CN104974682A - 防尘薄膜组件用粘着剂以及使用其的防尘薄膜组件 - Google Patents

防尘薄膜组件用粘着剂以及使用其的防尘薄膜组件 Download PDF

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Abstract

一种将至少由防尘薄膜和该防尘薄膜被贴附在其上的防尘薄膜组件框架构成的防尘薄膜组件贴附在玻璃基板时用粘着剂,其特征在于,该粘着剂含有荧光材料。所述荧光材料,优选其浓度为0.01质量%以上1.0质量%未满。所述荧光材料,优选在紫外线的下发出荧光。

Description

防尘薄膜组件用粘着剂以及使用其的防尘薄膜组件
技术领域
本发明涉及半导体装置,印刷基板,液晶面板等的制造时的防尘器使用的防尘薄膜组件用粘着剂以及使用其的防尘薄膜组件。
背景技术
LSI,超LSI等的半导体制造或液晶显示板等的制造中,要对导体晶片或液晶用原板进行光照射以制造图案,此时用的光掩模或中间掩模(以下,统称「光掩模」)上如有灰尘附着,就会具有尖端模糊,或基底变黑等,使尺寸,品质,外观等受损。
为此,这些作业通常在无尘室中进行,即使如此,也难以解决经常保持光掩模清洁的问题,要在光掩模表面上贴附作为除尘器的防尘薄膜组件后进行曝光。此场合,异物不在光掩模的表面上直接附着,而是在防尘薄膜组件上附着,光刻时,只要将焦点对准光掩模的图案上,防尘薄膜组件上的异物就与转印无关了。
这样的防尘薄膜组件中,为一般将由可良好透过的硝酸纤维素,醋酸纤维素或氟树脂等构成的透明的防尘薄膜在由铝,不锈钢,聚乙烯等构成的防尘薄膜组件框架的上端面上涂布防尘薄膜的良溶媒后,风干接着(专利文献1参照),或用烯酸树脂以及环氧树脂等的接着剂进行接着(专利文献2参照)。另外,在防尘薄膜组件框架的下端中,为了在光掩模接着,形成聚丁烯树脂,聚醋酸乙烯基酯树脂,丙烯酸树脂,硅树脂等粘着层,以及形成以保护粘着层为目的的离型层(分离层)。
接着,此防尘薄膜组件,为了防止异物附着在玻璃基板上的图案上,虽然通过粘着剂贴附在玻璃基板上,如粘着剂不能在全周进行确实地贴附在玻璃基板上,就会从没有贴附的间隙的部分有异物向防尘薄膜组件内的侵入,有将玻璃基板上的图案污染的可能。
作为将防尘薄膜组件粘着剂确实地在玻璃基板上贴附的方法,有提高贴附压力,或使时间加长的方法。近年,在将防尘薄膜组件贴附于玻璃基板上时,为了不使玻璃基板的图案歪斜,多以低的压力进行贴附,另外,为了提高制造速度,贴附时间也有缩短的倾向。例如,专利文献3中,记载了在将粘着剂层平坦化的同时,将粘着力压低为1N/m~100N/m的范围,以防止光掩模的歪斜。
先行技术文献
专利文献
【专利文献1】日本特开昭58-219023号公报
【专利文献2】日本特公昭63-27707号公报
【专利文献3】日本特开2012-108277号
但是,以往的任何一个场合,即使粘着剂表面的微小的凹凸以及粘着剂宽的不同,都会有由于组件贴附时的防尘薄膜组件和玻璃基板的角度,造成粘着剂不能确实地贴附,出现间隙。
作为对这样的粘着剂的贴附状况以及间隙的有无等进行确认的方法,在玻璃基板透明的场合,可以在防尘薄膜组件贴附后从玻璃基板的里侧对防尘薄膜组件粘着剂的贴附状况进行确认,但是,在表面为金属蒸镀的玻璃基板的场合,不能从玻璃基板的里侧进行确认。
另外,在从里侧不能确认的场合,虽然开对粘着剂的贴附状况从侧面进行确认,但是,粘着剂的厚度1mm以下,用集光灯进行确认的场合,从粘着剂的反射光以及折射光,进而从金属蒸镀的玻璃基板的反射光,难以对贴附状况进行正确地确认。
因此,鉴于上述的原因,本发明的目的,为提供一种可以对粘着剂和玻璃基板的贴附状况进行简单且正确地确认的防尘薄膜组件用粘着剂以及用其的防尘薄膜组件。
发明内容
本发明人对上述课题进行了深入地研究,结果发现,如向粘着剂添加荧光材料,进行紫外线照射,粘着剂部分就会发出银白的荧光,由此就可以对粘着剂和玻璃基板的贴附状况进行正确地确认,从而完成了本发明。
即,本发明,是为了将至少由防尘薄膜和该防尘薄膜被贴附在其上的防尘薄膜组件框架构成的防尘薄膜组件贴附在玻璃基板上的防尘薄膜组件用粘着剂,其特征在于,该粘着剂含有荧光材料。
另外,本发明的荧光材料,优选其浓度为0.01质量%以上1.0质量%未满,作为所述材料,优选在紫外线的下发出荧光,更优选例如噁唑类的材料。进而,作为本发明的粘着剂,优选有机硅类粘着剂或丙烯酸类粘着剂。
发明的效果
根据本发明,可以对防尘薄膜组件粘着剂和玻璃基板的贴附状况进行简单、正确地确认。
附图说明
附图为使用含有荧光材料的粘着剂的本发明的防尘薄膜组件的纵截面图。
具体实施方式
以下,参照附图对本发明的实施方式进行详细说明,但是本发明并不限于这些具体实施方式。
附图为使用添加了荧光材料的粘着剂的本发明的防尘薄膜组件的一实施方式发的纵截面图。附图的防尘薄膜组件1,有与贴附了防尘薄膜组件1的玻璃基板(光掩模或其玻璃基板部分)的形状相对应的通常为四角框状(长方形框状或正方形框状)的防尘薄膜组件框架12,在其上端面,防尘薄膜11被绷紧设置,在防尘薄膜组件框架12的下端面,形成有用于将防尘薄膜组件1贴附于玻璃基板的粘着剂13。另外,在粘着剂13的下端面,贴附有保护粘着剂13的可以剥离的离型层(分离层)14。
防尘薄膜11以及防尘薄膜组件框架12的材质没有特别的制限,可以使用公知物,但是,从刚性,加工性来看,防尘薄膜组件框架12的材质优选金属制的之物。另外,防尘薄膜11,可以用公知的方法将其贴附于防尘薄膜组件框架12。
本发明的粘着剂13,在防尘薄膜组件框架12的下端面以规定的宽(通常,与防尘薄膜组件框架12的框架宽相同或其以下)设置,在防尘薄膜组件框架12的下端面的周方向的全周上进行设置,以将防尘薄膜组件框架12贴附于玻璃基板上。
作为本发明的粘着剂的材料,可以使用公知物,但是以有机硅类的粘着剂以及丙烯酸类的粘着剂为好。作为有机硅类的粘着剂,有例如,信越化学工业株式会社销售的有机硅粘着剂(例如,X-40-3122,KR-3700,X-40-3103,X-40-3264等)。其中,粘着强度强,可以减少低分子硅氧烷的X-40-3122为佳。
另外,作为丙烯酸类的粘着剂,可以使用例如,综研化学株式会社的市在市场上销售的丙烯酸粘着剂(SK‐DYNE系列等),但是,从粘着力以及作业性来看,SK-1425为佳。
本发明的粘着剂中,含有荧光材料,作为该荧光材料,只要可以发出荧光就没有特别的限制。作为天然的荧光材料,有方解石,硅酸锌矿,苯甲酸钠,荧石,金刚石等。另外,也可以使用将长波长的紫外线以青色光反射,使物质看起来更白的人工荧光材料。
作为荧光材料的典型材料,可以使用二磺酸酯类,四磺酸酯类,六磺酸酯类,芪类,咪唑类,噻唑类,噁唑类,三唑类,噁二唑类,噻二唑类,香豆素类,萘二甲酰亚胺类,吡唑啉类,芘类,咪唑啉酮类,联苯胺类,二氨基咔唑类,噁青色素类,次甲级化合物类,吡啶类,蒽哒嗪类,联苯乙烯类,甲基联苯乙烯类,联苯类等。另外,这些的荧光材料,可以1种以上混合使用,但是优选使用噁唑类。
作为荧光材料的具体例,可以例举Ciba‐Geigy Corporation公司的Uvitex-OB,Uvitex-EBF,Uvitex-ERN-P,Uvitex-EHF,Uvitex-EMT,Uvitex-EM-V(以上,噁唑类),Uvitex-ERT,Uvitex-WGS(以上,香豆素类),Uvitex-AT,Uvitex-BAC(以上,咪唑类),Uvitex-WG(吡唑啉类),Uvitex-2B,Uvitex-BHT,Uvitex-MST,Uvitex-CF(以上,芪类),Uvitex-NFW(联苯类)等。
另外,还有新日曹化工株式会社制的Kayacall-BSconc,Kayacall-BIconc,Kayacall-BIL,Kayacall-BRA,Kayacall-BRAL,Kayacall-BRBLconc,Kayacall-BUL,Kayacall-BXconc,Kayacall-BXNL,Kayacall-BZconc,Kayacall-BZH/C,Kayacall-BZL,Kayacall-CAconc,Kayacall-CPL,Kayacall-KTL,Kayacall-PAN,Kayacall-PKconc,Kayacall-RG,Kayacall-RP,Kayacall-SR,Kayacall-WG,Kayacall-WS,Kayacall-WSL-100,Kayacall-E,Kayacall-C等。
进而,也可以例举Kayalight OSR,Kayalight OS,Kayalight B(日本化药株式会社制),此外,EastobriteOB-1(Eastman Chemical Company制)也可以从市场得到。
这些的荧光材料,吸收340~400nm的波长范围的紫外线,放出400~500nm的波长范围的光。例如,噁唑类的Uvitex-OB,如用340nm的近紫外线进行照射,可以发出强的白色荧光。这些荧光材料,通常以1质量%未满的浓度使用,但是优选在0.01质量%以上1质量%未满的范围使用。比1质量%高的场合,荧光材料有可能在粘着剂的表面析出,另外,如比0.01质量%低的场合,效果不足。
本发明中,由于在粘着剂中加入上述那样的荧光材料,如对这些粘着剂用紫外线照射,粘着剂部分会发出青白色的荧光。由此,即使将使用含有这些荧光材料的粘着剂的防尘薄膜组件贴附于蒸镀了金属的玻璃基板的场合,在暗室内对这些粘着剂部分进行紫外线照射的话,会看到粘着剂部分变为青白色。由此,在可以容易地确认与玻璃基板的境界的同时,可以简单且正确地对粘着剂的贴附状况以及间隙的有无等进行确认。
本发明中,在不妨碍所述粘着剂的效能的范围内,也可以配合其他成分。例如,根据目的,可以添加离型剂,颜料,染料,可塑剂,难燃性赋予剂,耐热性提高剂,耐候性提高剂,触变性性赋予剂,抗菌剂,防霉变剂等。
另外,在粘着剂中加入的荧光材料多为粉末状,所以根据必要先它们溶入甲苯,二甲苯等的芳香族类溶剂,己烷,辛烷,异烷,异石蜡烃等的脂肪族类溶剂,甲基乙基酮,甲基异丁基酮等的酮类溶剂,醋酸乙酯,醋酸丁酯等的酯类溶剂,二异丙基醚,1,4-二氧杂环乙烷等的醚类溶剂,或这些溶剂的混合物后,再添加到粘着剂中。
在将本发明的粘着剂涂布于防尘薄膜组件框架12的场合,根据必要,可以先将粘着剂用溶媒稀释,再将其涂布于防尘薄膜组件框架12的下端面。粘着剂的涂布方法,可以例举毛刷涂,喷涂,自动分布器涂布等的方法。接着,涂布后,加热干燥,硬化,就可形成粘着剂层13。
离型层14(分离层),是为了在防尘薄膜组件1贴附于玻璃基板之前,来保护粘着剂层13而设置的,防尘薄膜组件1使用时将其去除。由此,离型层14(分离层),在防尘薄膜组件1的使用之前,有必要对粘着剂层13进行保护的场合,进行适宜贴附。
作为制品,防尘薄膜组件1,一般,以型层14(分离层)贴附的状态进行流通。离型层14(分离层)的材料没有特别的制限,将公知的材料用公知的方法贴附于粘着剂层13即可。
实施例
以下,用实施例以及比较例对本发明进行具体的说明。
实施例1
实施例1中,首先,将铝合金制的防尘薄膜组件框架12(外尺寸149mm×122mm×高5.8mm,厚2mm)搬入无尘室,用中性洗剂和纯水,充分洗涤,干燥。含有荧光材料的粘着剂,是在硅粘着剂X-40-3122(信越化学工业株式会社制)100质量份中,将用甲苯溶解成为2质量%Uvitex-OB(Ciba‐Geigy Corporation)的溶液1质量份添加混合,进行调制使粘着剂中含有的荧光材料的浓度为0.02质量%。
接着,将如此调制的粘着剂用自动分布器(Iwashita Engineering Inc.制,未图示),在防尘薄膜组件框架12的下端面涂布。之后,进行风干,使粘着剂难以流动后,用高频感应加热装置(未图示)将防尘薄膜组件框架12加热至130℃,使粘着剂硬化,粘着剂层13形成。另外,上述防尘薄膜组件框架12的上端部,用接着剂CYTOP CTX-A(Asahi GlassCo.,Ltd.制)将防尘薄膜11贴附,同时,用刀将外侧的不要的防尘薄膜切除,制得防尘薄膜组件1。
实施例2
实施例2中,在作为粘着剂的丙烯酸粘着剂SK-1425(综研化学株式会社制丙烯酸粘着剂)100质量份中,加入用甲苯溶解形成的2质量%的荧光剂Uvitex-OB的溶液1质量份,混合,粘着剂中含有的荧光材料的浓度为0.02质量%。除了如此调制粘着剂以外,与实施例1同样的方法制作防尘薄膜组件1。
比较例1
比较例1中,使用粘着剂X-40-3122,调制成不添加荧光材料的粘着剂。除了使用如此调制的粘着剂以外,与实施例1同样的方法进行防尘薄膜组件1的制作。
比较例2
比较例2中,用粘着剂SK-1425,调制不添加荧光材料的粘着剂。除了使用如此调制的粘着剂以外,与实施例2同样的方法进行防尘薄膜组件1的作制。
接着,在实施例1以及实施例2,比较例1以及比较例2中,分别对粘着剂的贴附状态按以下的指标进行确认。
[集光灯照射进行贴附状态的确认]
在照度为10勒克斯以下的暗室内,用照度为40万勒克斯的集光灯(山田光学工业株式会社制)从防尘薄膜组件1贴附的玻璃基板的侧面,对粘着剂的贴附部分进行照射,对粘着剂和玻璃基板的贴附部分进行目视确认。
[紫外线照射对贴附状态的确认]
在照度为10勒克斯以下的暗室内,用可发出340nm的近紫外线的灯从防尘薄膜组件1贴附的玻璃基板的侧面对粘着剂的贴附部分进行照射,对粘着剂和玻璃基板的贴附部分进行目视确认。另外,为了对防尘薄膜组件粘着剂和玻璃基板的贴附状态的差异进行确认,对贴附方法进行变更,从而对贴附状态良好之物和不好之物(有间隙之物)进行确认。其结果,如表1进行评价。
表1
「○」贴附良好品粘着剂发出荧光,可确认贴附状态良好,也可以确认贴附不良品中贴附部分有间隙。
「×」不能通过粘着剂发出的反射光,折射光,从玻璃基板发出的反射光确认贴附状态。
「-」由于即使进行紫外线照射,也不发出荧光,所以不能确认贴附状态。
从表1的上述结果来看,如果使用含有本发明的荧光材料的粘着剂,即使防尘薄膜组件被贴附于金属蒸镀的玻璃基板上的场合,也可以对粘着剂的贴附状态进行简单且正确的确认。
符号的说明
1   防尘薄膜组件
11  防尘薄膜
12  防尘薄膜组件框架
13  含有荧光材料的粘着剂层
14  离型层(分离层)

Claims (10)

1.一种防尘薄膜组件用粘着剂,其用于将至少由防尘薄膜以及所述防尘薄膜贴附于其上的防尘薄膜组件框架构成的防尘薄膜组件贴附于玻璃基板,其特征在于,所述粘着剂含有荧光材料。
2.根据权利要求1所述的防尘薄膜组件用粘着剂,其特征在于,荧光材料的浓度为0.01质量%以上1.0质量%未满。
3.根据权利要求1或2的防尘薄膜组件用粘着剂,其特征在于,所述荧光材料,为在紫外线下发出荧光的材料。
4.根据权利要求1-3的任一项的防尘薄膜组件用粘着剂,其特征在于,所述荧光材料为噁唑类材料。
5.根据权利要求1-4的任一项的防尘薄膜组件用粘着剂,其特征在于,所述粘着剂,为有机硅类粘着剂或丙烯酸类粘着剂。
6.一种防尘薄膜组件,其包括具有二个端面的防尘薄膜组件框架以及贴附于所述框架的一个端面上的防尘薄膜,在另一个端面上具有粘着剂,在其特征在于,所述粘着剂含有荧光材料。
7.根据权利要求6的防尘薄膜组件,其特征在于,荧光材料的浓度为0.01质量%以上1.0质量%未满。
8.根据权利要求6的防尘薄膜组件,其特征在于,所述荧光材料为在紫外线下发出荧光的材料。
9.根据权利要求6的防尘薄膜组件,其特征在于,所述荧光材料为噁唑类材料。
10.根据权利要求6的防尘薄膜组件,其特征在于,所述粘着剂,为有机硅类粘着剂或丙烯酸类粘着剂。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6308623B2 (ja) 2014-12-25 2018-04-11 信越化学工業株式会社 ペリクル用粘着剤、それを用いたペリクル、及びペリクルの評価方法
JP6861596B2 (ja) * 2017-08-07 2021-04-21 信越化学工業株式会社 ペリクルフレーム及びペリクル
JP7114167B2 (ja) * 2018-01-24 2022-08-08 株式会社ディスコ 研削ホイール及び研削ホイールの製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2387512A (en) * 1942-02-10 1945-10-23 Du Pont Luminescent adhesive tape
JPH05331438A (ja) * 1992-05-30 1993-12-14 Sony Corp 蛍光性接着剤及び接着剤の塗布状態検査方法、検査装置
JP2007010786A (ja) * 2005-06-28 2007-01-18 Shin Etsu Chem Co Ltd 大型ペリクルの製造方法
CN103443706A (zh) * 2011-05-18 2013-12-11 旭化成电子材料株式会社 表膜、表膜用粘合剂、带表膜的光掩膜及半导体元件的制造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58219023A (ja) 1982-06-15 1983-12-20 Daicel Chem Ind Ltd 樹脂薄膜の製造方法
JPS6083032A (ja) 1983-10-13 1985-05-11 Asahi Chem Ind Co Ltd 光透過性に優れたフオトマスク用防塵カバ−
JPS6327707A (ja) 1986-07-21 1988-02-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd 双曲面鏡検査装置
WO1998035270A1 (fr) * 1997-02-10 1998-08-13 Mitsui Chemicals, Inc. Procede permettant de coller une pellicule de protection sur un article, articles ainsi obtenus, pellicule destinee a des rayons ultraviolets et emballage destine a ces pellicules
US8158517B2 (en) * 2004-06-28 2012-04-17 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing wiring substrate, thin film transistor, display device and television device
JP5484785B2 (ja) * 2008-05-19 2014-05-07 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ペリクル用粘着材組成物
WO2011043071A1 (ja) * 2009-10-07 2011-04-14 三井化学株式会社 ペリクルおよびそのマスク接着剤
KR101186893B1 (ko) * 2010-05-28 2012-10-05 엘지이노텍 주식회사 대면적 포토마스크 및 그의 제조방법
JP5478463B2 (ja) 2010-11-17 2014-04-23 信越化学工業株式会社 リソグラフィー用ペリクル
US8681310B2 (en) * 2010-12-02 2014-03-25 Globalfoundries Inc. Mechanical fixture of pellicle to lithographic photomask
JP5749680B2 (ja) * 2012-04-26 2015-07-15 信越化学工業株式会社 ペリクル
KR101699635B1 (ko) * 2012-08-02 2017-01-24 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 펠리클

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2387512A (en) * 1942-02-10 1945-10-23 Du Pont Luminescent adhesive tape
JPH05331438A (ja) * 1992-05-30 1993-12-14 Sony Corp 蛍光性接着剤及び接着剤の塗布状態検査方法、検査装置
JP2007010786A (ja) * 2005-06-28 2007-01-18 Shin Etsu Chem Co Ltd 大型ペリクルの製造方法
CN103443706A (zh) * 2011-05-18 2013-12-11 旭化成电子材料株式会社 表膜、表膜用粘合剂、带表膜的光掩膜及半导体元件的制造方法

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