CN104950438B - 光照射装置与绘制装置 - Google Patents

光照射装置与绘制装置 Download PDF

Info

Publication number
CN104950438B
CN104950438B CN201510096672.1A CN201510096672A CN104950438B CN 104950438 B CN104950438 B CN 104950438B CN 201510096672 A CN201510096672 A CN 201510096672A CN 104950438 B CN104950438 B CN 104950438B
Authority
CN
China
Prior art keywords
light
lens
mentioned
irradiation device
key element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201510096672.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104950438A (zh
Inventor
古谷祥雄
小久保正彦
北村藤和
笹田正树
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Publication of CN104950438A publication Critical patent/CN104950438A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104950438B publication Critical patent/CN104950438B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0905—Dividing and/or superposing multiple light beams
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/26—Bombardment with radiation
    • H01L21/263—Bombardment with radiation with high-energy radiation
    • H01L21/268—Bombardment with radiation with high-energy radiation using electromagnetic radiation, e.g. laser radiation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Recrystallisation Techniques (AREA)
  • Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)

Abstract

本发明涉及光照射装置与绘制装置。光照射装置(31)包括光源单元(40)与照射光学系统(5)。光源单元中，通过安装在一面上的多个光源部(4)，使激光沿不同于该面的方向出射至照射光学系统，激光通过照射光学系统沿光轴(J1)方向进入照射面(320)。照射光学系统包括分割透镜(62)、光程差生成部(61)、会聚透镜部(63)。分割透镜包括分割来自多个光源部的入射光的多个要素透镜(620)。光程差生成部包括具有不同光程的多个透光部(610)，通过多个要素透镜的光分别入射至多个透光部。会聚透镜部在照射面上，重叠来自多个透光部的光照射区域(50)。由此，强度分布均匀的高强度光可照射至照射面。

Description

光照射装置与绘制装置
技术领域
本发明涉及光照射装置与绘制装置(描画装置)。
背景技术
已经提出一种使从半导体激光器等光源出射的激光能够均匀照射在指定面上的技术。例如，在光照射装置中，通过圆柱透镜阵列的多个透镜分割从光源部入射的激光，并使来自多个透镜的光照射区域通过其他透镜而重叠在照射面上，在光源部与圆柱透镜阵列间安装光程差生成部。在光程差生成部上，安装多个透光部，能够互相产生比该激光的相干长度(可干涉距离)更长的光程差，光通过多个透光部分别入射至多个透镜。由此，可防止出现干涉条纹，并使照射面上的照射光的强度分布均匀化(此类装置可参考JP特开昭61-169815号公报，JP特开2004-12757号公报，JP特开2006-49656号公报)。
然而，在上述光照射装置的照射面上安装空间光调制器，并使空间调制的光照射在对象物从而绘制图案的绘制装置中，为了快速绘制图案，需要光照射装置能够使具有均匀强度分布的高强度的光照射在照射面上。
发明内容
本发明涉及光照射装置，目的在于提供能够一种光照射装置，使具有均匀强度分布的高强度的光照射在照射面上。
本发明涉及的光照射装置，包括：光源单元，其具有在一个面上排列的多个光源部，上述多个光源部沿上述面而从不同方向朝规定位置出射激光；照射光学系统，其配置在上述规定位置，将来自上述光源单元的激光沿光轴引导至照射面；上述照射光学系统包括：分割透镜部，其具有与上述光轴垂直且沿上述面的方向排列的多个透镜，利用上述多个透镜分割来自上述多个光源部的入射光；光程差生成部，其具有多个透光部，所述多个透光部排列在与上述光轴垂直的方向且彼此具有不同光程，所述光程差生成部使透过上述多个透镜的光分别入射至上述多个透光部；会聚透镜部，其在上述激光的路径上配置在与上述光程差生成部相比而更靠近上述照射面的一侧，使来自上述多个透光部的光的照射区域在上述照射面上重叠。
根据本发明，能够使具有均匀强度分布的高强度的光照射在照射面上。
在本发明的一种优选方式下，光照射装置还具有中间变倍部，其配置在上述分割透镜部与上述光程差生成部之间，并构成放大光学系统。此时，优选地，上述中间变倍部构成两侧远心光学系统。更优选地，上述中间变倍部使上述多个透镜的出射面的像形成在上述多个透光部的内部或者附近。
在本发明的其他优选方式下，上述照射光学系统还包括反射部，该反射部使透过上述光程差生成部而从上述多个透光部的多个出射面出射的光折回，并分别入射至上述多个出射面。此时，优选地，上述反射部，使来自上述多个出射面的出射光，分别与上述光的出射方向平行地入射至上述多个出射面。
在本发明的其他优选方式下，上述分割透镜部与上述光程差生成部配置为相互接近，在上述多个透光部的排列方向上，从上述多个透光部各自的出射面出射的光的宽度小于上述多个透光部的间距。
本发明也涉及绘制装置。本发明涉及的绘制装置，包括：上述光照射装置；空间光调制器，其配置在上述光照射装置中的上述照射面上；投影光学系统，其将被上述空间光调制器进行了空间调制的光引导至对象物；移动机构，其使被进行了上述空间调制的光在上述对象物上的照射位置移动；控制部，其与上述移动机构使上述照射位置移动同步地，控制上述空间光调制器。
上述目的以及其他的目的、特征、方式、优点，将参照以下附图进行详细说明。
附图说明
图1为第一实施方式相关的绘制装置构成的示意图。
图2为光照射装置构成的示意图。
图3为光照射装置构成的示意图。
图4为分割透镜部及光程差生成部的一部分示意图。
图5为照射面上的强度分布示意图。
图6为光照射装置的另一个示例的示意图。
图7为光照射装置的另一个示例的示意图。
图8A为照射面上的强度分布的示意图。
图8B为光照射装置的另一个示例示意图。
图9为第二实施方式相关的光照射装置构成的示意图。
图10为第二实施方式相关的光照射装置构成的示意图。
图11为分割透镜部附近的示意图。
图12为光照射装置的另一个示例示意图。
图13为光照射装置的另一个示例示意图。
图14为光照射装置的另一个示例示意图。
图15为光照射装置的另一个示例示意图。
图16为光程差生成部的另一个示例示意图。
图17为光照射装置的另一个示例示意图。
图18为光照射装置的另一个示例示意图。
附图标记说明
1 绘制装置
4光源部
5、5a 照射光学系统
9 基板
11 控制部
22 移动机构
31、31a 光照射装置
32 空间光调制器
33 投影光学系统
40 光源单元
50 照射区域
61 光程差生成部
62 分割透镜部
63 会聚透镜部
64a 中间变倍部
65 反射部
320 照射面
610 透光部
612 (透光部的)出射面
620,620a 要素透镜
622 第二透镜面
J1 光轴
具体实施方式
图1为本发明第一实施方式涉及的绘制装置1构成的示意图。绘制装置1是直接绘制装置，对在表面置有感光材料的半导体基板或玻璃基板等基板9的表面照射光束来绘制图案。绘制装置1包括载物台21、移动机构22、光照射装置31、空间光调制器32、投影光学系统33、控制部11。载物台21保持基板9，移动机构22使载物台21沿着基板9的主面移动。移动机构22使基板9在主面上以垂直轴为中心转动。
光照射装置31经由镜39对空间光调制器32照射线状光。有关光照射装置31的详细情况稍后介绍。空间光调制器32例如既是衍射光栅型又兼有反射型，是能够改变光栅深度的衍射光栅。空间光调制器32利用半导体装置制造技术制造而成。本实施方式使用的衍射光栅光调制器例如是GLV(Grating Light Valve：光栅关闸)(Silicon Light Machines：硅光设备(SunnyvaleCalifornia)的注册商标)。空间光调制器32上有排成一列的多个光栅要素，各光栅要素在1次衍射光的出射状态及0次衍射光(0次光)的出射状态间迁移。由此，能够从空间调制器32出射经过空间调制后的光。
投影光学系统33有遮光板331、透镜332、透镜333、光阑板334、聚焦透镜335。遮光板331遮挡了杂散光(ghost light；重影光)及一部分高阶衍射光，使来自空间光调制器32的光透过。透镜332、333构成了变焦部。光阑板334遮挡(±1)次衍射光(及高阶衍射光)，使0次衍射光透过。透过光阑板334的光，被聚焦透镜335引导至基板9的主面上。由此，通过空间光调制器32进行了空间调制的光被投影光学系统33引导至基板9。
控制部11与光照射装置31、空间光调制器32及移动机构22相连接，并控制这些装置的结构。在绘制装置1中，通过移动机构22移动载物台21，从而使来自空间光调制器32的光在基板9上移动照射位置。另外，控制部11控制空间光调制器32，使其与通过移动机构22进行的该照射位置的移动相同步。由此，可在基板9上的感光材料上绘制想要的图案。
图2及图3为光照射装置31构成的示意图。在图2及图3中，与后述的照射光学系统5的光轴J1平行的方向为Z方向，与Z方向垂直且相正交的分别为X方向、Y方向(下同)。图2为沿Y方向看时的光照射装置31构成的示意图，图3为沿X方向看时的光照射装置31构成的示意图。
图2及图3所示的光照射装置31包括光源单元40及照射光学系统5。光源单元40有多个光源部4，各光源部4有1个光源41及1个准直透镜42。多个光源部4的光源41在与ZX平面平行的面(以下称为“光源排列面”)上，大致沿X方向排列。从各光源41出射的激光，透过准直透镜42而平行入射至照射光学系统。在光源单元40中，安装有用于调整从光源部4出射的激光的出射方向的机构(图略)。通过调整该机构，能够使来自多个光源部4的激光对于照射光学系统5上的分割透镜部62的在X方向上的照射位置一致及能够使来自多个光源部4的激光对于照射光学系统5上的照射面320的在Y方向上的照射位置一致。由此，在光源单元40中，通过排列光源排列面上的多个光源部4，沿着光源排列面从互不相同的方向朝照射光学系统5的相同位置(后述的分割透镜部62)出射激光。而且，在光源单元40中，因多个光源部4安装在省略图示的承载构件上，故能够对多个光源41进行高效冷却等。
照射光学系统5配置在能够被多个光源部4的激光照射的位置上。在照射光学系统5中，该激光沿着光轴J1而被引导至入照射面(图2及图3中标有附图标记320并用虚线标注部分)，该照射面为空间光调制器32的表面，即多个光栅要素的表面。如上所述，来自光照射装置31的光，经由镜39而照射至空间光调制器32，实际上，光照射装置31虽然包括镜39来作为构成要素，但在图2及图3中，为方便而省略镜39(下同)。
照射光学系统5包括光程差生成部61、分割透镜部62、会聚透镜部63。在照射光学系统5中，从光源单元40到照射面320，按照分割透镜部62、光程差生成部61、会聚透镜部63的顺序，沿光轴J1排列。来自多个光源部4的被准直调整后的激光入射至分割透镜部62。
图4为分割透镜部62及光程差生成部61的局部放大示意图。分割透镜部62与照射光学系统5的光轴J1相垂直，且安装有多个透镜620(以下称为要素透镜620)，这些透镜620沿光源排列面方向(这里指X方向)以一定(规定)间距紧密排列。各要素透镜620沿Y方向呈块状，包括第一透镜面621和第二透镜面622，所述第一透镜面621是位于(-Z)侧(光源单元40侧)的侧面，所述第二透镜面622是位于(+Z))侧(光程差生成部61侧)的侧面。沿Y方向看时，第一透镜面621为向(-Z)侧突出的凸状，第二透镜面622则为向(+Z)侧突出的凸状。沿X方向看时，各要素透镜620的形状为矩形(参照图3)。由此，要素透镜620为仅在X方向上具有光焦度的柱面透镜(圆柱透镜)，分割透镜部62为所谓的圆柱透镜阵列(或称为圆柱形复眼透镜)。
第一透镜面621及第二透镜面622与光轴J1相垂直的面呈对称状。第一透镜面621安装在第二透镜面622的焦点处，第二透镜面622安装在第一透镜面621的焦点处。即，第一透镜面621及第二透镜面622的焦距相同。第一透镜面621及第二透镜面622的焦距为fh，要素透镜620的折射率为nh，要素透镜620的Z方向长度Lh用(fn·nh)表示。入射至要素透镜620的平行光在第二透镜面622上会聚。另外，在需要避免因会聚而导致的第二透镜面622的损伤及劣化时，可以使要素透镜620的Z方向长度Lh，可与(fh·nh)略有偏差。在X方向上层叠的多个要素透镜620，可形成为光学连接成一串的构件，可由单个形成的多个要素透镜620相接合而成。
沿Y方向看时，入射至分割透镜部62的光被多个要素透镜620沿X方向分割。此时，来自各光源部4的平行光入射至各要素透镜620的第一透镜面621，在第二透镜面622的附近形成多个光源41的像。这些像沿要素透镜620的排列方向排列。另外，图4仅为入射至1个要素透镜620的光线示意图。从各光源部出射、并被多个要素透镜620分割的光(多条光束)，其主光线以与光轴J1(Z方向)平行的方式从第二透镜面622出射。从各要素透镜620出射的光束扩散入射至光程差生成部61。
光程差生成部61包括垂直于光轴J1且沿光源排列面(此处指X方向)以一定(规定)的间距紧密排列的多个透光部610。在图2示例中，光程差生成部61的透光部610的个数，比分割透镜部62的要素透镜620的个数少一个。另外，透光部610的排列间距与要素透镜620的排列间距相等。各透光部610(理想情况下)呈块状，具有与X方向、Y方向及Z方向相垂直的面。在X方向排成一列的多个透光部610，它们的X方向、Y方向的长度相同，但Z方向的长度不同，即，沿光轴J1方向的长度不同。由此，多个透光部610分别具有不同的光程。在图2的光程差生成部61中，多个透光部610中的越靠近(+X)侧的透光部610其Z方向的长度越短。多个透光部610在光轴J1方向的长度，不必非要沿着X方向依次变长(或变短)，也可以呈任意的凹凸形状。在本实施方式中，光程差生成部61中的多个透光部610的材料相同，形成为一连串的构件。光程差生成部61也可由单个形成的多个透光部61相连而成。
分割透镜部62与光程差生成部61安装在Z方向上的接近位置，在X方向上，除最(+X)侧的要素透镜620外，其他的多个要素透镜620与多个透光部610分别安装在相同位置。因此，透过这些要素透镜620的多条光束分别入射至多个透光部610。具体如图4所示，从这些要素透镜620各自的第二透镜面622出射的光束，入射至配置在X方向相同位置的透光部610(-Z)侧的面即入射面611。该光束透过该透光部610而从(+Z)侧面即出射面612出射。另外，透过最(+X)侧的要素透镜620的光束则不透过任何一个透光部610。
实际上，因分割透镜部62及光程差生成部61满足后述条件，在X方向上，从各透光部610的出射面612出射的光束宽度比该透光部610的宽度小，即，比透光部610的排列间距小。因此，能防止或抑制该光束照射至该透光部610的边缘(即X方向的端部，主要为入射面611及出射面612的边缘)。另外，在光程差生成部61中，也可安装与分割透镜部62中的要素透镜620的个数相同的透光部610。此时，透过多个(所有)要素透镜620的光分别入射至多个透光部610。
如图2及图3所示，透过各透光部610的光束射向会聚透镜部63。会聚透镜部63包括2个柱面透镜632a、632b。柱面透镜632a仅在X方向上具有光焦度，配置在多个要素透镜620的第二透镜面622的(+Z)侧的位置，与第二透镜面622相距的距离为柱面透镜632a的焦距fc。换言之，各要素透镜620的第二透镜面622，配置在柱面透镜632a的前侧焦点位置。另外，配置在光轴J1上的照射面320，配置在柱面透镜632a的(+Z)侧的位置，与其相距的距离为柱面透镜632a的焦距fc。即，照射面320配置在柱面透镜632a的后侧焦点位置。柱面透镜632b配置在柱面透镜632a与照射面320之间，仅在Y方向上具有光焦度。柱面透镜632b，配置在照射面320的(-Z)侧的位置，与照射面320相距的距离为柱面透镜632b的焦距fL。
如图2所示，沿Y方向看时，从多个要素透镜620出射的多条光束，被柱面透镜632a置为平行光，并在照射面320上重叠。即，来自多个要素透镜620的光(即，透过多个透光部610的多条光束)的照射区域50全部重叠。在图2及图3中，用粗实线表示照射区域50，照射区域50在X方向有一定宽度。如上述所示，因从多个要素透镜620出射的多条光束分别透过不同的透光部610，从而导致分割透镜部62与照射面320间产生了多条光束的光程差。因此，能够抑制(或防止)因被多个要素透镜620分割的光的干涉而导致在照射面320上产生干涉条纹。即，如图5上段所示，在照射面320上，X方向的强度分布均匀。在多个透光部610中，2个透光部610的各组合中的理想状态为，透过这2个透光部610的光束的光程差，在从光源部4出射的激光的可干涉距离以上。
如图3所示，沿X方向看时，从光源单元40入射至分割透镜部62的光，保持平行光的状态透过分割透镜部62、光程差生成部61及柱面透镜632a，被引导至柱面透镜632b。随后，从柱面透镜632b出射的光，会聚于照射面320。因此，在照射面320中，来自各要素透镜620的光的照射区域50呈线状沿X方向伸展。由此，能够获得这样的照明光：透过多个要素透镜620的光的集合即照射面320上的剖面(即，与光轴J1垂直的光束剖面。下同)沿X方向延伸的线状照明光。图5的下段所示的为Y方向的线状照明光的强度分布。在光照射装置31中，2个柱面透镜632a与632b的功能可通过1个球面透镜实现，也可通过球面透镜及柱面透镜的组合来实现。
根据以上说明，在图2的光照射装置31中，从多个光源部4向分割透镜部62出射激光。由此，与仅使用1个光源部4的光照射装置相比，能够得到高强度的线状照明光。另外，由于从多个光源部4出射的激光相位互不不同，并且由多个透光部610对透过多个要素透镜620的多条光束赋予光程差，从而能够提高照射面320上的线状照明光的强度分布的均匀性。另外，根据光照射装置31的设计，透过使照射面320与柱面透镜632a的后侧焦点位置稍微偏离(散焦)，可增大照射面320的干涉条纹的明亮部分的宽度，也可减弱线状照明光中的对比度。
参照图4说明有关可靠防止在照射面320上产生干涉条纹的条件。若光程差生成部61的折射率为ns，X方向上相邻的2个透光部610在Z方向上的长度差为ts，则这2个透光部610的光程差Δzs用公式1表示。在公式1中，1代表空气的折射率。
(公式1)
Δzs＝(ns-1)·ts。
光照射装置31中，由于光程差Δzs比在从光源部4出射的激光的可干涉距离Lc更长以上，即，满足公式2时，能够进一步可靠防止因被多个要素透镜620分割的光出现干涉而导致在照射面320上产生干涉条纹。
(公式2)
Lc≤(ns-1)·ts。
另外，因分别透过2个透光部610组合的光的光程的差越大，可干涉性越小，因此，即使该光程的差小于从光源部4出射的激光的可干涉距离，只要是较长距离(如可干涉距离的1/2长度以上)，也能够在一定程度上降低干涉条纹的影响。因此，可以根据线状照明光的强度分布所要求的均匀性(对比值)，按要求适当设定2个透光部610的各个组合的光程差。
然而，如果透过分割透镜部62的各要素透镜620的光，照射在光程差生成部61的透光部610的边缘(透光部610间的边界等)时，该光会出现散射，照射面320处强度分布的均匀性也会下降。在此，对于有关防止各要素透镜620的光束照射在透光部610边缘的条件，将参照图4进行说明。
如上述所示，在光照射装置31中，光程差生成部61上的透光部610的个数仅比分割透镜部62处要素透镜620的个数少一个(参照图2)。因此，若光程差生成部61上的透光部610的个数为Ns，分割透镜部62上的要素透镜620的个数为Nh，则多个透光部610中Z方向上最长的透光部610的该长ts可用公式3表示。
(公式3)
ts＝Ns·ts。＝(Nh-1)·ts。
另一方面，在多个光源部4中，从射向分割透镜部62的激光的入射角(沿Y方向看时相对于Z方向而成的角度)为最大的光源部4入射至各要素透镜620的光，在该要素透镜620出射面，即第二透镜面622上，汇聚到从该要素透镜620的光轴JO(如图4中虚线所示)向X方向偏离的位置。具体来说，若该光的入射角(最大入射角)为θi，第一透镜面621及第二透镜面622的焦距为fh，第二透镜面622上的该光的会聚点与光轴JO间在X方向上的距离为(fh·tanθi)。在图2的光照射装置31中，以使与X方向垂直且相对于照射光学系统5的包含光轴J1的面而对称的方式，配置多个光源部4，因此，在要素透镜620的光轴JO的(+X)侧及(-X)侧，都形成与光轴JO偏离相同距离的会聚点。因此，从所有光源部4入射至各要素透镜620的光在第二透镜面622上的X方向的宽度wh如公式4所示。
(公式4)
wh＝2fh·tanθi.
另外，透过上述会聚点的光的发散角(半角)θd不受光源部4的光的入射角影响，要素透镜620(及透光部610)的排列间距为p，如公式5所示。
(公式5)
θd＝tan-1(p/2fh).
光程差生成部61内部的上述光的发散角(半角)θ′d用公式6表示。
(公式6)
θ′d＝sin-1(sinθd/ns).
因此，分割透镜部62的第二透镜面622与光程差生成部61的入射面611之间的间隙在Z方向上的宽度为ds，Z方向长度最长的透光部610在出射面612上的光束在X方向的宽度ws用公式7表示。
(公式7)
ws＝wh+2(ds·tanθd+ts·tanθ′d).
实际上，削去透光部610的角部，即进行倒角加工时，在透光部610的出射面612上，在边缘及其附近存在非有效区域。如果非有效区域的X方向的宽度大于0且在100μm以下时，该非有效区域的X方向的指定宽度为po，透光部610的出射面612上有效区域在X方向上的宽度p′用公式8表示。
(公式8)
p′＝p-2p。
因此，透过分割透镜部62的各要素透镜620的光束仅透过透光部610的出射面612的有效区域，公式9用来表示防止光束在边缘附近散射的条件。
(公式9)
ws≤p′.
光照射装置31满足公式9时，能够防止入射至透光部610的光照射到该透光部610的边缘，同时能使照射光强度分布更均匀地照射在光照射装置31的照射面320上，还可防止透光部610的边缘处光的散射造成的光量损失。如上所述，X方向上非有效区域的宽度po比0大，因此，当光照射装置31满足公式9时，在多个透光部610的排列方向上，多个透光部610各自的出射面612出射光的宽度，比多个透光部610的间距小。
另外，如公式7及公式9所示，透光部610的最大长度ts越小，越容易满足公式9的条件。如上述所示，在光程差生成部61中，可以设置与分割透镜部62的要素透镜620个数相同的透光部610。而且，透光部610的最大长度ts与透光部610的个数有关，从容易满足公式9条件的观点来看，透光部610的个数最好比要素透镜620的个数仅少一个。
图6及图7为光照射装置31的其他例子的示意图。图6所示为沿Y方向看时的光照射装置31的构成，图7为沿X方向的光照射装置31的示意图。
在图6的光照射装置31中，光源单元40的各光源部4除了包括光源41、准直透镜42之外，还具有棱镜43、柱面透镜44及柱面透镜45。多个光源部4的光源41在与ZX平面平行的光源排列面上，沿X方向排列。各光源41出射的激光被准直透镜42校正，并且被棱镜43偏置，进而射向照射光学系统5的分割透镜部62。在光源单元40中，以使激光透过多个光源部4沿着光源排列面从不同方向而向照射光学系统5的相同位置(分割透镜部62)出射的方式，根据多个光源41在X方向的位置来改变棱镜43的顶角角度。另外，在X方向中央的光源部4中可省去棱镜43。
如图6及图7所示，柱面透镜44、45仅在Y方向上具有光焦度。柱面透镜44、45位于棱镜43与分割透镜部62之间。柱面透镜44与各光源部4相对配置，多个光源部4共用柱面透镜45。空间滤波器46设在柱面透镜44与柱面透镜45之间。空间滤波器46为狭缝板，沿X方向形成长狭缝461。如图7所示，沿X方向看时，透过柱面透镜44的激光，在空间滤波器46的狭缝461附近会聚，透过狭缝461的光入射至柱面透镜45。透过柱面透镜45的光入射至分割透镜部62的(-Z)侧面。
如图6及图7所示，在分割透镜部62中，各要素透镜620a的第一透镜面621及第二透镜面622同时为球面的一部分，这点不同于图2、图3所示的分割透镜部62。在分割透镜部62中，要素透镜620a的第一透镜面621也配置在第二透镜面622的焦点位置，第二透镜面622配置在第一透镜面621的焦点位置。即，第一透镜面621与第二透镜面622的焦距相同。光程差生成部61的构造及配置，与图2中光程差生成部61相同。
如图6所示，沿Y方向看时，入射至分割透镜部62的光在X方向上被多个要素透镜620a分割。除去最(+X)侧的要素透镜620a，透过剩下的多个要素透镜620a的多条光束分别入射至光程差生成部61的多个透光部610。透过多个透光部610的光及透过最(+X)侧的要素透镜620a的光，入射至会聚透镜部63。会聚透镜部63包括会聚透镜部631。沿着光轴J1方向，会聚透镜部631与位于多个要素透镜620a的第二透镜面622(参照图7)相距的距离为其焦距fc。换言之，各要素透镜620a的第二透镜面622配置在会聚透镜部631的前侧焦点面上。另外，配置在光轴J1上的照射面320，沿着光轴J1方向与会聚透镜部631相距的距离为会聚透镜部631的焦距。即，照射面320与会聚透镜部631的后侧焦点面一致。从多个要素透镜620出射的多条光束被会聚透镜部631置为平行光，在会聚透镜部631的后侧焦点面上相重叠。即，多个要素透镜620a的光(多条光束)的照射区域50全部相重叠。
如图7所示，沿X方向看时，光源单元40的柱面透镜45的出射光，在多个要素透镜620a的第一透镜面621上会聚，作为与光轴J1平行的平行光而从第二透镜面622出射。来自多个要素透镜620a的光透过会聚透镜部631，在会聚透镜部631的后侧焦点面(照射面320)上会聚。由此，能够获得照射面320的剖面沿X方向延伸的线状照明光。
根据以上说明，在图6的光照射装置31中，也从多个光源部向分割透镜部62出射激光，从而也可得到高强度的线状照射光。另外，通过使用多个光源部4，由多个透光部610赋予透过多个要素透镜620a的多条光束光程差，可以提高照射面320的线状照明光的强度分布的均匀性。而且，在图6的光照射装置31中，由于满足公式9的条件，在多个透光部610的排列方向上，从多个透光部610各自的出射面612出射的光的宽度比多个透光部610的间距更小。由此，可以防止入射至透光部610的光照射至该透光部610的边缘，还可进一步确保透过光照射装置31、在照射面320的照射光的强度分布的均匀性。
图8A为照射面320上Y方向的强度分布示意图。假设比较例子的光源单元省去空间滤波器46，根据光源种类或者状态，在照射面上Y方向强度分布中，与作为线状照明光所需的光强峰值相邻，有时会出现旁瓣(side lobe)等不需要的光强峰值。图8A中用虚线表示不需要的光强峰值。对此，在图3的光源单元40中，通过设置空间滤波器46，能够排除不需要的光强峰值(即，形成照射到照射面320上的照射光)，能够得到理想的线状照射光。
在图6的光源单元40中，多个光源部4配置在省略图示的承载部上，由此能够对多个光源41进行高效冷却等。另外，通过使用棱镜43，在所有光源部4中，能够以使光源41及会聚透镜部42的光轴与Z方向平行的方式配置光源41及会聚透镜部42。其结果，在多个光源部4中，与图2那样以使光源41及会聚透镜部42的光轴相对于Z方向而倾斜各种角度的方式配置光源41及会聚透镜部42的光源单元40相比，能够容易地制作承载部。另外，就光的准直而言，不一定必须沿X方向，而只要使来自光源部4的光以在X方向上稍稍发散或会聚的状态入射至分割透镜部62即可。图8B示出光照射装置31，其将图6的柱面透镜44变更为球面透镜44a。沿X方向看图8B所示的光照射装置31时的样子与图7相同。
然而，在图3中分割透镜部62使用作为柱面透镜的要素透镜620，根据分割透镜部62的制作时的精度，沿X方向看时，第一透镜面621与第二透镜面622的平行度(坡形：wedge)的不规则(偏差)，会在多个要素透镜620中变大。此时，透过多个要素透镜620的多条光束相对于光轴J1而向不同方向倾斜地入射至会聚透镜部63，在照射面320上，有时形成照射区域50的位置偏离Y方向。对此，图7的分割透镜部62中，透过使用高精度、易成形的球面透镜作为要素透镜620a，由透过多个要素透镜620a的光束，能够使在照射面320形成照射区域的位置与Y方向大致保持一致。分别使用空间滤波器46、棱镜43及要素透镜620a的上述方法，也可以单独地应用于其他的光照射装置31(及后述的光照射装置31a)上。
图9及图10为本发明第二实施方式相关的光照射装置31a构成的示意图。图9为沿Y方向看时光照射装置31a构成的示意图，图10为沿X方向看时光照射装置31a构成的示意图。
图9及图10所示的光照射装置31a，包括光源单元30与照射光学系统5a。光源单元40具有与图2的光源单元40相同的构造。因此，在光源单元40中，由多个光源部4沿光源排列面从不同方向出射激光照射至照射光学系统5a的相同位置(后述分割透镜部62)。
照射光学系统5a，包括光程差生成部61、分割透镜部62、会聚透镜部63与中间变倍部64a。在照射光学系统5a中，从光源单元40到照射面320，按照分割透镜部62、中间变倍部64a、光程差生成部61、会聚透镜部63的顺序，沿光轴J1排列。来自多个光源部4的校准后的激光入射至分割透镜部62。如图11所示，在分割透镜部62中，多个要素透镜620与照射光学系统5a的光轴J1相垂直，并沿光源排列面的X方向排列。
沿Y方向看时，入射至分割透镜部62的光沿X方向，被多个要素透镜620分割。此时，来自各光源部4的平行光入射至各要素透镜620的第一透镜面621，在第二透镜面622的附近形成多个光源41的像。这些像与要素透镜620的排列方向并列。而且，在图11中仅示出入射至1个要素透镜620的光线。
被多个要素透镜620分割的光(多条光束)，以主光线与光轴J1相平行的方式从第二透镜面622出射。从各要素透镜620出射的光束在扩散同时入射至图9所示的中间变倍部64a的透镜643，经由透镜643、644而入射至光程差生成部61。在光程差生成部61中，多个透光部610与照射光学系统5a的光轴J1相垂直，并沿光源排列面的X方向排列。透光部610的排列间距大于要素透镜620的排列间距。
中间变倍部64a包括无焦点(afocal)光学系统，具体来说，构成两侧远心光学系统，使主光线与光轴J1平行的入射光，在主光线与光轴J1呈平行状态下入射至光程差生成部61。此时，中间变倍部64a在光程差生成部61的内部或者附近放大形成多个要素透镜620的出射面即第二透镜面622的像(具体指第二透镜面622处多个光源41的像)。
具体来说，中间变倍部64a的放大倍率，与将光程差生成部61处的透光部610的排列间距除以分割透镜部62处的要素透镜620的排列间距而得的值相等。因此，透过多个要素透镜620的光(多条光束)，经由构成放大光学系统的中间变倍部64a而分别入射至多个透光部610。此时，多个要素透镜620的第二透镜面622的像，分别形成在多个透光部610的内部或者附近。另外，从各要素透镜620出射的光束在透光部610处的扩散角，与该要素透镜620的第二透镜面622附近的扩散角相比，按照放大倍率而变小。其结果，光束难以照射到该透光部610的边缘(例如相邻的透光部610的边界)。透过各透光部610的光束，射向会聚透镜部63。从多个透光部610出射的多条光束被会聚透镜部63的会聚透镜部631置为平行光，重叠在照射面320上。即，多个透光部610的光(多条光束)的照射区域50全部相重叠。
如图10所示，沿X方向看时，入射光从光源单元40射出，透过分割透镜部62及中间变倍部64a，入射至光程差生成部61，进而作为平行光，透过多个透光部610，被引导至会聚透镜部631。随后，光从会聚透镜部631出射，在照射面320上会聚。因此，在照射面320上，各要素透镜620(透光部610)的光的照射区域50呈线状，沿排列方向延伸。即，光照射装置31a照射至照射面320上的光的剖面，在X方向延伸呈线状，可得到线状照明光。
在光照射装置31a中，会聚透镜部631为球面透镜，例如，可以将仅在Y方向上具有光焦度的柱面透镜添加至会聚透镜部63，从而在照射面320上能够照射沿Y方向具有希望宽度的线状照明光。而且，当光源41为大功率半导体激光器时，若从光源41出射的激光在一个方向呈多模时，优选使单模方向与分割透镜部62的要素透镜620的排列方向的垂直方向(Y方向)相一致。由此，能够防止照射面320处的线状照明光在Y方向上的宽度扩大。
然而，在图2及图6所示的光照射装置31中，有必要使光程差生成部61中的透光部610的排列间距，与分割透镜部62中的要素透镜620的排列间距相等。能够利用光刻技术容易地制作高精度的小型分割透镜部，但对于具有在光轴方向上多个长度不同的透光部的光程差生成部，很难利用光刻技术。因此，需要利用机械加工等繁琐作业，制作光程差生成部。
对此，在图9中的光照射装置31a中，在分割透镜部62与光程差生成部61之间配置了构成放大光学系统的中间变倍部64a。由此，在透光部610的排列方向(图9的X方向)上，能够使光程差生成部61比分割透镜部62更大，从而能够容易地制造光程差生成部61。而且，在图2及图6中的光照射装置31中，因省略中间变倍部64a而简化结构，因此也更容易实现光照射装置31的小型化等。
在光照射装置31a中，从多个光源部4向分割透镜部62出射激光。由此，与仅适用1个光源部4的光照射装置相比，能够得到高强度的线状照明光。另外，来自多个光源部4的激光相位彼此不同，因此，由多个透光部610对透过对多个要素透镜620的多条光束赋予光程差，从而能够进一步提高照射面320中线状照射光的强度分布的均匀性。
另外，在光照射装置31a中，通过中间变倍部64a，可在多个透光部610的内部或者附近形成多个要素透镜620的出射面的像，随着该像的放大，从各要素透镜620出射的光束在透光部610中的扩散角变得比该要素透镜620中的扩散角小。其结果，能够容易抑制该光束照射至透光部610的边缘，能够进一步确保光照射装置31a照射至照射面320的照射光的强度分布的均匀性。
图12及图13为光照射装置31a的其他例子的示意图。图12为沿Y方向看时的光照射装置31a的构成的示意图，图13为沿X方向看时的光照射装置31a的构成的示意图。在图12及图13所示的光照射装置31a中，与图9及图10的光照射装置31a相比，不同点在于，在光程差生成部61与会聚透镜部63之间添加了透镜53、54。其他结构与图9及图10的光照射装置31a相同，用相同附图标记表示相同结构。
透镜53、54构成缩小光学系统(如两侧远心光学系统)，缩小传播过程中位于光程差生成部61的内部或者附近的多个要素透镜620(参照图11)的第二透镜面622的像(具体指第二透镜面622处多个光源41的像)。光从透镜54出射，入射至会聚透镜部63的会聚透镜部631，在照射面320上形成线状照射区域50。
如上述所示，因从各要素透镜620出射的光束在透光部610中的扩散角比较小，因此，在光照射装置31a中，容易抑制光束照射至透光部610的边缘。此时，若想在照射面320上得到沿X方向具有某种程度长度的线状照射光，则在图9中的光照射装置31a中需配置焦距长的会聚透镜部631，Z方向上的照射光学系统5a的全长也变得更长。对此，在图12光照射装置31a中，通过在光程差生成部61与会聚透镜部63之间配置透镜53、54，构成缩小光学系统，则可相对地缩短照射光学系统5a的全长，可以实现光照射装置31a的小型化。
图14及图15为光照射装置31a的其他例子的示意图。图14为沿Y方向看时光照射装置31a的构成的示意图，图15为沿X方向看时光照射装置31a构成的示意图。在图14及图15所示的光照射装置31a中，与图9及图10的光照射装置31a相比，不同点在于，添加了偏振分光器55、1/4波长板56及反射部65。其他结构与图9及图10的光照射装置31a相同，用相同附图标记表示相同结构。
在图14的光照射装置31a中，从(-Z)侧到(+Z)侧，按照反射部65、光程差生成部61、1/4波长板56、中间变倍部64a的透镜644、643、偏振分光器55、会聚透镜部63的顺序排列。另外，光源单元40配置在偏振分光器55的(+X)侧，分割透镜部62配置在光源单元40与偏振分光器55之间。在光源单元40中，从大致排列在Z方向上的多个光源部4，沿与光源排列面平行且互不相同的方向，向分割透镜部62出射激光。
在分割透镜部62中，多个要素透镜620(参照图11)垂直于光源单元40与偏振分光器55之间的光轴，并且沿光源排列面的Z方向排列，入射至分割透镜部62的光在Z方向被分割。透过分割透镜部62的光，以其主光线与X方向平行的状态，入射至偏振分光器55。偏振分光器55用于分离p偏光成分与s偏光成分。从光源单元40经由分割透镜部62而入射至偏振分光器55的光基本是s偏光成分，该光从偏振分光器55处反射至中间变倍部64a的透镜643。此时，从多个要素透镜620出射的多条光束排列方向，变为X方向。换言之，从偏振分光器55射向中间变倍部64a光的主光线变为与Z方向平行。
在中间变倍部64a中构成了两侧远心光学系统，主光线以与光轴J1(Z方向)相平行的状态入射的光，以主光线与光轴J1相平行的状态入射至光程差生成部61。实际上，透过多个要素透镜620的光(多条光束)，经由偏振分光器55、中间变倍部64a及1/4波长板56，分别入射至排列在X方向上的多个透光部610，多个要素透镜620的第二透镜面622的像(光源41的像)分别放大形成在光程差生成部61的多个透光部610的内部或者附近。这样，分割透镜部62的要素透镜620的排列方向与光程差生成部61的透光部610的排列方向，经由偏振分光器55而相对应。
反射部65包括在光程差生成部61d的(-Z)侧的面上通过涂覆而形成的反射膜651a。入射至各透光部610的(+Z)侧的面，即入射面611(参照图4)的光束，被(-Z)侧面即出射面612的反射膜651a反射，从该入射面611出射。即，入射至各透光部610的入射面611的光束，在透光部610的内部沿Z方向往返后，然后沿(+Z方向)从该入射面611出射。实质上，出射面612上的反射膜651a使从多个出射面612出射的光往返(即，前进方向调转180度)，分别入射至多个出射面612。而且，优选要素透镜620的第二透镜面622的像形成在透光部610的出射面612附近(反射膜651a附近)。
光沿(+Z)方向从光程差生成部61出射的光，经由1/4波长板56而入射至中间变倍部64a。在中间变倍部64a中，缩小传播(中继)位于光程差生成部61的内部或者附近的多个要素透镜620的出射面的像。从透镜643出射的光入射至偏振分光器55。从中间变倍部64a入射至偏振分光器55的光，在偏振分光器55与反射部65之间往返，两次透过1/4波长板56从而成为p偏光成分，该光透过偏振分光器55而入射至会聚透镜部631。随后，会聚透镜部631使来自多个要素透镜620的光的照射区域50在照射面320上重叠。
如上述说明所示，在图14的光照射装置31a中，位于偏振分光器55与反射部65之间的光在往返时的往路中，通过中间变倍部64a，使放大了多个要素透镜620出射面的像形成在多个透光部610的内部或者附近。由此，在透光部610的排列方向上，能够使光程差生成部61比分割透镜部62大，从而能够容易地制作光程差生成部61。另外，由于能够在上述光往返的返路中由中间变倍部64a实现图12中透镜53、54的功能，因此可省去上述透镜53、54，并缩短光照射装置31a在Z方向的全长。而且，透过各透光部610的光束往返于该透光部610中，可缩短光程差生成部61的光轴J1方向的长度(例如，将图9及图12的光程差生成部61的长度减半)。
而且，在图14的光照射装置31a中，通过使用偏振分光器55及1/4波长板56，可以相对减少光量损失，根据光照射装置31的设计，也可使用半反射镜等其他分光镜。另外，1/4波长板56可以配置在偏振分光器55与反射部65之间的任意位置。其他使用偏振分光器55及1/4波长板56的光照射装置也同上。而且，也可以不使用上述的透光型元素，而是按照图16所示，使用具有配置成阶梯状的镜(反射面)613的光程差生成部。
图17及图18为光照射装置31a的其他例子的示意图。图17为沿Y方向看时光照射装置31a的构成的示意图，图18为沿X方向看时光照射装置31a构成的示意图。在图17及图18所示的光照射装置31a中，设有透镜657及直角棱镜658，以代替图14及图15的光照射装置31a的反射膜651a。其他结构与图14及图15的光照射装置31a相同，用相同附图标记表示相同结构。
反射部6的透镜657，配置在光程差生成部61中的要素透镜620(参照图11)的出射面的像的形成位置的(-Z)侧，与该位置相距的距离为透镜657的焦距。因此，从各透光部610的(-Z)侧面即出射面612向透镜657出射的光束，被透镜657置为平行光而出射至(-Z)侧。直角棱镜658配置与透镜657相距距离为透镜657的焦距的(-Z)侧的位置。如图17所示，沿Y方向看时，入射至直角棱镜658的各光线，在呈90度的2个面658a、685b其中的一面反射，射向另一个面，进而在该另一个面反射，与向直角棱角658入射时的路径相平行地射入透镜657。从(-Z)侧入射至透镜657的光，以收缩(收束)的状态入射至光程差生成部61。实际上，从各透光部610的(-Z)侧面612出射的光束，被反射部65折回，返回至相同路径，入射至该出射面612。另外，该光束的会聚点形成在该透光部610的内部或者附近。
从光程差生成部61沿(+Z)方向出射的光，经由1/4波长板56及中间变倍部64a，入射至偏振分光器55。该光透过偏振分光器55，入射至会聚透镜部631。随后，会聚透镜部631使来自多个要素透镜620的光的照射区域50在照射面320上重叠。
因此，如图18所示，沿X方向看时，透光部610的入射面611及出射面612的平行度对于每个透光部610都不规则(有偏差)。此时，在各透光部610的(+Z)侧的入射面611上，作为与光轴J1平行的平行光而入射的光束，以与相对于光轴J1倾斜的出射方向相平行的状态，从该透光部610的出射面612作为平行光出射。在该光束在透镜657的作用下，会聚至与直角棱镜658的光轴J1相偏离的位置。直角棱镜658所反射的光束，被透镜657置为与上述出射方向平行的平行光，入射至该透光部610的出射面612。因此，透过透光部610的光束不受透光部610的平行度影响，能够与从(+Z)侧经由入射至该透光部610的路径平行地沿(+Z)方向从入射面611出射。并且，在照射面320的Y方向上的(几乎)相同位置，形成来自多个透光部610的光的照射区域50。
如上述所示，在图17及图18所示的光照射装置31a中，反射部65使各透光部610出射面的出射光，与该光出射方向平行地入射至该出射面612。由此，即便多个透光部610的平行度(楔型物)出现不规则(有偏差)时，也能够从多个透光部610向(+Z)方向出射的多条光束相对于光轴J1的倾斜度(沿X方向看时的倾斜度)，与从(+Z)侧入射至光程差生成部61时的倾斜度(理想状态为与光轴J1平行)保持一致。其结果，能够抑制或者减少多个透光部610的多条光束在照射面320上的会聚位置(沿X方向看时的会聚位置)产生Y方向的偏离，能够抑制照射面320上的线状照明光在Y方向上的宽度(粗度)。而且，在反射部65中，也可以使用互成90度的2片平面镜等来取代直角棱镜658。
在上述绘制装置1及光照射装置31、31a中，可进行各种变形。
在分割透镜部62中，多个要素透镜620、620a不一定要按照排列方向以恒定间距排列，例如，多个要素透镜620、620a在排列方向的宽度也可不同。此时，在排列方向上，也可改变多个透光部610的排列方向的宽度，以使得光程差生成部61中各透光部610的宽度，与该透光部610所对应的分割透镜部62的要素透镜620、620a的宽度之间的比，在所有透光部610中恒定。
中间变倍部64a不一定为两侧远心光学系统，只要使透过多个要素透镜620、620a的光可以分别入射至多个透光部610，这样构成放大光学系统即可。
在上述光照射装置31、31a的激光路径中，如果配置在与光程差生成部61相比更靠近照射面320侧的会聚透镜部63能够与照射面320上来自多个透光部610的光照射区域50重叠，则可在各种结构中实现重叠。
在绘制装置1中，配置在光照射装置31、31a的照射面320上的空间光调制器32，也可以是衍射光栅型的光调制器以外的类型，例如，可以使用具有微镜集合的空间光调制器。此时，Y方向的宽度为相对宽广的照射区域可以通过光照射装置31、31a而形成在在照射面320上。
移动基板9上光照射位置的移动机构也可以是移动载物台21的移动机构22以外的类型，例如可以是这样的移动机构，该移动机构使包括光照射装置31、31a、空间光调制器32及投影光学系统33在内光头相对于基板9移动。
在绘制装置1中绘制的对象，也可为半导体基板及玻璃基板以外的基板，或者基板以外的对象。光照射装置31、31a也可以用在用绘制装置1之外。
上述实施方式及各变形例子中的构成，只要不互相矛盾，可以适当组合。
虽然对发明进行了详细描述，但上述说明仅为示例，不应被看作受上述说明的限制。因此，只要不超出本发明范围，可以实现多数变形及样态。

Claims (2)

1.一种光照射装置，其特征在于，包括：
光源单元，其具有在一个面上排列的多个光源部，上述多个光源部沿上述面而从不同方向朝规定位置出射激光，
照射光学系统，其配置在上述规定位置，将来自上述光源单元的激光沿光轴引导至照射面；
上述照射光学系统包括：
分割透镜部，其具有在与上述光轴垂直且沿上述面的排列方向上排列的多个透镜，利用上述多个透镜分割来自上述多个光源部的入射光，
光程差生成部，其具有多个透光部，所述多个透光部排列在上述排列方向上且彼此具有不同光程，所述光程差生成部使透过上述多个透镜的多个光束分别入射至上述多个透光部，
会聚透镜部，其在上述激光的路径上配置在与上述光程差生成部相比而更靠近上述照射面的一侧，使来自上述多个透光部的上述多个光束的照射区域在上述照射面上重叠；
上述分割透镜部与上述光程差生成部彼此接近配置，
上述多个光源部所包含的多个光源的像形成于上述多个透镜各自的出射面的附近，
来自上述多个透镜的上述多个光束一边向上述排列方向发散，一边入射至上述多个透光部，
沿着上述排列方向从上述多个透光部各自的出射面出射的光束的宽度小于上述多个透光部的间距。
2.一种绘制装置，其特征在于，包括：
权利要求1所述的光照射装置，
空间光调制器，其配置在上述光照射装置中的上述照射面上，
投影光学系统，其将被上述空间光调制器进行了空间调制的光引导至对象物，
移动机构，其使被进行了上述空间调制的光在上述对象物上的照射位置移动，
控制部，其与上述移动机构使上述照射位置移动同步地，控制上述空间光调制器。
CN201510096672.1A 2014-03-28 2015-03-04 光照射装置与绘制装置 Active CN104950438B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014-069134 2014-03-28
JP2014069134A JP6383166B2 (ja) 2014-03-28 2014-03-28 光照射装置および描画装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104950438A CN104950438A (zh) 2015-09-30
CN104950438B true CN104950438B (zh) 2017-06-23

Family

ID=54165216

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510096672.1A Active CN104950438B (zh) 2014-03-28 2015-03-04 光照射装置与绘制装置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6383166B2 (zh)
KR (1) KR101743810B1 (zh)
CN (1) CN104950438B (zh)
TW (1) TWI576188B (zh)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102093637B1 (ko) * 2017-10-20 2020-03-27 전자부품연구원 라이다 장치 및 이를 포함하는 라이다 시스템
FI128044B (en) * 2017-12-22 2019-08-30 Dispelix Oy Laser projector and diffractive display device
JP6371925B1 (ja) * 2018-01-19 2018-08-08 セジン オント インクＳＥＪＩＮ ＯＮＴ Ｉｎｃ． 光源装置、およびそれを備える露光装置
CN108680060A (zh) * 2018-04-03 2018-10-19 北京环境特性研究所 一种激光红外复合目标模拟器、设备及系统
JP6709405B1 (ja) * 2019-07-03 2020-06-17 フェニックス電機株式会社 光源装置、およびそれを備える照明装置
JP7270219B2 (ja) * 2019-10-07 2023-05-10 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 光合波器及びそれを用いた画像投影装置
KR102470475B1 (ko) * 2020-11-12 2022-11-25 아이센서스 주식회사 리소그래피 장치 및 리소그래피 방법
JP2024039152A (ja) * 2022-09-09 2024-03-22 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 光照射装置および露光装置

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0721583B2 (ja) * 1985-01-22 1995-03-08 株式会社ニコン 露光装置
JPH1062710A (ja) * 1996-08-22 1998-03-06 Nikon Corp 照明光学系
JP2002072132A (ja) * 2000-08-30 2002-03-12 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 照明装置
TW523791B (en) * 2000-09-01 2003-03-11 Semiconductor Energy Lab Method of processing beam, laser irradiation apparatus, and method of manufacturing semiconductor device
JP3987350B2 (ja) * 2001-11-16 2007-10-10 株式会社リコー レーザ照明光学系及びそれを用いた露光装置、レーザ加工装置、投射装置
JP3969197B2 (ja) * 2002-06-06 2007-09-05 石川島播磨重工業株式会社 レーザ照射装置
KR100850708B1 (ko) * 2002-06-20 2008-08-06 삼성전자주식회사 광스캐너를 구비하는 화상 표시 장치
JP4546019B2 (ja) * 2002-07-03 2010-09-15 株式会社日立製作所 露光装置
JP2004253750A (ja) * 2002-12-27 2004-09-09 Nikon Corp 照明光源、露光装置及び露光方法
JP4144384B2 (ja) * 2003-03-11 2008-09-03 セイコーエプソン株式会社 プロジェクタ
JP4291230B2 (ja) * 2004-08-06 2009-07-08 株式会社日本製鋼所 結晶化膜の形成方法及びその装置
JP4478670B2 (ja) * 2006-09-08 2010-06-09 ソニー株式会社 １次元照明装置及び画像生成装置
JP2008242238A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Hitachi Via Mechanics Ltd 露光装置
JP2008294186A (ja) * 2007-05-24 2008-12-04 Shimadzu Corp 結晶化装置および結晶化方法
JP5197227B2 (ja) * 2008-08-19 2013-05-15 キヤノン株式会社 照明光学系及び画像投射装置
JP5433524B2 (ja) * 2010-08-03 2014-03-05 株式会社日立ハイテクノロジーズ 露光装置及び露光方法並びに表示用パネル基板製造装置及び表示用パネル基板の製造方法
JP2012181498A (ja) * 2011-02-10 2012-09-20 Olympus Corp 波長選択スイッチ
JP2013015762A (ja) * 2011-07-06 2013-01-24 Sony Corp 照明光学系および画像表示装置
JP5915124B2 (ja) * 2011-11-30 2016-05-11 セイコーエプソン株式会社 光源装置及びプロジェクター

Also Published As

Publication number Publication date
KR101743810B1 (ko) 2017-06-05
CN104950438A (zh) 2015-09-30
TW201536459A (zh) 2015-10-01
JP2015192080A (ja) 2015-11-02
JP6383166B2 (ja) 2018-08-29
KR20150112747A (ko) 2015-10-07
TWI576188B (zh) 2017-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104950438B (zh) 光照射装置与绘制装置
US11759886B2 (en) Laser line illumination
CN105182542B (zh) 光照射装置以及绘图装置
US8270084B2 (en) Device for beam shaping
TWI452338B (zh) 射線成形裝置
CN109863445B (zh) 用于从二极管激光器阵列生成线光束的装置
KR101651706B1 (ko) 레이저 방사선의 균일화 장치
KR102547657B1 (ko) 레이저 가공 장치
KR20090067042A (ko) 레이저 방사선 셰이핑 장치
KR20070057074A (ko) 광 균일화 장치 및 상기 광 균일화 장치를 구비한 조명장치 또는 포커싱 장치
US10133187B2 (en) Light irradiation apparatus and drawing apparatus
JP3955587B2 (ja) レーザ照射装置
KR20200068811A (ko) 레이저 가공 장치
JP4442537B2 (ja) レーザプロセス装置
EP3098017B1 (en) Light irradiation apparatus and drawing apparatus
JP3792193B2 (ja) 線状光照射装置
JP2024045830A (ja) レーザマーカ
KR20230092043A (ko) 레이저 가공 장치

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant