CN105020423B - 闸阀 - Google Patents
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Abstract
一种闸阀(10),在组成闸阀(10)的阀箱(16)中,平衡室(32)配置在面对处理室(S1)的一侧壁(16a)上。在平衡室(32)中,第一密封构件(34)配置成包围第一通道(12),并且第二密封构件(36)安装在平衡室(32)的外边缘上。进一步,平衡端口(38)形成在平衡室(32)中。平衡端口(38))与形成在阀箱(16)的内部的容纳室(28)连通。在阀盘(24)座设在阀箱(16)的阀座(30)的阀闭合状态下,在容纳室(28)内侧的压力和在平衡室(32)内侧的压力通过平衡端口(38)相等或者一致。
Description
技术领域
本发明涉及一种闸阀,该闸阀安装在半导体处理设备中的真空室中,并且设置用于打开/闭合与真空室连通的开口。
背景技术
迄今为止,在用于半导体晶片或者液晶基板等等的处理设备中,执行半导体晶片或者液晶基板等等通过通道进入或离开各个处理室的操作。在各个通道中,闸阀被用于执行打开和闭合通道的操作。
例如,如在日本专利申请公报No.11-351419中公开的,这种闸阀设置成通过阀杆的线性移动在阀箱中,使得阀盘处在与阀座面对的位置,阀杆在缸的驱动作用下位移。此后,通过使阀盘水平地移动从而阀盘的密封构件挤压阀座,形成在阀箱中的通道闭合。
发明内容
在上述闸阀中,已知这种情况:例如,在阀盘座设在阀座上的阀闭合状态下,连接到阀箱的一端侧的一个处理室保持在大气压,然而连接到阀箱的另一端侧的另一个处理室保持在真空。在这种情况下,由于一个处理室和阀箱的内部由阀盘分开,然而另一个处理室和阀箱的内部连通并且保持在真空压力,由于产生在阀箱的内侧和阀箱的外侧的压力差,阀箱的壁被向内挤压并且趋于经受变形。
特别地,如果设置用于座设阀盘的壁部经受变形,阀盘上的密封构件的密封性能将劣化。因此,为了抑制由于压力差的阀箱的变形,尽管可以考虑事先使得阀箱的壁形成具有某个厚度。在这种情况下,然而,阀箱的重量增加,并且也不利地增加了整个闸阀的总重量。
本发明的主要目的是提供一种闸阀,该闸阀能够防止阀箱的变形同时避免重量增加,并且当闸阀闭合时,能够可靠地和稳定地执行密封。
本发明的特征是,闸阀配备有:阀箱;阀盘,该阀盘被构造成座设在形成在阀箱中的阀座上;阀杆,该阀杆连接到阀盘并且被构造成使得阀盘进行线性移动以及接近和远离阀座的移动;和驱动单元,该驱动单元配置在外壳的内部,阀箱连接到外壳,驱动单元使阀杆沿着轴线方向线性地位移。
在闸阀中,阀箱包括:
容纳室,阀盘被容纳在该容纳室中;
壁部,该壁部构成容纳室的一部分并且具有阀座,阀盘座设在阀座上;
通道,该通道形成在壁部中并且提供容纳室和邻近于阀箱的处理室之间的连通;
平衡室,该平衡室以面对处理室的关系形成在壁部中;和
连通端口,该连通端口提供平衡室和容纳室之间的连通,并且配置成在平衡室的内部不与通道连通。
根据本发明,在组成闸阀的阀箱中,设置一些元件,诸如,容纳室,阀盘被容纳在容纳室中;壁部,该壁部具有阀座,阀盘座设在阀座上;通道,该通道形成在壁部中并且提供容纳室和邻近于阀箱的处理室之间的连通;平衡室,该平衡室形成为面对处理室;和连通端口,该连通端口提供平衡室和容纳室之间的连通,并且配置成在平衡室的内部不与通道连通。
因此,例如,在阀盘座设在阀座上的阀闭合状态下,即使在容纳室和邻近于容纳室的处理室之间产生压力差,容纳室和平衡室的压力通过连通端口相等或者设置成相同的压力,从而避免由于压力差产生的作用到设置在容纳室和处理室之间的壁部的负载。因此,不用增加阀箱的重量,能够可靠地防止由于压力差导致的阀箱中的壁部的变形。进一步,通过防止设置在壁部中的阀座的变形,当闸阀闭合时能够可靠地且稳定地执行阀盘相对于阀座的密封。
本发明的上述及其他目的、特征和优势通过以下描述连同附图将变得更加明显,其中本发明的优选实施例通过说明性的实例来展示。
附图说明
图1是根据本发明的实施例的闸阀的前视图,其部分地显示为截面图;
图2是沿着图1中的线II—II的截面图;
图3是显示图2的阀盘的附近的放大截面图;
图4是沿着图1的IV-IV线的截面图;
图5是图1的闸阀中的驱动转换单元的分解立体图;
图6是显示了局部截面的前视图,并且图解了阀盘在图1的闸阀中移动的阀打开状态;
图7是沿着图6的VII-VII的截面图;和
图8是显示了阀盘从图7所示的闸阀的阀打开状态移动至阀盘面朝阀座的位置的情况的截面图。
具体实施方式
如图1和2所示,闸阀10包括:阀箱16,第一和第二通道12、14形成在该阀箱16中以允许图中未示的工件(例如,半导体晶片)被插入和取出;外壳18,该外壳18连接到阀箱16的下部;缸部分20,该缸部分20起到驱动单元的作用并且配置在外壳18的内部;阀杆22,该阀杆22在缸部分20的驱动动作下沿着轴线方向(箭头A和B的方向)位移,同时大致垂直于轴线方向移动;阀盘24,该阀盘24连接到阀杆22的一端并且能够关闭阀箱16的第一通道12;和驱动转换单元26,该驱动转换单元26将缸部分20的线性位移转换为在垂直于阀杆22的轴线的方向上的运动。
如图2和3所示,阀箱16,例如,形成为空心盒状形状,并且包括容纳室28,容纳室28设置在阀箱16的内部,阀盘24能够在容纳室28中移动。在面对容纳室28的阀箱16的一侧壁(壁部)16a和另一侧壁16b上,第一和第二通道12,14形成,第一和第二通道12,14分别以矩形形状截面开口。
在阀箱16中,在一侧壁16a的内壁表面上,面对第一通道12的阀座30形成。阀座30配置成阀盘24能够抵接其上。在阀箱16中的一侧壁16a和另一侧壁16b形成为大致平行地将容纳室28夹在一侧壁16a和另一侧壁16b之间(见图2)。
进一步,在阀箱16上,处理室S1连接到一侧壁16a侧并且通过第一通道12连通,同时另一个处理室S2连接到另一侧壁16b侧并且通过第二通道14连通。
此外,如图1至3所示,平衡室32在面对处理室S1的外壁表面凹陷预定深度,并且形成在阀箱16的一侧壁16a上。平衡室32相对于一侧壁16a的外边缘向内形成预定宽度,并且第一通道12在一侧壁16a的中心部开口。更具体地,平衡室32形成为环形形状,并且在其中心区域具有第一通道12。
进一步,平衡室32包含第一密封构件(密封构件)34,该第一密封构件(密封构件)34配置成覆盖第一通道12的外侧;和第二密封构件36,该第二密封构件36配置在平衡室32的外边缘上。第一和第二密封构件34、36,例如,由诸如橡胶等等的弹性材料形成为大致矩形环状形状,并且分别安装在形成在平衡室32的壁表面中的各个环形凹槽中。在它们分别安装在环形凹槽的状态下,第一和第二密封构件34、36配置成从外壁表面朝向处理室S1侧突出预定高度(参见图3)。
换言之,平衡室32形成为环形形状,其中,第二密封构件36配置成包围配置在内侧的第一密封构件34的外侧。
本发明并不局限于第二密封构件36配置在第一密封构件34的外周侧并且平衡室32形成在第一密封构件34和第二密封构件36之间的情况。例如,平衡室32可以从第一密封构件34向下布置从而包围稍后描述的平衡端口38。
进一步,平衡端口(连通端口)38形成在平衡室32中在第一密封构件34和第二密封构件36之间的位置。平衡端口38,例如是大致圆形截面,并且从平衡室32沿直线贯穿至容纳室28。更具体地,平衡端口38形成为大致平行于第一通道12同时与第一通道12分开预定距离,并且形成有小于第一通道12的截面尺寸。
如图1和2所示,外壳18由基部框架40、一对侧框架42a、42b和盖框架44组成,基部框架40连接到阀箱16的下部,一对侧框架42a、42b分别连接至基部框架40的两端并且将缸部分20夹在一对侧框架42a、42b之间,盖框架44连结或者连接侧框架42a、42b的下端中的每一个。
基部框架40配置成覆盖阀箱16的下部。阀箱16的容纳室28和外壳18的内部通过杆孔46彼此连通,杆孔46大致形成在基部框架40的中心。稍后描述的阀杆22可位移地插入杆孔46。
侧框架42a、42b形成为大致垂直于基部框架40。基部框架40连接到侧框架42a、42b的上部,并且组成缸部分20的缸筒50分别以大致平行状态固定到侧框架42a、42b。
如图1所示,缸部分20由一对流体压力缸48a、48b组成,一对流体压力缸48a、48b配置在基部框架40沿着纵向方向的两端。流体压力缸48a、48b中的每一个分别包括:空心筒形缸筒50;活塞52,该活塞52配置成在缸筒50的内部沿着轴线方向(箭头A和B的方向)位移;和活塞杆54,该活塞杆54连接到活塞52。
缸筒50的端部通过连接到基部框架40闭合,然而缸筒50的另一端由杆套56闭合,活塞杆54能够插入杆套56。因此,通过从图中未示的端口供应到缸筒50的内部的压力流体,活塞52在轴线方向(箭头A和B的方向)被按压,因此使活塞杆54位移。
进一步,如图2、4和5所示,在闸阀10的中心侧的缸筒50的每一个的侧表面上,成对的引导辊58a、58b可旋转地配置。与引导辊58a、58b一起,凹陷凹槽60形成为大致平行于引导辊58a、58b并且与引导辊58a、58b分开预定距离。
引导辊58a、58b沿着缸筒50的轴线方向(箭头A和B的方向)分开预定距离,并且布置在直线上。
另一方面,如图2和5所示,水平凹槽部62分别形成在凹陷凹槽60的上端。水平凹槽部62朝向阀箱16的阀座30侧在大致垂直于凹陷凹槽60延伸的方向上延伸。组成驱动转换单元26的止动辊84插入凹陷凹槽60。
活塞杆54的上端连接到活塞52的中心部,然而活塞杆54的下端从缸筒50向外突出并且分别连接到稍后描述的轭部68。
阀杆22大致配置在外壳18的中心,并且插入基部框架40的杆孔46。阀杆22沿着其轴向方向的大致中心部由波纹管64覆盖。波纹管64由波纹管形状的筒状体组成,从而当阀杆22在轴线方向(箭头A和B的方向)上位移时,波纹管64在覆盖阀杆22的同时伸长和缩短,以便阀杆22的部分始终被覆盖。进一步,阀杆22的上端插入进阀箱16的内部并且连接到阀盘24。
阀盘24由具有对应于阀箱16中的第一通道12的开口的矩形形状截面的板组成。阀杆22连接到阀盘24的大致中心部,并且密封环66(参见图2和3)通过环形凹槽安装到阀盘24面对阀座30的侧表面中。此外,在阀盘24座设在阀座30上的阀闭合状态中,密封环66抵接阀座30从而阻断第一通道12的连通状态。
如图1至5所示,驱动转换单元26包括:轭部68,该轭部68固定至活塞杆54的另一端;和位移块70,该位移块70与轭部68整体地位移。
轭部68,例如,由基部分72和两个凸轮框架74组成,基部分72配置成垂直于活塞杆54的轴线,两个凸轮框架74以直立的方式垂直基部分72竖起。一对流体压力缸48a、48b的活塞杆54分别连接至基部分72的相对端。因此,当活塞杆54在压力流体向缸筒50的供应下与活塞52一起位移时,轭部68整体地位移。
如图4和5所示,凸轮框架74中的每一个包括:引导凹槽76,该引导凹槽76在纵向方向上延伸;和一对凸轮凹槽78a、78b,该一对凸轮凹槽78a、78b形成为大致平行于引导凹槽76,并且沿着纵向方向相互分开预定距离。凸轮凹槽78a、78b倾斜成其上部指向远离阀座30的方向。
阀杆22插入并且整体地连接至位移块70的大致中心部。由螺旋弹簧组成的弹簧80,例如,介入到轭部68和位移块70的下端之间。弹簧80的弹力在使得轭部68和位移块70彼此分离的方向(箭头A的方向,箭头B的方向)上推动轭部68和位移块70。进一步,两对凸轮辊82a、82b从位移块70的相对侧表面向外突出的同时被可旋转地配置和支撑。此外,凸轮辊82a、82b分别插入进轭部68的凸轮凹槽78a、78b。与此同时,与凸轮辊82a同轴线地配置的止动辊84插入至凸轮凹槽78a并且插入进缸筒50的凹陷凹槽60,凸轮辊82a更远离基部分72。止动辊84形成有小于凸轮辊82a的直径的直径。
此外,当通过驱动缸部分20,位移块70与轭部68一起升高时,轭部68在缸筒50的引导辊58a、58b执行的引导作用下在竖直方向(箭头B的方向)上移动,引导辊58a、58b插入引导凹槽76中。另外,止动辊84移动进在凹陷凹槽60的上端上的水平凹槽部62,于是止动辊84水平地移动。因此,通过位移块70的动作,阀杆22和阀盘24朝向阀座30侧(在图2和3中的箭头C1的方向上)水平地移动。
根据本发明的实施例的闸阀10基本上如上所述构造。接下来,将说明闸阀10的操作和优势。在下文的描述中,图6所示的状态将作为初始条件,其中,组成缸部分20的两个(一对)活塞52向下(在箭头A的方向上)移动,并且如图6和7所示,其中,阀盘24在阀箱16的内部向下位移,从而使第一通道12和第二通道14之间能够连通(阀打开状态)。
首先,在初始条件下,通过将压力流体从图中未示的压力流体供应源供应到一个端口,活塞52由被引入缸筒50的内部的压力流体按压和(在箭头B的方向上)向上位移。
伴随着活塞52的位移,轭部68和位移块70整体地上升,并且阀杆22和阀盘24也随之上升。此时,由于引导凹槽76放置成与缸部分20的引导辊58a、58b接合,轭部68在竖直方向上被引导,并且一对凸轮辊82a、82b分别在保持抵接凸轮凹槽78a、78b的上端的同时移动。
此外,位移块70的止动辊84移动到凹陷凹槽60的上端并且到达它们的端部位置,因此限制止动辊84的进一步上升运动,并且如图8所示,阀盘24在阀箱16的内部位于面对第一通道12和阀座30的位置。在这种情况下,由于弹簧80的弹力大于来自轭部68的压力,弹簧80不被轭部68压缩,并且轭部68和位移块70一致地位移而不彼此相对位移。
此时,由于阀盘24还未座设在阀座30上,并且阀闭合状态没有产生,在阀箱16中的第一通道12和第二通道14保持在通过微小的间隙连通的状态。
由图8所示的阀盘24位于面对阀座30的位置的情况下,压力流体继续被进一步引入到缸筒50。因此,当活塞52进一步上升,轭部68通过活塞杆54被向上(在箭头B的方向上)拉。此时,由于位移块70的止动辊84在不移动的情况下通过凹陷凹槽60的上端接合,仅仅轭部68在弹簧80被压缩的同时向上移动。换言之,轭部68相对于位移块70相对位移。
此外,伴随着轭部68的上升,止动辊84移动进凹陷凹槽60的水平凹槽部62,从而位移块70在垂直于轴线的方向(箭头C1的方向)上移动,即,水平地移动,从而接近阀座30侧,并且保持在位移块70中的阀杆22和阀盘24在水平方向上整体地移动。因此,如图2和3所示,阀盘24座设在阀座30上同时按压密封环66,并且阀箱16的第一通道12闭合的阀闭合状态产生。
因此,在第一通道12闭合的一个处理室S1中,处理步骤能够在诸如半导体晶片等等的工件上执行。
接下来,在阀盘24与阀座30分开并且第一通道12和第二通道14再次放置成通过容纳室28连通的阀打开状态的情况下,在图中未示的切换装置的切换操作下,压力流体从另一个端口向缸部分20的缸筒50的内部被供应。与此同时,活塞52下降,并且连接到活塞52的活塞杆54和轭部68与活塞52一起整体地下降。因此,产生这样的情况:弹簧80伸长,止动辊84远离水平凹槽部62,并且凸轮辊82a、82b分别抵接凸轮凹槽78a、78b的上端。伴随这些动作,阀盘24与阀杆22在远离阀座30的方向(箭头C2的方向)上一起水平移动,并且通过使阀盘24与阀座30分开,释放第一通道12的阻塞状态。
此外,通过进一步将压力流体引入缸筒50并且使活塞52下降,轭部68、位移块70、阀杆22和阀盘24与活塞杆54一起下降,并且初始条件,也就是,阀打开状态通过阀盘24下降并且远离面对阀箱16中的第一通道12的位置而恢复(参见图6和7)。
因此,第一通道12和第二通道14在阀箱16中彼此连通并且诸如图中未示的半导体晶片等等的工件能够通过第一通道12移动的状态产生。因此,例如,已经在第一处理室S1中执行完处理步骤的工件从第一通道移动,通过容纳室28和第二通道14进入处理室S2,在处理室S2中,能够在工件上执行另一个处理步骤。
进一步,在如上所述的工件已经移动进另一个处理室S2并且阀盘24再次座设在阀座30上的阀闭合状态下,可以发生如下情形:一个处理室S1保持在大气压,然而连接到阀箱16的背表面侧的另一个处理室S2保持在真空压力。在这种情况下,由于阀箱16的容纳室28通过第二通道14连通第二处理室S2,容纳室28的内部也保持在相同的真空压力并且相对于阀盘24的压力差发生在处理室S1和容纳室28之间。
对于本发明,因为容纳室28和平衡室32的内部放置成通过平衡端口38连通,能够使在平衡室32的内部中的真空压力与容纳室的真空压力相同,或者换言之,平衡室32和容纳室28中的各自的压力能够相等。因此,在阀箱16中,施加到一侧壁16a的外壁表面和内壁表面的压力变得相同,从而即使在阀箱16的容纳室28放置在真空压力下,然而邻近于阀箱16的一侧壁16a的一个处理室S1保持在大气压下的情况下,由压力差引起的负载不施加到一侧壁16a的内外侧。
因此,能够防止由于压力差产生的阀箱16中的一侧壁16a的变形。与此同时,由于形成在一侧壁16a中的阀座30的变形被避免,即使在阀盘24座设在阀座30上的阀闭合状态下,阀盘24和阀座30之间不会产生由于这种变形导致的间隙,因此,能够通过阀盘24可靠地且稳定地阻断第一通道12的连通状态。
在上述方式中,根据本发明,设置有平衡室32和平衡端口38,平衡室32在阀箱16面对处理室S1的一侧壁16a上凹陷预定深度,平衡端口38连通平衡室32和容纳室28之间。进一步,在这种结构中,在平衡室32中的第一通道12的外侧由第一密封构件34包围,并且平衡室32的外边缘由第二密封构件36包围。
因此,在阀盘24座设在阀座30上的阀闭合状态下,即使容纳室28和处理室S1之间产生压力差,通过使容纳室28和平衡室32之间通过平衡端口38能够连通,在阀箱16中的一侧壁16a的内侧和外侧的压力变得相等或者设置成相同的压力。
因此,不用增加阀箱16的重量,能够可靠地防止由于压力差导致的阀箱16中的一侧壁16a的变形。进一步,由于形成在一侧壁16a中的阀座30的变形不发生,形成为扁平形状的阀盘24能够可靠地且稳定地座设在阀座30上并且能够确保阀盘24的密封。
进一步,在平衡室32中,由于第一密封构件34阻断第一通道12的连通,因此保持平衡室不与第一通道12连通,防止处理室S1和容纳室28之间通过平衡室32的连通和处理室S1和容纳室28之间的压力相等。
根据本发明的闸阀并不限于上述实施例,并且在不脱离如所附的权利要求书中阐明的本发明的范围的情况下,可以采用各种修改或者附加的结构。
Claims (3)
1.一种闸阀(10),所述闸阀(10)配备有:阀箱(16);阀盘(24),所述阀盘(24)被构造成座设在形成在所述阀箱(16)中的阀座(30)上;阀杆(22),所述阀杆(22)连接到所述阀盘(24)并且被构造成使得所述阀盘(24)进行线性移动以及接近和远离所述阀座(30)的移动;和驱动单元(20),所述驱动单元(20)配置在外壳(18)的内部,所述阀箱(16)连接到所述外壳(18),所述驱动单元(20)使所述阀杆(22)沿着轴线方向线性地位移;其特征在于,
其中,所述阀箱(16)包含:
容纳室(28),所述阀盘(24)容纳在所述容纳室(28)中;
壁部(16a),所述壁部(16a)构成所述容纳室(28)的一部分并且包括阀座(30),所述阀盘(24)座设在所述阀座(30)上;
通道(12),所述通道(12)形成在所述壁部(16a)中并且提供所述容纳室(28)和邻近于所述阀箱(16)的处理室(S1)之间的连通;
平衡室(32),所述平衡室(32)以面对所述处理室(S1)的关系形成在所述壁部(16a)中;和
连通端口(38),所述连通端口(38)提供所述平衡室(32)和所述容纳室(28)之间的连通,并且配置成在所述平衡室(32)的内部不与所述通道(12)连通;
其中,所述通道(12)在所述平衡室(32)的中心部开口,并且密封构件配置在所述通道(12)和所述平衡室(32)之间,所述通道(12)和所述平衡室(32)通过所述密封构件分离,
所述密封构件包括第一密封构件和第二密封构件,所述第一密封构件的四周紧靠着所述通道(12)的外侧边缘设置,所述第二密封构件的四周沿着所述平衡室(32)的外边缘设置,
所述平衡室(32)通过从所述壁部(16a)的外边缘向内凹陷预定深度而形成,并且所述壁部(16a)的外边缘用于与所述处理室(S1)的壁部的外边缘接触。
2.如权利要求1所述的闸阀,其特征在于,其中,所述通道(12)和所述连通端口(38)实质上平行地形成。
3.如权利要求2所述的闸阀,其特征在于,其中,所述连通端口(38)形成有小于所述通道(12)的截面尺寸。
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