CN104898324A - 接液处理装置、接液处理方法、基板处理装置及基板处理方法 - Google Patents

Abstract

提供接液处理装置、接液处理方法、基板处理装置及基板处理方法，能够提高通过光取向法得到的液晶取向膜的各向异性、并且能够形成均匀的液晶取向膜。有关实施方式的接液处理装置对由输送辊(1)输送的基板(W)从第1喷嘴(N1)供给乳酸乙酯液而形成液膜，对形成了该液膜的状态的基板从位于第1喷嘴(N1)的基板(W)输送方向下游侧的第2喷嘴(N2)供给乳酸乙酯液。第1喷嘴(N1)在喷嘴内包含将气泡除去的机构，第2喷嘴(N2)例如使用喷淋喷嘴等喷嘴。

Description

接液处理装置、接液处理方法、基板处理装置及基板处理方法

技术领域

本发明的实施方式涉及接液处理装置、接液处理方法、基板处理装置及基板处理方法。

背景技术

例如，在液晶显示装置的制造工序中，有通过取向处理使液晶分子取向为希望的方向的工序。作为该液晶的取向处理方法，已知有在形成有作为电极的透明导电层的基板上涂敷聚酰亚胺树脂、硬化而形成树脂层后，通过将该树脂层的表面用打磨(rubbing)布向希望的一方向摩擦而对液晶分子赋予取向限制力的打磨法。此外，还已知有在基板上形成聚酰亚胺树脂层后，对该聚酰亚胺树脂层照射偏振光，与偏振方向或光入射方向相关地对液晶分子赋予取向限制力的光取向法。

但是，打磨法由于在打磨辊上卷绕由尼龙树脂类或乙烯树脂类的纤维制作的打磨布，用卷绕在该打磨辊上的打磨布将树脂层的表面机械地摩擦，所以从打磨布产生微小的尘埃等，有由于该尘埃而显示品质下降的问题。因此，需要在进行打磨处理后用处理液将基板清洗。

另一方面，通过光取向法得到的液晶取向膜与通过打磨得到的膜相比，对于高分子液晶取向膜的取向方向的各向异性小。如果各向异性小，则不能得到充分的液晶取向性，存在当成为产品时发生产生余像等问题的缺点。

发明内容

本发明的目的是提供一种提高通过光取向法得到的液晶取向膜的各向异性且能够形成均匀的液晶取向膜的接液处理装置、接液处理方法、基板处理装置及基板处理方法。

有关技术方案的接液处理装置，对具有通过光取向法形成的取向膜的基板进行接液处理，其特征在于，具有：保持机构，保持上述基板；第1喷嘴，具备将气泡除去的机构，对上述基板供给各向异性提高液而在上述基板的表面上形成液膜；至少一个第2喷嘴，是向上述基板供给各向异性提高液的喷嘴；以及输送机构，使上述基板和上述第1喷嘴及第2喷嘴相对地移动；上述第2喷嘴设置在第1喷嘴的基板输送方向下游侧，并且设置在能够对存在通过上述第1喷嘴形成在上述基板的表面上的液膜的状态的上述基板供给各向异性提高液的位置。

此外，也可以是，上述接液处理装置中，上述各向异性提高液至少是乳酸乙酯液、异丙醇、臭氧水中的某一种。

此外，也可以是，上述接液处理装置中，上述输送机构在上述基板位于上述第1喷嘴的输送方向下游侧的定时将输送停止一定时间；上述第1喷嘴在上述输送机构停止基板输送的定时，停止上述各向异性提高液的供给；上述第2喷嘴在上述输送机构停止基板输送的定时，将上述各向异性提高液的供给切换为间歇供给。

此外，也可以是，上述接液处理装置中，上述第2喷嘴将被供给到上述基板后被回收的上述各向异性提高液再次向上述基板供给。

此外，也可以是，上述接液处理装置中，上述第2喷嘴将被供给到上述基板后被回收的上述各向异性提高液再次向上述基板供给。

此外，也可以是，上述接液处理装置中，具有第3喷嘴，该第3喷嘴设置在上述第2喷嘴的基板输送方向下游侧，并且对存在通过上述第2喷嘴形成在上述基板的表面上的液膜的状态的上述基板供给不被循环供给的各向异性提高液。

此外，也可以是，上述接液处理装置中，具有回收从上述第1喷嘴、上述第2喷嘴和上述第3喷嘴供给并供给到上述基板的表面上的上述各向异性提高液的罐箱；上述罐箱具有分隔部，该分隔部用于将上述罐箱划分为主要回收从上述第1喷嘴供给的上述各向异性提高液的第1区域、以及主要回收从上述第3喷嘴供给的上述各向异性提高液的第2区域；在上述罐箱的壁面，具有用于将贮存于上述第1区域的上述各向异性提高液供给到上述第1喷嘴的循环配管。

有关技术方案的接液处理装置，对具有通过光取向法形成的取向膜的基板进行接液处理，其特征在于，具有：第1处理单元，具备第1喷嘴和液膜除去喷嘴，上述第1喷嘴具备将气泡除去的机构，对上述基板供给至少为乳酸乙酯液、异丙醇、臭氧水中的某一种的各向异性提高液而在上述基板的表面上形成液膜，上述液膜除去喷嘴为了将由上述第1喷嘴形成在上述基板的表面上的液膜除去而对上述基板的表面供给气体；第2处理单元，具备至少一个第2喷嘴，该第2喷嘴是向上述基板供给各向异性提高液的喷淋喷嘴；以及输送机构，具有保持上述基板的保持机构，使上述第1处理单元及第2处理单元相对地移动；上述第1处理单元被连续设置多个。

有关技术方案的基板处理装置，对具有通过光取向法形成的取向膜的基板进行处理，其特征在于，具有：保持机构，保持基板；接液处理单元，具备第1喷嘴和至少一个第2喷嘴，上述第1喷嘴具备将气泡除去的机构，对上述基板供给至少为乳酸乙酯液、异丙醇、臭氧水中的某一种的各向异性提高液而在上述基板的表面上形成液膜，上述第2喷嘴是向上述基板供给上述各向异性提高液的喷淋喷嘴；冲洗处理单元，具有喷淋喷嘴，该喷淋喷嘴供给将由上述接液处理单元形成在上述基板上的上述液膜置换的冲洗液；干燥单元，具有狭缝喷嘴，该狭缝喷嘴对由上述冲洗处理单元供给了冲洗液的上述基板供给气体；以及输送机构，使上述基板、上述第1喷嘴和上述第2喷嘴及上述喷淋喷嘴相对地移动；上述第2喷嘴设置在第1喷嘴的基板输送方向下游侧，并且设置在能够对存在由上述第1喷嘴形成在上述基板的表面上的液膜的状态的上述基板供给上述各向异性提高液的位置。

有关技术方案的接液处理方法，将具有通过光取向法形成的取向膜的基板一边通过输送机构输送一边进行接液处理，其特征在于，具有以下工序：从第1喷嘴对上述基板供给除去气泡后的至少为乳酸乙酯液、异丙醇、臭氧水中的某一种的各向异性提高液而在上述基板的表面上形成液膜的工序；以及对存在通过形成上述液膜的工序形成的液膜的状态的上述基板，从至少一个作为喷淋喷嘴的第2喷嘴供给上述各向异性提高液的工序。

有关技术方案的接液处理方法，将具有通过光取向法形成的取向膜的基板一边通过输送机构输送一边进行接液处理，其特征在于，具有以下工序：从第1喷嘴对上述基板供给除去气泡后的至少为乳酸乙酯液、异丙醇、臭氧水中的某一种的各向异性提高液而在上述基板的表面上形成液膜的工序；通过液膜除去喷嘴将形成在上述基板的表面上的液膜除去的工序；将形成上述液膜的工序及除去上述液膜的工序的组合进行多次的工序；以及对将上述各向异性提高液的液膜除去后的上述基板，从至少一个作为喷淋喷嘴的第2喷嘴供给上述各向异性提高液的工序。

有关技术方案的基板处理方法，将具有通过光取向法形成的取向膜的基板一边通过输送机构输送一边进行处理，其特征在于，具有以下工序：接液处理工序，具有从第1喷嘴对上述基板供给除去气泡后的至少为乳酸乙酯液、异丙醇、臭氧水中的某一种的各向异性提高液而在上述基板的表面上形成液膜的工序、以及对存在通过形成上述液膜的工序形成的液膜的状态的上述基板、从至少一个作为喷淋喷嘴的第2喷嘴供给上述各向异性提高液的工序；冲洗处理工序，将通过上述接液处理工序形成在上述基板上的上述液膜置换为冲洗液；以及干燥工序，对通过上述冲洗处理工序被供给了冲洗液的上述基板供给气体。

根据上述接液处理装置、接液处理方法、基板处理装置及基板处理方法，能够提高通过光取向法得到的液晶取向膜的各向异性，并且能够形成均匀的液晶取向膜。

附图说明

图1是搭载有本发明的第1实施方式的接液处理装置的基板处理装置的概略结构图。

图2是有关本发明的第1实施方式的接液处理装置的概略结构图。

图3是有关本发明的第1实施方式的接液处理装置和进行其前工序的光取向处理装置的概略结构图。

图4是有关本发明的第3实施方式的接液处理装置的概略结构图。

图5是有关本发明的第4实施方式的接液处理装置的概略结构图。

图6是有关本发明的第5实施方式的接液处理装置的概略结构图。

具体实施方式

以下，参照附图说明本发明的实施方式。

(第1实施方式)

图1是本发明的第1实施方式的基板处理装置100的侧视图。基板处理装置100是对在向基板处理装置100搬入基板W之前的工序(由光取向处理装置进行的光取向处理工序)中处理后的基板W供给处理液而进行处理的装置。另外，关于作为基板处理装置100的前工序的光取向处理工序，在后面叙述。

如图1所示，基板处理装置100具有接液处理单元U1(接液处理装置)、冲洗处理单元U2、干燥单元U3的多个单元。在各单元U1、U2、U3中，具备通过未图示的驱动机构旋转的输送辊1(保持机构)，在该输送辊1上载置基板W，向图中X方向输送而依次处理。该驱动机构和输送辊1构成输送机构。

另外，关于输送辊1，作为其一例，例如可以考虑在旋转轴的周围具备在其宽度方向上以规定的间距与基板W直接接触的辊部的输送辊。

但是，在采用这样的输送辊的情况下，如果将基板W载置到输送辊上，则由于辊部被以规定的间距设置，所以出现该辊部与基板接触的部分和不接触的部分。于是，由于基板W较薄，所以可以想到在输送中基板W会挠曲。如果这样基板W挠曲，则有可能在进行接液处理的情况下出现处理不匀。此外，即使基板W不挠曲，在进行了接液处理的情况下，也可以想到在基板W与输送辊的接触部接触的部分和不接触的部分中，被吐出的处理液碰撞到基板表面时的力不同，这很可能导致处理不匀。

另一方面，在不具备辊部而使用输送轴自身起到辊的作用的输送辊1的情况下，能够降低发生上述那样的危害的可能性。所以，作为将作为处理对象的基板W输送的输送辊1，优选的是使用形成为使载置的基板表面为平滑的状态的输送辊1。

在接液处理单元U1中，具备用来向基板W供给作为处理液的乳酸乙酯液(Ethyl－L－lactate)的第1喷嘴N1和多个第2喷嘴N2。在冲洗处理单元U2中，具备用来对从接液处理单元U1搬入的基板W供给冲洗液(例如纯水)的喷淋喷嘴2。进而，在干燥单元U3中，具备用来对从冲洗处理单元U2搬入的基板W喷射气体(例如空气)而使基板W干燥的狭缝喷嘴3。

另外，作为处理液，除了乳酸乙酯液以外，例如也可以考虑IPA(异丙醇：Isopropyl Alcohol)或臭氧水，它们都是能够提高通过光取向法得到的液晶取向膜的各向异性的、例如也可以称作“各向异性提高液”的处理液。所以，以下作为该各向异性提高液的一例而举乳酸乙酯液进行说明。

此外，第1喷嘴N1、第2喷嘴N2、喷淋喷嘴2、狭缝喷嘴3都以与被输送辊1输送的基板对置的方式，在基板W的输送路径的上方且沿着基板W的输送方向被依次设置。

进而，如果设基板的与X方向正交的宽度方向Y的长度为A，则由喷淋喷嘴2形成的基板上的Y方向上的涂敷区域长度、狭缝喷嘴3的狭缝长度分别至少为A以上。

图2是基板处理装踨100的接液处理单元U1的概略结构图。第1喷嘴N1是狭缝喷嘴，构成为将作为处理液的乳酸乙酯液以幕状吐出。进而，第1喷嘴N1是为了防止在吐出的乳酸乙酯液中包含气泡而具有用来将剩余气体排出的阀等、具有周知的用于气泡防止的结构的喷嘴(例如特开2008－53689号公报)。另外，这里所述的“防止”是指在从喷嘴吐出的乳酸乙酯液中包含气泡，也包括将一度产生的气泡除去后吐出的机构。

另一方面，第2喷嘴N2是将与第1喷嘴N1吐出的液体相同的乳酸乙酯液以液滴状吐出的喷淋喷嘴，不特别具备使得不包含气泡的机构等。但是，对第2喷嘴N2与基板W的高度距离而言，考虑吐出压力而设定，以使得在将吐出的乳酸乙酯供给到基板W后、在基板W上表面不起泡。

此外，如果设基板的与X方向正交的宽度方向Y的长度为A，第1喷嘴N1的狭缝长、由多个第2喷嘴N2形成的基板上的Y方向上的处理液供给区域长度分别至少为A以上。

图3是表示进行向基板处理装置100输送基板W之前的工序即光取向处理的光取向处理装置4的结构、和基板W被向基板处理装置100搬入而最先被搬入的接液处理单元U1的图。另外，在图3中，省略了冲洗处理单元U2、干燥单元U3。

光取向处理装置4是具备灯L、对基板W照射UV光(光取向处理)的装置。如果从灯L照射UV光，则形成在基板W上的感光性树脂层的分子构造的一部分发生构造变化，被赋予取向限制力。被赋予了该取向限制力的基板W上残留有低分子量成分。该低分子量成分例如是在被照射光之前的高分子的末端附近光分解的游离成分，不贡献于液晶取向膜的取向限制力的赋予。通过将该低分子量成分除去，能够提高液晶取向膜的各向异性。

接着，对基板处理装置100的处理的次序进行说明。另外，动作控制都由未图示的控制部进行。

由光取向处理装置4进行光取向处理后的基板W被向基板处理装置100搬入，一边被输送辊1向输送方向X方向依次输送一边被处理。

首先，如果向接液处理单元U1搬入基板W，则从未图示的控制部送来信号，从第1喷嘴N1将作为处理液的乳酸乙酯液以幕状吐出。

对作为处理液使用的乳酸乙酯液而言，已知对于通过作为前工序的光取向处理将残留在基板W的表面上的低分子量成分除去是有效的，但具有容易包含气泡的性质。如果将包含较多的气泡的状态的乳酸乙酯液向基板W供给，则在乳酸乙酯液与基板W表面之间存在气泡，妨碍向基板W的表面的接液。因此，乳酸乙酯液有可能不会有效地作用于基板W而不能形成均匀的液晶取向膜。

因此，第1喷嘴N1采用如上述那样具有将气泡除去的结构的周知的狭缝喷嘴。从第1喷嘴N1供给的乳酸乙酯液在基板W上形成液膜。通过未图示的驱动机构设定输送辊1的旋转速度，以使基板W的输送速度成为能够在基板W的表面上形成乳酸乙酯液的液膜的速度。

此外，在前工序中残留在基板W的表面上的低分子量成分通过与该乳酸乙酯液接触一定时间而被除去。因而，基板W上的乳酸乙酯液需要在一定时间中作为不包含气泡的液膜而存在于基板W上。

基板W一边被输送辊1在输送方向X上输送，一边通过被从第1喷嘴N1供给乳酸乙酯液而被处理，但随着处理进展，基板W上的乳酸乙酯液(特别是到达了基板W的端部的液体)从基板W掉落。因而，存在于基板W的输送方向X的下游侧的液膜与同时间点在第1喷嘴N1的正下方被输送的基板W的一部分相比变薄。因此，第2喷嘴N2设在为了将乳酸乙酯液的液膜持续一定时间形成到基板W上所需要的部位处。

即，第2喷嘴N2的设置位置被设定为，对从第1喷嘴N1供给的乳酸乙酯液的液膜虽然变薄但存在的状态(没有不存在乳酸乙酯液的部位的状态)的基板W从第2喷嘴N2供给乳酸乙酯液。

构成为，从考虑这样的情况而配设的第2喷嘴N2在基板W被搬入到接液处理单元U1并经过一定时间后，根据来自未图示的控制部的信号，开始乳酸乙酯液的供给。

第2喷嘴N2是喷淋喷嘴，由于没有特别具有如第1喷嘴N1那样的将气泡除去的机构，所以在从第2喷嘴N2吐出的乳酸乙酯液中，与从第1喷嘴N1吐出的乳酸乙酯液相比，包含气泡的可能性高。

但是，因为以下的理由，即使在从第2喷嘴N2供给的乳酸乙酯液中包含有气泡，也可防止对处理带来影响。

第1是因为，在从第2喷嘴N2供给乳酸乙酯液的时间点，在基板W上存在从第1喷嘴N1供给的乳酸乙酯液的液膜。该时间点的液膜虽然与刚从第1喷嘴N1供给后相比变薄，但处于没有不存在乳酸乙酯液的部位的状态，所以在从第2喷嘴N2供给的乳酸乙酯液中包含的气泡不会成为处理的妨碍。

第2是因为，第2喷嘴N2是喷淋喷嘴，吐出的液体是液滴状，所以乳酸乙酯液中包含的气泡的大小是比吐出的液滴小的尺寸。在这样较小的气泡供给到基板W上的情况下，与包含较大尺寸的气泡的情况相比，在乳酸乙酯液与基板之间存在成为妨碍的气泡的面积较小，所以不对处理带来影响。

第3是因为，如上述那样，第2喷嘴N2与基板W的高度距离是考虑吐出压力而设定的，以使得在吐出的乳酸乙酯供给到基板W后在基板W上表面上不会起泡(例如，在突出压力小于0.15MPa时，从基板W表面到第2喷嘴吐出面的高度距离优选的是小于100毫米。另外，在第2喷嘴N2的高度被固定的情况下，也可以调整吐出压力来防止起泡。

这样，第2喷嘴N2与第1喷嘴N1相比，不需要具备将气泡除去的机构等，所以机构较简单，便宜的结构就可以，与具备多个具有与第1喷嘴N1相同的机构的喷嘴的装置相比能够实现大幅的成本降低。通过从第2喷嘴N2向基板W供给乳酸乙酯液，在基板W的表面上，在基板W被从接液处理单元U1搬出之前不中断地持续形成液膜。

如果基板W的X方向前端到达配置在最下游的第2喷嘴N2(在图2中是右侧的第2喷嘴N2)的正下方，则未图示的控制部将从第1喷嘴N1的乳酸乙酯液的供给停止。在该时间点，基板W被输送到不存在于第1喷嘴N1的正下方的位置。即，在本实施方式中，相对于第1喷嘴N1与位于X方向最下游的第2喷嘴N2的间隔，X方向上的基板W的长度较短。多个第2喷嘴N2从来自第1喷嘴N1的乳酸乙酯液的供给停止的时间点开始，从设置在第1喷嘴N1侧的第二喷嘴起依次每经过一定时间停止供给。对该一定时间而言，考虑通过充分的量的乳酸乙酯液对基板W进行接液处理所需要的时间来设定。

接着，如果基板W搬入到冲洗处理单元U2，则根据来自未图示的控制部的信号，开始从喷嘴2的纯水的供给。喷嘴2例如是喷淋喷嘴，是在一般的基板的冲洗工序中使用的周知的喷嘴。如果从喷嘴2对基板W供给纯水，则在接液处理单元U1形成的基板W上的乳酸乙酯液的液膜被纯水置换。

接着，如果基板W搬入到干燥单元U3，则根据来自未图示的控制部的信号，开始从狭缝喷嘴3供给空气。狭缝喷嘴3是在一般的基板的干燥工序中使用的周知的狭缝喷嘴。通过来自狭缝喷嘴的空气，在冲洗处理单元U2供给到基板W上的纯水被吹飞，基板W得以干燥。从干燥单元U3搬出的基板W输送至接下来的工序。

根据上述第1实施方式，由于在对基板W的接液处理完成之前，能够使乳酸乙酯液的液膜不中断地存在于基板W上，所以能够提高通过光取向法得到的液晶取向膜的各向异性，并且能够在处理中不发生不匀地形成均匀的液晶取向膜。

(第2实施方式)

接着，对本发明的第2实施方式进行说明。另外，在第2实施方式中，对于与在上述第1实施方式中说明的构成要素相同的构成要素赋予相同的附图标记，相同构成要素的说明由于重复所以省略。

与上述第1实施方式不同的点是将基板W从接液处理单元U1搬出并向冲洗处理单元U2搬入的定时、和第1喷嘴N1、第2喷嘴N2的液供给的定时。

首先，与第1实施方式同样，如果光取向处理后的基板W搬入到接液处理单元U1，则从第1喷嘴N1朝向基板W供给乳酸乙酯液。被搬入的基板W通过输送辊1依次向X方向输送，输送至第2喷嘴N2的下方，与第1实施方式同样被供给来自第2喷嘴N2的乳酸乙酯液。这样，与第1实施方式同样，在基板W上形成乳酸乙酯液的液膜。

然后，如果基板W不再存在于第1喷嘴N1的下方，则未图示的控制部将从第1喷嘴N1的吐出停止，并在该时间点将基板W的输送暂时停止。在该时间点，处于多个第2喷嘴N2对置于基板W的上方的状态。

第2喷嘴N2对该停止的基板W进行乳酸乙酯液的吐出。第2喷嘴N2可以对停止的基板连续地吐出乳酸乙酯液，但只要设定为使得形成在基板W上的液膜不中断地持续形成在基板W上即可，也可以间歇地吐出。进而，基板W的输送被停止的时间是能够通过乳酸乙酯液充分进行处理的一定时间。如果经过该一定时间，则将基板W再次被输送辊1输送，从接液处理单元U1搬入到冲洗处理单元U2。

通过这样控制将基板W从接液处理单元U1搬出并向冲洗处理单元U2搬入的定时、和第1喷嘴N1、第2喷嘴N2的液供给的定时，能够得到与第1实施方式同样地得到能够提高通过光取向法得到的液晶取向膜的各向异性、并且能够在处理中不发生不匀地形成均匀的液晶取向膜的效果。

并且，只要设有用来对停止的基板W供给乳酸乙酯液的第2喷嘴N2就可以，可以不用为了对输送中的基板W供给乳酸乙酯液而在输送路径中设置许多第2喷嘴N2，所以接液处理单元U1所具备的第2喷嘴N2的数量及输送辊1的数量为最小限度就足够。进而，能够使接液处理单元U1的大小变小，能够削减基板处理装置100自身的设置空间。

(第3实施方式>

接着，对本发明的第3实施方式进行说明。

图4是有关本发明的第3实施方式的接液处理装置的概略结构图。

有关第3实施方式的接液处理单元U12在除了第1喷嘴N1、第2喷嘴N2以外还具有第3喷嘴N3这一点以外，与上述第1实施方式及第2实施方式相同，对于相同的机构使用相同的附图标记表示，省略说明。

第3喷嘴N3是具有与第1喷嘴N1相同的机构的狭缝喷嘴，总是将清洁的乳酸乙酯液以幕状供给。这里，第1喷嘴N1及第2喷嘴N2例如构成为，将贮存在未图示的罐箱(tank)中的乳酸乙酯液吐出。从该第1喷嘴N1及第2喷嘴N2吐出的乳酸乙酯液在被供给到基板W上之后，被未图示的回收机构回收并送回至罐箱，再次被从第1喷嘴N1及第2喷嘴N2吐出。

相对于此，供给到第3喷嘴N3的乳酸乙酯液每次被供给未使用的乳酸乙酯液。即，从第3喷嘴N3对基板W供给没有被循环供给的乳酸乙酯液。第3喷嘴N3在基板W被输送至接着的冲洗处理单元之前，将基板W上的液膜置换为清洁的乳酸乙酯液。该第3喷嘴N3在通过第1喷嘴N1及第2喷嘴N2向基板W上供给乳酸乙酯液并经过足够进行接液处理的时间后，向基板W上供给乳酸乙酯液。

像这样，从第3喷嘴N3吐出的清洁的乳酸乙酯液供给至基板W，由此能够在冲洗工序前将基板W上的液膜中包含的异物除去。此外，如前面在各实施方式中说明的那样，在对基板W的接液处理完成之前，能够使乳酸乙酯液的液膜不中断地存在于基板W上，所以能够提高通过光取向法得到的液晶取向膜的各向异性，并且能够不在处理中发生不匀地形成均匀的液晶取向膜。

(第4实施方式)

图5是有关本发明的第4实施方式的接液处理装置的概略结构图。

有关第4实施方式的接液处理单元U12除了在输送辊1的下方具有罐箱T、和具有循环配管10、供液配管20、废液配管30这一点以外，与上述第3实施方式相同，对于相同的机构使用相同的附图标记表示，说明省略。

罐箱T在基板W的输送方向上的长度的约一半的地点具有分隔部T1，通过该分隔部T1划分为A区域(第1区域)和B区域(第2区域)。在A区域的底面连接着循环配管10的起始端，循环配管10的末端连接于第1喷嘴N1及第2喷嘴N2，在循环配管10的中途具备未图示的泵。在B区域的底部设有供液配管20的起始端，供液配管20的末端连接于A区域的底部，在供液配管20的中途，具备未图示的泵。

进而，在A区域底部设有废液配管30，循环配管10、供液配管20、废液配管30分别具有开闭阀10a、10b、20a、30a。此外，在A区域的罐箱T，设有用来将贮存在A区域内的乳酸乙酯液加温的加热器H、用来冷却的冷却机构C。加热器H例如设在罐箱T的A区域的底部，冷却机构C例如使冷却水在设置在罐箱T的A区域内的配管内流动。

在基板W的处理中使用后的乳酸乙酯液被回收至罐箱T。

从第1喷嘴N1或第2喷嘴N2供给的乳酸乙酯液如上述那样被循环供给，被多次提供到基板W的接液处理。相对于此，从第3喷嘴N3供给的乳酸乙酯液如上述那样总是使用清洁的乳酸乙酯液。在罐箱T中，分隔部T1的位置被决定为，使A区域主要回收来自第1喷嘴N1的乳酸乙酯液，使B区域主要回收来自第3喷嘴N3的乳酸乙酯液。

这里，所谓“主要”是指，在A区域中被回收的乳酸乙酯液包括从第1喷嘴N1供给到基板W上的乳酸乙酯液和从第2喷嘴N2供给到基板W上的乳酸乙酯液，但第1喷嘴N1如上述那样是在基板W上形成液膜的喷嘴。相对于此，第2喷嘴N2是用来对已经由第1喷嘴N1形成了液膜的基板W辅助地供给乳酸乙酯液的喷嘴。因此，在A区域中被回收的乳酸乙酯液中，来自第1喷嘴N1的乳酸乙酯液压倒性地较多。

此外，在B区域中被回收的乳酸乙酯液包括从第3喷嘴N3供给到基板W上的乳酸乙酯液、从第2喷嘴N2供给到基板W上的乳酸乙酯液、和作为液膜存在于基板W上的来自第1喷嘴N1的乳酸乙酯液。但是，第3喷嘴N3如上述那样是用来将基板W上的液膜置换的喷嘴，所以在B区域中被回收的乳酸乙酯液中来自第3喷嘴N3的乳酸乙酯液压倒性地较多。

在罐箱T的A区域中设有浓度计D。用浓度计D测定的在A区域中贮存的乳酸乙酯液的浓度的测定结果发送至未图示的控制部。在控制部中，使用接收到的测定结果判定是否是在接液处理中使用的容许范围(预先通过实验等求出设定)的浓度。

如果由控制部判断为在A区域中贮存的乳酸乙酯液的浓度偏离了容许范围，则设在循环配管10的中途的未图示的泵停止，阀10a、10b关闭。由此，从罐箱T向循环配管10的乳酸乙酯液的供给停止，接液处视单元U12中的处理暂时停止。并且，废液配管30的阀30a打开，A区域内的乳酸乙酯液被废弃，阀30a关闭。即，在乳酸乙酯液的浓度偏离了容许范围的情况下，乳酸乙酯液的使用中止，该乳酸乙酯液被废弃。

接着，供液配管20的阀20a被打开，B区域的乳酸乙酯液通过设在供液配管20的中途的未图示的泵的驱动而移动至A区域。如果预先设定的量的乳酸乙酯液充满到A区域中，则供液配管20的阀20a关闭，加热器H的电源接通。循环配管10的阀10a、在从循环配管10分岔而连接于第2喷嘴N2的配管中配备的阀10b被打开，向第1喷嘴N1及第2喷嘴N2的乳酸乙酯液的供给重新开始，接液处理重新开始。

另外，贮存在B区域中的仅一次被提供于接液处理的乳酸乙酯液能够从未图示的废液用的配管废弃，在A区域的乳酸乙酯液的浓度为容许范围内、即不需要从B区域向A区域供给乳酸乙酯液、且B区域的乳酸乙酯液变满的情况下，能够进行废液。另外，当基板W存在于第1喷嘴N1、第2喷嘴N2的下方时，该基板W穿过后使设在循环配管10的中途的泵停止。

在使用乳酸乙酯液的接液处理工序中，由于乳酸乙酯液的温度与处理效率有关，所以需要将希望的温度的乳酸乙酯提供给第1喷嘴N1、第2喷嘴N2是重要的。这里，通过在罐箱T的A区域侧设置的加热器H、冷却机构C进行以后要向基板W供给的A区域的乳酸乙酯液的温度管理，能够高效地进行接液处理。

进而，如上述那样，罐箱T被分隔部T1划分为两个区域。一方的A区域主要回收被多次提供于接液处理的乳酸乙酯液，另一方的B区域主要回收仅一次被提供于接液处理的乳酸乙酯液。因此，与不具备分隔部T1时相比，容易保持在处理中使用的乳酸乙酯液的浓度的均匀性。

即，在不具备分隔部T1的情况下，将从第1喷嘴N1、第2喷嘴N2、第3喷嘴N3供给的全部的乳酸乙酯液回收至相同的区域。因而，向第1喷嘴N1、第2喷嘴N2循环供给而逐渐浓度变淡的乳酸乙酯液、和来自不被循环供给而总是供给新液的第3喷嘴N3的乳酸乙酯液不均匀地混合，乳酸乙酯液的浓度明显变化。

另一方面，通过具备分隔部T1，进行浓度变化较大的A区域内的乳酸乙酯液的浓度测定，如果偏离容许范围，则在将这样的乳酸乙酯液废液后，使用没有在循环供给中使用过的区域B内的乳酸乙酯液。通过进行这样的处理，能够总是向基板W供给容许范围内的浓度、且比较均匀的浓度的乳酸乙酯液。

与此同时，如在上述各实施方式中说明那样，在对基板W的接液处理完成之前，能够使乳酸乙酯液的液膜不中断地存在于基板W上，所以起到能够提高通过光取向法得到的液晶取向膜的各向异性、并且在处理中不会发生不匀地形成均匀的液晶取向膜的效果。

此外，即使基板W的尺寸变大而所使用的乳酸乙酯液的量变多，通过具备分隔部T1而进行乳酸乙酯液的浓度管理，从而不需要管理罐箱T内的乳酸乙酯液全部的浓度，所以能够总是比较容易地将容许范围内的浓度的乳酸乙酯液向第1喷嘴N1、第2喷嘴N2供给。

进而，为了调整以后向第1喷嘴N1供给的乳酸乙酯液的温度，只要仅在A区域配备加热器H、冷却机构C就足够，所以与在罐箱T的底部整体配备加热器H、冷却机构C的情况相比，能够削减能量。

另外，在B区域的乳酸乙酯液变满的情况下，也可以贮存到未图示的别的罐箱中。或者，也可以能够使得经由分隔部T1从B区域向A区域溢流。

此外，举出了通过用浓度计D测定A区域的乳酸乙酯液的浓度，在接液处理中控制部使用该测定结果判断是否在容许范围的例子，但并不限定于此，也可以在时间上进行管理。

此外，对A区域的乳酸乙酯液的浓度测定而言，也可以通过测定在乳酸乙酯液中含有的杂质的浓度来管理。

(第5实施方式)

接着，对本发明的第5实施方式进行说明。另外，在第5实施方式中，对于与在上述第1～第4实施方式中说明的构成要素相同的构成要素赋予相同的附图标记，相同构成要素的说明由于重复所以省略。

图6是有关第5实施方式的接液处理装置U13的概略结构图。接液处理装置U13由第1处理单元U13A、U13B和第2处理单元U13C构成。

其中，第1处理单元U13A、U13B都采用相同的结构，具备第1喷嘴N4和液膜除去喷嘴5这两种喷嘴。

即，第1喷嘴N4与此前说明的第1喷嘴N1同样，具备将气泡除去的机构，通过对基板供给乳酸乙酯液等的各向异性提高液，起到在基板表面上形成液膜的作用。因而，该第1喷嘴N4是狭缝喷嘴，将作为处理液的各向异性提高液以幕状吐出。此外，吐出的各向异性提高液如上述那样，至少是乳酸乙酯液、IPA或臭氧水中的某一种。

在通过输送机构输送基板W的方向(即图6的X方向)上游，设有该第1喷嘴N4。并且，在输送方向下游设有液膜除去喷嘴5。该液膜除去喷嘴5是为了将通过第1喷嘴N4形成在基板W的表面上的液膜除去而例如用来喷射气体(例如空气)的喷嘴。

这样，第1处理单元U13A、U13B都具有相同的结构，所以成为对基板W进行两次相同的处理。并且，如图6所示，由于第1处理单元U13A和第1处理单元U13B相邻设置，所以对基板W的处理被连续进行。

另外，这里因为将两个第1处理单元相邻设置，所以构成为连续地进行两次相同的处理，但关于连续进行处理的次数，只要不是1次而是多次就可以，也可以是两次或3次。

另一方面，第2处理单元U13C具备作为将乳酸乙酯液等各向异性提高液以液滴状吐出的喷淋喷嘴的第2喷嘴N5。第2处理单元U13C是具有通过从第2喷嘴N5朝向基板W吐出各向异性提高液来将有可能在第1处理单元U13A、U13B中未能除去而残留的低分子量成分除去的作用的处理单元。该第2喷嘴N5不特别具有将气泡除去的机构。

因此，第2喷嘴N5与基板W的高度距离被设定为碰撞到基板W的各向异性提高液能够充分除去低分子量成分、并且能够避免因将各向异性提高液碰撞到基板W而发生不匀的距离。此外，该第2喷嘴N5在图6所示的第2处理单元U13C中沿着基板W的输送方向设有5个。但是，可以任意地设定在第2处理单元U13C内设置几个第2喷嘴N5。

这里，如在前面各实施方式中说明的那样，本发明的目的是提供一种能够提高通过光取向法得到的液晶取向膜的各向异性、并且能够形成均匀的液晶取向膜的接液处理装置等。在前面，例如如有关第1实施方式的接液处理装置U1那样，当通过使用乳酸乙酯液进行低分子量成分的除去时，从第1喷嘴N1供给的乳酸乙酯液的液膜虽然存在但变薄的情况下，通过从第2喷嘴N2另行供给乳酸乙酯液，使得在对基板W的接液处理完成之前在基板W上不中断地存在乳酸乙酯液的液膜，由此实现处理的促进。

在第5实施方式中，在提高液晶取向膜的各向异性且促进均匀的液晶取向膜的形成时，采用在基板W的表面上形成乳酸乙酯液的液膜后、将形成的该液膜暂且全部除去并再次形成液膜的方法。具体而言，通过以下的流程进行处理。另外，该处理在图6中将基板W在接液处理装置U13内沿X方向输送的期间中进行。

如果通过输送辊1将基板W输送到接液处理装置U13内，则首先从第1处理单元U13A的第1喷嘴N4将乳酸乙酯液以幕状吐出。通过将乳酸乙酯液吐出，在基板W的表面上形成液膜。通过形成在该基板W的表面上的液膜，进行基板表面上的低分子量成分的除去处理。

在基板W的表面上存在液膜的状态下，将基板W通过输送辊1输送。在输送中也持续进行低分子量成分的除去处理，但随着时间的经过，例如乳酸乙酯液相对于与基板W的接触面不流动，所以处理成为饱和状态，低分子量成分的除去处理的效率下降。

这里，可以认为通过使基板W上的乳酸乙酯液流动来消除该问题，但在基板W上如上述那样进行通过光取向法的处理，如果在该基板W背面上使乳酸乙酯液向各种方向流动，则基板W上的取向方向变得混乱，有可能产生引起显示不良等的新的问题。

所以，暂且将形成在基板W的表面上的乳酸乙酯液的液膜通过液膜除去喷嘴5除去。液膜除去喷嘴5通过对基板W的表面喷吹空气而将液膜除去。并且，在该状态下，基板W被向接着的第1处理单元U13B输送。

在第1处理单元U13B中，对被搬入的基板W重新从第1喷嘴N4以幕状吐出乳酸乙酯液，在基板表面形成液膜。通过在基板W的表面重新形成液膜，再次进行通过乳酸乙酯液的低分子量成分的除去处理。

但是，与在第1处理单元U13A内输送的情况同样，随着在第1处理单元U13B内被输送，通过乳酸乙酯液进行的低分子量成分的除去处理的效率逐渐下降。所以，再次通过液膜除去喷嘴5将形成在基板W的表面上的乳酸乙酯液的液膜除去。

被除去了液膜的基板W通过输送辊1被向第2处理单元U13C输送。在该第2处理单元U13C中，由第2喷嘴N5将乳酸乙酯液作为液滴以喷淋状朝向基板W的表面吐出。

到此为止，多次在第1处理单元U13A、U13B中通过乳酸乙酯液的液膜进行了低分子量成分的除去处理，但在基板W的表面上还有可能残留有低分子量成分。所以，在第2处理单元U13C中以喷淋状吐出乳酸乙酯液，将乳酸乙酯液对基板W的表面以撞击的方式碰撞，利用其冲击进行剩余的低分子量成分的除去，

通过这些处理，接液处理装置U13内的利用乳酸乙酯液等各向异性提高液的低分子量成分的除去处理结束，通过输送辊1向在图6中没有图示的冲洗处理单元U2、干燥单元U3输送基板W，分别进行处理。

通过在接液处理装置U13内进行以上说明的处理，能够提供能够提高通过光取向法得到的液晶取向膜的各向异性并且能够形成均匀的液晶取向膜的接液处理装置、接液处理方法、基板清洗装置及基板处理方法。

特别是，通过暂且将形成在基板W的表面上的液膜除去后重新形成液膜，能够实现基于乳酸乙酯液等各向异性提高液进行的低分子量成分的除去处理的促进。即，通过重复多次液膜的形成、除去，每次形成新的液膜，所以即使处理速度下降也能够每次进行恢复，所以能够实现处理促进。

另外，在第5实施方式中，通过进行这样的处理来实现了低分子量成分的除去处理的促进，所以不以将液膜的形成、除去的组合仅限定为1次为前提。这是因为，如果液膜的形成、除去分别仅为1次，则在基板W的表面与乳酸乙酯液接触的界面处没有运动，如上述那样处理速度会逐渐下降。另一方面，关于将该组合重复几次，可以自由地设定。

此外，关于在第1喷嘴N4或第2喷嘴N5中使用的乳酸乙酯液没有特别加以限定，所以例如可以使用在第4实施方式中说明那样的被循环供给的乳酸乙酯液，或者也可以使用不被循环供给的清洁的乳酸乙酯液。

(其他变形例>

另外，在上述各实施方式中，说明了将基板通过输送辊输送的例子，但并不限定于此，例如只要具有喷嘴侧移动等基板和喷嘴相对移动的机构就可以。

此外，在上述特别是第1至第4实施方式中，说明了具备多个第2喷嘴的例子，但并不限定于此，可以根据基板的尺寸及输送速度采用适当的个数。能够设置最小限度的个数的喷嘴，能够实现成本降低。

进而，在上述特别是第1至第4实施方式中，说明了由控制部根据基板搬入到各单元起的时间的经过来控制来自第1喷嘴和第2喷嘴的处理液的供给开始及供给停止的定时的例子，但并不限定于此，也可以是与基板的搬入定时无关的定时下的控制，或者在基板W被搬入到接液处理单元U1以后到从干燥单元U3向下个工序搬出为止进行供给。此外，也可以感知输送辊1保持基板的定时，根据该定时来控制。在此情况下，与根据时间进行控制的情况相比，能够更正确地仅在需要的定时进行处理液的供给，所以能够使用所需最低限度的处理液，所以能够实现成本降低。

此外，在上述各实施方式中，设供给冲洗液的机构是喷淋喷嘴而进行了说明，但并不限定于此，也可以是狭缝喷嘴等。在采用狭缝喷嘴的情况下，优选的是将一对狭缝喷嘴以狭缝彼此相面对的方式配置。在此情况下，能够使形成于基板上的冲洗液的液膜变厚，由此，能够均匀且迅速地进行基板表面的冲洗处理。

以上，说明了本发明的一些实施方式，但这些实施方式是作为例子提示的，并不意味着限定发明的范围。这些新的实施方式能够以其他各种形态实施，在不脱离发明的主旨的范围内能够进行各种省略、替换、变更。这些实施方式及其变形包含在发明的范围及主旨中，并且包含在权利要求书所记载的发明和其等效的范围中。

Claims (12)

1.一种接液处理装置，对具有通过光取向法形成的取向膜的基板进行接液处理，其特征在于，具有：

保持机构，保持上述基板；

第1喷嘴，具备将气泡除去的机构，对上述基板供给各向异性提高液而在上述基板的表面上形成液膜；

至少一个第2喷嘴，是对上述基板供给各向异性提高液的喷嘴；以及

输送机构，使上述基板和上述第1喷嘴及第2喷嘴相对地移动；

上述第2喷嘴设置在第1喷嘴的基板输送方向下游侧，并且设置在能够对存在由上述第1喷嘴形成在上述基板的表面上的液膜的状态的上述基板供给各向异性提高液的位置。

2.如权利要求1所述的接液处理装置，其特征在于，

上述各向异性提高液至少是乳酸乙酯液、异丙醇、臭氧水中的某一种。

3.如权利要求1或2所述的接液处理装置，其特征在于，

上述输送机构在上述基板位于上述第1喷嘴的输送方向下游侧的定时将输送停止一定时间；

上述第1喷嘴在上述输送机构停止基板输送的定时，停止上述各向异性提高液的供给；

上述第2喷嘴在上述输送机构停止基板输送的定时，将上述各向异性提高液的供给切换为间歇供给。

4.如权利要求1或2所述的接液处理装置，其特征在于，

上述第2喷嘴将被供给到上述基板后被回收的上述各向异性提高液再次向上述基板供给。

5.如权利要求3所述的接液处理装置，其特征在于，

上述第2喷嘴将被供给到上述基板后被回收的上述各向异性提高液再次向上述基板供给。

6.如权利要求4或5所述的接液处理装置，其特征在于，

具有第3喷嘴，该第3喷嘴设置在上述第2喷嘴的基板输送方向下游侧，并且对存在由上述第2喷嘴形成在上述基板的表面上的液膜的状态的上述基板供给不被循环供给的各向异性提高液。

7.如权利要求6所述的接液处理装置，其特征在于，

具有回收从上述第1喷嘴、上述第2喷嘴和上述第3喷嘴供给并被供给到上述基板的表面上的上述各向异性提高液的罐箱；

上述罐箱具有分隔部，该分隔部用于将上述罐箱划分为主要回收从上述第1喷嘴供给的上述各向异性提高液的第1区域、以及主要回收从上述第3喷嘴供给的上述各向异性提高液的第2区域；

在上述罐箱的壁面，具有用于将贮存于上述第1区域的上述各向异性提高液供给到上述第1喷嘴的循环配管。

8.一种接液处理装置，对具有通过光取向法形成的取向膜的基板进行接液处理，其特征在于，具有：

第1处理单元，具备第1喷嘴和液膜除去喷嘴，上述第1喷嘴具备将气泡除去的机构，对上述基板供给至少为乳酸乙酯液、异丙醇、臭氧水中的某一种的各向异性提高液而在上述基板的表面上形成液膜，上述液膜除去喷嘴为了将由上述第1喷嘴形成在上述基板的表面上的液膜除去而对上述基板的表面供给气体；

第2处理单元，具备至少一个第2喷嘴，该第2喷嘴是对上述基板供给各向异性提高液的喷淋喷嘴；以及

输送机构，具有保持上述基板的保持机构，使上述第1处理单元及第2处理单元相对地移动；

上述第1处理单元被连续设置多个。

9.一种基板处理装置，对具有通过光取向法形成的取向膜的基板进行处理，其特征在于，具有：

保持机构，保持基板；

接液处理单元，具备第1喷嘴和至少一个第2喷嘴，上述第1喷嘴具备将气泡除去的机构，对上述基板供给至少为乳酸乙酯液、异丙醇、臭氧水中的某一种的各向异性提高液而在上述基板的表面上形成液膜，上述第2喷嘴是对上述基板供给上述各向异性提高液的喷淋喷嘴；

冲洗处理单元，具有喷淋喷嘴，该喷淋喷嘴供给将由上述接液处理单元形成在上述基板上的上述液膜置换的冲洗液；

干燥单元，具有狭缝喷嘴，该狭缝喷嘴对由上述冲洗处理单元供给了冲洗液的上述基板供给气体；以及

输送机构，使上述基板、上述第1喷嘴和上述第2喷嘴及上述喷淋喷嘴相对地移动；

上述第2喷嘴设置在第1喷嘴的基板输送方向下游侧，并且设置在能够对存在由上述第1喷嘴形成在上述基板的表面上的液膜的状态的上述基板供给上述各向异性提高液的位置。

10.一种接液处理方法，将具有通过光取向法形成的取向膜的基板一边通过输送机构输送一边进行接液处理，其特征在于，具有以下工序：

从第1喷嘴对上述基板供给除去气泡后的至少为乳酸乙酯液、异丙醇、臭氧水中的某一种的各向异性提高液而在上述基板的表面上形成液膜的工序；以及

对存在通过形成上述液膜的工序形成的液膜的状态的上述基板，从至少一个作为喷淋喷嘴的第2喷嘴供给上述各向异性提高液的工序。

11.一种接液处理方法，将具有通过光取向法形成的取向膜的基板一边通过输送机构输送一边进行接液处理，其特征在于，具有以下工序：

从第1喷嘴对上述基板供给除去气泡后的至少为乳酸乙酯液、异丙醇、臭氧水中的某一种的各向异性提高液而在上述基板的表面上形成液膜的工序；

通过液膜除去喷嘴将形成在上述基板的表面上的液膜除去的工序；

将形成上述液膜的工序及除去上述液膜的工序的组合进行多次的工序；以及

对将上述各向异性提高液的液膜除去后的上述基板，从至少一个作为喷淋喷嘴的第2喷嘴供给上述各向异性提高液的工序。

12.一种基板处理方法，将具有通过光取向法形成的取向膜的基板一边通过输送机构输送一边进行处理，其特征在于，具有以下工序：

接液处理工序，具有从第1喷嘴对上述基板供给除去气泡后的至少为乳酸乙酯液、异丙醇、臭氧水中的某一种的各向异性提高液而在上述基板的表面上形成液膜的工序、以及对存在通过形成上述液膜的工序形成的液膜的状态的上述基板、从至少一个作为喷淋喷嘴的第2喷嘴供给上述各向异性提高液的工序；

冲洗处理工序，将通过上述接液处理工序形成在上述基板上的上述液膜置换为冲洗液；以及

干燥工序，对通过上述冲洗处理工序被供给了冲洗液的上述基板供给气体。