CN105143927A - 表面微细凹凸体及表面微细凹凸体的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种表面微细凹凸体，其特征在于：其是表面的至少一部分形成有微细凹凸的表面微细凹凸体，且所述微细凹凸包含波状的凹凸图案、及形成在所述波状的凹凸图案上的数个凹部或凸部，所述波状的凹凸图案包含不规则地形成的数个凸条部、及所述数个凸条部间的凹条部，所述数个凸条部以互相不平行的方式蜿蜒，所述数个凸条部的最频间距为3～20μm，所述凹部或凸部的表观的最频径为1～10μm。根据本发明，能够提供一种表面微细凹凸体及其制造方法，该表面微细凹凸体在用作光扩散体时，在维持主扩散方向的扩散角度的情况下，在与主扩散方向正交的方向上也具有某种程度的扩散角度，且制造也容易。

Description

表面微细凹凸体及表面微细凹凸体的制造方法

技术领域

本发明涉及一种适合用作光扩散体及光扩散体形成用底版的表面微细凹凸体、及其制造方法。

本发明是基于2013年3月18日在日本提出申请的日本专利特愿2013-55722号、2014年2月25日在日本提出申请的日本专利特愿2014-034687号而主张优先权，并将其内容引用于此。

背景技术

已知表面形成有包含微细的波状凹凸的凹凸图案的片状表面微细凹凸体因其光学特性而用作光扩散性片材等光扩散体。

作为光扩散性片材的制造方法，例如在专利文献1中揭示有如下方法：对在包含加热收缩性膜的树脂制基材上设有树脂制硬质层的积层片材进行加热，使加热收缩性膜收缩，借此使硬质层以折叠的方式变形而制成凹凸状，而在硬质层的表面形成凹凸图案。另外，在专利文献1中，记载有通过在使加热收缩性膜收缩后进行延伸，能够形成配向不均较小的凹凸图案。如果将此种片材制成光扩散性片材，那么显示出优异的各向异性，即主扩散方向的扩散角度较大(例如25～30°左右)，与主扩散方向正交的方向的扩散角度较小(例如3°左右)。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2011-213051号公报

发明内容

[发明要解决的问题]

然而，最近业界也需求一种在于主扩散方向上维持较广的扩散角度(至少18°)的情况下，于与主扩散方向正交的方向上也具有某种程度的扩散角度(至少4°)的光扩散性片材。例如，在使形成为平缓的曲面状的汽车的挡风玻璃显示行驶速度等信息的抬头显示器系统中，为了使图像信息扩散并清晰地显示在挡风玻璃上，需求一种与主扩散方向正交的方向也具有某种程度的扩散角度的光扩散性片材。一般认为，此种光扩散性片材例如也可通过使用沿双轴方向热收缩的双轴方向热收缩膜作为加热收缩性膜，使其沿双轴方向收缩而制造。然而，所述方法的制造条件难以控制，难以稳定地获得具有一定性能的光扩散性片材。

本发明是鉴于所述情况而完成，提供一种表面微细凹凸体及其制造方法，该表面微细凹凸体在用作光扩散体时，在于主扩散方向上维持较广的扩散角度(至少18°)的情况下，于与主扩散方向正交的方向上也具有某种程度的扩散角度(至少4°)，且制造也较容易。

[解决问题的技术手段]

本发明具有以下形态。

＜1＞一种表面微细凹凸体，其特征在于：其是表面形成有微细凹凸的表面微细凹凸体，且所述微细凹凸包括：

波状的凹凸图案，其包含以互相不平行的方式蜿蜒的数个凸条部与形成在该数个凸条部间的凹条部，最频间距为3～20μm；及多个半球状凹部或半球状凸部，其形成在所述波状的凹凸图案上；

＜2＞根据＜1＞所述的表面微细凹凸体，其中所述半球状凹部或所述半球状凸部的最频直径为1～10μm；

＜3＞根据＜1＞或＜2＞所述的表面微细凹凸体，其中所述凸条部的平均高度为4～7μm；

＜4＞根据＜1＞至＜3＞中任一项所述的表面微细凹凸体，其中所述微细凹凸中的所述半球状凹部或所述半球状凸部的占有面积比率为30～70％；

＜5＞根据＜1＞至＜4＞中任一项所述的表面微细凹凸体，其是光扩散体；

＜6＞根据＜1＞至＜4＞中任一项所述的表面微细凹凸体，其是用以转印所述微细凹凸而制造光扩散体的光扩散体形成用底版；

＜7＞一种表面微细凹凸体的制造方法，其包括如下步骤：积层步骤，其在包含树脂的基材膜的单面上设置向基质树脂中分散多个粒子而成且厚度超过0.05μm且为5.0μm以下的硬质层而形成积层片材；变形步骤，其使所述积层片材的至少所述硬质层以折叠的方式变形；且所述基质树脂的玻璃转移温度比构成所述基材膜的所述树脂高10℃以上，所述粒子包含在小于比构成所述基材膜的所述树脂的玻璃转移温度高10℃的温度时，粒子形状不会因热而发生变化的材料，所述粒子的粒径大于所述硬质层的厚度；

＜8＞根据＜7＞所述的表面微细凹凸体的制造方法，其中所述基材膜是单轴方向加热收缩性膜，所述变形步骤是加热所述积层片材而使所述单轴方向加热收缩性膜收缩的步骤；

＜9＞一种光扩散体的制造方法，其包括转印步骤，该步骤是将以根据＜7＞或＜8＞所述的制造方法所制造的表面微细凹凸体用作光扩散体形成用底版，而转印该表面微细凹凸体的所述微细凹凸。

另外，本发明具有以下构成。

[1]一种表面微细凹凸体，其特征在于：其是表面的至少一部分形成有微细凹凸的表面微细凹凸体，且所述微细凹凸包含波状的凹凸图案、及形成在所述波状的凹凸图案上的数个凹部或凸部，所述波状的凹凸图案包含不规则地形成的数个凸条部、及所述数个凸条部间的凹条部，所述数个凸条部以互相不平行的方式蜿蜒，所述数个凸条部的最频间距为3～20μm，所述凹部或凸部的表观的最频径为1～10μm。

[2]根据[1]所述的表面微细凹凸体，其中所述凸条部的平均高度为4～7μm。

[3]根据[1]或[2]所述的表面微细凹凸体，其中所述微细凹凸中的所述凹部或所述凸部的占有面积比率为30～70％。

[4]根据[1]至[3]中任一项所述的表面微细凹凸体，其是光扩散体。

[5]根据[1]至[3]中任一项所述的表面微细凹凸体，其是用以转印所述微细凹凸而制造光扩散体的光扩散体形成用底版。

[6]一种表面微细凹凸体的制造方法，其包括如下步骤：积层步骤，其在包含树脂的基材膜的单面设置包含基质树脂及分散在所述基质树脂中的粒子且具有超过0.05μm且为5.0μm以下的厚度的硬质层而形成积层片材；变形步骤，其使所述积层片材的至少所述硬质层以折叠的方式变形；且

所述基质树脂的玻璃转移温度比构成所述基材膜的所述树脂的玻璃转移温度高10℃以上，

所述粒子包含在小于比构成所述基材膜的所述树脂的玻璃转移温度高10℃的温度的温度下，粒子形状不会因热而发生变化的材料，

所述粒子的粒径大于所述硬质层的厚度。

[7]根据[6]所述的表面微细凹凸体的制造方法，其中所述基材膜是单轴方向加热收缩性膜，所述变形步骤是加热所述积层片材而使所述单轴方向加热收缩性膜收缩的步骤。

[8]一种光扩散体的制造方法，其包括转印步骤，该步骤是将以根据[6]或[7]所述的制造方法所制造的表面微细凹凸体用作光扩散体形成用底版，而转印所述表面微细凹凸体的所述微细凹凸。

[发明的效果]

根据本发明，能够提供一种表面微细凹凸体及其制造方法，该表面微细凹凸体在用作光扩散体时，在于主扩散方向上维持较广的扩散角度(至少18°)的情况下，于与主扩散方向正交的方向上也具有某种程度的扩散角度(至少4°)，且制造也较容易。

附图说明

图1A是观察实施例1的光扩散性片材的微细凹凸而得的光学显微镜照片。

图1B是观察实施例1的光扩散性片材的微细凹凸而得的另一激光显微镜照片。

图2是示意性地表示沿图1A的光学显微镜照片中的I-I'线切断的部分的放大纵截面图。

图3是根据图1A的光扩散性片材的光学显微镜照片获得灰度图像，并对所述图像进行傅立叶变换而得的傅立叶变换图像。

图4是示意性地表示图3的傅立叶变换图像的示意图。

图5是以自图3的中心起通过A1中成为最大频度的点的方式作线L1-1，并对线L1-1的频度分布进行绘图而得的曲线图。

图6是自图3的中心起沿与L1-1正交的方向作线L1-2，并对线L1-2的频度分布进行绘图而得的曲线图。

图7是通过原子力显微镜观察图1A或B的光扩散性片材的微细凹凸形成面并根据该观察结果而获得的光扩散性片材的重要部分的纵截面图。

图8是求出凸部的平均高度的方法的说明图。

图9是求出凸部的平均高度的方法的说明图。

图10A是表示使用现有的各向异性较高的光扩散性片材的情况下的出射光的投影图像的形状的示意图。

图10B是表示使用由本发明获得的光扩散性片材的情况下的出射光的投影图像的形状的示意图。

图11是用以制造图1A或B的光扩散性片材的底版(表面微细凹凸体)的纵截面图。

图12是说明图11的底版(表面微细凹凸体)的制造方法的截面图。

具体实施方式

以下对本发明进行详细说明。

＜表面微细凹凸体＞

图1A是作为本发明的表面微细凹凸体的一实施形态例(下文所述的实施例1)的光扩散性片材(光扩散体)的单面的光学显微镜照片(俯视；表示纵0.4mm×横0.5mm的视野部分)，图1B是利用激光显微镜(KEYENCE公司制造的“VK-8510”)观察实施例1的光扩散性片材的微细凹凸而得的激光显微镜照片。图1B中的线α表示沿线β将所述光扩散性片材按图中横向切断而得的切断面中的高度分布。另外，图1A与图1B中倍率并不相同。

图2是示意性地表示沿图1A的光学显微镜照片中的I-I'线(沿下文所述的凸条部与凹条部重复的方向的线)切断的部分的放大纵截面图。另外，图2是自容易理解光扩散性片材的纵截面形状的观点出发而简化表示。

本说明书中，所谓“表面微细凹凸体”，意指表面具有微细的凹凸结构的物品。

如图2所示，该例的光扩散性片材10为如下2层结构：包含聚对苯二甲酸乙二酯(PET)的透明的基材11、及设置在所述基材11的其中一面上的包含电离辐射硬化性树脂的硬化物的透明的表面层12，在表面层12的露出侧的面上形成有包含波状的凹凸图案13、及形成在所述凹凸图案13上的多个凸部14的微细凹凸。在该例中，凸部14是形成为大致半球状。另外，在该例中，基材11的露出面(与设有表面层12的面相反侧的面)为平滑面。

微细凹凸中的波状的凹凸图案13是在图1A、B中纵向延伸而在图2中向相对于纸面垂直的方向延伸的数个条纹状的凸条部13a与所述数个凸条部13a间的凹条部13b沿一个方向(图1A、B及2中横向)交替重复而成。

各凸条部13a的纵截面形状如图2所示，为分别自基端侧向前端侧变细的前端细形状。

数个凸条部13a如图1A、B所示，各自蜿蜒且互相不平行，以不规则的方式形成。即，在各凸条部13a中，脊线蜿蜒，在各凹条部13b中，谷线蜿蜒。另外，邻接的凸条部13a的脊线的间隔并不固定，邻接的凹条部13b的谷线的间隔并不固定。

在本说明书中，所谓不规则，意指自相对于基材为法线方向观察光扩散片材10时，凸条部13a蜿蜒且互相不平行，各凸条部13a的脊线蜿蜒，各凹条部13b的谷线蜿蜒，且邻接的凸条部13a的脊线的间隔并不固定，邻接的凹条部13b的谷线的间隔并不固定。

另外，在各凸条部13a中脊线的高度并不固定，在各凹条部13b中谷线的高度并不固定。因此，如图2所示，各凸条部13a的纵截面形状各不相同而不一致，并不规则。

微细凹凸包含此种波状的凹凸图案13、与无规分布的多个凸部14。

此处，所谓“凸条部13a”的脊线，意指将凸条部13a的顶部连续连接的线。

在凸条部13a的脊线的中途存在凸部14的情况下，意指以通过凸部14的顶部的方式所作的线。

作为图2所记载的基材11，除了机械强度、尺寸稳定性优异的PET以外，可使用聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯丙烯酸酯、聚苯乙烯等树脂及玻璃等具有透明性的材料。基材11的厚度例如为30～500μm。

作为表面层12，除了电离辐射硬化性树脂的硬化物以外，可列举热硬化性树脂的硬化物、热塑性树脂等。作为电离辐射硬化性树脂，可列举紫外线硬化性树脂或电子束硬化性树脂。表面层12的厚度只要为对形成波状的凹凸图案13而言充分的厚度即可，作为最厚的部分的厚度，优选10～25μm左右。另外，表面层12的厚度意指使表面层12变形前的厚度，可使用光学式非接触膜厚测定器进行测定。

另外，在该例中，光扩散性片材10的微细凹凸包含波状的凹凸图案13与多个凸部14，本发明的表面微细凹凸体的微细凹凸也可包含波状的凹凸图案与多个凹部。

另外，在光扩散性片材10中，存在以波状的凹凸图案13的重复方向(图1A、B中横向)为Y方向、以与所述Y方向正交的方向(图1A、B中纵向)为X方向的情况。

另外，本说明书中，在该XY正交座标系统中，存在第1方向为Y轴方向、第2方向为X轴方向的情况。另外，也存在将与XY轴正交的方向称为第3方向、或表面微细凹凸体的基材的法线方向的情况。

图示例的光扩散性片材10中，就发挥光扩散性的观点而言，将波状的凹凸图案13的最频间距设为3～20μm。波状的凹凸图案13的最频间距优选7～15μm，更优选11～13μm。所谓间距，是相邻的凸条部的顶部间的距离。

如果最频间距处于所述范围内，那么在对所述光扩散性片材10自形成有微细凹凸的面(以下存在称为微细凹凸形成面的情况)或与所述面相反侧的平滑面侧入射光的情况下，来自与入射面相反的面的出射光沿Y方向(主扩散方向)良好地扩散，在Y方向上显示出充分的扩散角度(例如18°以上，优选23°以上，更优选25°以上。1/10扩散角度为(扩散角度×1.4+25°)以下，优选(扩散角度×1.4+22°)以下，更优选(扩散角度×1.4+20°)以下)。Y方向的扩散角度的上限值并无特别限制，例如为30°。

并且，图示例的光扩散性片材10的微细凹凸除如上所述般具有主要担负向主扩散方向的扩散的波状的凹凸图案13以外，也具有无规形成的多个凸部14。因此，波状的凹凸图案13的各向异性被凸部14适度弱化。其结果为，在对所述光扩散性片材10自任何一面入射光的情况下，来自相反面的出射光也沿X方向(与主扩散方向正交的方向)扩散，显示出小于Y方向的某种程度的扩散角度(例如4°以上，优选8°以上，更优选10°以上。1/10扩散角度为(扩散角度×1.6+25°)以下，优选(扩散角度×1.6+20°)以下，更优选(扩散角度×1.6+18°)以下)。X方向的扩散角度的上限值并无特别限制，例如为20°。

凸部14的表观的最频径优选1～10μm，更优选3～6μm，进而优选4～5μm。如果凸部14的表观的最频径处于所述范围内，那么能够适度弱化波状的凹凸图案13的各向异性，易于将Y方向及X方向两者的扩散角度控制为所述范围，例如易于将Y方向控制为优选25～30°，易于将X方向控制为优选10～15°。另外，易于将Y方向及X方向两者的1/10扩散角度控制为所述范围，例如易于将Y方向控制为优选(扩散角度×1.4+20°)以下，易于将X方向控制为优选(扩散角度×1.6+18°)以下。

本说明书中的扩散角度(通常存在称为“FWHM”的情况)及1/10扩散角度可使用配光特性测定装置(例如，GENESIAGonioFarFieldProfiler(GENESIA公司制造))，通过以下方法而测定。

首先，对光扩散性片材10自任何一面、即微细凹凸形成面或相反侧的平滑面侧照射、入射光。此时，以自与入射面为相反面的侧垂直射出的出射光(射出角度＝0°)的照度为基准值，以相对于所述基准值的相对值的形式，每隔1°测定沿Y方向的射出角度-90°～+90°的范围内的出射光的照度。然后对相对于各Y方向的射出角度的照度的值进行绘图而获得照度曲线。

以所述照度曲线中的半高宽(半峰全宽)作为主扩散方向(Y方向)的扩散角度。另外，以十分之一高宽(十分之一高全宽值)作为主扩散方向(Y方向)的1/10扩散角度。

同样地，以相对于所述基准值的相对值的形式，每隔1°测定沿X方向的射出角度-90°～+90°的范围内的出射光的照度。然后对相对于各X方向的射出角度的照度的值进行绘图而获得照度曲线。以所述照度曲线中的半高宽(半峰全宽)作为与主扩散方向正交的方向(X方向)的扩散角度。另外，以十分之一高宽(十分之一高全宽值)作为与主扩散方向正交的方向(X方向)的1/10扩散角度。

在本说明书中，波状的凹凸图案13的最频间距、凸部14的表观的最频径是以如下方式测定、定义。

首先，关于表面微细凹凸体，获得如图1A的光学显微镜照片。此时的观察视野设为纵0.4～1.6mm、横0.5～2mm。在该图像为jpeg等压缩图像的情况下，将其转换为灰度的Tif图像。然后进行傅立叶变换，获得如图3的傅立叶变换图像。

另外，图4表示图3的傅立叶变换图像的示意图。

此处，在图3中，符号A1及A2的白色部由于其形状具有方向性，因此包含波状的凹凸图案的间距的信息。白色的亮度表示频度(其中，中心点除外)。另一方面，图3的白色圆环B由于其形状不具方向性，因此包含多个凸部的直径的信息。

因此，如果以自图3的中心起通过A1中成为最大频度的点的方式作线L1-1，并对线L1-1的频度分布进行绘图，那么能够获得图5的曲线图。

另外，如果自图3的中心起沿与L1-1正交的方向作线L1-2，并对线L1-2的频度分布进行绘图，那么能够获得图6的曲线图。

在图5中，频度较高的1/XA成为光扩散性片材10中的波状的凹凸图案的最频间距。

另外，在图5及图6中，频度较高的1/XB、1/YB分别成为光扩散性片材10中的多个凸部的L1-1方向、L1-2方向的最频径。即，1/XA为波状的凹凸图案的最频间距，1/(XB+YB)为多个凸部的表观的最频径。

另外，在图3的傅立叶变换图像中，自中心起的方位意指图1A中存在的周期结构(凹凸图案13)的方向，距中心的距离意指图1A中存在的周期结构的周期的倒数。在该例中，如图1A所示，由于波状的凹凸图案13沿图中横向重复，因此在傅立叶变换图像中自中心起向图中横向延伸的线L1-1上，相当于最频间距的倒数的部分的亮度(频度)变高。

另外，图4中，XB是线L1-1(图4中省略图示)通过圆环的部分中频度达到最大的位置，另外，图4中，YB是线L1-2(图4中省略图示)通过圆环的部分中频度达到最大的位置。

拍摄至少5张如图示例的光学显微镜照片，将关于各照片以所述方式求出的最频间距的平均值定义为波状的凹凸图案13的“最频间距”。即，所谓“最频间距”，是指相邻的凸条部的顶部间距离中出现频度最高的顶部间距离。另外，将关于各照片以所述方式求出的表观的最频径的平均值定义为凸部14的“表观的最频径”。即，所谓“表观的最频径”，是指形成在凹凸图案上的凸部的直径中出现频度最高的直径。

另外，表面微细凹凸体的微细凹凸也可含有凹部而取代凸部，凹部的“表观的最频径”也可利用与凸部的“表观的最频径”相同的方法而求出。

构成波状的凹凸图案13的凸条部13a的平均高度优选4～7μm，更优选5～6μm。如果凸条部13a的平均高度为所述范围，那么能够充分获得光扩散性。

在本说明书中，波状的凹凸图案13的凸条部13a的平均高度是以如下方式测定、定义。

首先，通过原子力显微镜观察光扩散性片材10的微细凹凸形成面，根据该观察结果，关于沿Y方向切断波状的凹凸图案13而得的面，获得如图7的纵截面图。然后，根据不存在凸部14的部分的凸条部13a的剖视图，求出所述凸条部13的高度H。具体而言，凸条部13a的高度H在将所述凸条部13a的顶部T与位于所述凸条部13a的一侧的凹条部13b的底部B1的垂直距离设为H1，将所述凸条部13a的顶部T与位于所述凸条部13a的另一侧的凹条部13b的底部B2的垂直距离设为H2的情况下，是通过H＝(H1+H2)/2而求出。

对不存在凸部14的凸条部13a的50处进行此种测量，将50个数据的平均值定义为“凸条部的平均高度”。

另一方面，凸部14的平均高度优选0.5～3μm，更优选1～2μm，进而优选1.1～1.5μm。如果凸部14的平均高度为所述范围，那么能够适度弱化波状的凹凸图案13的各向异性，易于将Y方向及X方向两者的扩散角度控制为所述范围。

在本说明书中，凸部14的平均高度是以如下方式测定、定义。

首先，以所述方式获得图7的剖视图。然后，如图8所示，波形分离为源自波状的凹凸图案13的形状与源自凸部14的形状。另外，波形分离是以源自波状的凹凸图案13的形状为正弦曲线而进行。继而，自图8的剖视图除去源自波状的凹凸图案13的形状，如图9所示，获得仅源自凸部14的形状的剖视图。然后，在图9的剖视图中，将凸部14的高度H'以H'＝(H1'+H2')/2的形式求出。在图9的剖视图中，H1'是凸部14的顶部T'与所述凸部14的一侧的基准线L_α的垂直距离，H2'是凸部14的顶部T'与所述凸部14的另一侧的基准线L_β的垂直距离。

对50个凸部14进行此种测量，将50个数据的平均值定义为“凸部的平均高度”。

光扩散性片材10的微细凹凸中的凸部14的占有面积比率优选30～70％，更优选40～60％，进而优选45～55％。如果凸部14的占有面积比率为所述范围，那么能够适度弱化波状的凹凸图案13的各向异性，易于将Y方向及X方向两者的扩散角度控制为所述范围。

在本说明书中，光扩散性片材10中的凸部14的占有面积比率γ(％)是以如下方式测定、定义。

首先，获得如图1A的光学显微镜照片，对整个视野的面积S2(例如纵0.4～1.6mm、横0.5～2mm)中能够观察到的凸部14的个数n进行计数，求出在整个视野中n个凸部14所占有的面积S1＝nr²π。占有面积比率γ(％)是通过以下的式而求出。

γ(％)＝S1×100/S2(其中，式中的r为凸部的表观的最频径的1/2(即半径))

如上所述，图示例的光扩散性片材10在其单面具有微细凹凸，该微细凹凸包含：主要担负向Y方向的扩散的特定的波状的凹凸图案13、及形成在所述波状的凹凸图案13上、适度弱化所述波状的凹凸图案13的各向异性、增加X方向的扩散的多个凸部14。因此，在使光自任何一面入射至光扩散性片材10的情况下，Y方向上能够获得例如18°以上、优选23°以上、更优选25°以上的充分的扩散角度。另外，能够获得(扩散角度×1.4+25°)以下、优选(扩散角度×1.4+22°)以下、更优选(扩散角度×1.4+20°)以下的充分的1/10扩散角度。另一方面，X方向上也能够获得例如4°以上、优选8°以上、更优选10°以上的扩散角度。另外，能够获得(扩散角度×1.6+25°)以下、优选(扩散角度×1.6+20°)以下、更优选(扩散角度×1.6+18°)以下的充分的1/10扩散角度。如果使用现有的各向异性较高的光扩散性片材，那么出射光虽然会向Y方向扩散，但几乎不会向X方向扩散，因此出射光的投影图像如图10A所示，成为扁平率较大的椭圆状。与此相对，如果使用图示例的光扩散性片材10，那么出射光也会向X方向扩散，因此出射光的投影图像如图10B所示，成为扁平率较小的椭圆状。

另外，构成图示例的光扩散性片材10的波状的凹凸图案13的凸条部13a互相不平行，且各自蜿蜒，不具有规则性。因此，认为凹凸图案13的各向异性得以适度弱化，与形成有凸部14所带来的效果相辅相成，能够更加显著地表现增加X方向的扩散角度的效果。

作为增加X方向的扩散角度的方法，也可考虑添加光扩散剂的方法。

然而，光扩散剂的添加具有降低光扩散性片材的透光率的倾向。与此相对，在如本发明所述通过对微细凹凸进行特定控制而增加X方向的扩散角度的方法中，无需添加光扩散剂，另外，即便在添加的情况下，也能够将其添加量设为少量。因此，能够将透光率维持为较高。

此种图示例的光扩散性片材10适宜作为扩散构件而用于例如使当前的速度信息或汽车导航信息等清晰地显示于形成为平缓的曲面状的汽车的挡风玻璃上的抬头显示器(HUD，head-updisplay)系统等中。

另外，所述光扩散性片材10也适宜用作：投影仪用的扩散构件；电视、监视器、笔记型个人电脑、平板型个人电脑、智能手机、行动电话等的背光源用的扩散构件；等。

另外，所述光扩散性片材10也适宜作为构成导光构件的出射面的扩散构件等而用于复印机等所使用的将LED光源线性排列的扫描器光源中。

本发明的一种形态是所述表面微细凹凸体的作为光扩散性片材或光扩散构件的使用、或者其使用方法。另外，在将本发明的表面微细凹凸体用作光扩散性片材或光扩散构件的情况下，作为其用途，如上所述，可列举抬头显示器系统、或者个人电脑或行动电话等的背光源、或者导光构件的出射面等的扩散构件等。

＜表面微细凹凸体的制造方法＞

图示例的光扩散性片材10可使用表面具有微细凹凸的光扩散性片材形成用底版(光扩散体形成用底版)作为模具，通过包括转印所述光扩散性片材形成用底版(以下也称为“底版”)的微细凹凸的转印步骤的方法而制造。

本发明的一种形态是所述表面微细凹凸体的作为用以制造光扩散性片材或扩散构件的底版的使用。

图示例的光扩散性片材10是转印底版的微细凹凸而获得1次转印品，继而进一步转印所述1次转印品的微细凹凸而获得的2次转印品。1次转印品所具有的微细凹凸是底版的微细凹凸的反转图案，2次转印品的微细凹凸是与底版的微细凹凸相同的图案。因此，在该例中作为底版，而制造具有与图示例的光扩散性片材10相同的微细凹凸的表面微细凹凸体，将其作为转印的模具进行2次转印，而制造图示例的光扩散性片材10。

另外，在n次转印品中，n为偶数时，所述转印品所具有的微细凹凸是与底版的微细凹凸相同的图案，n为奇数时，所述转印品所具有的微细凹凸成为底版的微细凹凸的反转图案。并且，在为n为奇数的n次转印品且用于转印的底版的微细凹凸具有凸部的情况下，该n次转印品(n为奇数)的微细凹凸成为具有凸部反转而成的凹部的微细凹凸。如业已叙述般，本发明的表面微细凹凸体所具备的微细凹凸也可为具有凹部而代替凸部的形态。因此，本发明的表面微细凹凸体不仅包含所述的底版与底版的n次转印品(n为偶数)，也包含底版的n次转印品(n为奇数)。

以下对作为2次转印品的图示例的光扩散性片材10的制造方法进行说明。

[底版]

在制造图示例的光扩散性片材10时，首先，制造如图11所示的表面微细凹凸体20，将其用作底版。所述底版包含含有树脂的基材21及设置在所述基材21的整个单面上的硬质层22，硬质层22的露出侧的表面形成为与图示例的光扩散性片材10同样的微细凹凸。

在该例中，硬质层22包含基质树脂22a与分散在所述基质树脂22a中的粒子22b，对其进行如下设定：使其以折叠的方式变形，并且使硬质层22的厚度t(不存在粒子的部分的厚度)小于粒子的粒径d。因此，所述硬质层22具有微细凹凸，该微细凹凸包含通过以折叠方式进行变形所形成的波状的凹凸图案13'(凸条部13a'及凹条部13b')、及通过分散在硬质层22中的各粒子22b突出至硬质层22的表面侧所形成的凸部14'。基材21的与硬质层22的接触面成为与以折叠的方式而变形的硬质层22的形状吻合的凹凸状。

另外，所谓硬质层22的厚度t，是自将表面微细凹凸体20相对于其面方向垂直切割而得的截面(纵截面)的显微镜照片中随机抽选10处以上硬质层22中不存在粒子22b的部分并沿法线方向测定各部分的厚度时所得的各数值的平均值。

另外，所谓粒子22b的粒径d，是通过激光衍射散射式粒度分布分析装置对均匀地单分散的粒子进行测定而得的峰值径(最频径)。

此种图11的表面微细凹凸体20详细而言如下文所述，可通过包括如下步骤的方法而制造：积层步骤，其在包含树脂的基材膜的单面设置向基质树脂中分散粒子而成的硬质层而形成积层片材；变形步骤，其使积层片材的至少硬质层以折叠的方式变形。通过该方法，能够形成各自蜿蜒、互相不平行、且不规则的凸条部13a'。另外，各凸条部13a'的纵截面自基端侧向前端侧成为前端细形状。

在图11的表面微细凹凸体20中，基质树脂22a的玻璃转移温度Tg2必须比构成基材21的树脂的玻璃转移温度Tg1高10℃以上。另外，粒子22b必须包含在小于比构成基材21的树脂的玻璃转移温度高10℃的温度的温度下，粒子形状不会因热而发生变化的材料。

此处所谓“粒子形状不发生变化”，意指加热前后粒子的形状、及粒径不发生变化。

即，在构成基材21的树脂与基质树脂22a中，必须以这些树脂的玻璃转移温度的差(Tg2－Tg1)成为10℃以上的方式进行选择，所述差优选20℃以上，更优选30℃以上。如果(Tg2－Tg1)为10℃以上，那么在Tg2与Tg1之间的温度下，能够容易地进行下文所述的变形步骤中的加热收缩等加工。另外，如果将Tg2与Tg1之间的温度设为加工温度，那么能够在基材的杨氏模数高于基质树脂22a的杨氏模数的条件下进行加工，其结果为，在下文所述的变形步骤中，能够在硬质层22上容易地形成波状的凹凸图案13'。所谓加工温度，是在变形步骤中使至少硬质层22以折叠的方式变形时的温度(例如热收缩时的加热温度)。

另外，就经济方面而言无需使用Tg2超过400℃的树脂，且不存在Tg1低于-150℃的树脂，因此(Tg2－Tg1)优选550℃以下，更优选200℃以下。即，在本发明的一种形态中，(Tg2－Tg1)优选10～550℃，更优选30～200℃。另外，就能够容易地形成波状的凹凸图案13'的方面而言，下文所述的变形步骤的加工温度下的基材21与基质树脂22a的杨氏模数的差优选0.01～300GPa，更优选0.1～10GPa。

杨氏模数是依据JISK7113-1995而测得的值。

Tg1优选-150～300℃，更优选-120～200℃。不存在Tg1低于-150℃的树脂，如果Tg1为300℃以下，那么能够容易地升温、加热至所述加工温度。

所述加工温度下的构成基材21的树脂的杨氏模数优选0.01～100MPa，更优选0.1～10MPa。如果构成基材21的树脂的杨氏模数为0.01MPa以上，那么成为能够用作基材的硬度，如果为100MPa以下，那么成为能够在硬质层22变形时同时追随而变形的柔软度。

构成粒子22b的材料可使用1种以上在小于比构成基材21的树脂的玻璃转移温度高10℃的温度时粒子形状不会因热而发生变化的材料。

例如，在构成粒子22b的材料为选自由具有玻璃转移温度的树脂及具有玻璃转移温度的无机材料所组成的群中的1种以上的情况下，其玻璃转移温度Tg3必须满足与基质树脂的玻璃转移温度Tg2相同的条件，即，必须以(Tg3－Tg1)达到10℃以上的方式进行选择，(Tg3－Tg1)更优选20℃以上，进而优选30℃以上。如果(Tg3－Tg1)为10℃以上，那么在所述加工温度下，粒子22b不会变形或熔融，而确实地形成凸部14'。

在构成粒子22b的材料为不具有玻璃转移温度的材料、例如内部交联型树脂等的情况下，其维氏软化温度(由JISK7206所规定)优选满足所述条件、即比构成基材21的树脂的玻璃转移温度高10℃以上，且优选高20℃以上，更优选高30℃以上。

另外，在本说明书中，在粒子22b包含不具有玻璃转移温度而具有维氏软化温度的材料的情况下，关于玻璃转移温度Tg3的优选温度范围等记载也适合于其维氏软化温度。

进而，作为构成粒子22b的材料，即便无法测定玻璃转移温度、维氏软化温度，只要为在小于比构成基材21的树脂的玻璃转移温度Tg1高10℃的温度时，粒子形状不会因热而发生变化的材料，那么也可用于本发明。

Tg2及Tg3优选40～400℃，更优选80～250℃。如果Tg2及Tg3为40℃以上，那么能够将所述加工温度设为室温或室温以上，较为有用，就经济性的方面而言，无需使用Tg2超过400℃的基质树脂22a或Tg3超过400℃的粒子22b。

所述加工温度下的基质树脂22a的杨氏模数优选0.01～300GPa，更优选0.1～10GPa。如果基质树脂22a的杨氏模数为0.01GPa以上，那么能够获得比构成基材21的树脂的加工温度下的杨氏模数充分的硬度，成为在形成波状的凹凸图案13'后，对维持所述凹凸图案13'而言充分的硬度。就经济性的方面而言，无需使用杨氏模数超过300GPa的树脂作为基质树脂22a。

作为构成基材21的树脂，例如可列举：聚对苯二甲酸乙二酯等聚酯、聚乙烯或聚丙烯等聚烯烃、苯乙烯-丁二烯嵌段共聚物等聚苯乙烯系树脂、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚二甲基硅氧烷等硅酮树脂、氟树脂、ABS树脂(acrylonitrile-butadiene-styreneresin，丙烯腈-丁二烯-苯乙烯树脂)、聚酰胺、丙烯酸系树脂、聚碳酸酯、聚环烯烃等树脂。

其中，就收缩后容易获得所需的凹凸形状的方面而言，优选聚酯、聚碳酸酯。

另外，作为所述树脂，更优选质量平均分子量为1000～100万的树脂。更优选质量平均分子量为1万～10万的树脂。所述质量平均分子量是指使用凝胶渗透层析法测得的值。关于具体的测定条件，作为溶离液，可使用适当选自四氢呋喃、氯仿、六氟异丙醇等中的溶离液。另外，作为分子量的标准物质，可使用适当选自已知分子量的聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯等中的标准物质。另外，作为测定温度，可在35～50℃的范围内适当选择。

作为基质树脂22a，是以其玻璃转移温度Tg2满足所述条件的方式，根据基材21的种类等而选择，例如可使用聚乙烯醇、聚苯乙烯、丙烯酸系树脂、苯乙烯-丙烯酸系共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物、聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醚砜、氟树脂等。这些之中，就透明性的方面而言，优选丙烯酸系树脂。

另外，作为所述基质树脂，优选质量平均分子量为1000～1000万的树脂，更优选质量平均分子量为1万～200万的树脂。所述质量平均分子量是使用凝胶渗透层析法而测得的值。关于具体的测定条件，作为溶离液，可使用适当选自四氢呋喃、氯仿、六氟异丙醇等中的溶离液。另外，作为分子量的标准物质，可使用适当选自已知分子量的聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯等中的标准物质。另外，作为测定温度，可在35～50℃的范围内适当选择。

基质树脂22a可单独使用，也可根据调整波状的凹凸图案的最频间距、平均高度及配向度等目的而适当并用。例如，可并用为相同种类但玻璃转移温度不同的树脂，或并用不同种类的树脂。

作为构成粒子22b的树脂，是以其玻璃转移温度Tg3(或维氏软化点)满足所述条件的方式，根据基材21的种类等而选择，例如可列举丙烯酸系热塑性树脂粒子、聚苯乙烯系热塑性树脂粒子、丙烯酸系交联型树脂粒子、聚苯乙烯系交联型树脂粒子等。另外，作为无机材料，可列举玻璃珠等。

基材21的厚度优选30～500μm。如果基材的厚度为30μm以上，那么所制造的底版不易破损，如果为500μm以下，那么能够容易地将底版薄型化。另外，所谓基材21的厚度，是自将图11的表面微细凹凸体(底版)20相对于片材面垂直切割而得的截面(纵截面)的显微镜照片中随机抽选10处以上而测定基材21的厚度时所得的各数值的平均值。

另外，为了支持基材21，也可另行设置厚度5～500μm的树脂制支持体。

硬质层22的厚度t优选超过0.05μm且为5μm以下，更优选0.1～2μm。如果硬质层22的厚度t超过0.05μm且为5μm以下，那么能够形成作为光扩散体而优选的波状的凹凸图案13'。另外，也可出于提高密接性或形成更微细的结构的目的，而在基材21与硬质层22之间形成底涂层。

粒子22b的粒径d必须大于硬质层22的厚度t，其是根据硬质层22的厚度t而设定。另外，以将图11的表面微细凹凸体20用作底版所制造的图示例的光扩散性片材10的凸部14的表观的最频径达到所述优选范围的方式进行适当设定。优选粒径d例如为5～10μm，更优选5～8μm。

另外，图11的表面微细凹凸体20也可不用作底版而是用作光扩散体。在该情况下，用于基材21、基质树脂22a、粒子22b的材料使用透明材料，以充分发挥所述表面微细凹凸体20作为光扩散体的功能。

[底版的制造方法]

图11的表面微细凹凸体20可通过包括如下步骤的方法而制造：积层步骤，其形成如图12的积层片材30，即在包含树脂的基材膜31的单面(平坦的面)设置包含基质树脂、及分散在所述基质树脂中的粒子22b且具有超过0.05μm且为5.0μm以下的厚度的硬质层32而成的积层片材30；变形步骤，其使积层片材30的至少硬质层32以折叠的方式变形。此处，基材膜31相当于图11的表面微细凹凸体20的基材21。另外，此处所谓平坦，是JISB0601所记载的中心线平均粗糙度为0.1μm以下的面。

(积层步骤)

在积层步骤中，首先，制备含有基质树脂22a、粒子22b及溶剂的涂布液(分散液或溶液)，通过旋转涂布机或棒式涂布机等将所述涂布液涂布在基材膜31的单面上并将其干燥，如图12所示，形成厚度t'超过0.05μm且为5.0μm以下的硬质层32。该时点的硬质层32尚未以折叠的方式变形。

硬质层32除了以所述方式将涂布液直接涂布在基材膜31上而设置以外，也可通过将预先制作的硬质层(粒子分散在基质树脂中而成的膜)积层在基材膜上的方法而设置。

基材膜31优选包含树脂的单轴方向加热收缩性膜。如果使用所述单轴方向加热收缩性膜，那么在后续的变形步骤中，通过加热积层片材30，能够容易地使硬质层32以折叠的方式变形而形成波状的凹凸图案13'。另外，通过该方法，能够形成各自蜿蜒、互相不平行的不规则的凸条部13a'。

作为构成单轴方向加热收缩性膜的树脂，如已作为构成基材21的树脂所例示般。具体而言，可优选使用聚对苯二甲酸乙二酯系收缩膜、聚苯乙烯系收缩膜、聚烯烃系收缩膜、聚氯乙烯系收缩膜等收缩膜。

这些收缩膜中，优选在单轴方向收缩50～70％的收缩膜。如果使用收缩50～70％的收缩膜，那么能够使变形率成为50％以上，其结果为，能够形成最频间距、凸条部13a'的高度优选的波状的凹凸图案13'。

此处，所谓变形率是(变形前的长度－变形后的长度)×100/(变形前的长度)(％)。或者为(经变形的长度)×100/(变形前的长度)(％)。

另外，如上所述，在将单轴方向加热收缩性膜用作基材膜31并在后续的变形步骤中使其热收缩的情况下，能够更容易地形成凹凸图案13'，因此优选将基质树脂22a的杨氏模数设为0.01～300GPa，更优选设为0.1～10GPa。

作为涂布液所使用的基质树脂22a及构成粒子22b的树脂，可分别使用已例示的树脂，重要的是以基质树脂22a的玻璃转移温度Tg2与粒子22b的玻璃转移温度Tg3比基材膜31的玻璃转移温度Tg1高10℃以上的方式选择各材质并进行组合。以所述方式选择各材质后，如果使用将厚度t'超过0.05μm且为5.0μm以下的硬质层32设置在单轴方向加热收缩性膜(基材膜31)的单面上而成的积层片材30，那么通过经过后续的变形步骤，易于形成最频间距为3～20μm、凸条部13a'的平均高度为4～7μm的波状的凹凸图案13'。

作为涂布液所使用的溶剂，也取决于基质树脂22a的种类，在基质树脂22a例如为丙烯酸系树脂的情况下，可使用甲基乙基酮及甲基异丁基酮等中的1种以上。

就涂布性的方面而言，涂布液中的基质树脂22a的浓度优选净含量(固形物成分量)为5～10质量％。另外，粒子22b的量相对于基质树脂22a的净含量100质量份，优选10～50质量份，更优选20～30质量份。如果为此种范围，那么能够将欲形成的微细凹凸中的凸部14a'或凹部的占有面积比率控制为所述优选范围内。

此处，所谓净含量(固形物成分量)是指相对于涂布液的质量(100质量％)，所述涂布液中的溶剂挥发后残留的固形物成分的质量的比率。

另外，如果通过积层步骤而形成的硬质层32的厚度t'处于超过0.05μm且为5.0μm以下的范围内，那么也可连续地发生变化。在该情况下，通过变形步骤而形成的凹凸图案的间距及深度连续地发生变化。硬质层32的厚度t'即便经过后续的变形步骤也几乎不发生变化，可认为t'＝t。

(变形步骤)

对以所述方式获得的积层片材30进行加热，使积层片材30的基材膜31热收缩，借此获得图11的表面微细凹凸体20。另外，作为变形步骤，例如可采用日本专利第4683011号公报等揭示的公知的方法。

作为加热方法，可列举于热风、蒸气、热水或远红外线中通过的方法等，其中，就能够均匀收缩的方面而言，优选于热风或远红外线中通过的方法。

使基材膜31热收缩时的加热温度(加工温度)优选设为Tg2与Tg1之间的温度，具体而言，优选根据所使用的基材膜31的种类及目标凹凸图案13'的间距、凸条部13a'的高度等进行适当选择。

该制造方法中，硬质层22的厚度越薄，且硬质层22的杨氏模数越低，则凹凸图案13'的最频间距越小，另外，基材膜31的变形率越高，则凸条部13a'的高度越大。因此，为了使凹凸图案13'的最频间距及凸条部13a'的高度成为所需的值，必须适当选择所述条件。

另外，如图11的构成的表面微细凹凸体20也可通过下述(1)～(4)的方法而制造。

(1)在平坦的基材膜的整个单面设置未变形的硬质层而形成积层片材，并将积层片材整体向沿表面的一个方向压缩的方法。

在基材膜的玻璃转移温度小于室温的情况下，积层片材的压缩是在室温下进行，在基材膜的玻璃转移温度为室温以上的情况下，积层片材的压缩是在基材的玻璃转移温度以上且小于硬质层的玻璃转移温度的温度下进行。

(2)在平坦的基材膜的整个单面设置未变形的硬质层而形成积层片材，使积层片材向一个方向延伸，而使相对于延伸方向的正交方向收缩，从而将硬质层向沿表面的一个方向压缩的方法。

在基材膜的玻璃转移温度小于室温的情况下，积层片材的延伸是在室温下进行，在基材膜的玻璃转移温度为室温以上的情况下，积层片材的延伸是在基材膜的玻璃转移温度以上且小于硬质层的玻璃转移温度的温度下进行。

(3)在通过未硬化的电离辐射硬化性树脂所形成的平坦的基材膜上积层未变形的硬质层而形成积层片材，照射电离辐射而使基材膜硬化，借此使之收缩，将积层在基材膜上的硬质层向沿表面的至少一个方向压缩的方法。

(4)在使溶剂膨润并膨胀而成的平坦的基材膜上积层未变形的硬质层而形成积层片材，将基材膜中的溶剂干燥除去，借此使之收缩，将积层在基材膜上的硬质层向沿表面的至少一个方向压缩的方法。

在(1)的方法中，作为形成积层片材的方法，例如可列举：通过旋转涂布机或棒式涂布机等在平坦的基材膜的单面涂布含有粒子的树脂的溶液或分散液，并使溶剂干燥的方法；在平坦的基材膜的单面积层预先制作的硬质层的方法等。作为将积层片材整体向沿表面的一个方向压缩的方法，例如可列举通过虎钳等夹着积层片材的一端部与其相反侧的端部而压缩的方法等。

在(2)的方法中，作为将积层片材向一个方向延伸的方法，例如可列举拉伸积层片材的一端部与其相反侧的端部而延伸的方法等。

在(3)的方法中，作为电离辐射硬化性树脂，可列举紫外线硬化性树脂或电子束硬化性树脂等。

在(4)的方法中，溶剂是根据构成基材膜的树脂的种类而适当选择。溶剂的干燥温度是根据溶剂的种类而适当选择。

(2)～(4)的方法中的硬质层也可使用与(1)的方法所使用的成分相同的成分，可制成相同的厚度。另外，积层片材的形成方法可与(1)的方法同样地应用：在基材膜的单面涂布涂布液并使溶剂干燥的方法、及在基材膜的单面积层预先制作的硬质层的方法。

[通过使用底版的转印进行的表面微细凹凸体的制法]

在将图11的表面微细凹凸体20用作底版而制造图示例的光扩散性片材10的情况下，进行将所述表面微细凹凸体(底版)20的微细凹凸转印至其他材料上的转印步骤。在该例中，将形成在所述表面微细凹凸体(底版)20的硬质层22的表面的微细凹凸转印至其他材料上，获得表面具有底版的微细凹凸的反转图案的1次转印品，继而将所述1次转印品的反转图案转印至其他材料上，获得作为2次转印品的图示例的光扩散性片材10。作为转印步骤，例如可采用日本专利第4683011号公报等揭示的公知的方法。

本发明的一种形态是将所述表面微细凹凸体用作底版的表面微细凹凸体的制造方法。

具体而言，通过T模涂布机、辊式涂布机、棒式涂布机等涂布机，以厚度例如控制在3～30μm的方式，对作为底版的图11的表面微细凹凸体20的微细凹凸涂布含有脱模剂的未硬化的电离辐射硬化性树脂，照射电离辐射使之硬化后，将底版剥离，而获得1次转印品。1次转印品具有底版的微细凹凸的反转图案。另一方面，准备包含PET的透明的基材11，在其单面以充分被覆微细凹凸的厚度涂布未硬化的电离辐射硬化性树脂。然后，将先前获得的1次转印品的具有反转图案的面抵压在所涂布的未硬化的电离辐射硬化性树脂的层上，照射电离辐射而使之硬化后，将1次转印品剥离。电离辐射的照射只要自1次转印品侧、透明的PET基材侧中具有电离辐射透过性的任一侧进行即可。借此，获得含有包含PET的透明的基材11、及形成在其单面上的电离辐射硬化性树脂硬化物的表面层12，且在表面层12的表面形成有微细凹凸的图1A及图2的光扩散性片材(2次转印品)10。

作为电离辐射硬化性树脂，可列举紫外线硬化性树脂、电子束硬化性树脂等。所照射的电离辐射的种类是根据树脂的种类而适当选择。作为电离辐射，通常指紫外线及电子束的情况较多，在本说明书中，也包括可见光线、X射线、离子束等。

作为未硬化的电离辐射硬化性树脂，可列举含有选自如下物质中的1种以上成分的树脂：环氧丙烯酸酯、环氧化油丙烯酸酯、丙烯酸氨基甲酸酯、不饱和聚酯、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、乙烯/丙烯酸酯、多烯/丙烯酸酯、硅丙烯酸酯、聚丁二烯、聚苯乙烯甲基丙烯酸甲酯等预聚物，脂肪族丙烯酸酯、脂环式丙烯酸酯、芳香族丙烯酸酯、含羟基的丙烯酸酯、含烯丙基的丙烯酸酯、含缩水甘油基的丙烯酸酯、含羧基的丙烯酸酯、含卤素的丙烯酸酯等单体。未硬化的电离辐射硬化性树脂优选利用溶剂等加以稀释。也可在未硬化的电离辐射硬化性树脂中添加氟树脂、硅酮树脂等。另外，在未硬化的电离辐射硬化性树脂为紫外线硬化性的情况下，优选在未硬化的电离辐射硬化性树脂中添加苯乙酮类、二苯甲酮类等光聚合起始剂。

另外，也可使用例如未硬化的三聚氰胺树脂、氨基甲酸酯树脂、环氧树脂等热硬化性树脂或丙烯酸系树脂、聚烯烃、聚酯等热塑性树脂代替电离辐射硬化性树脂进行转印，只要能够转印微细凹凸，那么其具体方法、转印的材料并无限制。

在使用热硬化性树脂的情况下，可列举例如将液状的未硬化的热硬化性树脂涂布在微细凹凸上，通过加热使之硬化的方法，在使用热塑性树脂的情况下，可列举使用热塑性树脂的片材，一面抵压在微细凹凸上一面加热而使其软化后进行冷却的方法。

另外，如上所述，在制造2次转印品的情况下，例如也可列举在日本专利第4683011号公报等中记载的使用镀敷辊的方法。具体而言，首先，制造长条的片状物作为底版，将所述底版卷曲并贴附在圆筒的内侧，在将辊插入所述圆筒的内侧的状态下进行镀敷，将辊自圆筒取出而获得镀敷辊(1次转印品)。继而，通过转印所述镀敷辊的微细凹凸，获得光扩散性片材(2次转印品)。

作为底版，可使用单片型，也可使用网格型。如果使用网格型的底版，那么能够获得网格型的1次转印品及2次转印品。在单片型中，可应用将所述单片型的底版用作平板状模具的印模法、将单片型的底版卷绕在辊上而用作圆筒状模具的辊压印法等。另外，也可在射出成形机的模具内侧配置单片型的底版。其中，在这些使用单片型的底版的方法中，为了大量生产如图示例的光扩散性片材，必须多次重复转印。在转印性(脱模性)较低时，存在应转印的微细凹凸发生堵塞，微细凹凸的转印变得不完全的情况。与此相对，如果将底版制成网格型，那么能够大面积且连续地转印微细凹凸，即便不多次重复转印，也能够在短时间内制造所需量的光扩散性片材。

[底版的制造方法及通过使用底版的转印进行的表面微细凹凸体的制法的变化例]

在所述[底版的制造方法]的积层步骤中，使用含有基质树脂22a、粒子22b及溶剂的涂布液。然而，也可使用不含粒子而含有基质树脂与溶剂的涂布液形成硬质层，通过变形步骤制成波状的凹凸图案，其后在所述凹凸图案上形成多个凹部或凸部。硬质层的形成方法除了不使用粒子以外，与所述方法同样地进行。变形步骤也与所述方法同样地进行。作为其后进行的在所形成的凹凸图案上形成多个凹部或凸部的方法，可列举如下文所述的(5)～(8)的方法。

(5)通过旋转式精密切削加工机进行切削加工的方法。

(6)将具有与凹部或凸部相同的大小、直径的突起物压抵在所述波状的凹凸图案上而形成凹陷的方法。

(7)使将树脂或无机物的熔融物微粒化而成的物质附着在所述波状的凹凸图案上后，冷却固化而形成由所述树脂或无机物所形成的凸部的方法。

(8)使将树脂或无机物分散在分散介质中而成的液体附着在所述波状的凹凸图案上后，将分散介质蒸发而形成由所述树脂或无机物所形成的凸部的方法。

另外，在所述(7)或(8)的方法中，通过应用喷墨印刷方式，能够以高精度在波状的凹凸图案上形成多个凹部或凸部。

另外，也可将使用不含粒子而含有基质树脂与溶剂的涂布液而形成硬质层，并通过变形步骤制成波状的凹凸图案的表面微细凹凸体(尚未形成多个凹部或凸部)作为底版，获得转印品，对于所述转印品，通过所述(5)～(8)的方法，在凹凸图案上形成多个凹部或凸部。并且，通过以此为底版进行转印，也能够制造表面微细凹凸体。

＜关于其他形态＞

在以上说明中，是以通过积层步骤与变形步骤所制造的表面微细凹凸体作为底版，获得转印所述表面微细凹凸体的微细凹凸而成的1次转印品，继而获得转印所述1次转印品的微细凹凸(底版的反转图案)而成的2次转印品，将该2次转印品作为光扩散性片材10。

然而，本发明并不限定于以上形态。

即，也可将所述通过积层步骤与变形步骤所制造的如图11的表面微细凹凸体20本身用作光扩散性片材。另外，也可将以通过积层步骤与变形步骤所制造的表面微细凹凸体20作为底版而获得的1次转印品、或n次转印品(n为3以上的整数)用作光扩散性片材，只要为转印品，那么并不限定于2次转印品。

另外，也可使用底版，在具有曲面的成形体的所述曲面上转印微细凹凸。

另外，也可将通过积层步骤与变形步骤所制造的表面微细凹凸体或其n次转印品用作底版，射出成形丙烯酸系树脂、聚碳酸酯树脂等透明的热塑性树脂，而制造在表面的至少一部分上形成有微细凹凸的射出成形品。

另外，在以先前具体例示的通过积层步骤与变形步骤所制造的表面微细凹凸体20作为底版而获得的n次转印品中，在n为奇数的情况下，作为微细凹凸，在特定的波状的凹凸图案上形成凹部而非凸部。其原因在于，在n为奇数的n次转印品中，形成基于粒子所形成的凸部的反转图案、即凹部。由此，作为微细凹凸，即便为具有特定的波状的凹凸图案且具有凹部的表面微细凹凸体，由于波状的凹凸图案的各向异性因凹部而弱化，故而Y方向上具有充分的扩散角度，且X方向上也显示某种程度的扩散角度。因此，即便为n为奇数的n次转印品，也显示与n为偶数的n次转印品相同的光扩散性。

另外，作为用于形成硬质层的粒子，可使用树脂粒子、无机粒子，只要在变形步骤、或转印微细凹凸的步骤中不熔融或变形，那么可包含任意材料。其中，如上所述，在如图11般将具备粒子本身的表面微细凹凸体20用作光扩散性片材的情况下，作为粒子，必须使用透明粒子，优选丙烯酸系交联型树脂粒子、玻璃珠、聚苯乙烯系交联型树脂粒子等。

另外，在以上的例中，作为表面微细凹凸体、光扩散性片材，已例示了片状物，但并不限定于片状物，也可为立体成形体。

另外，微细凹凸只要为表面微细凹凸体的表面的至少一部分，那么可根据目的而在任意部分形成。例如，在表面微细凹凸体为片状物的情况下，可仅在其中一面上形成，也可在两面上形成，也可在各面中仅在一部分上形成，也可在片状物的周面(端面)的至少一部分上形成。进而，在表面微细凹凸体为立体成形体的情况下，也是可在整个表面的整个面上形成，也可仅在一部分上形成。另外，在表面微细凹凸体为立体成形体的情况下，所述立体成形体可用于与关于光扩散性片材而例示的用途相同的用途。即，可适宜用作如下扩散构件：HUD系统用的扩散构件；投影仪用的扩散构件；电视、监视器、笔记型个人电脑、平板型个人电脑、智能手机、行动电话等的背光源用的扩散构件；复印机等所使用的将LED光源线性排列的扫描器光源中构成导光构件的至少出射面的扩散构件；等。

另外，本发明具有以下方面。

一种表面微细凹凸体，其特征在于：其是表面的至少一部分形成有微细凹凸的表面微细凹凸体，且

所述微细凹凸具有波状的凹凸图案、及形成在所述波状的凹凸图案上的凹部或凸部，

所述波状的凹凸图案包含沿第1方向排列的数个凸条部、及所述数个凸条部间的凹条部，

自所述表面微细凹凸体的基材的法线方向观察时，所述数个凸条部的脊线以互相不平行的方式蜿蜒，

所述数个凸条部的第1方向上的最频间距为3～20μm，

所述凹部、或凸部的表观的最频径为1～10μm，

所述凹部、或凸部的形状为半球状。

另外，本发明具有以下方面。

一种表面微细凹凸体，其是表面的至少一部分形成有微细凹凸的表面微细凹凸体，且

所述微细凹凸具有波状的凹凸图案、及形成在所述波状的凹凸图案上的凹部或凸部，

所述波状的凹凸图案包含沿第1方向排列的数个凸条部、及所述数个凸条部间的凹条部，

自所述表面微细凹凸体的法线方向观察时，所述数个凸条部的脊线以互相不平行的方式蜿蜒，

所述数个凸条部的第1方向上的最频间距为3～20μm，

所述凹部、或凸部的表观的最频径为1～10μm，

所述凹部、或凸部的形状为半球状，

所述凹部、或凸部相对于形成有微细凹凸的面的总面积的占有比率为30～70质量％。

另外，本发明具有以下方面。

一种表面微细凹凸体的制造方法，其特征在于包括如下步骤：积层步骤，其在包含树脂的基材膜的单面，以干燥后的厚度超过0.05μm且为5.0μm以下的方式涂布包含基质树脂及粒子的涂布液而设置硬质层，形成积层片材；

变形步骤，其使所述积层片材的至少所述硬质层以折叠的方式变形；且

所述树脂为聚酯系树脂，

所述基质树脂是选自由聚乙烯醇、聚苯乙烯、丙烯酸系树脂、苯乙烯-丙烯酸系共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物、聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醚砜、及氟树脂所组成的群中的至少1种树脂，且具有比构成所述基材膜的树脂高10℃以上的玻璃转移温度，

所述粒子是选自由丙烯酸系热塑性树脂粒子、聚苯乙烯系热塑性树脂粒子、丙烯酸系交联型树脂粒子、聚苯乙烯系交联型树脂粒子、及玻璃珠所组成的群中的至少1种粒子，且在小于比构成所述基材膜的所述树脂的玻璃转移温度高10℃的温度的温度下，粒子形状不发生变化，

所述粒子的粒径为5～10μm，

所述硬化层相对于所述基质树脂100质量份，含有10～50质量份的所述粒子。

[实施例]

以下，例示实施例而对本发明进行具体说明。

[实施例1]

以涂布干燥后的硬质层的厚度t'达到2μm的方式，通过棒式涂布机(迈耶棒#14)，将下述涂布液(1)涂布在聚对苯二甲酸乙二酯单轴方向加热收缩性膜(东洋纺股份有限公司制造的“SC807”，厚度：30μm，玻璃转移温度Tg1＝80℃)的单面上，获得积层片材。

(涂布液(1))

以固形物成分质量比70：30混合丙烯酸系树脂A(玻璃转移温度Tg2＝128℃)与粒径d为5μm的丙烯酸系交联型树脂粒子(积水化成品工业股份有限公司制造的“SSX105”，维氏软化温度200℃以上)，加入甲苯中，获得固形物成分浓度7.7质量％的涂布液(1)。

另外，所述丙烯酸系树脂A的固形物成分浓度为20质量％，本例中的质量比及浓度是以净含量(固形物成分量)计算而得的值。以下的例也以净含量进行计算。

继而，使用热风式烘箱，在150℃下将所述积层片材加热1分钟，借此使聚对苯二甲酸乙二酯单轴方向加热收缩性膜在单轴方向上热收缩为加热前的长度的49％(变形率为51％)，而使硬质层以折叠的方式变形。借此，获得在硬质层的表面形成有具有波状的凹凸图案及形成在其上的多个凸部的微细凹凸的表面微细凹凸片材(底版)。另外，所形成的凸条部各自蜿蜒且互相不平行，以不规则的方式形成。

以厚度达到20μm的方式，在所得的表面微细凹凸片材(底版)的微细凹凸形成面上涂布含有脱模剂的未硬化的紫外线硬化性树脂A(综研化学公司制造)，并照射紫外线而使之硬化，硬化后剥离而获得具有表面微细凹凸片材的微细凹凸的反转图案的1次转印品。

继而，以厚度达到20μm的方式，在透明PET基材(东洋纺股份有限公司制造的“A4300”，厚度：188μm)的单面上涂布未硬化的紫外线硬化性树脂B(SonyChemical公司制造)，将1次转印品的具有所述反转图案的面抵压在所涂布的紫外线硬化性树脂B上，并照射紫外线而使之硬化，硬化后，将1次转印品剥离，获得在透明PET基材上形成包含紫外线硬化性树脂的硬化物的表面层，且在所述表面层的表面形成有与所述表面微细凹凸片材(底版)相同的微细凹凸的光扩散性片材(2次转印品)。

[实施例2]

将实施例1中涂布液(1)改用下述涂布液(2)，除此以外，以与实施例1相同的方式而获得光扩散性片材。

(涂布液(2))

以固形物成分质量比80：20混合丙烯酸系树脂A(玻璃转移温度Tg2＝128℃)与粒径d为5μm的丙烯酸系交联型树脂粒子(积水化成品工业股份有限公司制造的“SSX105”)，加入甲苯中，获得固形物成分浓度7.7质量％的涂布液(2)。

[实施例3]

将实施例1中涂布液(1)改用下述涂布液(3)，除此以外，以与实施例1相同的方式而获得光扩散性片材。

(涂布液(3))

以固形物成分质量比35：35：30混合丙烯酸系树脂A(玻璃转移温度Tg2＝128℃)、丙烯酸系树脂B(玻璃转移温度Tg2＝132℃)及粒径d为5μm的丙烯酸系交联型树脂粒子(积水化成品工业股份有限公司制造的“SSX105”)，加入甲苯中，获得固形物成分浓度7.7质量％的涂布液(3)。

[比较例1]

将实施例1中涂布液(1)改用下述涂布液(4)，除此以外，以与实施例1相同的方式而获得光扩散性片材。

(涂布液(4))

将丙烯酸系树脂A(玻璃转移温度Tg2＝128℃)加入甲苯中，获得固形物成分浓度7.7质量％的涂布液(4)。

[实施例4]

将实施例1中涂布液(1)改用下述涂布液(5)，除此以外，以与实施例1相同的方式而获得光扩散性片材。

(涂布液(5))

以固形物成分质量比70：30混合丙烯酸系树脂A(玻璃转移温度Tg2＝128℃)与粒径d为10μm的丙烯酸系交联型树脂粒子(积水化成品工业股份有限公司制造的“SSX110”，维氏软化温度点200℃以上)，加入甲苯中，获得固形物成分浓度7.7质量％的涂布液(5)。

[实施例5]

将实施例1中涂布液(1)改用下述涂布液(6)，除此以外，以与实施例1相同的方式而获得光扩散性片材。

(涂布液(6))

以固形物成分质量比50：50混合丙烯酸系树脂A(玻璃转移温度Tg2＝128℃)与粒径d为5μm的丙烯酸系交联型树脂粒子(积水化成品工业股份有限公司制造的“SSX105”)，加入甲苯中，获得固形物成分浓度7.7质量％的涂布液(6)。

[实施例6]

在实施例1中，以涂布干燥后的硬质层的厚度t'达到3μm的方式，通过棒式涂布机(迈耶棒#20)进行涂布，使聚对苯二甲酸乙二酯单轴方向加热收缩性膜在单轴方向上热收缩为加热前的长度的60％(变形率为40％)，除此以外，以与实施例1相同的方式获得光扩散性片材。

[实施例7]

在利用与实施例1相同的方法获得的表面微细凹凸片材(底版)的表面，通过镍电铸法，以厚度达到500μm的方式沉积镍。继而，将所沉积的镍自表面微细凹凸片材(底版)剥离，获得表面转印有表面微细凹凸片材的微细凹凸的镍2次底版。将所述镍2次底版组装于射出成形机的模具中，进行丙烯酸系树脂的射出成形，借此获得表面转印有微细凹凸的射出成形品。所得的射出成形品为300mm×10mm×2mm的长方体，在一对2mm×300mm的面中，一面上转印有微细凹凸，另一面为平滑面。

(评价)

(1)对于所述各例中所得的光扩散性片材及射出成形品的微细凹凸，利用所述方法求出波状的凹凸图案的最频间距、波状的凹凸图案的凸条部的平均高度、凸部的表观的最频径及平均高度、微细凹凸中的凸部的占有面积比率。将结果示于表1。

(2)使用GENESIAGonioFarFieldProfiler(GENESIA公司制造)，自平滑面侧向所述各例中所得的光扩散性片材及射出成形品入射光，测定Y方向的扩散角度及1/10扩散角度、以及X方向的扩散角度及1/10扩散角度。将结果示于表1。

(3)对所述各例中所得的光扩散性片材及射出成形品自其平滑面侧入射红色激光指示器的光，使扩散光自相反面侧出射。在光扩散性片材及射出成形品的所述相反面侧，以与光扩散性片材及射出成形品平行的方式配置白色的纸。以4个等级对在白色的纸上映出的红色激光指示器的扩散光的形状(投影图像)进行目视评价。将结果示于表1。

(4)对所述各例中所得的光扩散性片材及射出成形品自其平滑面侧入射LED光源(照射角10°)的光，使透过光自相反面(微细凹凸形成面)侧出射。在光扩散性片材及射出成形品的所述相反面侧的距法线方向1m的位置配置亮度计SR-3(Topcon公司制造)，测定亮度。将结果示于表1。另外，表1的亮度是将以所述方法测定实施例1的光扩散性片材的情况下的亮度设为100时的相对亮度。

(5)自所述各例中所得的光扩散性片材及射出成形品的微细凹凸形成面侧入射光，依据JISK7105“塑料的光学特性试验方法”，测定全光线透过率(％)。将结果示于表1。

另外，由于实施例7所制造的射出成形品为长方体，因此形成有微细凹凸的面与平滑面平行。然而，在制造形成有微细凹凸的面与平滑面不平行的射出成形品的情况下，优选通过适当切割所述射出成形品，而以切出与形成有微细凹凸的面平行的平滑面的射出成形品作为样品，将所述样品供于所述(2)～(5)的测定。

根据表1的结果，通过形成有微细凹凸的各实施例的光扩散性片材及射出成形品，Y方向的扩散角度充分大，且X方向的扩散角度为4°以上，所述微细凹凸包含：波状的凹凸图案，其包含以互相不平行的方式蜿蜒的不规则的数个凸条部与所述数个凸条部间的凹条部，且最频间距为3～20μm；及多个凸部，其表观的最频径为1～10μm。另外，通过实施例1～5及实施例7的光扩散性片材及射出成形品，X、Y方向的扩散角度适度地大，另外，Y方向及X方向的1/10扩散角度分别为(扩散角度×1.4+25°)以下、(扩散角度×1.6+25°)以下，相对亮度充分大。因此，可知这些光扩散性片材及射出成形品可适宜用于例如需使行驶速度等信息清晰地扩散在汽车的挡风玻璃上的抬头显示器系统等中。其中，实施例1～3的光扩散性片材及实施例7的射出成形品在将Y方向的扩散角度维持为非常高的情况下，X方向的扩散角度也较大，另外，与相对亮度的平衡也良好，具有非常高的性能。

另一方面，通过比较例的光扩散性片材，虽然Y方向的扩散角度充分大，但X方向的扩散角度非常小，各向异性过高，可知不适合用于所述抬头显示器系统等中。

另外，各实施例的光扩散性片材具有充分的光透过性。

另外，可知实施例7的射出成形品可适宜用于复印机等所使用的将LED光源线性排列的扫描器光源的导光构件等。

[符号的说明]

10光扩散性片材

13波状的凹凸图案

13a凸条部

13b凹条部

14凸部

20表面微细凹凸体(底版)

21基材

22硬质层

22a基质树脂

22b粒子

31基材膜

32硬质层(未变形)

Claims (8)

1.一种表面微细凹凸体，其特征在于：其是表面的至少一部分形成有微细凹凸的表面微细凹凸体，且

所述微细凹凸包含波状的凹凸图案、及形成在所述波状的凹凸图案上的数个凹部或凸部，

所述波状的凹凸图案包含不规则地形成的数个凸条部、及所述数个凸条部间的凹条部，

所述数个凸条部以互相不平行的方式蜿蜒，

所述数个凸条部的最频间距为3～20μm，

所述凹部或凸部的表观的最频径为1～10μm。

2.根据权利要求1所述的表面微细凹凸体，其中所述凸条部的平均高度为4～7μm。

3.根据权利要求1或2所述的表面微细凹凸体，其中所述微细凹凸中的所述凹部或所述凸部的占有面积比率为30～70％。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的表面微细凹凸体，其是光扩散体。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的表面微细凹凸体，其是用以转印所述微细凹凸而制造光扩散体的光扩散体形成用底版。

6.一种表面微细凹凸体的制造方法，其包括如下步骤：

积层步骤，其在包含树脂的基材膜的单面设置包含基质树脂及分散在所述基质树脂中的粒子且具有超过0.05μm且为5.0μm以下的厚度的硬质层而形成积层片材；

变形步骤，其使所述积层片材的至少所述硬质层以折叠的方式变形；且

所述基质树脂的玻璃转移温度比构成所述基材膜的所述树脂的玻璃转移温度高10℃以上，

所述粒子包含在小于比构成所述基材膜的所述树脂的玻璃转移温度高10℃的温度的温度下，粒子形状不会因热而发生变化的材料，

所述粒子的粒径大于所述硬质层的厚度。

7.根据权利要求6所述的表面微细凹凸体的制造方法，其中所述基材膜是单轴方向加热收缩性膜，

所述变形步骤是加热所述积层片材而使所述单轴方向加热收缩性膜收缩的步骤。

8.一种光扩散体的制造方法，其包括转印步骤，该步骤是将以根据权利要求6或7所述的制造方法所制造的表面微细凹凸体用作光扩散体形成用底版，而转印所述表面微细凹凸体的所述微细凹凸。