JP2017078808A - 表面微細凹凸シートおよび多層体 - Google Patents

Abstract

【課題】、正面方向への反射が十分で明るい画像を提供できる表面微細凹凸シート、そのシートを備える多層体や、その表面微細凹凸シートを用いた反射型ディスプレイ等を提供すること【解決手段】少なくとも反射板２００、一方の表面の少なくとも一部に不規則な波状凹凸パターンを有する表面微細凹凸シート１００、をその順で配置して備える多層体であって、該多層体の該表面微細凹凸シート側からの入射角４０°での入射光の反射光正面照度比が２％以上であることを特徴とする多層体。【選択図】 図１５

Description

本発明は、表面微細凹凸シートおよびそれを使用した多層体に関する。これらは反射型ディスプレイ用に使用される。

近年、ウェラブル、デジタルサイネージ等のディスプレイで反射型ディスプレイが注目されている。反射型ディスプレイは外部からの入射光を反射板で反射させて表示を行うため、現在、ほとんどの携帯電話、スマートフォン、パーソナルコンピュータ、液晶テレビで使用されている透過型ディスプレイのようにバックライトを必要とせず、消費電力の節約による長時間連続駆動が可能である。
また、ウェラブル用途として考えると、バックライトが不要であるため、軽量化、小型化も可能である。
反射型ディスプレイは、太陽直接光、拡散天空光、室内照明といった外光を反射、拡散させることで、画面表示に必要な光を得ているため、外光の拡散機能が必要となる。（特許文献１参照。）。

特開平６-１１７１１号公報

しかし、特許文献1に記載の方法では、入射光を全方向に拡散させるため、正面方向に反射させる光量が少なく、白表示で十分な明るさが得られないという課題に本発明者等は気づいた。

本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、正面方向への反射が十分で明るい画像を提供できる表面微細凹凸シートと、該表面微細凹凸シートを用いた反射型ディスプレイの提供を目的とする。

本発明は以下の構成を有する。
［１］少なくとも反射板、一方の表面の少なくとも一部に不規則な波状凹凸パターンを有する表面微細凹凸シート、をその順で配置して備える多層体であって、該多層体の該表面微細凹凸シート側からの入射角４０°での入射光の反射光正面照度比が２％以上であることを特徴とする多層体。
［２］拡散角度_主―拡散角度_低が２０°以上であることを特徴とする一方の表面の少なくとも一部に不規則な波状凹凸パターンを有する表面微細凹凸シート。
「拡散角度_主―拡散角度_低」の定義：主拡散方向の拡散角度−低拡散方向の拡散角度
［３］反射型ディスプレイ用の拡散シートとして使用される請求項２に記載の表面微細凹凸シート。

本発明によれば、反射型表示装置と組み合わせて使用した場合に、正面輝度に優れる表面微細凹凸シートと、該表面微細凹凸シートを用いた反射型ディスプレイを提供できる。

第１実施形態例の表面微細凹凸シートを模式的に示す拡大斜視図である。 第１実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である（画像の左右方向の辺のフルスケールが５００μｍである。）。 第１実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の原子間力顕微鏡による三次元画像である（画像の各辺のフルスケールが２００μｍである。）。 第１実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンを示す縦断面図である。 第２実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である（画像の左右方向の辺のフルスケールが３００μｍである。）。 第３実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である（画像の左右方向の辺のフルスケールが６０μｍである。）。 第３実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンを示す縦断面図である。 第４実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である（画像の左右方向の辺のフルスケールが３００μｍである。）。 第４実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンを示す縦断面図である。 第４実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターンにおける凸部の平均高さを求める方法の説明図である。 第５実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である（画像の左右方向の辺のフルスケールが２５０μｍである。）。 第５実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面側からの概略平面図、（ｂ）波状凹凸パターン（１−ｂ）の凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図、（ｃ）波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部の配列方向に平行な側面を示す側面図である。 反射型ディスプレイの構成の一例を示す側面図である。 反射型ディスプレイの構成の別の一例を示す側面図である。 入射角を変えた時の反射光照度の評価ユニットの説明図である。 本発明の表面微細凹凸シートについて、入射角と反射光正面照度比との関係をプロットしたグラフである。 一般的な等方性拡散シートについて、入射角と反射光正面照度比との関係をプロットしたグラフである。 一般的なプリズムシートについて、入射角と反射光正面照度比との関係をプロットしたグラフである。 本発明の表面微細凹凸シートおよびそれ以外のシートについて、「拡散角度_主―拡散角度_低」と反射光正面照度比_４０°との関係をプロットしたグラフである。 実施例、比較例の表面微細凹凸シートについて、斜め方向から光を入射した場合の黒文字を白色部とのコントラストの評価ユニットの説明図である。

「不規則な波状凹凸パターン」とは、表面微細凹凸シートの法線方向に平行な少なくとも一つの面に沿って切断した際に得られる切断面において、波状凹凸パターンに対応する部分の形状が、不規則な微細な波状の凹凸形状であるパターンのことをいう。
たとえば、下記の〔１〕、〔２〕のパターンが挙げられる。

〔１〕波状凹凸パターン形成面に沿って筋状に延びる複数の凸条部と、該複数の凸条部間の複数の凹条部とが、波状凹凸パターン形成面に沿う一方向に交互に繰り返されるパターンを少なくとも有し、以下の（ａ）および（ｂ）の特徴を有するパターン（以下、「波状凹凸パターン（１）」ともいう。）。
なお、波状凹凸パターン（１）では、少なくとも、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部と凹条部とが交互に繰り返される上記一方向（以下、「凸条部の配列方向」ともいう。）に沿って切断した際に得られる切断面において、波状凹凸パターンに対応する部分の形状が、不規則な波状の凹凸形状となる。

（ａ）各凸条部が蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凸条部の稜線が蛇行し、隣接する凸条部の稜線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に稜線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の稜線が途中で枝分かれしたり、複数の稜線が途中で合一していてもよい。
（ｂ）各凹条部が蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凹条部の谷線が蛇行し、隣接する凹条部の谷線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に谷線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の谷線が途中で枝分かれしたり、複数の谷線が途中で合一していてもよい。

波状凹凸パターン（１）では、上記切断面における各凸条部の縦断面形状（表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部の配列方向に沿って切断される切断面における形状。）は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。

以上のような波状凹凸パターン（１）の不規則性により、該波状凹凸パターン（１）は、後述する主拡散方向だけでなく、該主拡散方向に対して直交する低拡散方向にも、適度に光を拡散させる。
また、詳しくは後述するが、波状凹凸パターン（１）は、１軸延伸フィルム（１軸方向収縮フィルム）からなる加熱収縮性樹脂フィルムを加熱収縮することにより形成されるパターンである。

〔２〕波状凹凸パターン形成面上に、特定の方向に沿わない微細な凹凸が形成されたパターン（以下、「波状凹凸パターン（２）ともいう。」）。
波状凹凸パターン（２）では、表面微細凹凸シートの法線方向に平行な任意の方向に沿って切断した際に得られる切断面において、波状凹凸パターンに対応する部分の形状が、不規則な波状の凹凸形状となる。
波状凹凸パターン（２）では、上記切断面における各凸部の縦断面形状（表面微細凹凸シートの法線方向に平行な任意の方向に沿って切断される切断面における形状。）は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。

以上のような波状凹凸パターン（２）の不規則性により、該波状凹凸パターン（２）は、主拡散方向および低拡散方向に光を拡散させる。また、凹凸が上述のように特定の方向に沿わないため、主拡散方向と低拡散方向の拡散角度の差は小さい。
また、詳しくは後述するが、波状凹凸パターン（２）は、２軸延伸フィルム（２軸方向収縮フィルム）からなる加熱収縮性樹脂フィルムを加熱収縮することにより形成されるパターンである。

「波状凹凸パターンの主拡散方向」とは、以下の方法で決定される方向である。
（１）拡散角度測定用として、一方の面が波状凹凸パターン形成面であり、他方の面が平滑な面（平滑面）であるサンプルシートを用意する。
（２）ゴニオメータ（たとえば、型式：ＧＥＮＥＳＩＡ Ｇｏｎｉｏ／ＦＦＰ、ジェネシア社製）を用いて、上記サンプルシートの平滑面側から測定光を入射させ、波状凹凸パターン形成面からの透過散乱光を測定し、照度曲線を得る。
具体的には、サンプルシートから垂直に出射する光（出光角度＝０°）の照度を１とした際の相対照度を、波状凹凸パターン形成面上のある方向（α方向）において、出光角度−９０°から９０°まで１°間隔で測定する。これによりα方向における照度曲線が得られる。
このような操作および照度曲線の作製を、波状凹凸パターン形成面において、α方向から１°ずらした方向（β方向）において行う。
ついで、このような操作および照度曲線の作製を、波状凹凸パターン形成面において、β方向から１°ずらした方向（γ方向）において行う。
このように相対照度を測定する方向を波状凹凸パターン形成面内で１°ずつずらし、１°毎の照度曲線を得る。これにより、合計１８０種の照度曲線が得られる。
（３）１８０種の各照度曲線のそれぞれにおいて、相対照度が０．５以上となる角度範囲を求める。その範囲が拡散角度である。たとえば、α方向について得られた照度曲線において、相対照度が０．５以上となる角度範囲が−１３°〜+１７°である場合には、α方向における拡散角度は、１３°＋１７°＝３０°となる。
（４）１８０種の各方向について、上記のようにして拡散角度を求め、１８０種の拡散角度のうち、最も大きな拡散角度が得られた方向が、主拡散方向である。
（５）低拡散方向は、「主拡散方向に直交する方向」と定義する。
主拡散方向および低拡散方向は、いずれも、波状凹凸パターン形成面上の方向である。

なお、本明細書において、平滑とは、ＪＩＳ Ｂ０６０１に記載の方法により測定される中心線平均粗さが０．１μｍ以下であることをいう。

＜第１〜第５実施形態例＞
〔第１実施形態例〕
図１は、本実施形態例の表面微細凹凸シートを模式的に示す斜視図である。

［波状凹凸パターン］
第１実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ａは、波状凹凸パターン形成面１１に、先に説明した波状凹凸パターン（１）に該当する波状凹凸パターン（１Ａ）が形成されている。
図２は、本実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像であり、図３は、波状凹凸パターン形成面の原子間力顕微鏡による三次元画像である。
図４は、本実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン（１Ａ）を示すものであって、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部の配列方向に沿って切断した縦断面図である。
図４に示すように、凸条部１１ａの上記縦断面形状は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。また、各凸条部１１ａの上記縦断面形状は、それぞれが基端側から先端側に向かって細くなる先細り形状であるとともに、先端が丸みを帯びている。また、各凸条部１１ａの上記縦断面形状において、先端側と基端側とを結ぶ線は、先端側から基端側に向けて滑らかに連続的に下降している。また、各凸条部１１ａは、上述の縦断面形状およびその面積のうちの少なくとも一方が、当該凸条部１１ａの延在方向（筋状に延びている方向）に沿って変化しており、一定でない。
また、各凸条部１１ａにおいて、稜線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
また、隣り合う凸条部１１ａ間の各凹条部において、谷線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。

波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ａの平均ピッチは、１〜５０μｍであることが好ましく、５〜３０μｍであることがより好ましく、８〜２０μｍであることがより好ましい。平均ピッチが上記範囲の下限値以上であると、表面微細凹凸シート１０Ａを容易に製造できる。平均ピッチが上記範囲の上限値以下であると、表面微細凹凸シート１０Ａを照明装置に使用した場合に、波状凹凸パターン（１Ａ）が好ましくない輝線として視認されにくい。また、平均ピッチが上記範囲内であると、主拡散方向に充分な拡散角度を示す。
なお、平均ピッチは、図２のような、凸条部１１ａが２０本以上含まれる波状凹凸パターン形成面１１の平面画像を得て、隣り合う凸条部１１ａの２０本分について、凸条部１１ａの配列方向に沿う長さを５箇所測定し、測定値の平均値を２０で割ることにより求めることができる。
また、平均ピッチは、次の方法でも求められる。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面１１の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等。）に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析によりピッチを求める。この方法は、たとえば特開２００８−３０２５９１号公報（特許第４６８３０１１号公報）等に記載されており、これを参照できる。なお、該公報の段落［００２４］にも記載のとおり、当該方法で求められる最頻ピッチと、上記平均ピッチは、同等に扱うことができる。以下、各実施形態例においても同様である。

波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ａの平均ピッチに対する平均高さの比、すなわちアスペクト比（平均高さ／平均ピッチ）は、０．０５〜３．０であることが好ましく、０．１〜２．０であることがより好ましく、０．３〜１．０であることがさらに好ましい。アスペクト比が上記範囲の下限値以上であると、波状凹凸パターン（１Ａ）により視野角確保効果、輝度ムラ解消効果が充分に得られる。アスペクト比が上記範囲の上限値以下であると、波状凹凸パターン（１Ａ）を容易に形成できる。

凸条部１１ａの平均高さは次のように求める。
たとえばミクロトームを用いて、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部の配列方向に沿って切断した切断面を有する薄片サンプルを得て、該薄片サンプルの切断面の光学顕微鏡画像を得る。そして、該光学顕微鏡画像の切断面から、ランダムに５０個の凸条部を選択し、これら各凸条部の高さＨを求める。
具体的には、図４に示すように、１つの凸条部１１ａの頂部Ｔと該凸条部１１ａの一方側に位置する凹条部の底部Ｂ１との垂直距離をＬｉとし、該凸条部１１ａの頂部Ｔと該凸条部１１ａの他方側に位置する凹条部の底部Ｂ２との垂直距離をＲｉとした場合に、Ｈ＝（Ｌｉ＋Ｒｉ）／２で求められるのが、その凸条部１１ａの高さである。
このようにして求めた５０個の凸条部の高さの平均値が「凸条部の平均高さ」である。

本実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ａにおいて、波状凹凸パターン（１Ａ）の主拡散方向は、先に説明した方法により求めることができ、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ａの配列方向に平行な方向（図１中のＡ方向）である。
主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば１０°以上であることが好ましく、１５°以上であることがより好ましい。また、たとえば５０°以下であることが好ましく、４０°以下であることがより好ましい。
一方、主拡散方向に対して直交する方向は、拡散角度の低い「低拡散方向」である。
低拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さいことが望ましく、たとえば１０°以下であることが好ましい。
主拡散方向の拡散角度、低拡散方向の拡散角度は、凸条部の平均ピッチ、アスペクト比（平均高さ／平均ピッチ）等を調整すること等により制御できる。
以上の主拡散方向の拡散角度の好ましい範囲は、後に説明する各実施形態例２〜５までも上記実施形態１と同様である。その理由は、以下のようである。
主拡散方向の拡散角度が１０°以上であれば、後述するように、反射型ディスプレイの拡散シートして 使用する場合、光が斜めから入射しても、正反射方向以外の方向にも光が拡散反射するため 正面輝度が高くなる。この正面輝度が高くなる点で主拡散方向の拡散角度が１５°以上がより好ましい。なお、主拡散方向の拡散角度が５０°を越えるような表面微細凹凸シートは、表面の波状凹凸パターンの作製が困難になる場合がある点で好ましくない。
以上の低拡散方向の拡散角度の好ましい範囲は、後に説明する各実施形態例２〜５までも上記実施形態１と同様である。その理由は、以下のようである。
低拡散方向の拡散角度が１０°以下であれば、後述するように不要な方向への光の拡散反射が軽減されるため、正面輝度の低下が軽減される。

表面微細凹凸シート１０Ａの厚みは、接触式膜厚計で測定した厚みとして、２０〜５０００μｍの範囲が好ましく、５０〜３０００μｍがより好ましい。
表面微細凹凸シート１０Ａの材質については、後述する。

［表面微細凹凸シートの製造方法］
本実施形態例の１層構造の表面微細凹凸シート１０Ａは、たとえば、以下の製造方法（Ａ）により製造できる。また、多層構造の表面微細凹凸シートは、たとえば、以下の製造方法（Ｂ）により製造できる。また、製造方法（Ａ）の一部と製造方法（Ｂ）の一部とを組み合わせた方法によっても製造できる。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン（１Ａ）の形成には、特開２００８−３０２５９１号公報（特許第４６８３０１１号公報）等を参照できる。

（製造方法）
製造方法は、以下の工程（ａ１）および工程（ａ２）を有する。
工程（ａ１）：
波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状（反転形状）を表面に有する原版（Ｗ）を製造する工程（ａ１）。
工程（ａ２）：
原版（Ｗ）の上記転写形状を電離放射線硬化性樹脂を用いたナノインプリント法を用いてシートに転写し、一方の面に波状凹凸パターン（１Ａ）が形成された表面微細凹凸シートを得る工程（ａ２）。

工程（ａ１）：
工程（ａ１）としては、たとえば、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、表面が平滑で少なくとも１種の樹脂から構成される硬質層を少なくとも１層積層させて、積層フィルムを得る工程（ａ１−１）と、積層フィルムを加熱して加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させることにより、硬質層を折り畳むように変形させて、表面に波状凹凸パターン（１Ａ）が形成された凹凸パターン形成シートを得る工程（ａ１−２）と、該凹凸パターン形成シートの硬質層側の表面にニッケル等の金属を堆積させた後に剥離し、波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状が転写された原版（Ｗ）を得る工程（ａ１−３）とを有する工程等が挙げられる。
なお、硬質層は、加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させる温度条件下で軟化しない層である。軟化しないとは、硬質層のヤング率が１００ＭＰａ以上であることを意味する。

工程（ａ１−１）：
加熱収縮性樹脂フィルムとは、８０〜１８０℃の温度で加熱した際、特定の方向に収縮（シュリンク）するフィルムのことを意味する。このようなフィルムとしては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルム、ポリオレフィン系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニル系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニリデン系シュリンクフィルムなどを用いることができる。また、ポリジメチルシロキサン等のシリコーン樹脂、フッ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリシクロオレフィンなどの樹脂から構成されるフィルムも挙げられる。
耐熱性の点では、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルムが好ましい。
本実施形態例では、加熱収縮性樹脂フィルムとして、１軸延伸フィルムを用いる。１軸延伸は、縦延伸、横延伸のいずれであってもよい。

加熱収縮性樹脂フィルムは、延伸倍率１．１〜１５倍で延伸されていることが好ましく、１．３〜１０倍で延伸されていることがより好ましい。
また、加熱収縮性樹脂フィルムとしては、収縮率が２０〜９０％のフィルムが好ましく、３０〜８０％のフィルムがより好ましい。収縮率が前記下限値以上であれば、凹凸パターン形成シートをより容易に製造できる。収縮率が上限値を超える加熱収縮性樹脂フィルムは製造が困難である。

本明細書において、収縮率とは、下記で定義される。
（収縮率［％］）＝｛（収縮前の長さ）−（収縮後の長さ）｝×１００／（収縮前の長さ）（ただし、長さは加熱収縮性樹脂フィルムの収縮方向の長さである。）

加熱収縮性樹脂フィルムは、硬質層を容易に形成できることから、表面が平滑であることが好ましい。

加熱収縮性樹脂フィルムを構成する樹脂（以下、「樹脂Ｌ」ともいう。）のガラス転移温度Ｔｇ_１は、−４０〜２００℃であることが好ましく、６０〜１５０℃であることがより好ましい。ガラス転移温度は示差熱分析等により測定できる。ガラス転移温度Ｔｇ_１が上記範囲内であれば、より容易に凹凸パターン形成シートを製造できる。すなわち、Ｔｇ_１が上記範囲内であれば、樹脂Ｌから構成される加熱収縮性樹脂フィルムを８０〜１８０℃の温度で加熱収縮させることができるため、より容易に凹凸パターン形成シートを製造できる。

加熱収縮性樹脂フィルムの厚みは３０〜５００μｍであることが好ましい。上記範囲内であれば、破れにくく薄型化もできる。なお、厚みは、得られた凹凸パターン形成シートをシート面に対して垂直に切った断面（縦断面）の顕微鏡写真から、１０カ所以上無作為に抽出して、加熱収縮性樹脂フィルムの厚さを測定した際の、得られた各数値の平均値である。

樹脂Ｌのヤング率は、加熱収縮させる工程（ａ１−２）の温度、すなわち、８０〜１８０℃の温度範囲において、０．０１〜１００ＭＰａであることが好ましく、０．１〜１０ＭＰａであることがより好ましい。樹脂Ｌのヤング率が前記下限値以上であれば、実用上使用可能な硬さであり、前記上限値以下であれば、硬質層が変形する際に同時に追従して変形可能な軟らかさである。

上述のようなＴｇ_１およびヤング率を有する樹脂としては、たとえば、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリスチレン系樹脂およびポリ塩化ビニル系樹脂等が挙げられ、これらの１種以上を好適に使用できる。

硬質層を構成する樹脂（以下、「樹脂Ｍ」ともいう。）としては、たとえば、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体などの１種以上を使用できる。

樹脂Ｍは、凹凸パターン形成シートを容易に形成できる点では、樹脂Ｍのガラス転移温度Ｔｇ_２Ｍと樹脂Ｌのガラス転移温度Ｔｇ_１との差（Ｔｇ_２Ｍ−Ｔｇ_１）が１０℃以上であることが好ましく、１５℃以上であることがより好ましく、２０℃以上であることが特に好ましい。

樹脂Ｍのガラス転移温度Ｔｇ_２Ｍは、４０〜４００℃の範囲内にあることが好ましく、８０〜２５０℃の範囲内にあることがより好ましい。Ｔｇ_２Ｍが前記範囲内であれば、凹凸パターン形成シートを容易に製造できる。
樹脂Ｍのヤング率は、加熱収縮させる工程（ａ１−２）の温度（８０〜１８０℃）において、０．０１〜３００ＧＰａの範囲内にあることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａの範囲内にあることがより好ましい。樹脂Ｍのヤング率が上記下限値以上であれば、波状凹凸パターン（１Ａ）の形状を維持するのに充分な硬さであり、上限値以下であれば、より容易に凹凸パターン形成シートを製造できる。

硬質層の厚さは、０．０５μｍを超え１０．０μｍ以下とすることが好ましく、０．５〜３．０μｍとすることがより好ましい。硬質層の厚さを上記範囲にすることにより、光拡散性の点で、波状凹凸パターン（１Ａ）の平均ピッチが適切な範囲となる。

硬質層の厚さは連続的に変化していても構わない。硬質層の厚さが連続的に変化している場合には、工程（ａ１−２）後に形成される波状凹凸パターン（１Ａ）のピッチおよび深さが連続的に変化するようになる。

硬質層を設け、積層フィルムを得る方法としては、樹脂Ｍを含む硬質層形成用塗料を加熱収縮性樹脂フィルムに連続的に塗工し、乾燥する方法が挙げられる。
硬質層形成用塗料の調製方法としては、トルエン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等の１種以上の溶媒で、樹脂Ｍを希釈する方法等が挙げられる。硬質層形成用塗料の固形分濃度（樹脂Ｍの濃度：硬質層形成用塗料の質量（１００質量％）に対して、該塗料中の溶媒が揮発した後に残る固形分の質量の比率）は、塗料の総質量に対して１〜１５質量％であることが好ましく、５〜１０質量％であることがより好ましい。

塗料の塗工方法としては、たとえば、エアナイフコーティング、ロールコーティング、ブレードコーティング、メイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、キャストコーティング、カーテンコーティング、ダイスロットコーティング、ゲートロールコーティング、サイズプレスコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等が挙げられる。

乾燥方法としては、熱風、赤外線等を用いた加熱乾燥法が挙げられる。
加熱収縮性樹脂フィルムへの樹脂溶液の乾燥塗工量は、１〜１０ｇ／ｍ^２にすることが好ましい。上記範囲内であれば、硬質層の厚みを上記好ましい範囲にとすることができ、硬質層に、波状凹凸パターン（１Ａ）を形成しやすい。

工程（ａ１−２）：
工程（ａ１−２）では、工程（ａ１−１）で得られた積層フィルムを加熱して加熱収縮性樹脂フィルムを収縮させることにより、硬質層を折り畳むように変形させて、表面に波状凹凸パターン（１Ａ）と同じパターンが形成された凹凸パターン形成シートを得る。
工程（ａ１−２）では、３０％以上の収縮率で収縮させることが好ましい。収縮率を３０％以上にすると、収縮不足の部分（たとえば凹凸が充分に形成されない部分、アスペクト比が充分には大きくない部分等。）を小さくすることができる。一方、収縮率を大きくし過ぎると、得られる凹凸パターン形成シートの面積が小さくなり、歩留まりが低下するため、収縮率の上限は８０％が好ましい。

積層フィルムを加熱する方法としては、熱風、蒸気、熱水または遠赤外線中に通す方法等が挙げられ、中でも、均一に収縮させることができることから、熱風または遠赤外線に通す方法が好ましい。

加熱収縮性樹脂フィルムを熱収縮させる際の加熱温度は、使用する加熱収縮性樹脂フィルムの種類、目的とする凹凸パターン形成シートの凸条部の平均ピッチやアスペクト比に応じて適宜設定することが好ましい。
具体的には、該加熱温度は、加熱収縮性樹脂フィルムを構成する樹脂Ｌのガラス転移温度Ｔｇ_１以上の温度にすることが好ましい。Ｔｇ_１以上の温度で熱収縮させると、波状凹凸パターン（１Ａ）を容易に形成できる。
また、該加熱温度は、（樹脂Ｍのガラス転移温度Ｔｇ_２Ｍ＋１５℃）未満であることが好ましい。

工程（ａ１−２）の好適な一例としては、上述の工程（ａ１−１）で得られた積層フィルムを好ましくは８０〜１８０℃、より好ましくは１２０〜１７０℃の熱風の中を通過させることにより、加熱収縮性フィルムと硬質層とを変形させて、凹凸パターン形成シートを得る工程であることが好ましい。
積層フィルムを加熱する時間は、１〜３分間が好ましく、１〜２分間がより好ましい。熱風の風速は、１〜１０ｍ／ｓが好ましく、２〜５ｍ／ｓがより好ましい。

工程（ａ１−３）
工程（ａ１−３）は、上述の工程（ａ１−２）で得られた凹凸パターン形成シートの硬質層側の表面に、たとえばニッケル等の金属を公知の電気鋳造法等で堆積させ、その後、該金属を剥離し、波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状（反転形状）が転写された金属製の原版（Ｗ）を得る工程である。

なお、耐熱性等の観点からは、原版（Ｗ）の材質はニッケル等の金属が好適であるが、樹脂等であってもよい。また、原版（Ｗ）は、波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状（反転形状）を有しているものであればよく、上記のような転写を２回以上繰り返して得たもの等であってもよい。

原版（Ｗ）が樹脂製である場合は、以下に示す工程にて製造する。上述の工程ａ１−１およびａ１−２と同様の工程により凹凸パターン形成シートを得る。ついで、該凹凸パターン形成シートにおける波状凹凸パターン（１Ａ）が形成された面に、離型剤を含む未硬化の透明な電離放射線硬化性樹脂を例えば３〜３０μｍの厚さに収まるように、Ｔダイコーター、ロールコーター、バーコーターなどのコーターで塗布し、その上に、ＰＥＴ等の基材を配置する。そして、電離放射線を照射して硬化させた後、凹凸パターン形成シートを剥離して、波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状（反転形状）が形成された、電離放射線硬化性樹脂硬化物と基材とからなる樹脂製の原版（Ｗ）を得る。

工程（ａ２）：
工程（ａ２）としては、ＰＥＴ等を材料とする透明な基材を別途用意し、その片面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を塗布する。ここで塗布する厚さは、上記原版（Ｗ）における波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状の凹凸を充分に覆える厚さとする。そして、塗布された未硬化の電離放射線硬化性樹脂の層に対して、上記原版（Ｗ）における波状凹凸パターン（１Ａ）の転写形状が形成された面を押し当て、その状態のまま、電離放射線を照射して硬化させた後、原版（Ｗ）を剥離する。
このように原版（Ｗ）を使用することにより、ＰＥＴを材料とする透明な基材と、その片面上に形成された透明な電離放射線硬化性樹脂硬化物の層から構成される２層構造のシートが得られる。電離放射性硬化性樹脂硬化物の層の表面には、波状凹凸パターン（１Ａ）が形成されている。なお、ここでの原版（Ｗ）としては、１次転写品に限定されず、転写をさらに繰り返して得たものであってもよい。

電離放射線としては、一般には紫外線および電子線を意味することが多いが、本明細書においては、可視光線、Ｘ線、イオン線等も含む。

未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、エポキシ化油アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル／アクリレート、ポリエン／アクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエン、ポリスチリルメチルメタクリレート等のプレポリマー、脂肪族アクリレート、脂環式アクリレート、芳香族アクリレート、水酸基含有アクリレート、アリル基含有アクリレート、グリシジル基含有アクリレート、カルボキシ基含有アクリレート、ハロゲン含有アクリレート等のモノマーの中から選ばれる１種類以上の成分を含有するものが挙げられる。未硬化の電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。未硬化の電離放射線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性である場合には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。

また、電離放射線硬化性樹脂の代わりに、例えば、未硬化のメラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂や、アクリル樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル等の熱可塑性樹脂を用いて転写を行ってもよく、転写できる限り、その具体的方法、転写する材料に制限はない。
熱硬化性樹脂を用いる場合には、例えば液状の未硬化の熱硬化性樹脂を塗布し、加熱により硬化させる方法が挙げられ、熱可塑性樹脂を用いる場合には、熱可塑性樹脂のシートを用い、転写対象の面に押し当てながら加熱して軟化させた後、冷却する方法が挙げられる。

スタンパによる転写の具体的な方法については、たとえば、特開２０１２−０２２２９２号公報等を参照できる。

〔第２実施形態例〕
図５は、第２実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である。
第２実施形態例の表面微細凹凸シートは、波状凹凸パターン形成面に形成されている波状凹凸パターンが、上述の波状凹凸パターン（１）に該当するパターンではなく、上述の波状凹凸パターン（２）（すなわち、特定の方向に沿わない凹凸が形成されたパターン）に該当する波状凹凸パターン（２Ａ）である点のみで、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと異なる。

第２実施形態例の表面微細凹凸シートが有する波状凹凸パターン（２Ａ）は、図５に示すように、波状凹凸パターン形成面に沿って折れ曲がりながら、特定の方向に沿わずに延びる複数の凸条部と、該複数の凸条部間の複数の凹条部とにより形成されている。凸条部は、稜線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。また、各凹条部は、谷線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。

波状凹凸パターン（２）の凸条部の平均ピッチおよびアスペクト比等の好ましい範囲、求め方等は、第１実施形態例と同様である。
なお、平均ピッチは、次の方法で求めることが好適である。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等。）に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析によりピッチを求める。この方法は、たとえば特開２００８−２７９５９７号公報の段落［０００２］等に記載されており、これを参照できる。

波状凹凸パターン（２Ａ）は、上述のように、特定の方向に沿わない凹凸が形成されたパターンであり、光拡散性の異方性が弱められている。そのため、第１実施形態例と比較すると、波状凹凸パターンの主拡散方向と低拡散方向とにおける拡散角度の差は小さい。

主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば１０°以上であることが好ましく、１５°以上であることがより好ましい。また、たとえば５０°以下であることが好ましく、４０°以下であることがより好ましい。
低拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さいことが望ましく、たとえば１０°以下であることが好ましい。
第２実施形態例の波状凹凸パターンの主拡散方向の拡散角度、低拡散方向の拡散角度は、上記平均ピッチ、アスペクト比等を調整すること等により制御できる。
第２実施形態例の表面微細凹凸シートの好ましい厚み等は、第１実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ａと同程度である。

第２実施形態例の表面微細凹凸シートは、１層構造でも、２層以上の多層構造であってもよい。
また、第２実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第１実施形態例と同様の方法で製造できる。ただし、第２実施形態例では、工程（ａ１−１）において、加熱収縮性樹脂フィルムとして、２軸延伸フィルムを用いる。２軸延伸フィルムを用いることにより、図５に示すような特定の方向に沿わない凹凸が形成される。また、使用する２軸延伸フィルムの縦延伸倍率および横延伸倍率を調整し、縦収縮率および横収縮率を調整することにより、主拡散方向の拡散角度と、低拡散方向の拡散角度とのバランスが適宜調整された波状凹凸パターン（２Ａ）を形成できる。縦収縮率および横収縮率の好ましい各範囲は、各々、第１実施形態例における収縮率の好ましい範囲と同じである。加熱収縮性樹脂フィルムの材質（樹脂Ｌ）、収縮率、樹脂Ｌのガラス転移温度、ヤング率等の好ましい態様および範囲は、第１実施形態例と同様である。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン（２Ａ）の形成には、特開２００８−３０４６５１号公報（特許第５０９８４５０号公報）等を参照できる。

〔第３実施形態例〕
図６は、第３実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である。第３実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面に形成されている波状凹凸パターンは、第１実施形態例と同様に、先に説明した波状凹凸パターン（１）に該当する。

第３実施形態例の表面微細凹凸シートにおける波状凹凸パターンは、波状凹凸パターン（１）に該当するが、第１実施形態例の波状凹凸パターン（１Ａ）は、図４に示したように、凸条部１１ａの縦断面形状において、先端側と基端側とを結ぶ線は、先端側から基端側に向けて滑らかに連続的に下降しているのに対して、本実施形態例の波状凹凸パターン（１Ｂ）は、図７に示すように、凸条部１１ｂの縦断面形状において、先端側（頂部）と基端側とを結ぶ線が、微細な多数の凹凸を有する微細凹凸状である点で、第１実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ａと異なる。微細な多数の凹凸は、後述の波状凹凸パターン（１−ａ）によるものである。

図７に示すように、波状凹凸パターン（１Ｂ）は、凸条部３２ａと凹条部３２ｂとから構成される波状凹凸パターン（１Ａ）と、その上に形成された、凸条部３３ａと凹条部３３ｂとから構成される別の微細な波状凹凸パターン（１−ａ）により形成されている。
波状凹凸パターン（１−ａ）は、筋状に延びる複数の凸条部３３ａと、該複数の凸条部３３ａ間の複数の凹条部３３ｂとが一方向に交互に繰り返されるパターンであって、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部３２ａの配列方向と、波状凹凸パターン（１−ａ）の凸条部３３ａの配列方向とはほぼ同じ方向である。

波状凹凸パターン（１−ａ）は、以下の特徴を有する。
（ａ’）各凸条部３３ａが蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凸条部３３ａの稜線が蛇行し、隣接する凸条部３３ａの稜線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に稜線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の稜線が途中で枝分かれしたり、複数の稜線が途中で合一していてもよい。
（ｂ’）各凹条部３３ｂが蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凹条部３３ｂの谷線が蛇行し、隣接する凹条部３３ｂの谷線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に谷線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の谷線が途中で枝分かれしたり、複数の谷線が途中で合一していてもよい。

また、波状凹凸パターン（１−ａ）では、各凸条部３３ａの縦断面形状（表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部の配列方向に沿って切断される切断面における形状。）は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。
また、各凸条部３３ａの上記縦断面形状は、それぞれが基端側から先端側に向かって細くなる先細り形状であるとともに、先端が丸みを帯びている。なお、波状凹凸パターン（１−ａ）は、各凸条部３３ａの上記縦断面形状において、先端側と基端側を結ぶ線は、滑らかであり、先端側から基端側に向けて連続的に下降している。また、各凸条部３３ａは、上述の縦断面形状およびその面積のうちの少なくとも一方が、当該凸条部３３ａの延在方向（筋状に延びている方向）に沿って変化しており、一定でない。
また、各凸条部３３ａにおいて、稜線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
また、各凹条部３３ｂにおいて、谷線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。

凸条部３２ａの平均ピッチおよびアスペクト比の好ましい範囲、求め方等は、第１実施形態例で説明したとおりである。

波状凹凸パターン（１−ａ）の凸条部３３ａの平均ピッチは、０．３〜２．０μｍであることが好ましく、０．４〜１．０μｍであることがより好ましく、０．５〜０．８μｍであることがさらに好ましい。平均ピッチが上記範囲内であると、光拡散性が損なわれない。
凸条部３３ａの平均ピッチは、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ａの平均ピッチと同様の方法で求めることができる。すなわち、隣り合う凸条部３３ａが２０本以上含まれる平面画像を得て、凸条部３３ａの２０本分について、凸条部３３ａの配列方向に沿う長さを５箇所測定し、測定値の平均値を２０で割ることにより求められる。
また、平均ピッチは、次の方法でも求められる。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等。）に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析によりピッチを求める。この方法は、最頻ピッチの求め方として、たとえば国際公開第２０１４／００２８５０号等に記載されており、これを参照できる。最頻ピッチと平均ピッチは、同等に扱うことができる。

波状凹凸パターン（１−ａ）の凸条部３３ａの平均ピッチに対する平均高さの比、すなわちアスペクト比（平均高さ／平均ピッチ）は、０．２５〜０．３５であることが好ましく、０．２８〜０．３３であることがさらに好ましい。アスペクト比が上記範囲内であると、光拡散性が損なわれない。

波状凹凸パターン（１−ａ）のアスペクト比Ａ_１は、凸条部３３ａの平均高さ／平均ピッチで求められる値であって、概略、第１実施形態例において説明した波状凹凸パターン（１Ａ）のアスペクト比と同様の方法で求められる。
すなわち、図１０において、波状凹凸パターン（１−ａ）の凸条部３３ａの高さは、両隣の２つの凹条部３３ｂの底部から、凸条部３３ａの頂部までの距離の和の１／２である。ここで、凹条部３３ｂの底から凸条部３３ａの頂部までの距離は、凸条部３２ａの頂部と、凹条部３２ｂを結ぶ線に平行であり、かつ、凸条部３３ａの頂部を通過する仮想線に対して垂直方向の距離である。すなわち、波状凹凸パターン（１−ａ）を形成する凸条部３３ａの高さは、凸条部３３ａに対して一方側の凹条部３３ｂの底部から計測した凸条部３３ａの高さをＬ_ｓ、他方側の凹条部３３ｂの底部から計測した高さをＲ_ｓとした際に、ｂ_ｓ＝（Ｌ_ｓ＋Ｒ_ｓ）／２となる。このようにして各凸条部３３ａの高さｂ_ｓを求める。そして、５０個の凸条部３３ａの高さＲ_Ｓを測定し、それらの高さを平均して平均高さを求める。

本実施形態例の表面微細凹凸シートにおいて、波状凹凸パターンの主拡散方向は、先に説明した方法により求めることができ、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部３２ａの配列方向にほぼ平行な図１０中Ａ方向である。
主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば１０°以上であることが好ましく、１５°以上であることがより好ましい。また、たとえば５０°以下であることが好ましく、４０°以下であることがより好ましい。
低拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さいことが望ましく、たとえば１０°以下であることが好ましい。

主拡散方向の拡散角度、低拡散方向の拡散角度は、波状凹凸パターン（１Ａ）および（１−ａ）それぞれの凸条部１１ｂ，３３ａの平均ピッチ、アスペクト比（平均高さ／平均ピッチ）等を調整すること等により制御できる。
第３実施形態例の表面微細凹凸シートの好ましい厚み等は、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと同程度である。

第３実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第１実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ａと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程（ａ１−１）では、硬質層を形成するために使用する硬質層形成用塗料として、硬質層を形成するための樹脂を２種類（以下、「樹脂Ｍ１」および「樹脂Ｎ１」という。）使用する。このように２種類の樹脂を使用することにより、波状凹凸パターン（１Ａ）および（１−ａ）から構成される波状凹凸パターン（１Ｂ）を形成できる。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン（１Ｂ）の形成には、国際公開第２０１４／００２８５０号等を参照できる。

加熱収縮性樹脂フィルムとしては、１軸延伸フィルムを用いる。その材質（樹脂Ｌ）、収縮率、樹脂Ｌのガラス転移温度、ヤング率等の好ましい態様および範囲は、第１実施形態例と同様である。

硬質層の形成に用いる樹脂Ｍ１および樹脂Ｎ１としては、各々、たとえば、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂などを使用することができる。

樹脂Ｍ１および樹脂Ｎ１は、波状凹凸パターン（１Ｂ）の形成しやすさの点から、ガラス転移温度が互いに異なることが好ましく、具体的には、樹脂Ｍ１のガラス転移温度Ｔｇ_２Ｍが樹脂Ｎ１のガラス転移温度Ｔｇ_２Ｎよりも高いことが好ましい。さらには、（樹脂Ｍ１のガラス転移温度Ｔｇ_２Ｍ）−（樹脂Ｎ１のガラス転移温度Ｔｇ_２Ｎ）が１０℃以上であることが好ましく、１２℃以上であることがより好ましい。
一方、Ｔｇ_２Ｍ−Ｔｇ_２Ｎが２０℃以下であることが好ましく、１８℃以下であることがより好ましい。すなわち、樹脂Ｍ１のガラス転移温度Ｔｇ_２Ｍと、樹脂Ｎ１のガラス転移温度Ｔｇ_２Ｎとの差は、１０〜２０℃であることが好ましい。より好ましくは、１２〜１８℃である。

波状凹凸パターン（１Ｂ）の形成しやすさの点から、樹脂Ｍ１のガラス転移温度Ｔｇ_２Ｍと樹脂Ｌ１のガラス転移温度Ｔｇ_１との差（Ｔｇ_２Ｍ−Ｔｇ_１）、樹脂Ｎ１のガラス転移温度Ｔｇ_２Ｎと樹脂Ｌ１のガラス転移温度Ｔｇ_１との差（Ｔｇ_２Ｎ−Ｔｇ_１）が共に１０℃以上であることが好ましく、１５℃以上であることがより好ましく、２０℃以上であることが特に好ましい。

樹脂Ｍ１および樹脂Ｎ１のガラス転移温度Ｔｇ_２Ｍ，Ｔｇ_２Ｎは共に４０〜４００℃の範囲内にあることが好ましく、８０〜２５０℃の範囲内にあることがより好ましい。Ｔｇ_２Ｍ，Ｔｇ_２Ｎが上記範囲内であれば、より容易に波状凹凸パターン（１Ｂ）を形成できる。

樹脂Ｍ１および樹脂Ｎ１のヤング率は、工程（ａ１−２）の温度、すなわち８０〜１８０℃において、０．０１〜３００ＧＰａの範囲内にあることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａの範囲内にあることがより好ましい。樹脂Ｍ１および樹脂Ｎ１のヤング率が上記範囲の下限値以上であれば、波状凹凸パターン（１Ｂ）の形状を維持するのに充分な硬さであり、ヤング率が上記範囲の上限値以下であれば、より容易に波状凹凸パターン（１Ｂ）を形成できる。

硬質層の厚さは、第１実施形態例と同じ範囲が好ましく、厚さが連続的に変化していても構わない点も同様である。
硬質層を設ける方法としては、硬質層形成用塗料として、樹脂Ｍ１および樹脂Ｎ１を含む塗料を使用する点以外は、第１実施形態例と同様である。

なお、上記製造方法において、波状凹凸パターン（１Ｂ）の特性（ピッチ、アスペクト比等。）は、たとえば樹脂Ｍ１と樹脂Ｎ１の配合比率、加熱収縮性樹脂フィルムの収縮率を調整することで制御できる（たとえば、国際公開第２０１４／００２８５０号等参照。）。

〔第４実施形態例〕
図８は、第４実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である。第４実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面に形成されている波状凹凸パターンは、第１実施形態例と同様に、先に説明した波状凹凸パターン（１）に該当する。
図９は、本実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン（１Ｃ）を示すものであって、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、波状凹凸パターン（１Ｃ）の凸条部の配列方向に沿って切断した縦断面図である。

第４実施形態例の表面微細凹凸シートにおける波状凹凸パターン（１Ｃ）は、上述のとおり、波状凹凸パターン（１）に該当するが、第１実施形態例の波状凹凸パターン（１Ａ）は、図４に示したように、凸条部の縦断面形状１１ａにおいて、先端側と基端側とを結ぶ線は、先端側から基端側に向けて滑らかに連続的に下降しているのに対して、本実施形態例の波状凹凸パターン（１Ｃ）は、図９に示すように、凸条部４２ａの縦断面形状において、先端側と基端側を結ぶ線の途中に、外方に突出する複数の凸部４３がランダムに形成されている点で、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと異なる。凸部４３は、凹条部４２ｂ上や凸条部４２ａの頂部上に形成されていてもよい。
その他の点は第１実施形態例と同様である。

波状凹凸パターン（１Ｃ）は、凸条部４２ａおよび凹条部４２ｂによる波状凹凸パターン（１Ａ）とその上にランダムに形成された多数の凸部４３とからなり、波状凹凸パターン（１Ａ）は、主拡散方向への拡散を主に担い、該波状凹凸パターン（１Ａ）上に形成された凸部４３は、該波状凹凸パターン（１Ａ）による光拡散性の異方性を適度に弱め、低拡散方向の拡散角度を増加させる作用を奏する。
主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば１０°以上であることが好ましく、１５°以上であることがより好ましい。また、たとえば５０°以下であることが好ましく、４０°以下であることがより好ましい。
低拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さいことが望ましく、たとえば１０°以下であることが好ましい。
なお、本実施形態例では、波状凹凸パターン（１Ａ）上に凸部４３が形成された態様が示されているが、凸部の代わりに凹部が形成されていてもよく、凹部も凸部と同じ作用を奏する。

凸条部４２ａの平均ピッチおよびアスペクト比の好ましい範囲、求め方等は、第１実施形態例で説明したとおりである。

波状凹凸パターン（１Ａ）上に形成された凸部４３の平均径は、１〜１０μｍが好ましく、３〜８μｍがより好ましく、４〜６μｍがさらに好ましい。
凸部の平均径Ｄは、図８のような平面画像において、２０個の凸部４３を任意に選択し、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部４２ａの配列方向に沿って、各凸部４３の径（凸条部４２ａの配列方向に沿う最大長さ）を測定した各値を平均することで求められる。
平均径Ｄは、次の方法で求めることもできる。
すなわち、光学顕微鏡または電子顕微鏡により波状凹凸パターン形成面の上面を撮影し、その画像をグレースケールのファイル（例えば、ｔｉｆｆ形式等。）に変換し、次いで、グレースケールのファイルの画像をフーリエ変換し、フーリエ変換画像の画像解析により求める。この方法は、最頻径の求め方として、たとえば特開２０１４−２０６７２８号公報（特許第５６６０２３５号公報）に記載されており、これを参照できる。平均径と最頻径は、同等に扱うことができる。

波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部４２ａの平均ピッチ、凸部４３の平均径をそれぞれ上記範囲内で調整することにより、主拡散方向および低拡散方向それぞれの拡散角度を適度に制御できる。

凸条部４２ａの平均高さは、３〜７μｍが好ましく、４〜６μｍがより好ましい。凸条部４２ａの平均高さが上記範囲であると、光拡散性が充分に得られる。

本実施形態例において、凸条部４２ａの平均高さは、以下のように測定、定義される。
まず、図９のような縦断面図を得て、凸部４３が存在していない部分の凸条部４２ａの断面図から、該凸条部４２ａの高さＨを求める。具体的には、凸条部４２ａの高さＨは、該凸条部４２ａの頂部Ｔと該凸条部４２ａの一方側に位置する凹条部４２ｂの底部Ｂ１１との垂直距離をＨ１とし、該凸条部４２ａの頂部Ｔと該凸条部４２ａの他方側に位置する凹条部４２ｂの底部Ｂ２１との垂直距離をＨ２とした場合に、Ｈ＝（Ｈ１＋Ｈ２）／２で求められる。
このような計測を凸部４３が存在していない凸条部４２ａの５０箇所に対して行い、５０のデータの平均値を「凸条部の平均高さ」と定義する。

一方、凸部４３の平均高さは、０．５〜３μｍが好ましく、より好ましくは１〜２μｍである。凸部４３の平均高さが上記範囲であると、波状凹凸パターンの光拡散性の異方性を適度に弱めることができ、主拡散方向および低拡散方向の両方の拡散角度を制御しやすい。

本実施形態例において、凸部４３の平均高さは、以下のように測定、定義される。
まず、図９のような断面図を得て、波状の凹凸パターン（１Ａ）に由来する形状と、凸部４３に由来する形状とに波形分離する。なお、波形分離は、波状凹凸パターン（１Ａ）に由来する形状をサインカーブとして行う。ついで、図９の断面図から、波状凹凸パターン（１Ａ）に由来する形状を差し引き、図１０に示すように、凸部４３に由来する形状のみの断面図を得る。そして、図１０の断面図において、凸部４３の高さＨ’を、Ｈ’＝（Ｈ１’＋Ｈ２’）／２として求める。Ｈ１’は、図１３の断面図において、凸部４３の頂部Ｔ’と該凸部４３の一方側のベースラインＬαとの垂直距離であり、Ｈ２’は、凸部４３の頂部Ｔ’と該凸部４３の他方側のベースラインＬβとの垂直距離である。
このような計測を５０個の凸部４３に対して行い、５０のデータの平均値を「凸部の平均高さ」と定義する。

波状凹凸パターン形成面における凸部４３の占有面積割合は、１０〜７０％が好ましく、より好ましくは２０〜６０％、さらに好ましくは３０〜５５％である。凸部４３の占有面積割合が上記範囲であると、波状凹凸パターン（１Ａ）の光拡散性の異方性を適度に弱めることができ、主拡散方向および低拡散方向の両方の拡散角度を上記範囲に制御しやすい。

波状凹凸パターン形成面における凸部４３の占有面積割合γ（％）は、以下のように測定、定義される。
まず、図８のような光学顕微鏡画像を得て、視野全体の面積Ｓ２（例えば縦０．４〜１．６ｍｍ、横０．５〜２ｍｍ）中に認められる凸部４３の個数ｎを数え、視野全体において、ｎ個の凸部４３によって占有されている面積Ｓ１＝ｎｒ^２πを求める。占有面積割合γ（％）は以下の式により求められる。
γ（％）＝Ｓ１×１００／Ｓ２（ただし、式中のｒは、凸部の平均径の１／２（すなわち半径）である。）

本実施形態例の表面微細凹凸シートにおいて、波状凹凸パターンの主拡散方向は、先に説明した方法により求めることができ、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部４２ａの配列方向にほぼ平行な図９中Ａ方向である。一方、主拡散方向に対して垂直な方向は、拡散角度の低い「低拡散方向」である。

主拡散方向の拡散角度、低拡散方向の拡散角度は、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部４２ａの平均ピッチ、平均高さ、凸部４３の平均径、平均高さ、占有面積等を調整すること等により制御できる。
第４実施形態例の表面微細凹凸シートの好ましい厚み等は、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと同程度である。

第４実施形態例の表面微細凹凸シートは、概略、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程（ａ１−１）において、硬質層を形成するために使用する硬質層形成用塗料として、硬質層を形成するための樹脂Ｍとともに粒子を含有する塗料を用いる点で異なる。粒子を用いることにより、凸部４３を有する波状凹凸パターン（１Ａ）を形成できる。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン（１Ｃ）の形成には、特開２０１４−２０６７２８号公報（特許第５６６０２３５号公報）を参照できる。

加熱収縮性樹脂フィルムとしては、１軸延伸フィルムを用いる。その材質（樹脂Ｌ）、収縮率、樹脂Ｌのガラス転移温度、ヤング率等の好ましい態様および範囲は、第１実施形態例と同様である。
硬質層やその材質（樹脂Ｍ）、樹脂Ｍのガラス転移温度およびヤング率等も、第１実施形態例と同様である。

粒子を構成する材料には、樹脂Ｌのガラス転移温度Ｔｇ_１より１０℃高い温度未満では、熱により粒子形状が変化しない材料の１種以上を用いることができる。
例えば、粒子を構成する材料が、ガラス転移温度を有する樹脂およびガラス転移温度を有する無機材料からなる群から選ばれる１種以上である場合、そのガラス転移温度Ｔｇ_３が、樹脂Ｍのガラス転移温度Ｔｇ_２Ｍと同様の条件を満たすこと、すなわち、（Ｔｇ_３−Ｔｇ_１）が１０℃以上となるように選択されることが必要であり、（Ｔｇ_３−Ｔｇ_１）が２０℃以上がより好ましく、３０℃以上が更に好ましい。（Ｔｇ_３−Ｔｇ１）が１０℃以上であると、上述の加工温度において、粒子が変形した溶融したりしない。

粒子を構成する材料が、ガラス転移温度を有さない材料、例えば内部架橋型樹脂などである場合には、そのビカット軟化温度（ＪＩＳ Ｋ７２０６に規定）が、上述の条件を満たすこと、すなわち、樹脂Ｌのガラス転移温度より１０℃以上高いことが好ましく、２０℃以上高いことが好ましく、３０℃以上高いことがより好ましい。

本明細書において、ガラス転移温度Ｔｇ_３についての好ましい温度範囲などの記載は、粒子がガラス転移温度を有さず、ビカット軟化温度を有する材料からなる場合、そのビカット軟化温度にも該当するものとする。
さらに、粒子を構成する材料としては、ガラス転移温度、ビカット軟化温度が測定できないものであっても、加熱収縮性樹脂フィルムを構成する樹脂Ｌのガラス転移温度Ｔｇ_１より１０℃高い温度未満において、熱により粒子形状が変化しない材料であれば、使用可能である。

Ｔｇ_３は、４０〜４００℃であることが好ましく、８０〜２５０℃であることがより好ましい。Ｔｇ_３が４０℃以上であれば、工程（ａ１−２）の温度を室温またはそれ以上にすることができて有用であり、Ｔｇ_３が４００℃を超えるような粒子を使用することは、経済性の面から必要性に乏しい。

粒子を構成する樹脂としては、そのガラス転移温度Ｔｇ_３（またはビカット軟化点。）が上述の条件を満たすように、加熱収縮性樹脂フィルムの種類等に応じて選択され、例えば、アクリル系熱可塑性樹脂粒子、ポリスチレン系熱可塑性樹脂粒子、アクリル系架橋型樹脂粒子、ポリスチレン系架橋型樹脂粒子などが挙げられる。また、無機材料としては、ガラスビーズなどが挙げられる。
粒子の粒径ｄは、形成される硬質層の厚みｔより大きいことが必要であり、硬質層の厚みｔに応じて設定される。また、凸部４３の平均径が、上述の好適な範囲となるように、適宜設定される。好ましい粒径ｄは、例えば、５〜１０μｍで、より好ましくは５〜８μｍである。

工程（ａ１−１）においては、硬質層形成用塗料として、樹脂Ｍおよび粒子を含む塗料を使用し、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、厚みｔ’が０．０５μｍを超え、１０μｍ以下である硬質層を形成する。この時点での硬質層は、折り畳むように変形していない。すなわち、厚みｔ’は変形前の硬質層の厚さである。
硬質層は、このように硬質層形成用塗料を加熱収縮性樹脂フィルムに直接塗工して設ける代わりに、あらかじめ作製した硬質層（樹脂Ｍ中に粒子が分散してなるフィルム）を加熱収縮性フィルムに積層する方法で設けてもよい。

樹脂Ｍおよび粒子を構成する樹脂としては、それぞれすでに例示したものを使用できるが、樹脂Ｍのガラス転移温度Ｔｇ_２Ｍと、粒子のガラス転移温度Ｔｇ_３とが、樹脂Ｌのガラス転移温度Ｔｇ_１よりも１０℃以上高くなるように各材質を選択し、組み合わせることが重要である。このようにそれぞれの材質を選択したうえで、厚みｔ’が０．０５μｍを超え１０μｍ以下である硬質層を加熱収縮性樹脂フィルムの片面に設けると、次の工程（ａ１−２）を経ることにより、凸条部４２ａの平均ピッチ、平均高さが上記範囲の波状凹凸パターン（１Ｃ）が形成されやすい。

本実施形態例において、硬質層形成用塗料中の樹脂Ｍの好ましい固形分濃度の範囲は、第１実施形態例と同様である。粒子の量は、樹脂Ｍの正味量１００質量部に対して、１０〜５０質量部であることが好ましく、２０〜３０質量部であることがより好ましい。このような範囲であると、形成される凸部４３の占有面積割合を上述の好適な範囲内に制御することができる。

なお、塗工する硬質層の厚みｔ’は、０．０５μｍを超え１０μｍ以下の範囲内であれば、連続的に変化していても構わない。その場合、変形工程により形成される凸条部４２ａのピッチおよび深さが連続的に変化するようになる。硬質層の厚みｔ’は、次の工程（ａ１−２）を経てもほとんど変化せす、ｔ’＝ｔと考えることができる。
硬質層の厚さが薄いほど、また、硬質層のヤング率が低いほど、波状凹凸パターン（１Ａ）の平均ピッチが小さくなり、また、加熱収縮性樹脂フィルムの収縮率が高いほど、凸条部４２ａの高さが大きくなる。したがって、これらの条件を調整すれば、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部４２ａのピッチおよび高さを所望の値に制御できる。

工程（ａ１−１）以外は、第１実施形態例と同様に行う。

〔第５実施形態例〕
図１１は、第５実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面の光学顕微鏡画像である。第５実施形態例の表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面に形成されている波状凹凸パターンは、第１実施形態例と同様に、先に説明した波状凹凸パターン（１）に該当する。

第５実施形態例の表面微細凹凸シートにおける波状凹凸パターン（１Ｄ）は、上述の波状凹凸パターン（１Ａ）に加えて、別の波状凹凸パターン（１−ｂ）を有する。
図１２（ａ）は、第５実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ｄについて、法線方向から観察した様子を示す模式的な平面図、図１５（ｂ）は、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、後述の波状凹凸パターン（１−ｂ）の凸条部１１ｃの配列方向に平行な側面を示す側面図、図１２（ｃ）は、表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ｄの配列方向に平行な側面の側面図である。
波状凹凸パターン（１Ａ）における凸条部１１ｄの配列方向と、波状凹凸パターン（１−ｂ）における凸条部１１ｃの配列方向とは、ほぼ直交し、これらの配列方向のなす角度は、波状凹凸パターンを平面視した場合において９０±１０°の範囲内である。

その他の点は第１実施形態例と同様である。

波状凹凸パターン（１Ｄ）は、凸条部１１ｄと凸条部１１ｃとが互いにほぼ直交（±１０°の範囲内）しているパターン、すなわち、波状凹凸パターン（１Ａ）と波状凹凸パターン（１−ｂ）とが重畳したパターンであるため、光拡散性の異方性が弱められており、波状凹凸パターンの主拡散方向と低拡散方向とにおける拡散角度の差は小さい傾向にある。

波状凹凸パターン（１−ｂ）は、波状凹凸パターン（１Ａ）と同様に、以下の特徴を有する。
（ａ’）各凸条部１１ｃが蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凸条部１１ｃの稜線が蛇行し、隣接する凸条部１１ｃの稜線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に稜線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の稜線が途中で枝分かれしたり、複数の稜線が途中で合一していてもよい。
（ｂ’）各凹条部１１ｅが蛇行しており、かつ、互いに非平行である。すなわち、各凹条部１１ｅの谷線が蛇行し、隣接する凹条部１１ｅの谷線の間隔が一定ではなく、連続的に変化している。ただし、部分的に谷線の間隔が一定である部分を含んでいてもよい。また、１本の谷線が途中で枝分かれしたり、複数の谷線が途中で合一していてもよい。

また、波状凹凸パターン（１−ｂ）において、各凸条部１１ｃの縦断面形状（表面微細凹凸シートの法線方向に平行で、かつ、凸条部１１ｃの配列方向に沿って切断される切断面における形状。）は、互いに異なっており一律ではなく、不規則である。
また、各凸条部１１ｃの上記縦断面形状は、それぞれが基端側から先端側に向かって細くなる先細り形状であるとともに、先端が丸みを帯びている。なお、波状凹凸パターン（１−ｂ）は、各凸条部１１ｃの上記縦断面形状において、先端側と基端側を結ぶ線は、滑らかであり、先端側から基端側に向けて連続的に下降している。また、各凸条部１１ｃは、上述の縦断面形状およびその面積のうちの少なくとも一方が、当該凸条部１１ｃの延在方向（筋状に延びている方向）に沿って変化しており、一定でない。
また、各凸条部１１ｃにおいて、稜線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。
また、各凹条部１１ｅにおいて、谷線の高さが一定しておらず、連続的に変化する高低差を有している。ただし、部分的に高低差のない部分を含んでいてもよい。

波状凹凸パターン（１Ｄ）を構成している波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ｄの平均ピッチおよびアスペクト比の求め方等は、第１実施形態例で説明したとおりであり、波状凹凸パターン（１−ｂ）の凸条部１１ｃについても同様である。波状凹凸パターン（１Ａ）および（１−ｂ）の平均ピッチおよびアスペクト比は、適宜調整できるが、波状凹凸パターン（１Ａ）よりも波状凹凸パターン（１−ｂ）の方が、小さいことが好ましい。

たとえば本実施形態例においては、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ｄの平均ピッチは、５〜５０μｍであることが好ましく、１０〜４０μｍであることがより好ましく、１５〜３０μｍであることがさらに好ましい。平均ピッチが上記範囲の下限以上であると、表面微細凹凸シートを容易に製造できる。平均ピッチが上記範囲の上限値以下であると、表面微細凹凸シートを照明装置に使用した場合に、波状凹凸パターン（１Ａ）が好ましくない輝線として視認されにくい。
一方、波状凹凸パターン（１−ｂ）の凸条部１１ｃの平均ピッチは、１〜２５μｍであることが好ましく、３〜２０μｍであることがより好ましく、５〜１５μｍであることがさらに好ましい。平均ピッチが上記範囲内であると、表面微細凹凸シート１０Ｄを容易に製造できる。

波状凹凸パターン（１Ａ）および（１−ｂ）の各凸条部１１ｃ，１１ｄのアスペクト比は、それぞれ、０．１〜１．０であることが好ましく、０．２〜０．８であることがより好ましく、０．３〜０．６であることがさらに好ましい。
波状凹凸パターン（１Ａ）のアスペクト比が、上記範囲の下限値以上であると、波状凹凸パターン（１Ａ）により視野角確保効果、輝度ムラ解消効果が充分に得られ、上記範囲の上限値以下であると、波状凹凸パターン（１Ａ）を容易に形成できる。波状凹凸パターン（１−ｂ）のアスペクト比が上記範囲内であると、光拡散性が損なわれない。

本実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ｄにおいて、波状凹凸パターンの主拡散方向は、先に説明した方法により求めることができる。
主拡散方向の拡散角度は、適宜調整できるが、たとえば１０°以上であることが好ましく、たとえば１５°以上であることがより好ましい。また、たとえば４０°以下であることが好ましく、たとえば３０°以下であることがより好ましい。
一方、主拡散方向に対して垂直な方向は、拡散角度の低い「低拡散方向」である。
低拡散方向における光の拡散角度は、適宜調整できるが、主拡散方向の拡散角度よりも小さく、かつ、たとえば２°以上であることが好ましい。また、１５°以下であることが好ましい。

主拡散方向の拡散角度、低拡散方向の拡散角度は、波状凹凸パターン（１Ａ）および（１−ｂ）それぞれの凸条部１１ｃ，１１ｄの平均ピッチ、アスペクト比（平均高さ／平均ピッチ）等を調整すること等により制御できる。
第５実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ｄの好ましい厚み等は、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと同程度である。

第５実施形態例の表面微細凹凸シート１０Ｄは、概略、第１実施形態例の表面微細凹凸シートと同様の製造方法で製造できる。
ただし、上述の工程（ａ１）のうちの工程（ａ１−１）のみ異なる。
すなわち、第１実施形態例の工程（ａ１−１）では、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、表面が平滑な硬質層を積層させるが、本実施形態例の製造方法における工程（ａ１−１）では、加熱収縮性樹脂フィルムの片面に、表面に波状凹凸パターン（１−ｂ）が形成された硬質層を形成する。硬質層の形成には、未硬化の透明な電離放射線硬化性樹脂を用いる。
また、本実施形態例の波状凹凸パターン（１Ｄ）の形成には、特開２０１２−２５２１４９号公報（特許第５６３７０７４号公報）等を参照できる。

以下に本実施形態例における工程（ａ１−１）を説明する。
加熱収縮性樹脂フィルムとしては、１軸延伸フィルムを用いる。その材質（樹脂Ｌ）、収縮率、樹脂Ｌのガラス転移温度、ヤング率等の好ましい態様および範囲は、第１実施形態例と同様である。加熱収縮性樹脂フィルムとしては、透光性（透明）のものを用いる。
ついで、ダイコーター、ロールコーター、バーコーター等のコーターで、未硬化の電離放射線硬化性樹脂のうちの１種以上を加熱収縮性樹脂フィルムの片面に塗工し、塗工層を形成する。そして、表面に波状凹凸パターン（１−ｂ）の転写形状を有するスタンパを用意し、該スタンパを塗工層に押し当て、その状態のまま、加熱収縮性樹脂フィルム側から電離放射線を照射し、電離放射線硬化性樹脂を硬化させ、硬化層を形成する。その後、スタンパを剥離する。
この際、スタンパにおける凸条部の延在方向と、加熱収縮性樹脂フィルムの加熱収縮の方向とが一致するように、スタンパを押し当てる。
これにより、加熱収縮性フィルムの片面に、波状凹凸パターン（１−ｂ）が形成された硬質層を有する積層フィルムが得られる。

未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、第１実施形態例の製造方法（Ｂ）で例示したものを好適に使用できるが、なかでも、硬化後のガラス転移温度が、加熱収縮性樹脂フィルムを構成している樹脂Ｌよりも１０℃以上高く、また、ヤング率が０．０１〜３００ＧＰａ、好ましくは０．１〜１０ＧＰａの樹脂が好適である。
硬質層の厚さは、０．５μｍを超え、２０μｍ以下とすることが好ましく、１〜１０μｍがより好ましい。
ガラス転移温度およびヤング率が上記の条件を満たし、かつ、硬質層の厚さが上記範囲内であれば、本実施形態例における波状凹凸パターン（１Ａ）の平均ピッチを上記範囲内に調整しやすい。硬質層の厚さが上記範囲の下限値未満であると、波状凹凸パターン（１Ａ）の平均ピッチが小さくなり過ぎる傾向にあり、上記範囲の上限値を超えると、加熱収縮性樹脂フィルムの収縮が阻害され、波状凹凸パターン（１Ａ）が良好に形成されない傾向にある。

なお、電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性である場合には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。

また、電離放射線硬化性樹脂の代わりに、例えば、未硬化のメラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂や、アクリル樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル等の熱可塑性樹脂を用いて転写を行ってもよく、転写できる限り、その具体的方法、転写する材料に制限はない。
熱硬化性樹脂を用いる場合には、例えば液状の未硬化の熱硬化性樹脂を塗布し、加熱により硬化させる方法が挙げられ、熱可塑性樹脂を用いる場合には、熱可塑性樹脂のシートを用い、転写対象の面に押し当てながら加熱して軟化させた後、冷却する方法が挙げられる。

工程（ａ１−１）の後、第１実施形態例と同様にして工程（ａ１−２）を行い、加熱収縮性フィルムを収縮させることにより、表面に、波状凹凸パターン（１Ｄ）が形成された凹凸パターン形成シートを得る。

ついで、第１実施形態例と同様にして工程（ａ１−３）を行い、波状凹凸パターン（１Ｄ）の転写形状が転写された原版（Ｗ）を得る。

硬質層の厚さが薄いほど、また、硬質層のヤング率が低いほど、波状凹凸パターン（１Ａ）の平均ピッチが小さくなり、また、加熱収縮性樹脂フィルムの収縮率が高いほど、凸条部１１ｄの高さが大きくなる。したがって、これらの条件を調整すれば、波状凹凸パターン（１Ａ）の凸条部１１ｄのピッチおよび高さを所望の値に制御できる。

なお、表面に波状凹凸パターン（１−ｂ）の転写形状を有するスタンパは、第１実施形態例における工程（ａ１）と同様の手法で製造できる。また、たとえば特開２０１２−２５２１４９号公報（特許第５６３７０７４号公報）を参照できる。

＜作用効果＞

以上、各実施形態例を示して説明した本発明の表面微細凹凸シートは、反射型ディスプレイ用の拡散シートとして好適に使用できる。
図１３および１４は一般的な反射型ディスプレイの構成を示す側面図である。反射型ディスプレイは画面観察側から順に拡散シート１００、表示パネル１０１、反射板１０２と配置されるような図１３のタイプと、画面観察側から順に表示パネル１０１、拡散シート１００、反射板１０２と配置されるような図１４のタイプがある。
いずれのタイプも画面観察側から見た場合の拡散シートと反射板の順序は変わらないことから、以下の方法により、本発明の表面微細凹凸シートの反射型ディスプレイ用拡散シートとしての評価が可能である。
図１５は、反射型ディスプレイ用拡散シートの評価ユニット６０の側面図である。
図１５に示すように、反射光正面照度を以下のように測定する。鏡面反射板２００に接するように表面微細凹凸シート１００が配置され、前記表面微細凹凸シートの鏡面反射板と接する面と反対側の面に測定用の光が光源３０１から入射される。入射光の角度を、Ｙ軸およびＺ軸を含む面内で変化させ、それぞれの入射角での表面微細凹凸シートの法線方向における反射光の照度すなわち反射光正面照度を検出器３０２にて測定する。
ここで、Ｙ軸方向およびＺ軸方向はそれぞれ、表面微細凹凸シートの主拡散方向および法線方向である。

図１６は、上記反射型ディスプレイ用拡散シートの評価ユニット６０を用いて、本発明の表面微細凹凸シートの入射角と反射光正面照度比の関係をプロットしたグラフである。
ここで、反射光正面照度比は以下Ａ〜Ｆの手順にて測定する。
Ａ．図１５に示す評価ユニットの検出器３０２を図１５の通りに配置する。
Ｂ．測定用の光源３０１を表面微細凹凸シート１００の法線方向上で検出器３０２の配置している側と鏡面反射板２００に対して反対側に配置する。
Ｃ．この時、「表面微細凹凸シート１００と鏡面反射板２００の界面」から測定用の光源３０１までの距離を、図１５における測定用の光源３０１からの光の入射角を変化させる際の「表面微細凹凸シート１００と鏡面反射板２００の界面」から測定用の光源３０１までの距離と等しくなるように配置する。
Ｄ．表面微細凹凸シート１００と鏡面反射板２００を取り除く。
Ｅ．測定用の光を光源３０１から直接検出器３０２へ入射させ、測定した時の照度を１００％とする。
Ｆ．先に説明したように測定した反射光正面照度と上記Ｅで得られた照度に対する比率（％）を反射光正面照度比とする。
なお、本評価ユニット６０で反射光正面照度比測定に使用する鏡面反射板は、入射角５０°における正反射光の反射率が５６％である。なお、鏡面反射板は一般的には透明基材の表面にアルミニウム蒸着などの蒸着膜を形成することによって作成される。表面微細凹凸シートはこの蒸着膜の形成された面側に配置されることが好ましい。また、鏡面反射板の代わりに拡散反射板を使用することも可能である。
また、比較例として、図１７には一般的な等方性拡散シートについて、図１８には一般的なプリズムシートについて同様の測定を行った結果を示す。
ここで、一般的な等方性拡散シートとは、例えば樹脂基材表面に拡散粒子を塗工したシートであり、前記等方性拡散シート面内における拡散性はいずれの方向でも等しいようなシートであり、一般的なプリズムシートとは、例えば住友スリーエム社のＢＥＦに代表されるような、断面が頂角９０°の二等辺三角形となる単位プリズム構造が一方向に延在し、また、前記単位プリズム構造が前記一方向と直交する方向に配列するようなシートのことである。また、一般的なプリズムシートの用いて上記反射型ディスプレイ用拡散シートの評価ユニット６０を用いた評価を行う場合、Ｙ軸方向は前記単位プリズム構造の配列方向である。

図１６〜１８を比較検討すると、本発明の表面微細凹凸シートを使用した場合、入射角が大きくなっても反射光正面照度比が高いことがわかる。反射型ディスプレイは様々な角度から入射した外光を正面方向に反射させる効果が大きいほど正面での表示を明るくでき、好ましいことから、本発明の表面微細凹凸シートが反射型ディスプレイ用の拡散シートとして優れた特徴を有することがわかる。

また、ウェラブルデバイスや電子書籍などの反射型ディスプレイで、外部照明を光源として使用する場合等、斜め３０〜４０°から入射させた照明光の反射拡散光を利用することが多いため、入射角が４０°の時の反射光正面照度比_４０°を各種拡散シートを使用して評価するパラメータとして使用することを検討した。その結果、前記反射光正面照度比_４０°が２％以上であれば、反射型ディスプレイ用拡散シートとして用いた場合、正面の明るさが十分になることがわかった。
ここで、上記測定には、ゴニオメータ（たとえば、型式：ＧＥＮＥＳＩＡ Ｇｏｎｉｏ／ＦＦＰ、ジェネシア社製）が使用できる。
本発明の表面微細凹凸シートを反射型ディスプレイ用拡散シートとして用いた場合、正面への反射光が大きくなる理由として、以下(1)〜(3)の理由等を考察した。
(1)入射光がＹ軸（表面微細凹凸シートの主拡散方向）とＺ軸（表面微細凹凸シートの法線方向）を含む面内の斜め（入射角）３０〜４０°から表面微細凹凸シートに入射する場合、主拡散方向の拡散効果により、正反射方向（３０〜４０°）以外の方向（正面方向も含まれる）にもある程度の量の光が出射される。
(2)主拡散方向と直交する低拡散方向の拡散性を抑えることで、不要な照度ダウンを抑制できる。
(3)表面の微細凹凸により光を拡散させることで、表面微細凹凸によるシート法線方向への光の立ち上げ効果（集光効果）がある。
また、表面微細凹凸シートの波状凹凸パターン形成面は鏡面反射板側であっても、鏡面反射板側と反対側であってもよいが、集光効果が得られやすいという観点から、鏡面反射板側と反対側にある場合の方が望ましい。

上記の考察より、主拡散方向の拡散角度と低拡散方向の拡散角度の差と反射光正面照度比に正の相関関係があると推定した。図１９に示すように拡散角度の差（「拡散角度_主―拡散角度_低」）と反射光正面照度比_４０°との関係をプロットした。図から推定どおり正の相関関係があることが判る。図１９から反射光正面照度比_４０°を好ましくは２％以上とする上で、「拡散角度_主―拡散角度_低」を２０°以上とすることが望ましいということが明らかとなった。
特に図１９中で、反射光正面照度比_４０°がより好ましくは３％以上となるようなサンプルは拡散角度_主―拡散角度_低が３０°程度以上の値を示す。このようなより好ましいサンプルが得られやすいのは、先に説明した第１実施形態に属するものである。本発明者らの知見によれば、このように反射光正面照度比_４０°がより得られやすいのは実施形態として第１→第３→第４→第２→第５の順であった。なお、この順は大体の傾向としての順であり、個別の実施例では異なることもある。これは、反射光正面照度比４０°は表面微細凹凸シートの表面に形成される波状凹凸パターンの集光効果が高いほうが大きくなる傾向があり、波状凹凸パターンの集光効果は、波状凹凸パターン同士の延在方向が平行であるほど高くなる傾向があることから、上記の順で波状凹凸パターン同士の配向の延在方向からのずれが大きくなり、集光効果が小さくなるため、と推定している。なお、完全な平行状態は虹ムラ等の要因となるため好ましくない。

以下、本発明について、実施例を例示して具体的に説明する。

（実施例１）
［波状凹凸パターンのニッケル２次原版］
下記塗工液（１）をポリエチレンテレフタレート一軸方向加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製「ＬＸ-１８Ｓ」、厚さ：４０μｍ、ガラス転移温度Ｔｇ_１＝７５℃）の片面に、塗工乾燥後の硬質層の厚みｔ’が２μｍになるようにバーコーター （メイヤーバー♯１８）により塗工し、積層シートを得た。

塗工液（１）：
アクリル樹脂Ａ（ガラス転移温度Ｔｇ_２Ｍ＝１１０℃）をトルエンに加え、固形分濃度７質量％の塗工液（１）を得た。なお、上記アクリル樹脂Ａは固形分濃度２０質量％であるが、本例での質量比および濃度は、正味量（固形分量）で計算した値である。以下の例についても、正味量で計算している。

次いで、該積層シートを熱風式オーブンを用いて１１０℃で１分間加熱することにより、ポリエチレンテレフタレート一軸方向加熱収縮性フィルムを、加熱前の長さの４０％に熱収縮させ（変形率として６０％）、硬質層を折り畳むように変形させた。これにより、波状の凹凸パターンが層の表面に形成された波状凹凸パターンシート（原版）を得た。
形成された波状凹凸パターンの凸条部は、それぞれが略平行であるが蛇行して、不規則に形成されていた。
また、フーリエ変換画像の画像解析により求めた凸条部の平均ピッチは、１７μｍであり、平均高さは９μｍであった。
次いで、得られた波状凹凸パターンシート（原版）の表面に、ニッケル電気鋳造法にて、ニッケルを５００μｍの厚さになるように堆積させた。ついで、堆積させたニッケルを波状凹凸パターンシート（原版）から剥離し、表面に波状凹凸パターンシートの波状凹凸の反転パターンが転写されたニッケル２次原版を得た。

［表面微細凹凸シート］
ついで、透明ＰＥＴ基材（東洋紡株式会社製「Ａ４３００」、厚さ：１８８μｍ）の片面に未硬化の紫外線硬化性樹脂Ｂ（ソニーケミカル社製）を厚さ２０μｍとなるように塗布し、塗布された紫外線硬化性樹脂Ｂに対して、ニッケル２次原版の上記反転パターンを有する面を押し当て、紫外線を照射して硬化させ、硬化後、ニッケル２次原版を剥離して、透明ＰＥＴ基材上に、紫外線硬化性樹脂の硬化物からなる表面層が形成され、該表面層の表面に、上記の波状凹凸パターンシート（原版）と同じ微細凹凸が形成された表面微細凹凸シートを得た。

（実施例２）
［表面微細凹凸シート］
波状凹凸パターンシート（原版）の代わりにルミニット社製ＬＳＤ（タイプＡ）を原版として使用する以外は実施例１と同様にして、表面微細凹凸シートを得た。

（比較例１）
［表面微細凹凸シート］
波状凹凸パターンシート（原版）の代わりにルミニット社製ＬＳＤ（タイプＢ）をを原版として使用する以外は実施例１と同様にして、表面微細凹凸シートを得た。

（比較例２）
［表面微細凹凸シート］
波状凹凸パターンシート（原版）の代わりに住友スリーエム社製ＢＥＦを原版として使用する以外は実施例１と同様にして、表面微細凹凸シートを得た。

（比較例３）
［表面微細凹凸シート］
表面微細凹凸シートとして市販の等方性拡散シートを使用した。

（評価）
上記の各例で得られた表面微細凹凸シートの主拡散方向および低拡散方向の拡散角度、ならびに「拡散角度_主―拡散角度_低」を表１に示す。
また、図１８に記載の評価ユニット７０を用いて測定した入射角４０°における反射光正面照度比_４０°を表１に示す。

上記の各例で得られた表面微細凹凸シートを、図２０に示す評価ユニット７０に組み込み、以下のように評価を行った。
２００ｍｍ×１００ｍｍの鏡面反射板２００上に同サイズの表面微細凹凸シート１００が、凹凸パターンが形成された面が鏡面反射板側と反対側の面になるように配置され、さらに表面微細凹凸シート１００の鏡面反射板側と反対側に、黒文字が印刷された透明シート５００（サイズは鏡面反射板および表面微細凹凸シートと同一）が配置された積層体に、Ｙ軸およびＺ軸を含む面内の斜め４０°の方向から照明光４０１を照射する。照明光の強度は、透明シート表面に相当する位置での反射光を含まない状態での面内平均照度が１００Ｌｘとなるように調節した。透明シート５００上の高さ３００ｍｍの位置４０２にて、目視にて、２００ｍｍ×１００のエリア全体の文字部と非文字部とのコントラストを評価した。その評価結果を表１に示す。
ここでＹ軸は表面微細凹凸シートの主拡散方向またはプリズム配列方向であり、表面微細凹凸シートの長手方向と平行であり、Ｚ軸は表面微細凹凸シートの法線方向である。また、評価ユニット７０による評価基準は下記とした。
文字が明瞭に認識できるほどの明るさが得られている場合：○
明るさが不十分で文字の認識が困難な場合：×

表１

実施例１および２の表面微細凹凸シートは「拡散角度_主―拡散角度_低」が２０°以上であり、反射光正面照度比_４０°が２％以上となるため、反射型ディスプレイ用拡散シートとして使用した場合、十分な明るさが得られるが、比較例１〜３の表面微細凹凸シートは反射光正面照度比_４０°が２％より小さいため、ディスプレイ用拡散シートとして使用した場合、十分な明るさが得られない。

１０Ａ、１０Ｄ、１００：表面微細凹凸シート
１１：波状凹凸パターン形成面
１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、３２ａ、３３ａ、４２ａ：凸条部
１１ｅ、３２ｂ、３３ｂ、４２ｂ：凹条部
４３：凸部
６０、７０：評価ユニット
１０１：表示パネル
１０２：反射板
２００：鏡面反射板
３０１：測定用の光
３０２：検出器
４０１：照明光
４０２：目視観察位置
５００：黒文字が印刷された透明シート

Claims (3)

1. 少なくとも反射板、一方の表面の少なくとも一部に不規則な波状凹凸パターンを有する表面微細凹凸シート、をその順で配置して備える多層体であって、該多層体の該表面微細凹凸シート側からの入射角４０°での入射光の反射光正面照度比が２％以上であることを特徴とする多層体。
2. 拡散角度_主―拡散角度_低が２０°以上であることを特徴とする一方の表面の少なくとも一部に不規則な波状凹凸パターンを有する表面微細凹凸シート。
   「拡散角度_主―拡散角度_低」の定義：主拡散方向の拡散角度−低拡散方向の拡散角度
3. 反射型ディスプレイ用の拡散シートとして使用される請求項２に記載の表面微細凹凸シート。