献2:国际公开2002/051767号
发明内容
发明要解决的课题
按照便携设备的轻量化的要求,玻璃板的厚度变得更薄,化学强化导致的翘曲容易变大。另外,由于对损伤品质的要求也变得严格,因而在玻璃板的制造工序中,利用保护覆膜防止损伤变得越来越重要。
对于如专利文献2中提出的那样的实施过用于形成防损伤用的保护覆膜的表面处理的玻璃板,实施化学强化处理的情况下,即使在化学强化处理之前实施专利文献1中提出的那样的化学性处理,有时也不能充分抑制翘曲。这种倾向尤其在厚度为1.6mm以下的薄玻璃板中显著体现。
因此,本发明的目的在于,提供即使实施了用于形成防损伤用的保护覆膜的表面处理,也能抑制化学强化后的翘曲的玻璃板。
用于解决课题的手段
用于在玻璃表面形成防损伤用的保护覆膜的基于SO2气体喷吹的玻璃表面处理是从玻璃表面脱除碱成分的处理(脱碱处理)。本发明人通过认真研究,发现为了抑制化学强化后的翘曲,需要考虑该脱碱处理带来的影响。更详细而言,本发明人发现,在脱碱过的玻璃表面有时通过脱水缩合而形成致密化的层,在底面,该致密化的层与锡层同样地阻碍化学强化时的碱离子置换,还考虑到致密化的层的存在,从而得到了以下的本发明的玻璃板。
本发明提供一种玻璃板,
其是采用将熔融的玻璃原料在熔融金属上成形成板状的浮法成形出的厚度为1.6mm以下的玻璃板,
所述玻璃板中,将成形时与所述熔融金属接触的表面作为第1表面、将与所述第1表面相反侧的表面作为第2表面时,至少对所述第1表面实施了形成致密化的脱碱层的处理,
在将50℃、0.1质量%的氢氟酸用作蚀刻液的情况下,将所述第1表面的蚀刻率设为ER1(nm/分钟)并将所述第2表面的蚀刻率设为ER2(nm/分钟)时,ER1与ER2满足ER2/ER1≤0.8的关系。
本发明还提供一种玻璃板的制造方法,
其是制造厚度为1.6mm以下的玻璃板的方法,其包括:
(I)将熔融的玻璃原料在熔融金属上成形成玻璃带的工序、
(II)在所述玻璃带中,将所述工序(I)中与所述熔融金属接触的表面作为第1表面、将与所述第1表面相反侧的表面作为第2表面,在将50℃、0.1质量%的氢氟酸用作蚀刻液的情况下,将所述第1表面的蚀刻率设为ER1(nm/分钟)并将所述第2表面的蚀刻率设为ER2(nm/分钟)时,至少对所述第1表面实施了形成致密化的脱碱层的处理,使得ER1与ER2满足ER2/ER1≤0.8的关系的工序。
发明效果
本发明的玻璃板是利用浮法成形、进一步实施了用于在表面形成防损伤用的保护覆膜的脱碱处理的玻璃板。本发明的玻璃板中,不仅考虑到由于成形工序中使用的熔融金属导致的第1表面的玻璃的变质,还考虑到由于脱碱和其后发生的致密化所导致的第1表面及第2表面的玻璃的变质,第1表面与第2表面的蚀刻率的比率ER2/ER1被设定为0.8以下。通过使第1表面与第2表面的蚀刻率满足这样的关系,对于本发明的玻璃板而言,在第1表面的变质导致的化学强化时的碱离子置换的阻碍作用、与第2表面的变质导致的化学强化时的碱离子置换的阻碍作用之间,可以实现良好的平衡。其结果是,化学强化后的翘曲得到抑制。另外,根据本发明的玻璃板的制造方法,出于同样的理由,能够制造化学强化后的翘曲得到抑制的玻璃板。
附图说明
图1是表示能够实施本发明的制造方法的装置的一例的示意图。
具体实施方式
以下,对本发明的实施方式进行详细说明。
本实施方式的玻璃板是利用作为玻璃板连续制造方法的浮法成形出的玻璃板。浮法中,用浮法窑熔融的玻璃原料在浮法浴内的熔融金属上成形成板状的玻璃带,所得到的玻璃带在退火炉中退火后,分切成规定大小的玻璃板。对于本实施方式中使用熔融锡作为熔融金属的情况进行说明。以下,在玻璃板中,将在浮法浴内的成形工序中与熔融锡接触的表面称为底面(第1表面),将与底面相反侧的不与熔融锡接触的表面称为顶面(第2表面)。
此外,本实施方式的玻璃板至少对底面实施了用于形成防损伤用的保护覆膜的脱碱、和继其后发生的形成致密化的层的处理。这里所说的脱碱是指,使与碱成分反应的氧化性气体接触玻璃板的表面,从玻璃中提取出碱成分。提取出的碱成分与氧化性气体反应,其结果是,在玻璃板的表面形成保护覆膜。
另外,气氛中的水分以质子(H+)和氧鎓离子(H3O+)等各种状态进入玻璃中代替通过脱碱提取出的碱成分,在脱碱后的层中形成硅烷醇基(≡Si-OH)。然后,该硅烷醇基通过脱水缩合,形成硅氧烷键(≡Si-O-Si≡)。本说明书中,将这样的脱水缩合导致的硅氧烷键增加的状态作为“致密化”。由于硅氧烷键增加的玻璃表面难以蚀刻,所以通过测定蚀刻率,可知致密化的程度。
作为氧化性气体,可以使用例如亚硫酸气体(SO2气体)。SO2通过与玻璃的构成成分反应,在玻璃板表面形成硫酸钠等碱硫酸盐(alkali sulfate)。该碱硫酸盐称为保护覆膜。这里使用的氧化性气体可以是SO2气体以外的能够通过与玻璃中的碱成分反应而形成保护覆膜的气体。另外,氟化氢气体那样的可期待强力脱碱效果的气体由于不形成保护覆膜,而且蚀刻玻璃表面而在该玻璃表面形成凹凸,因此不优选。另外,作为载气,可以使用空气、氮、氩等非活性气体。氧化性气体还可以含有水蒸气。
需要说明的是,对顶面也可以实施形成致密化的脱碱层的处理。另外,仅对底面喷吹SO2的情况下,喷吹的SO2气体的一部分还环绕到顶面侧,有时顶面也受到处理。
在将50℃、0.1质量%的氢氟酸用作蚀刻液的情况下,将底面的蚀刻率设为ER1(nm/分钟)、将顶面的蚀刻率设为ER2(nm/分钟)时,本实施方式的玻璃板的ER1与ER2满足ER2/ER1≤0.8的关系。底面是在浮法浴内与熔融锡接触的面,因此锡侵入表面而形成锡层。此外,在底面也形成有通过脱碱导致的脱水缩合而致密化的层。根据由这些锡层、致密化的层构成的变质层来决定底面的蚀刻率ER1。另外,在顶面,有时也形成通过脱碱导致的脱水缩合而致密化的层,蚀刻率ER2由通过该脱碱导致的脱水缩合而致密化的层等而决定。因此,通过控制在底面和顶面形成的致密化的层、即底面和顶面的脱碱导致的致密化的程度,能够实现满足ER2/ER1≤0.8的ER1与ER2。
由于底面和顶面的脱碱导致的致密化的程度可以通过SO2气体的喷吹量、SO2气体的喷吹面(仅底面、或底面和顶面这两面)及脱碱处理时的温度等来控制。在较低温下即使进行脱碱也难以发生致密化。一般的钠钙玻璃的情况下,若在约500℃以上的温度下使SO2气体作用于玻璃则容易发生致密化。在想要不太促进致密化而尽量多地形成保护覆膜的情况下,尽量缩短在500℃以上使SO2气体作用的时间、在较低温度(例如低于500℃)下使SO2气体作用尽量长的时间为宜。
底面处的锡层可能成为使蚀刻率上升的主要因素。另一方面,致密化的层难以被蚀刻,可能成为使蚀刻率下降的主要因素。即,在底面,发生锡层导致蚀刻率上升、致密化的脱碱层导致蚀刻率下降这两种现象。另一方面,顶面的蚀刻率受到致密化的脱碱层导致的影响。通常,底面比顶面更容易受到损伤,因此有要使更多的SO2作用于底面而形成更多的保护覆膜的倾向。因此,以往认为,即使加上锡层导致的影响,底面的蚀刻率与顶面的蚀刻率相比也是同等程度或其以下。本实施方式的玻璃板中ER2/ER1为0.8以下,这意味着底面上的致密化的程度被抑制至较低。通过将ER2/ER1设为0.8以下,在化学强化时,能够实现顶面与底面之间的碱离子置换的良好的平衡,能够抑制化学强化后的翘曲。需要说明的是,如果ER1与ER2满足ER2/ER1≤0.8的关系则能够抑制化学强化后的翘曲,因此ER1与ER2的值没有特别限定。
ER1与ER2优选满足ER2/ER1≤0.7的关系。由此,能够进一步较小地抑制化学强化后的翘曲量,例如还可以使化学强化后的翘曲量为玻璃板的长边尺寸的0.1%以下。为了进一步较小地抑制化学强化后的翘曲量。更优选ER1与ER2满足ER2/ER1≤0.4的关系。另外,为了实现碱离子置换的良好的平衡,ER2/ER1优选为0.05以上,更优选为0.1以上。
玻璃板可以使用一般用作化学强化玻璃的碱石灰玻璃、氧化铝硅酸盐玻璃,其组成没有特别限定。另外,厚度为1.6mm以下的薄玻璃板中化学强化后的翘曲特别容易发生。因此,本实施方式的玻璃板的厚度为1.6mm以下。特别是在厚度为1.1mm以下的薄玻璃板中应用本发明时可以得到显著的效果。
本实施方式的玻璃板可以利用例如包括如下工序的方法进行制造,
(I)将熔融的玻璃原料在熔融锡(熔融金属)上成形成玻璃带的工序、
(II)在所述玻璃带中,将所述工序(I)中与所述熔融锡接触的表面作为第1表面、将与所述第1表面相反侧的表面作为第2表面,在将50℃、0.1质量%的氢氟酸用作蚀刻液的情况下,将所述第1表面的蚀刻率设为ER1(nm/分钟)并将所述第2表面的蚀刻率设为ER2(nm/分钟)时,至少对所述第1表面实施了形成致密化的脱碱层的处理,使得ER1与ER2满足ER2/ER1≤0.8的关系的工序。该方法可以使用例如图1所示装置实施。
首先,用浮法窑11将玻璃原料熔融。熔融玻璃14从浮法窑11流出而供给到浮法浴12中。供给到浮法浴12中的熔融玻璃14在浮法浴12内扩散到比玻璃比重更大的熔融锡15上而成形成板状成为玻璃带16。该玻璃带16边在浮法浴12内行进边调整厚度,另外,冷却到具有能够从浮法浴12内取出的程度的粘度。冷却后的玻璃带16被从浮法浴12中提拉出来并向退火炉13运送。退火炉13中设置有脱碱处理用的气体喷吹用喷嘴17。该喷嘴17按照能够对玻璃带16的两面喷吹气体的方式,分别设置于玻璃带16的一面侧及另一面侧。由气体喷吹用喷嘴17喷吹的气体量可以通过控制装置(未图示)来控制。而且,在退火炉13中,设有加热单元及冷却单元(未图示),由此脱碱处理时的温度能够设定为规定的范围。在退火炉13内,通过适当设定SO2气体的喷吹量、处理温度,对玻璃带16实施形成致密化的脱碱层的处理,使得ER1与ER2满足ER2/ER1≤0.8的关系。然后,玻璃带16被分切成规定大小的玻璃板。
对本实施方式的玻璃板进行化学强化的情况下,在上述工序(II)之后,优选进一步实施如下工序:
(III)利用基于碱离子置换的方法,对通过分切所述玻璃带而得到的玻璃板进行化学强化的工序。
由此得到的化学强化后的玻璃板的翘曲量被控制至较小,同时具有优异的平坦性和高的强度。
实施例
以下,对于本发明使用实施例进一步详细说明,但本发明只要不超出本发明的主旨构成,就不受以下实施例限定。
(实施例1~6)
[玻璃板的制造方法]
利用浮法,制造厚度为0.33mm的玻璃板。首先,玻璃组成按照以质量%计成为SiO2:71.5%、Al2O3:1.7%、CaO:8%、MgO:4%、Na2O:13.6%、K2O:0.9%、SO2:0.2%、及全铁(作为Fe2O3):0.1%的方式进行调配。将该玻璃原料熔融,在浮法浴中将熔融的玻璃原料在熔融锡上成形成板状。然后,在退火炉中,实施向玻璃板的底面喷吹SO2气体从而形成致密化的脱碱层的处理。需要说明的是,SO2气体的喷吹仅对底面进行,但由于SO2气体向顶面环绕,顶面也成为实施了同样处理的状态。各实施例中的SO2气体的喷吹量示于表1。另外,各实施例中的SO2气体的喷吹时的温度、即处理温度也示于表1。
[蚀刻率测定方法]
所得到的玻璃板的蚀刻率以由将50℃、0.1质量%的氢氟酸用作蚀刻液并将玻璃板浸渍于该蚀刻液中3分钟时的蚀刻量算出的蚀刻率进行评价。蚀刻量的测定通过在蚀刻前的玻璃板的一部分涂布耐氢氟酸性的掩膜剂,测定蚀刻后形成的高低差从而进行。高低差的测定使用膜厚计(KLA-Tencor公司制、“Alpha Step 500”)。将蚀刻率的测定结果(ER1与ER2)、和由该结果求出的蚀刻率比(ER2/ER1)示于表1。需要说明的是,这里的蚀刻时间(3分钟)设定成只能测定玻璃板表面的变质层的蚀刻率,即不受玻璃板内部的主体层的蚀刻率的影响。具体来说,取多个蚀刻率相对于蚀刻时间的数据,在纵轴上绘制蚀刻深度,在横轴上绘制时间。用直线连接绘制的各点时,时间短的绘点之间形成斜率小的直线,时间长的绘点之间形成斜率大的直线,两者之间出现弯曲。由于推定出现该弯曲的蚀刻深度是组成由变质层向主体层发生变化的深度,因而选择未到达主体层的蚀刻时间(这里为3分钟)。
[化学强化方法]
从玻璃板切出尺寸370mm×470mm的样品、和尺寸50mm×50mm的样品。对这些样品进行化学强化。首先,将这些样品洗涤,其后浸渍于KNO3熔融盐中。将KNO3熔融盐的温度设为460℃、将浸渍时间设为30分钟。将样品由KNO3熔融盐取出并降温后,进行洗涤来去除附着于样品的KNO3。
[翘曲量测定方法]
尺寸370mm×470mm的样品的情况下,对于化学强化后的样品,将向凸侧翘曲的顶面朝下,置于平坦的平台上,使用测隙规测定8个点的样品与平台的间隔。将其最大值作为翘曲量。将结果示于表1。
尺寸50mm×50mm的样品的情况下,对于化学强化后的样品,将向凸侧翘曲的顶面朝上,支撑对向的两边,测定顶面的中央的高度方向的坐标。接着将样品翻转,同样地测定中央的高度方向的坐标。将这两个测定结果的一半的量作为翘曲量。需要说明的是,坐标的测定中,使用非接触式三维测定装置(三鹰光器公司制“NH-3N”)。通过测定顶面和底面,在得到的翘曲量中除去了自重导致的挠曲的影响。将结果示于表1。
(比较例1~3)
除了SO2气体的喷吹量及处理温度设为如表1所示这点以外,利用与实施例1~6相同的方法制作玻璃板。对于所得到的玻璃板,利用与实施例1~6同样的方法,进行蚀刻率测定、化学强化及翘曲量测定。将结果示于表1。
【表1】
实施例1~6的玻璃板的底面的蚀刻率为10nm/分钟以上,底面的蚀刻率(ER1)与顶面的蚀刻率(ER2)之比(ER2/ER1)为0.8以下。如上所述,底面形成有在成形时通过与熔融锡的接触导致的锡层而变得容易被蚀刻,蚀刻率有变高的倾向。另一方面,在脱碱的玻璃表面形成通过脱水缩合而致密化的层而变得难以被蚀刻,蚀刻率有变低的倾向。即,认为在实施例1~6的玻璃板的底面发生锡层导致的蚀刻率上升、和致密化的脱碱层导致的蚀刻率下降这两方,其结果是蚀刻率为10~12nm/分钟。另外,认为由于顶面仅发生致密化的脱碱层导致的蚀刻率下降的现象,其结果是蚀刻率为6~8nm/分钟之低。即,实施例1~6中,底面上的因脱碱导致的致密化的程度被抑制至较低,实现了ER2/ER1≤0.8的关系。由此可以认为,实施例1~6的玻璃板在化学强化时实现了顶面与底面之间的碱离子置换的良好的平衡,翘曲得到抑制。
另外,ER2/ER1为0.7以下的实施例3~6的样品与ER2/ER1为0.8的实施例1、2的样品相比,翘曲量被抑制至更小。
另一方面,比较例1~3的玻璃板的ER2/ER1的值超过0.8。即,比较例1~3的玻璃板与实施例1~6的玻璃板相比,底面的致密化的程度高,底面的蚀刻率低。其结果是,可以认为在化学强化时,由于致密化导致的底面的碱离子置换的阻碍的程度变高,顶面与底面之间的碱离子置换的平衡变差,翘曲量变大。
(实施例7)
除了将玻璃板的厚度设为0.4mm这点、由顶面和底面这两方喷吹SO2气体这点、和将SO2气体的喷吹量及处理温度设为如表2所示这点以外,利用与实施例1~6相同的方法制作玻璃板。对于所得到的玻璃板,利用与实施例1~6同样的方法,进行蚀刻率测定、化学强化及翘曲量测定。将结果示于表2。
(比较例4)
除了将玻璃板的厚度设为0.4mm这点、和将SO2气体的喷吹量及处理温度设为如表2所示这点以外,利用与实施例1~6相同的方法制作玻璃板。对于所得到的玻璃板,利用与实施例1~6同样的方法,进行蚀刻率测定、化学强化及翘曲量测定。将结果示于表2。
【表2】
实施例7 | 比较例4 | |
底面的蚀刻率:ER<sub>1</sub>(nm/分钟) | 5.4 | 5.2 |
顶面的蚀刻率:ER<sub>2</sub>(nm/分钟) | 3.8 | 5 |
ER<sub>2</sub>/ER<sub>1</sub> | 0.7 | 1.0 |
370mm×470mm样品的化学强化后的翘曲量(mm) | 0.52 | 0.99 |
50mm×50mm样品的化学强化后的翘曲量(μm) | 43.4 | 48.6 |
向底面的SO<sub>2</sub>气体的喷吹量(cc/分钟) | 30,000 | 30,000 |
向顶面的SO<sub>2</sub>气体的喷吹量(cc/分钟) | 16,000 | 0 |
处理温度(℃) | 560~420 | 560~420 |
(实施例8~11)
除了将玻璃板的厚度设为0.7mm这点、和将SO2气体的喷吹量及处理温度设为如表3所示这点以外,利用与实施例1~6相同的方法制作玻璃板。对于所得到的玻璃板,除了将化学强化条件设成KNO3熔融盐的温度为420℃、将浸渍时间设为4小时这点以外,利用与实施例1~6同样的方法,进行蚀刻率测定、化学强化及翘曲量测定。其中,化学强化及翘曲量测定仅对370mm×470mm的尺寸的样品进行。将结果示于表3。
(比较例5和6)
除了将玻璃板的厚度设为0.7mm这点、和将SO2气体的喷吹量及处理温度设为如表3所示这点以外,利用与实施例1~6相同的方法制作玻璃板。对于所得到的玻璃板,除了将化学强化条件设为KNO3熔融盐的温度为420℃、将浸渍时间设为4小时这点以外,利用与实施例1~6同样的方法,进行蚀刻率测定、化学强化及翘曲量测定。其中,化学强化及翘曲量测定仅对370mm×470mm的尺寸的样品进行。将结果示于表3。
【表3】
即便在使玻璃板的厚度变化的情况下,与ER2/ER1超过0.8的比较例5和6的样品相比,ER2/ER1满足0.8以下的实施例8~11的样品能够将化学强化后的翘曲量抑制至较小。
由以上实施例1~11和比较例1~6的结果可以确认,ER2/ER1为0.8以下的玻璃板的化学强化后的顶面与底面的碱离子交换量差被抑制至较小从而翘曲变小。
产业上的可利用性
本发明的玻璃板通过脱碱导致的脱水缩合而表面被致密化,而且化学强化后的翘曲也得到抑制,因此可以适宜地用在用于便携设备的图像显示装置的表面保护的保护玻璃等要求薄度和强度的用途中。
Claims (5)
1.一种玻璃板,其是采用将熔融的玻璃原料在熔融金属上成形成板状的浮法成形出的厚度为1.6mm以下的玻璃板,
所述玻璃板中,将成形时与所述熔融金属接触的表面作为第1表面、将与所述第1表面相反侧的表面作为第2表面时,至少对所述第1表面在退火炉中以缩短SO2气体在500℃以上作用时间且在低于500℃下使SO2气体作用的方式实施了形成致密化的脱碱层的处理,
在将50℃、0.1质量%的氢氟酸用作蚀刻液的情况下,将所述第1表面的蚀刻率设为ER1并将所述第2表面的蚀刻率设为ER2时,ER1与ER2满足ER2/ER1≤0.8的关系,ER1与ER2的单位为nm/分钟,
所述致密化是指,气氛中的水分进入玻璃中,在脱碱后的层中形成硅烷醇基,通过该硅烷醇基的脱水缩合而形成硅氧烷键,由此导致硅氧烷键增加了的状态。
2.如权利要求1所述的玻璃板,其中,ER1与ER2满足ER2/ER1≤0.7的关系。
3.如权利要求1或2所述的玻璃板,其中,对所述第2表面在退火炉中以缩短SO2气体在500℃以上作用时间且在低于500℃下使SO2气体作用的方式实施了形成致密化的脱碱层的处理。
4.一种玻璃板的制造方法,其是制造权利要求1所述的厚度为1.6mm以下的玻璃板的方法,包括:
(I)将熔融的玻璃原料在熔融金属上成形成玻璃带的工序、
(II)所述玻璃带中,将所述工序(I)中与所述熔融金属接触的表面作为第1表面、将与所述第1表面相反侧的表面作为第2表面,在将50℃、0.1质量%的氢氟酸用作蚀刻液的情况下,将所述第1表面的蚀刻率设为ER1并将所述第2表面的蚀刻率设为ER2时,至少对所述第1表面在退火炉中以缩短SO2气体在500℃以上作用时间且在低于500℃下使SO2气体作用的方式实施了形成致密化的脱碱层的处理,使得ER1与ER2满足ER2/ER1≤0.8的关系的工序,其中,ER1与ER2的单位为nm/分钟,
所述致密化是指,气氛中的水分进入玻璃中,在脱碱后的层中形成硅烷醇基,通过该硅烷醇基的脱水缩合而形成硅氧烷键,由此导致硅氧烷键增加了的状态。
5.如权利要求4所述的玻璃板的制造方法,其中,在所述工序(II)之后,还包括:
(III)采用基于碱离子置换的方法,对通过分切所述玻璃带而得到的玻璃板进行化学强化的工序。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013056557 | 2013-03-19 | ||
JP2013-056557 | 2013-03-19 | ||
PCT/JP2014/001543 WO2014148046A1 (ja) | 2013-03-19 | 2014-03-18 | ガラス板及びガラス板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105189396A CN105189396A (zh) | 2015-12-23 |
CN105189396B true CN105189396B (zh) | 2019-10-22 |
Family
ID=51579743
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201480016536.0A Active CN105189396B (zh) | 2013-03-19 | 2014-03-18 | 玻璃板及玻璃板的制造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10399894B2 (zh) |
JP (1) | JP6377604B2 (zh) |
CN (1) | CN105189396B (zh) |
WO (1) | WO2014148046A1 (zh) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107683268A (zh) * | 2015-06-08 | 2018-02-09 | 旭硝子欧洲玻璃公司 | 能够通过化学强化而具有受控的翘曲的玻璃板 |
FR3059001B1 (fr) * | 2016-11-24 | 2021-07-23 | Saint Gobain | Procede d'obtention de plaques de verre marquees |
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CN107543032A (zh) * | 2017-10-18 | 2018-01-05 | 蚌埠中建材信息显示材料有限公司 | 一种超薄玻璃防划伤装置 |
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-
2014
- 2014-03-18 CN CN201480016536.0A patent/CN105189396B/zh active Active
- 2014-03-18 US US14/777,280 patent/US10399894B2/en active Active
- 2014-03-18 JP JP2015506610A patent/JP6377604B2/ja active Active
- 2014-03-18 WO PCT/JP2014/001543 patent/WO2014148046A1/ja active Application Filing
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN105189396A (zh) | 2015-12-23 |
US20160023946A1 (en) | 2016-01-28 |
WO2014148046A1 (ja) | 2014-09-25 |
US10399894B2 (en) | 2019-09-03 |
JP6377604B2 (ja) | 2018-08-22 |
JPWO2014148046A1 (ja) | 2017-02-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |