CN1574221A - 液体供给装置及基板处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种液体供给装置及基板处理装置，防止向基板供应的处理液中混入其它液体。在液体供给装置(30)上设置狭缝喷嘴(31)；喷嘴管道(32)；三通阀(33)；药液供给部(34)；药液管道(35)；洗涤液供给部(36)；洗涤液管道(37)及排液装置(38)。通过将由洗涤液供给部(36)供应的洗涤液从狭缝喷嘴(31)排出，在显影处理中，将附着并残留在狭缝喷嘴(31)及喷嘴管道(32)等上的显影液洗净。之后，由排液装置(38)将洗涤液从洗涤液管道(37)排液，使洗涤液管道(37)处于空的状态。进一步，控制三通阀(33)，将喷嘴管道(32)与药液管道(35)连通地连接，进行从药液供给部(34)的显影液的供应。

Description

液体供给装置及基板处理装置

技术领域

本发明涉及基板处理装置，该基板处理装置通过向基板排出处理液而进行药液处理。更详细地说，涉及供应处理液的技术。

背景技术

在基板制造工序中，使用如涂敷装置或显影装置等，对于基板执行药液处理的基板处理装置。

例如，涂敷装置通过将由液体贮藏罐等液体供给装置供应的防护液(处理液)从喷嘴对基板排出，将防护液涂敷在该基板上。涂敷装置由于进行这样的处理，防护液附着到喷嘴上，造成之后的基板处理中产生颗粒的原因。此外，存在待机中的管道内的防护液变质等的问题。为此，有必要适当地清洗喷嘴或管道内，例如，在专利文献1中，记载有配备洗涤功能的涂敷装置。

在专利文献1中，提出在涂敷装置的液体供给装置上，进一步设置供应洗涤液(纯水或碱性水等)的装置，通过规定管道，将洗涤液从喷嘴排出的技术。即，提出在涂敷装置对基板不进行处理期间，从喷嘴排出洗涤液，进行喷嘴或管道内的洗涤的技术。同时，在涂敷装置进行通常的基板处理的情况下，闭合洗涤液的流道，处于洗涤液不供应到喷嘴的状态以后，将防护液供应到喷嘴上。并且，作为闭合液体流道的方法，一般使用开关阀或止回阀等开关机构。

[专利文献1]特开2000-150345公报

上述一样的开关机构是通过使断流构件在开放位置和闭合位置之间移动，来闭合液体的流道的机构。从而，在闭合流道的情况下，产生以断流构件为界存在两种液体的状态(以下称为《接液状态》)。在这样的接液状态下，根据断流构件的密封效果(断开液体的功能的效果)的程度，存在供应到喷嘴的液体中混入应被断开的液体的问题。特别是，在断流构件的密封效果经过常年变化等而劣化的情况下，或应断开的液体的粘度低而容易引起毛细管现象的情况下，这种混入现象就变得显著。

通过利用显影液对基板进行显影处理的情况为例验证混入现象的弊端。在显影装置中，显影液以数L/min程度的流量从喷嘴排出。此时，如果1cc/min程度的洗涤液(纯水)由于接液状态而混入，则排出的显影液的浓度变化为0.1％，可成为充分的显影不良的原因。

发明内容

本发明是鉴于上述课题而成的，其目的在于，在对基板的处理中，防止由2种以上的液体的混入而引起的处理精度的降低。

为了解决上述课题，技术方案1所述的发明是一种对基板供应至少一种处理液的液体供给装置，该装置包括：排出含有前述至少一种处理液的多种液体的排出装置；供应前述多种液体的供给装置；将前述多种液体引导至前述排出装置的供给流道；将前述多种液体从前述供给装置引导至前述供给流道的多个流道；连通地连接前述供给流道和前述多个流道的连接装置；从前述多个流道中的至少一个流道排液液体的排液装置。

此外，技术方案2所述的发明是与技术方案1相关的液体供给装置，该装置配备开关前述多个流道的开关机构，前述排液装置对前述至少一个流道，在从前述开关机构到前述供给装置之间，进行液体的排液。

此外，技术方案3所述的发明是与技术方案2相关的液体供给装置，前述开关机构是三通阀。

此外，技术方案4所述的发明是与技术方案2相关的液体供给装置，前述开关机构是止回阀。

此外，技术方案5所述的发明是与技术方案1相关的液体供给装置，前述多种液体包括纯水，前述排液装置从前述多个流道中，用于引导纯水的流道排液液体。

此外，技术方案6所述的发明是与技术方案1相关的液体供给装置，前述至少一种处理液中包括显影液。

此外，技术方案7所述的发明是与技术方案1相关的液体供给装置，前述至少一种处理液中包括防护液。

此外，技术方案8所述的发明是与技术方案1相关的液体供给装置，前述排液装置设置在比前述排出装置低的位置。

此外，技术方案9所述的发明是用于对基板由处理液进行药液处理的基板处理装置，该装置包括：保持基板的保持装置；权利要求1至8中任一项所述的液体供给装置，对保持在前述保持装置上的前述基板供应处理液。

附图说明

图1是与本发明相关的基板处理装置的概略俯视图。

图2是示出第1实施方式中的基板处理装置的液体供给装置的概略图。

图3是示出第2实施方式中的基板处理装置的液体供给装置的概略图。

图4是示出第3实施方式中的基板处理装置的液体供给装置的概略图。

图5是示出第4实施方式中的基板处理装置的液体供给装置的概略图。

图6是示出第5实施方式中的基板处理装置的液体供给装置的概略图。

图7是示出变形例中的基板处理装置的液体供给装置的概略图。

其中，附图标记说明如下：

1     基板处理装置

20    输送装置(保持装置)

30、30a、30b、30c、30d、30e    液体供给装置

31    狭缝喷嘴

32    喷嘴管道

33    三通阀

33a、33b    结合部

33c    开关阀

34、34a、34b、34c    药液供给部

35    药液管道

36    洗涤液供给部

37    洗涤液管道

38    排液装置

39a、39b    止回阀

40    控制装置

90    基板

具体实施方式

以下，关于本发明的优选实施方式，参考附图进行详细说明。

<1、第1实施方式>

图1是与本发明相关的基板处理装置1的概略图。并且，在图1中，为图示及说明上的方便起见，虽然定义Z轴方向表示铅直方向，XY平面表示水平面，但是那些是为了易于掌握位置关系而定义的，不是限制以下说明中的各方向的。对于以下的图也同样。

基板处理装置1由以下部分构成：相对于基板处理装置1进行基板90的搬出搬入的换位器10、11；输送基板90的输送装置20；液体供给装置30；及控制装置40。将用于制造液晶显示装置的图像板的矩形玻璃基板作为被处理基板90，在选择性地蚀刻形成在基板90表面上的电极层等的工序中，基板处理装置1作为将进行过曝光处理的基板90显影的装置而构成。从而，在该实施方式中，狭缝喷嘴31将显影液作为处理液排出。

并且，基板处理装置1也可以作为通过不仅对液晶显示装置用的玻璃基板，还可以对各种基板排出显影液而进行显影处理的装置而变形利用。此外，对基板90进行药液处理的液体并不局限于显影液，例如，也可以是与显影液同样地在药液处理中，对浓度管理要求高精度的防护液等。此情况下，基板处理装置1作为对基板90涂敷防护液的涂敷装置发挥功能。

换位器10从未图示的装置外的输送装置接收基板90，在规定位置保持规定时间后，将基板90转送到输送装置20。此外，换位器11将从输送装置20搬出的基板90送出到未图示的装置外的输送装置。并且，换位器10、11可以配备有用于装载FOUP盒的装载台、或在与输送装置20之间，进行基板90的接收及转送的移动式搬运机械手等。

输送装置20具有将基板90保持在规定位置的状态下，从换位器10向换位器11输送的功能。详细的将在后叙述，但在基板处理装置1中，在输送装置20保持基板90的状态下，对基板90进行各种处理。

图2是示出第1实施方式中的液体供给装置30的结构的概略图。液体供给装置30包括：狭缝喷嘴31、喷嘴管道32、三通阀33、药液供给部34、药液管道35、洗涤液供给部36、洗涤液管道37、及排液装置38；通过将从药液供给部34供应的显影液经狭缝喷嘴3 1排出，向保持在输送装置20上的基板90供应显影液。详细的将在后叙述，但因此基板处理装置1作为对基板90执行显影处理的装置发挥功能。

狭缝喷嘴31主要由沿Y轴方向延伸的直线状的构件构成，在与保持在输送装置20上的基板90对置的位置上，设置有用于排出液体的狭缝(未图示)。在狭缝喷嘴31安装喷嘴管道32。狭缝喷嘴31将从药液供给部34供应的显影液，从前述的狭缝向基板90排出。此外，狭缝喷嘴31也能够排出从洗涤液供给部36供应的洗涤液。

如图2所示，在本实施方式的狭缝喷嘴31上，在沿Y轴方向的3个位置处连通地连接着喷嘴管道32。由此，狭缝喷嘴31从3个位置处供应显影液等的液体，所以Y轴方向的排出精度均匀。并且，狭缝喷嘴31的液体供给位置的数目并不局限于3个。

三通阀33具有将药液管道35及洗涤液管道37连接于喷嘴管道32的功能。即，三通阀33相当于本发明的主要的连接装置。此外，对于喷嘴管道32，具有选择性地连通药液管道35及洗涤液管道37的某一方，且闭合另外一方的功能，也相当于本发明的开关机构。

另外，三通阀33与控制装置40连接，根据来自控制装置40的控制信号，决定开关动作(选择流道动作)。例如，控制装置40选择显影液作为供应到狭缝喷嘴31的液体的情况下，将药液管道35与喷嘴管道32连通地连接。由此，洗涤液管道37被闭合。

药液供给部34配备有药液贮藏罐340、送液泵341、及开关阀342。药液贮藏罐340具有储存显影液的贮藏槽的功能，通过送液泵341及开关阀342，与药液管道35连通地连接。药液供给部34将开关阀342处于开放状态的同时，通过驱动送液泵341，将储存在药液贮藏罐340中的显影液向三通阀33送出。此时，若三通阀33使喷嘴管道32和药液管道35处于连通的状态，则显影液将供应到狭缝喷嘴31。即，药液供给部34具有将显影液供应到狭缝喷嘴31的功能。

洗涤液供给部36通过开放开关阀360，从未图示的装置外的洗涤液贮藏罐，利用规定压力，将洗涤液向三通阀33送出。此时，若三通阀33使喷嘴管道32和洗涤液管道37处于连通的状态，则洗涤液将供应到狭缝喷嘴31。即，洗涤液供给部36具有将洗涤液供应到狭缝喷嘴31的功能。并且，本实施方式中的基板处理装置1，将纯水作为洗涤液使用，所以，采用将洗涤液从装置外的洗涤液贮藏罐供应的结构，但供应洗涤液的装置并不局限于此。例如，也可以构成为在洗涤液供给部36设置送液泵或洗涤液贮藏罐，利用该送液泵的驱动力，将洗涤液供应到狭缝喷嘴31。此外，洗涤液并不局限于纯水，进一步地也可以选择碱性水等、甚至是具有洗涤力的液体。

本实施方式中的基板处理装置1，通过配备药液供给部34及洗涤液供给部36，能够将多个种类的液体(在本实施方式中为显影液和洗涤液)供应到狭缝喷嘴31。即，药液供给部34及洗涤液供给部36相当于本发明中的主要的供给装置。

排液装置38，如图2所示，配备有在比狭缝喷嘴31的高度位置低的位置上配置的开关阀380，根据控制装置40的控制信号，开放开关阀380，由此将洗涤液管道37内的液体(主要为洗涤液)排液。

在基板处理装置1中，形成喷嘴管道32，药液管道35，及洗涤液管道37将液体引导至狭缝喷嘴31的流道。喷嘴管道32具有引导供应给狭缝喷嘴31的液体的功能，相当于本发明中的供给流道。此外，药液管道35及洗涤液管道37相当于本发明中的多个流道。并且，在这些流道中，可以适当地设置调整流量用的阀、除去颗粒用的过滤器、及手动阀等。

控制装置40是具有一般的计算机功能的装置，主要由进行演算处理的CPU(未图示)及存储数据的存储部构成(未图示)。控制装置40与基板处理装置1的各个结构以能够收发信号的状态连接，具有基于前述CPU生成的控制信号，控制各个结构的功能。特别是，控制装置40，选择液体供给装置30供应给狭缝喷嘴31的液体(显影液或洗涤液)，控制三通阀33，由此闭合被选择的液体以外的流道。利用这样的控制，基板处理装置1能够从狭缝喷嘴31排出相应于处理的液体(被选择的液体)。

以上是本实施方式中的基板处理装置1的结构的说明。其次，关于基板处理装置1的动作进行说明。基板处理装置1中的处理与显影处理和洗涤处理区别很大。并且，以下的基板处理装置1的动作在没有特别的限制下，通过根据来自控制装置40的控制信号控制各个结构来实现。

首先，关于洗涤处理的动作进行说明。在基板处理装置1中，通过进行前述一样的显影处理，在狭缝喷嘴31及喷嘴管道32内残留显影液。该残留的显影液通过时间的经过变化等而变质，因此成为污染物，成为形成颗粒的原因，或者在之后的处理中成为对显影液的浓度产生影响的原因。从而，基板处理装置1在执行显影处理之前，主要执行用于除去残留在狭缝喷嘴31、及喷嘴管道32的显影液的洗涤处理。

首先，基板处理装置1在开始洗涤处理之前，药液供给部34将送液泵341处于停止状态的同时，将开关阀342处于闭合状态。由此，对狭缝喷嘴31的显影液的供应将停止。并且，显影液供给的停止处理，实际上与后述的显影处理的终止同时被执行。此外，排液装置38将开关阀380处于闭合状态。

其次，控制装置40在洗涤处理中，因为应供应给狭缝喷嘴31上的液体为洗涤液，所以对三通阀33进行控制，使得喷嘴管道32和洗涤液管道37连通地连接。根据该控制，三通阀33使喷嘴管道32和洗涤液管道37选择性地连通并连接，闭合药液管道35。

其次，通过洗涤液供给部36将开关阀360处于开放状态，将洗涤液供应到狭缝喷嘴31。如果洗涤液供应到狭缝喷嘴31，则洗涤液从狭缝喷嘴31排出。此时，因为洗涤液经过狭缝喷嘴31及喷嘴管道32，所以残留在这些内部的显影液等被推压流动，狭缝喷嘴31及喷嘴管道32被洗涤。

经过规定的时间，若控制装置40判断狭缝喷嘴31及喷嘴管道32的洗涤进行得充分了，则控制装置40向洗涤液供给部36输出控制信号，使得洗涤液供给部36的开关阀360闭合。根据该控制信号，洗涤液供给部36将开关阀360处于闭合状态，因此对狭缝喷嘴31的洗涤液的供应被停止，停止从狭缝喷嘴31的洗涤液的排出。

其次，排液装置38根据控制装置40的控制信号，将开关阀380处于开放状态。开关阀380设置在比狭缝喷嘴31低的位置。从而，若将开关阀380处于开放状态，则主要由重力的作用，狭缝喷嘴31、喷嘴管道32、三通阀33、及洗涤液管道37内的洗涤液，流向图2中用箭头表示的方向。即，无需另外的吸引装置等，洗涤液由排液装置38向装置外排液。由此，防止在洗涤液管道37内残留洗涤液，洗涤液管道37处于几乎空的状态。

如本实施方式中的基板处理装置1，作为洗涤液使用纯水的情况下，如果纯水长时间滞留，则纯水中产生细菌，存在成为颗粒的原因等问题。但是，在基板处理装置1中，在装置比较长时间处于停止的情况下，通过排液装置38也能防止纯水的滞留，因此能够防止细菌的产生。

如果由排液装置38的排液终止，基板处理装置1中的洗涤处理将终止，基板处理装置1处于待机状态。

其次，对基板处理装置1中的显影处理的动作进行说明。显影处理是在基板90的制造工序中，对基板90执行的由液体处理的一个工序。具体地说，是用于显影基板90上的被曝光处理的感光材料(防护剂)的处理。

显影处理，通过向待机状态的基板处理装置1，用装置外的输送装置搬入被曝光处理的基板90而开始。装置外的输送装置对换位器10进行基板90的搬入。

换位器10将被搬入的基板90保持在规定位置的同时，进行定时的调整后，转送到输送装置20。此时，可以通过换位器10使基板90旋转，可以调整基板90的朝向。

输送装置20在将接收的基板90保持在大致水平方向的同时，向(+X)方向输送。利用未图示的传感器，如果检测出基板90输送到了规定位置，则因为显影处理中应供应到狭缝喷嘴31的液体为显影液，所以控制装置40控制三通阀33，使得喷嘴管道32和药液管道35连通地连接。由此，三通阀33将喷嘴管道32和药液管道35选择性地连通连接，闭合洗涤液管道37。

其次，药液供给部34开放开关阀342的同时，利用驱动送液泵341，显影液供应到狭缝喷嘴31，开始对基板90排出来自狭缝喷嘴31的显影液。

此时，在洗涤液管道37内，通过排液装置38处于几乎不存在液体的状态(空的状态)。从而，本实施方式中的基板处理装置1，在显影处理中的三通阀33中，显影液和洗涤液不会成为接液的状态。从而，防止向基板90排出的显影液混入洗涤液。由此，能够防止显影液的稀释化等，因此，提高了显影液浓度管理的精度，能够防止显影不良。

基板90通过输送装置20，向(+X)方向被输送的同时，受到来自狭缝喷嘴31的显影液的排出。即，基板90通过狭缝喷嘴31沿X轴方向被扫描，推进基板90上的被曝光的感光材料的显影处理。

如果由狭缝喷嘴31的基板90的扫描终止，药液供给部34将开关阀342处于闭合状态的同时，停止送液泵341。由此，来自药液供给部34的显影液的供应被停止，停止来自狭缝喷嘴31的显影液的排出。

其次，控制装置40控制三通阀33，使得喷嘴管道32和洗涤液管道37连通地连接。由此，三通阀33将喷嘴管道32和洗涤液管道37选择性地连通地连接的同时，使药液管道35处于闭合状态。进一步地，排液装置38使开关阀380处于开放状态，将狭缝喷嘴31及喷嘴管道32内的显影液通过洗涤液管道37排液。

由此，终止显影处理。之后，再次执行前述的洗涤处理，进行狭缝喷嘴31及喷嘴管道32内的洗涤。并且，洗涤处理无需在每次进行显影处理时进行，例如，也可以在规定次数的显影处理被重复之后，进行洗涤处理。

如上所述，本实施方式的基板处理装置1，在向基板90供应处理液之前，通过排液装置38将对于处理液的流道成为接液状态的流道(洗涤液管道37)内的液体预先进行排液，能够防止处理液与其它的液体接液。从而，在三通阀33由于经时间变化等降低了断开功能的情况，或作为洗涤液而被使用的液体的粘度低的情况下，也能够防止如以前的装置一样的，在供应到狭缝喷嘴31的处理液中混入其它液体的情况。

此外，通过排液装置38将残留在洗涤液管道37内的洗涤液排液，能够防止洗涤液管道37内的洗涤液的滞留。从而，特别是，在作为洗涤液使用纯水、基板处理装置1比较长时间停止的情况下，也能够防止成为形成颗粒的原因的细菌的产生。由此，也能够提高基板处理装置1的处理精度。

并且，为了防止显影液和洗涤液处于接液状态，在显影液供应到狭缝喷嘴31的状态中，洗涤液的液面不与三通阀33接触就可以。从而，排液装置38无需将洗涤液管道37内的洗涤液全部排液。但是，在洗涤液为纯水的情况等，为了防止洗涤液的滞留，如本实施方式的基板处理装置1，最好构成为使得洗涤液管道37内的洗涤液全部排液。

<2、第2实施方式>

第1实施方式是采用了将喷嘴管道32、药液管道35及洗涤液管道37用三通阀33连通地连接的结构，但是，作为将这些管道连通地连接的结构，并不局限于三通阀33。即，也可以是不具有开关流道的功能的构件。

图3是示出基于这样的原理构成的、第2实施方式的基板处理装置1的液体供给装置30a的概略图。液体供给装置30a具有如下的结构，即，第1实施方式中的液体供给装置30的三通阀33被结合部33a置换的结构。并且，液体供给装置30a，因为结合部33a以外的结构与液体供给装置30一样，适当地省略附图及说明。

对具有如上结构的第2实施方式中的基板处理装置1的洗涤处理及显影处理的动作进行说明。

首先，说明洗涤处理。本实施方式中的基板处理装置1，在开始洗涤处理之前，由药液供给部34停止送液泵341的驱动，使开关阀342处于闭合状态。此外，排液装置38将开关阀380处于闭合状态。

其次，根据控制装置40的控制信号，洗涤液供给部36将开关阀360处于开放状态。由此，从装置外的洗涤液贮藏罐供应洗涤液到洗涤液管道37，经过结合部33a及喷嘴管道32，供应到狭缝喷嘴31。由此，从狭缝喷嘴31排出洗涤液。

经过规定时间、狭缝喷嘴31及喷嘴管道32的洗涤终止，则洗涤液供给部36使开关阀360处于闭合状态。此外，利用排液装置38开放开关阀380，排液残留在狭缝喷嘴31、喷嘴管道32、结合部33a、及洗涤液管道37内的洗涤液。此时，结合部33a，因为相比于三通阀33内部结构等简单，所以液体的抽出良好，有效地防止显影液的残留。

如果由排液装置38的洗涤液的排液终止，则排液装置38使开关阀380处于闭合状态。由此，本实施方式的基板处理装置1的洗涤处理终止，基板处理装置1处于待机状态。即，在本实施方式中的基板处理装置1中，也可以防止待机中在洗涤液管道37内产生纯水滞留的现象。

其次，说明显影处理。如果基板90由输送装置20输送到规定的位置，控制装置40作为使用液体选择显影液，并向药液供给部34输出控制信号。根据该控制信号，药液供给部34开始驱动送液泵341的同时，使开关阀342处于开放状态。

由此，显影液供应到药液管道35，从药液管道35供应到结合部33a的显影液，也流入到洗涤液管道37。但是，因为洗涤液供给部36的开关阀360及排液装置38的开关阀380处于闭合状态，所以，显影液向洗涤液管道37的流入停止在一定量，之后，从药液管道35供应的显影液，通过结合部33a及喷嘴管道32供应到狭缝喷嘴31。由此，开始从狭缝喷嘴31排出显影液。

此时，因为洗涤液管道37内的显影液在开关阀360处于与洗涤液的接液状态，所以，洗涤液管道37内混入洗涤液。但是，虽然洗涤液管道37与显影液的流道在空间上是连接的，但是不直接地成为显影液的流道，所以洗涤液管道37内的液体几乎不流动。从而，在从结合部33a(显影液实际上的流道)比较远离的位置上的开关阀360中，显影液和洗涤液处于接液状态，虽然洗涤液管道37内的显影液一部分被稀释，但是对显影处理的影响几乎没有。

如果由狭缝喷嘴31的基板90的扫描终止，则药液供给部34将开关阀342处于闭合状态的同时，停止送液泵341。由此，从药液供给部34的显影液的供应被停止，停止从狭缝喷嘴31的显影液的排出。

其次，排液装置38将开关阀380处于开放状态，将狭缝喷嘴31、喷嘴管道32、结合部33a、及洗涤液管道37内的显影液排液，终止显影处理。

如上所述，第2实施方式中的基板处理装置1，将基板90的药液处理中使用的处理液和其它液体产生接液状态的位置，构成为从该处理液的流道充分地远离的位置的同时，设置适当地将由接液状态而被稀释的处理液排液的排液装置，由此能够控制从狭缝喷嘴31排出的处理液中混入其它的液体。从而，本实施方式中的基板处理装置1，因为能够提高向基板90供应的处理液的浓度管理的精度，所以能够提高对基板90的药液处理的处理精度。

<3、第3实施方式>

作为开关液体的流道的方法，也可以构成为，通过使用将液体只沿一个方向经过的一般的止回阀而实现。

图4是示出基于这样的原理构成的第3实施方式的基板处理装置1的液体供给装置30b的概略图。液体供给装置30b作为开关药液管道35及洗涤液管道37的装置，在配备止回阀39a、39b的点上与上述的实施方式不同。

止回阀39a在药液供给部34的送液泵341被驱动了的情况下，使显影液从药液管道35向喷嘴管道32通过。此外，止回阀39a具有防止液体(显影液及洗涤液)从喷嘴管道32向药液管道35逆流的功能。

止回阀39b在洗涤液供给部36的开关阀360被开放了的情况下，使洗涤液从洗涤液管道37向喷嘴管道32通过。此外，止回阀39b防止液体(显影液及洗涤液)从喷嘴管道32向洗涤液管道37逆流。

即，控制装置40通过控制止回阀39a、39b的药液管道35及洗涤液管道37侧的液体压力的增减，能够控制止回阀39a、39b的开关。

对配备这样的结构的第3实施方式的基板处理装置1的洗涤处理及显影处理的动作进行说明。

首先，在开始洗涤处理之前，药液供给部34使送液泵341的驱动处于停止状态的同时，使开关阀342处于闭合状态。此外，排液装置38使开关阀380处于闭合状态。

其次，根据控制装置40的控制信号，洗涤液供给部36使开关阀360处于开放状态。由此，从装置外的洗涤液贮藏罐供应洗涤液到洗涤液管道37，洗涤液管道37内的洗涤液的压力上升。从而，止回阀39b处于开放状态，洗涤液经过止回阀39b及喷嘴管道32，供应到狭缝喷嘴31，从狭缝喷嘴31排出洗涤液。

经过规定时间，如果狭缝喷嘴31及喷嘴管道32的洗涤终止，则洗涤液供给部36将开关阀360处于闭合状态。此外，通过排液装置38开放开关阀380，由此将残留在洗涤液管道37内的洗涤液排液。并且，通过排液装置38将残留在洗涤液管道37内的洗涤液排液，洗涤液管道37内的压力降低，但是由于止回阀39b不会使喷嘴管道32内的液体向洗涤液管道37内逆流。

由以上所述，本实施方式的基板处理装置1的洗涤处理终止，基板处理装置1处于待机状态。

其次，说明显影处理。如果基板90由输送装置20输送到规定的位置，控制装置40作为使用的液体选择显影液，并向药液供给部34输出控制信号。根据该控制信号，药液供给部34开始驱动送液泵341的同时，将开关阀342处于开放状态。

由此，显影液供应到药液管道35，药液管道35内的显影液的压力增加，因此止回阀39a处于开放状态。从而，显影液经过止回阀39a及喷嘴管道32供应到狭缝喷嘴31，开始从狭缝喷嘴31排出显影液。

此时，洗涤液管道37内的洗涤液被排液装置38预先排液，因此，在止回阀39b，显影液不会与洗涤液处于接液状态。

如上所述，在第3实施方式的基板处理装置1中，通过作为开关液体的流道的装置使用止回阀39a、39b的液体供给装置30b，能够得到与第1实施方式中的基板处理装置1同样的效果。

此外，通过使用止回阀39a、39b，控制装置40无需直接控制它们，只需控制药液供给部34及洗涤液供给部36，就能够达到所期望的动作。从而，能够简单化由控制装置40的控制。

并且，为了防止在狭缝喷嘴31及喷嘴管道32内残留显影液或洗涤液，最好是将狭缝喷嘴31的Z轴方向的高度位置配置成比止回阀39a、39b的Z轴方向的高度位置更低。

<4、第4实施方式>

在第2实施方式中的液体供给装置30a，药液管道35在几乎水平的状态下，与结合部33a连通地连接。通过这样的配置连接喷嘴管道32和药液管道35的情况下，即使由排液装置38进行了排液，但是对于药液管道35内的显影液的残留有忧虑。

如第1实施方式中的三通阀33，在流道连接装置中装有流道开关机构的情况下，能够在洗涤处理中闭合药液管道35。从而，药液管道35内的显影液的残留不会成为问题。这是因为：洗涤处理不是对基板90进行的处理；也不要求那种程度的精度；在洗涤处理中从狭缝喷嘴31排出的洗涤液中，在三通阀33由于与显影液处于接液状态而混入显影液，但这种程度的混入不会使洗涤液的洗涤力明显地消失。

但是，第2实施方式中的结合部33a在洗涤处理中不能使药液管道35闭合。从而，在药液管道35内残留了显影液的情况下，第2实施方式中的基板处理装置1，比第1实施方式中的基板处理装置1，在洗涤处理中的洗涤液混入更多的显影液。即，因此在通过洗涤液的洗涤效果降低的情况下，在开始洗涤处理之前，最好是将残留在药液管道35内的显影液尽可能地减少。

图5是示出基于这样的原理构成的第4实施方式的基板处理装置1的液体供给装置30c的概略图。在液体供给装置30c中，如图5所示药液管道35具有倾斜地与结合部33a连接着。即，药液管道35朝着结合部33a向下倾斜并连接。

由此，在排液装置38开放开关阀380进行洗涤液管道37内的排液的情况下，药液管道35内的液体也顺利地被排液，残留在药液管道35内的液体的量减少。并且，除此以外的液体供给装置30c的结构及动作，因为与第2实施方式中的液体供给装置30a同样，所以省略其说明。

如上所述，采用如第4实施方式中的基板处理装置1所示的结构，也能够得到与第2实施方式同样的效果。

此外，在液体供给装置30c中，由于构成了药液管道35朝着结合部33a向下倾斜，并与结合部33a连接的结构，所以提高了从药液管道35的液体的抽出。从而，由于残留在药液管道35内的液体的量减少，例如，能够减少洗涤处理中的混入到洗涤液的显影液的量。

<5、第5实施方式>

在上述实施方式中的基板处理装置1中，说明了作为对基板90进行处理的处理液使用一种液体(显影液)的情况，但是处理液并不局限于一种，也可以是2种以上。

图6是示出基于这样的原理构成的第5实施方式的基板处理装置1的液体供给装置30d的概略图。

液体供给装置30d，如图6所示，配备3个药液供给部34a，34b，34c，各自与结合部33b连通地连接。各药液供给部34a，34b，34c各自具有与上述实施方式中的药液供给部34同样的结构，各自在药液贮藏罐340中贮藏有相互不同的处理液。

结合部33b除了能够与多个药液管道35连通地连接以外，是与结合部33a具有同样的功能及结构的构件。并且，在本实施方式中，如图6所示，各药液管道35沿Z轴方向安装在结合部33b上，但是例如，也可以安装在环绕结合部33b的周围。

控制装置40配合于基板处理装置1执行的处理，选择从狭缝喷嘴31排出的处理液，在药液供给部34a，34b，34c之中，特定贮藏有被选择的处理液的供给部，供应到狭缝喷嘴31。并且，切换使用的处理液的时候，可以由排液装置38进行狭缝喷嘴31、喷嘴管道32及结合部33b内的液体的排液，甚至，洗涤液供给部36供应洗涤液，进行洗涤处理也可。

如上所述，在第5实施方式中的基板处理装置1中，也能够得到与上述实施方式同样的效果。

此外，通过液体供给装置30d配备多个药液供给部34a，34b，34c，能够增加由基板处理装置1执行的处理的变化。

<6、变形例>

以上，说明了本发明的实施方式，但本发明并不局限于上述实施方式，可以进行各种各样的变形。

例如，基板处理装置1对被搬入的基板90，无需一直进行显影处理。即，在基板处理装置1装入到进行多重曝光工序的线路等的情况中，在重复多次的曝光处理期间，基板90可以穿过基板处理装置1。上述实施方式中的基板处理装置1，因为由洗涤处理除去了附着在狭缝喷嘴3 1的显影液，所以对不进行这样的显影处理而通过基板处理装置1的基板90，不会从狭缝喷嘴31掉下显影液，能够防止处理不良。

此外，在上述实施方式中，排液装置38只从洗涤液管道37进行排液，但是，对于药液管道35，也可以是设置与排液装置38同样的装置而进行排液的结构。

此外，在上述实施方式中，排液装置38不设置吸引装置进行排液，但是，也可以另外设置吸引装置，构成为吸引洗涤液管道37内的液体的同时，进行排液。

此外，开关流道的装置，或设置该装置的位置等，并不局限于上述实施方式中示出的位置。例如，也可以将第3实施方式中的液体供给装置30b的止回阀39a、39b置换成开关阀，由控制装置40控制该开关阀。

此外，在第2、第4、第5实施方式中的液体供给装置30a、30c、30d中，构成为显影液与洗涤液的接液状态不在与显影液的流道近的位置产生。但是，也可以是在洗涤液管道37的结合部33a(33b)侧设置开关阀的结构。图7是是示出基于这样的原理构成的变形例中的液体供给装置30e的概略图。液体供给装置30e具有在第2实施方式中的液体供给装置30a上加装了开关阀33c的结构。在该变形例中的排液装置38，在开关阀33c被闭合的状态下，进行洗涤液管道37内的液体的排液。由此，在使用简单结构的结合部33a，33d将药液管道35和洗涤液管道37连通地连接的情况下，也能够防止显影液和洗涤液的接液状态。并且，对于图5示出的第4实施方式的液体供给装置30c，及图6示出的第5实施方式的液体供给装置30d也同样。

<发明的效果>

技术方案1至技术方案8所述的发明，通过配备从多个流道中的至少一个流道排液液体的排液装置，能够抑制从排出装置排出的液体中混入其它的液体。

技术方案2所述的发明，通过排液装置对至少一个流道，从开关机构到供给装置之间进行液体的排液，能够防止处理液和其它液体的接液状态，因此，能够防止从排出装置排出的处理液中混入其它液体。

技术方案4所述的发明，由于开关机构是止回阀，所以能够使控制简单化。

技术方案5所述的发明，排液装置在多个流道之中，从为引导纯水而被使用的流道将液体排液，由此防止纯水的滞留，因此能够防止成为形成颗粒的原因的细菌的产生。

技术方案6所述的发明，通过在至少一种处理液中含有显影液，能够提高被供应的显影液的浓度管理的精度，能够力求提高显影处理精度。

技术方案7所述的发明，通过在至少一种处理液中含有防护液，能够提高被供应的防护液的浓度管理的精度，能够力求提高涂敷处理精度。

技术方案8所述的发明，通过排液装置设置在比排出装置低的位置上，无需设置吸引装置等，能够排液液体。

技术方案9所述的发明，通过配备技术方案1至技术方案8的任一项所述的液体供给装置，通过提高供应到基板的处理液的浓度管理的精度，能够力求提高药液处理精度。

Claims (9)

1、一种对基板供应至少一种处理液的液体供给装置，其特征在于，包括：

排出装置，排出含有前述至少一种处理液的多种液体；

供给装置，供应前述多种液体；

供给流道，将前述多种液体引导至前述排出装置；

多个流道，将前述多种液体从前述供给装置引导至前述供给流道；

连接装置，连通地连接前述供给流道和前述多个流道；

排液装置，从前述多个流道中的至少一个流道排液液体。

2、如权利要求1所述的液体供给装置，其特征在于，配备开关前述多个流道的开关机构，

前述排液装置对前述至少一个流道，在从前述开关机构到前述供给装置之间，进行液体的排液。

3、如权利要求2所述的液体供给装置，其特征在于，前述开关机构是三通阀。

4、如权利要求2所述的液体供给装置，其特征在于，前述开关机构是止回阀。

5、如权利要求1所述的液体供给装置，其特征在于，前述多种液体中包括纯水，

前述排液装置从前述多个流道中用于引导纯水的流道排液液体。

6、如权利要求1所述的液体供给装置，其特征在于，前述至少一种处理液中包括显影液。

7、如权利要求1所述的液体供给装置，其特征在于，前述至少一种处理液中包括防护液。

8、如权利要求1所述的液体供给装置，其特征在于，前述排液装置设置在比前述排出装置低的位置。

9、一种基板处理装置，由处理液对基板进行药液处理，其特征在于，包括：

保持基板的保持装置；

权利要求1至8中任一项所述的液体供给装置，对保持在前述保持装置上的前述基板供应处理液。

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