CN101042985A - 基板处理装置和基板处理方法 - Google Patents

Abstract

本发明的基板处理装置把缓冲槽设置在纯水供给部的路径途中，在缓冲槽内设置有微泡发生器。在进行基板的处理时，在缓冲槽内生成大量的微泡，并把该微泡从缓冲槽供给到处理槽。因此，使用小型的微泡发生器就能够防止基板处理装置的大型化，同时可以把大量的微泡供给到基板的周围。

Description

基板处理装置和基板处理方法

技术领域

本发明涉及用处理液对半导体晶片、液晶显示装置用玻璃基板、PDP用玻璃基板等基板进行处理的基板处理装置。

背景技术

以往，在基板的制造工序中对基板供给纯水或药液等处理液来进行清洗、蚀刻等规定的处理的基板处理装置已为公众所知。这种基板处理装置主要有两种，一种是一次把多张基板浸渍在处理槽内存积的处理液中进行处理的批量式基板处理装置；另一种是每次把处理液喷在一张被保持在保持部上的基板的表面上来进行处理的单张式基板处理装置。

在这样的基板处理装置中，能适宜进行除掉附着在基板上的微粒的处理。通常，沿基板的表面形成处理液的液流，通过该液流的作用将微粒从基板的表面上运走从而清除。此外，也可以在处理液中施加超声波振动，通过超声波振动的冲击使微粒主动地脱离，从而从基板上除去。

特别是，近年来提出一种在处理液中产生微泡，利用微泡对微粒的高吸附力从处理槽内除去微粒的技术方案。在使用微泡的情况下，例如使用具有气液混合泵、回旋加速器和分散器的微泡发生装置或、具有气体溶解单元的微泡发生装置在处理液中产生微泡。但是，为了在处理液中产生大量的微泡就必须使用上述的大型的微泡发生装置，这样就产生了会使基板处理装置整体大型化的问题。

发明内容

本发明针对用处理液处理基板的基板处理装置。

按照本发明，基板处理装置在处理液供给部的供给路径途中设置有存积处理液的缓冲槽和、在存积于所述缓冲槽内的处理液中产生微泡的微泡发生部。

在缓冲槽内生成大量的微泡，可以从缓冲槽将这些微泡与处理液一起向基板供给。因此，使用小型的微泡发生器能防止基板处理装置的大型化，同时能把大量的微泡供给到基板的周围。

所述处理液供给部优选具有经所述缓冲槽供给处理液的第一送给路径和、不经所述缓冲槽供给处理液的第二送给路径，并且将从所述第一送给路径送来的包含微泡的处理液和从所述第二送给路径送来的处理液汇合来进行供给。

减低应存积在缓冲槽内的处理液的量，可以使缓冲槽小型化。

此外，基板处理装置优选还具有流量调节部，该流量调节部调节从所述第一送给路径和所述第二送给路径之一送来的处理液的流量、或者调节从所述第一送给路径和所述第二送给路径两方送来的处理液的流量。

可以调节从所述第一送给路径送来的处理液和从所述第二送给路径送来的处理液的混合比，这样，就能够任意调节包含在向处理槽供给的处理液中的微泡的量。

此外，向所述缓冲槽供给的处理液的流量与从所述缓冲槽中汲出的处理液的流量最好基本相同。

把缓冲槽内的处理液量维持为恒定，能够稳定地供给含有微泡的处理液。此外，由于缓冲槽内的处理液量不变动，所以能够进一步使缓冲槽小型化。

此外，所述微泡发生部优选具有微泡发生器，该微泡发生器具有内侧面呈近似圆锥状的容器、沿所述容器的内侧面导入处理液的处理液导入部、将规定的气体导入所述容器的气体导入部、从所述容器的收敛侧喷出处理液和气体的喷出部；该微泡发生器使在所述容器的内部形成的由处理液和气体构成的双层回旋流从所述喷出部喷出，由此在处理液中产生微泡。

微泡发生部本身不需要动力源，从而可以使微泡发生部小型化。

此外，所述微泡发生部优选在所述缓冲槽内具有多个所述微泡发生器。

在缓冲槽内，能够在规定时间内产生大量的微泡。

此外，所述处理液供给部优选具有无脉动泵，该无脉动泵汲出存积在所述缓冲槽内的处理液并将该处理液送到基板侧。

该无脉动泵可以防止处理液的流量变动，同时可以从缓冲槽中汲出处理液并向基板侧输送。

此外，基板处理装置优选还具备对正在用处理液进行处理的基板施加超声波振动的超声波振动赋予部。

通过超声波振动的物理冲击能够使微粒从基板上脱离下来，再由微泡吸附脱离下来的微粒，从而将其除去。因此可以从基板的表面有效地除去微粒。

此外，基板处理装置优选还具备经所述缓冲槽内的处理液进行投光和受光的投受光传感器。

该投受光传感器可以检测微泡是否充分供给到缓冲槽内。

此外，基板处理装置优选还具备根据所述投受光传感器的检测信号控制所述微泡发生部的控制部。

只要控制部控制微泡发生部，就能够自动生成缓冲槽内已经供给了足够的微泡的状态。

此外，本发明还针对用处理液处理基板的基板处理方法。

因此，本发明的目的是提供一种能够防止基板处理装置大型化同时可以把大量的微泡供给到基板周围的基板处理装置。

附图说明

图1是表示本发明的第一实施方式的基板处理装置的构成的图。

图2是用平行于微泡水的喷出方向的平面截断微泡发生器得到的纵向断面图。

图3是用图2的III-III线截断微泡发生器得到的纵向断面图。

图4是表示基板处理装置进行的基板处理的流程图。

图5是表示本发明的第二实施方式的基板处理装置的构成的图。

图6是表示存积在缓冲槽内的微泡水的状态和、投受光传感器的动作的图。

图7是表示存积在缓冲槽内的微泡水的状态和、投受光传感器的动作的图。

图8是表示存积在缓冲槽内的微泡水的状态和、投受光传感器的动作的图。

图9是表示本发明的单张式基板处理装置的构成的图。

图10是本发明的单张式基板处理装置的构成的图。

具体实施方式

以下参照附图说明本发明的最佳实施方式。

<1.第一实施方式>

<1-1.基板处理装置的构成>

图1是表示本发明的第一实施方式的基板处理装置1的构成的图。该基板处理装置1是把多张基板W(以下简称基板W)一起浸渍在存积于处理槽10内的纯水中来除去附着在基板W的表面上的微粒的装置。如图1所示，基板处理装置1主要具有处理槽10、升降器20、超声波振动赋予部30、纯水供给部40和控制部50。

处理槽10是用来存积作为处理液的纯水的容器。在处理槽10的底部设置有一对喷出部11，像图1中的镂空箭头所示的那样，从喷出部11向处理槽10内喷出纯水。此外，处理槽10的上面敞开着，在其外侧的上端设置有外槽12。从喷出部11向处理槽10内喷出的纯水存积在处理槽10内，不久便从处理槽10的上部向外槽12溢出。此外，向外槽12溢出的纯水经由配管13向排液管路排出。

升降器20是保持基板W并上下运送基板W的运送机构。升降器20具备保持部21，该保持部21有三条保持棒21a，在三条保持棒21a上分别刻有多条保持沟(省略图示)，基板W以直立姿势被保持在保持沟上。在保持部21上连接着具有伺服马达或同步带等的升降器驱动部22。使升降器驱动部22动作时，保持着基板W的保持部21就升降，从而在处理槽10内的浸渍位置与处理槽10上方的提升位置之间运送基板W。

超声波振动赋予部30是对浸渍在处理槽10内的纯水中的基板W施加超声波振动的机构。超声波振动赋予部30具有用来存积成为超声波振动的传播媒体的传播液(如纯水)的传播槽31和、设置在传播槽31的底部的背面的超声波振子32。使超声波振子32动作时，产生超声波振动，该超声波振动顺次使传播槽31的底部、传播液、处理槽10的底部、处理槽10内的纯水振动，一直传播到基板W的表面。

纯水供给部40是用来向处理槽10内供给纯水的配管系统，纯水供给部40具有供给包含微泡的纯水(下称微泡水)的第一配管部60、仅送给纯水的第二配管部70、使微泡水与纯水汇合并导向喷出部11的第三配管部80。

第一配管部60设置有纯水供给源61、氮气供给源62、缓冲槽63、微泡发生器64a、64b、配管65a～65g、开闭阀门66a～66c、流量调节阀门67a、67b、流量计68a、68b、泵69。配管65a连接在纯水供给源61上，在配管65a的路径途中从上游侧开始设置有开闭阀门66a、流量调节阀门67a和流量计68a。此外，配管65a的另一端分支为配管65b和配管65c，它们分别连接到缓冲槽63内的微泡发生器64a、64b。因此，开启开闭阀门66a时，纯水供给源61供给的纯水就通过配管65a、65b、65c被导入微泡发生器64a、64b。

此外，配管65d连接在氮气供给源62上，在配管65d的路径途中从上游侧开始设置有开闭阀门66b、流量调节阀门67b和流量计68b。此外，配管65d的另一端分支为配管65e和配管65f，它们分别连接到缓冲槽63内的微泡发生器64a、64b。因此，开启开闭阀门66b时，从氮气供给源62供给的氮气就通过配管65d、65e、65f被导入微泡发生器64a、64b。

在缓冲槽63内存积着纯水，两个微泡发生器64a、64b浸没在该纯水中。微泡发生器64a、64b是将纯水与氮气混合起来生成微泡水的装置。图2是用平行于微泡水的喷出方向的平面截断微泡发生器64a得到的纵向断面图，图3是用图2的III-III线截断微泡发生器64a得到的纵向断面图。如图2和图3所示，微泡发生器64a由具有呈近似圆锥状的内侧面的容器641构成，为连通容器641的内部与外部而形成有纯水导入口642、氮气导入口643和微泡水喷出口644。

纯水导入口642与上述的配管65b相连接，沿容器641的内侧面把纯水导入容器641的内部。被导入到容器641内部的纯水，如图1和图2中的虚线箭头所示，沿容器641的内侧面形成回旋流，并向容器641内部的收敛方向流动。此外，氮气导入口643形成在容器641内部的圆锥底面侧，与上述的配管65e相连接。从氮气导入口643向容器641的内部导入的氮气由于比重小而被汇集于形成在容器641的内部的回旋流的回旋中心，并形成细的带G。这样，在容器641的内部就形成了由纯水与氮气构成的气液双层回旋流。并且，在从在容器641内部的收敛侧形成的微泡水喷出口644喷出纯水和氮气时，回旋流的回旋速度急剧衰减而切断氮气带G，从而形成微米量级的微细气泡即微泡。

这样，就从微泡发生器64a的微泡水喷出口644喷出微泡水，并把所喷出的微泡水存积在缓冲槽63内。由于微泡发生器64a本身并不需要动力，所以能够将其做成小尺寸的器件。另外，微泡发生器64b的构成除了纯水导入口连接在配管65c上而氮气导入口连接在配管65f上之外，其余的构成与上述的微泡发生器64a的构成同等，所以省略重复说明。

返回到图1，在缓冲槽63上连接着用来汲出纯水的配管65g，在配管65g的路径途中从上游侧开始设置有无脉动泵69和开闭阀门66c，配管65g的另一端连接到第三配管部80。因此，开启开闭阀门66c的同时使泵69动作时，存积在缓冲槽63内的微泡水就被汲取上来，并经配管65g送到第三配管部80。如上所述，缓冲槽63被设置在第一配管部60内的纯水供给路径途中，在其内部生成微泡水。

另一方面，第二配管部70设置有纯水供给源71、配管72、开闭阀门73。配管72连接在纯水供给源71上，在配管72的路径途中设置有开闭阀门73。此外，配管72的另一端连接在第三配管部80上。因此，开启开闭阀门73时，从纯水供给源71通过配管72把纯水送到第三配管部80。

第三配管部80具有配管81，在配管81的路径途中设置有流量计82和定流量阀门83。从第一配管部60送来的微泡水和从第二配管部70送来的纯水汇合并被导入配管81，并通过配管81被供给到处理槽10内的喷出部11。

此外，控制部50与上述的升降器驱动部22、超声波振子32、开闭阀门66a～66c、73、流量调节阀门67a、67b、流量计68a、68b、82、泵69、以及定流量阀门83电气连接，来控制它们的动作。控制部50由具备CPU和存储器的计算机构成，CPU根据规定的程序进行运算处理，由此来进行控制动作。例如，控制部50根据流量计68a的计量结果调节流量调节阀门67a的开度。由此来调节从纯水供给源61向微泡发生器64a、64b供给的纯水的流量。此外，控制部50根据流量计68b的计量结果调节流量调节阀门67b的开度。由此来调节从氮气供给源62向微泡发生器64a、64b供给的氮气的流量。此外，控制部50根据流量计82的计量结果控制定流量阀门83。由此，把向处理槽10供给的纯水或微泡水的流量维持为一定。

<1-2.基板处理装置的动作>

接着，说明上述的基板处理装置1的动作。图4是表示基板处理装置1进行的基板处理的流程图。另外，通过控制部50控制升降器驱动部22、超声波振子32、开闭阀门66a～66c、73、流量调节阀门67a、67b、流量计68a、68b、82、泵69、以及定流量阀门83来说明以下的动作。

用基板处理装置1进行基板处理时，首先，在开闭阀门66c的关闭状态下，基板处理装置1开启开闭阀门73，这样从纯水供给源71经配管72、81和喷出部11向处理槽10供给纯水，并把纯水存积在处理槽10内(步骤S1)。此后仍继续进行从纯水供给源71的纯水供给，从处理槽10的上方向外槽12溢出的纯水经由配管13向排液管路排出。

另一方面，基板处理装置1开启第一配管部60的开闭阀门66a、66b，把纯水和氮气分别导入微泡发生器64a、64b。微泡发生器64a、64b把被导入的纯水和氮气作为微泡水喷出，并将微泡水存积在缓冲槽63内(步骤S2)。基板处理装置1预先在缓冲槽63内生成规定量的微泡，直至开始后述的步骤S4的微泡水的供给。

然后，基板处理装置1使升降器22动作，把保持部21降下来，这样，基板W就朝存积在处理槽10内的纯水中浸渍(步骤S3)。并且，一旦完成基板W的浸渍，基板处理装置1就开启第一配管部60的开闭阀门66c，同时使泵69动作。这样，将存积在缓冲槽63内的微泡水汲取上来，所汲取上来的微泡水与从纯水供给源71供给的纯水汇合起来并被送到配管81。汇合后的微泡水从喷出部11向处理槽10内喷出，并被供给到基板W的周围(步骤S4)。然后，基板处理装置1使超声波振子32动作，产生超声波振动。超声波振子32产生的超声波振动顺次使传播槽31的底部、传播液、处理槽10的底部、处理槽10内的纯水振动，一直传播到基板W的表面(步骤S5)。

此时，附着在基板W上的微粒受来自超声波振子32的超声波振动的冲击而从基板W的表面脱离。此外，在处理槽10内，形成有朝向处理槽10的上方的纯水水流，微泡在其中向处理槽10的上方漂浮。因此，从基板W的表面脱离的微粒吸附在微泡上，与微泡一起被运送到处理槽10的上方。由于微泡的各气泡的尺寸都是很微小的，所以作为整体具有很大的表面积(气液界面的面积)。因此，微泡高效地吸附从基板W脱离下来的微粒。此外，由于微泡具有带电性，通过静电的作用也会把微粒拉拽过来，从而更加有效地吸附微粒。吸附了微粒的微泡与纯水一起从处理槽10的上部向外槽12溢出，并通过配管13排放到排液管路。

微泡的供给和超声波振动的施加持续规定时间之后，基板处理装置1使超声波振子32停止动作，仅仅继续进行微泡的供给(步骤S6)。这样，残存在纯水中的微粒被吸附在微泡上而排到处理槽10之外。因此，能够防止残存在处理槽10内的微粒再次附着到基板W上。此后，基板处理装置1关闭开闭阀门66a、66b、66c，停止微泡水的供给(步骤S7)。最后，基板处理装置1使升降器驱动部22动作，来提升保持部21，从处理槽10内的纯水中把基板W提拉上来(步骤S8)。至此，基板W在基板处理装置1中的处理结束。

如上所述，该基板处理装置1在缓冲槽63内生成大量的微泡，并将这些微泡从缓冲槽63供给到处理槽10。因此，使用小型的微泡发生器64a、64b能防止处理装置的大型化，同时能把大量的微泡供给到基板W的周围。

该基板处理装置1的纯水供给部40具有经由缓冲槽63供给纯水的第一配管部60和不经缓冲槽供给纯水的第二配管部70，并将从第一配管部60送来的微泡水与从第二配管部70送来的纯水汇合起来而供给到处理槽10。因此，能够减低应存积在缓冲槽63内的纯水的量，从而可以使缓冲槽63小型化。

此外，该基板处理装置1可以通过调节泵69的汲取量来调节从缓冲槽63汲出的微泡水的流量。因此，可以调节从缓冲槽63汲出的微泡水与从纯水供给源71供给的纯水的混合比，这样，就能够任意调节向处理槽10供给的微泡水的浓度(单位量中所含的微泡的量)。

此外，该基板处理装置1在缓冲槽63内并列设置有两个微泡发生器64a、64b，因此在缓冲槽63内能够在规定时间内生成大量的微泡。

此外，该基板处理装置1用无脉动泵69汲出在缓冲槽63内存积的微泡水，并供给到处理槽10。由于无脉动泵69的汲出量是稳定的，所以能够容易地调节从缓冲槽63汲出的微泡水与从纯水供给源71供给的纯水的混合比。此外，能够防止由定流量阀门83维持为恒定的配管81内的流量发生变动。

此外，该基板处理装置1具有对浸渍在处理槽10内的处理液中的基板W施加超声波振动的超声波振动赋予部30。因此，通过超声波振动的物理冲击能够使微粒从基板W上脱离下来，并且使脱离下来的微粒吸附在微泡来除去。因此，能够从基板W的表面更加有效地除去微粒。

<2.第二实施方式>

接下来说明本发明的第二实施方式。图5是表示本发明第二实施方式的基板处理装置101的构成的图。第二实施方式的基板处理装置101除缓冲槽110、投受光传感器120、质量流控制器130和流量控制部140之外，具有与上述的基板处理装置1等同的构成。因此，以下仅以与基板处理装置1不同的部分为中心进行说明，对于与基板处理装置1等同的部分，在图5中标注与图1同样的符号，并省略重复说明。

第二实施方式的基板处理装置101具有用透光材料(例如高纯度的石英玻璃)构成的缓冲槽110，在缓冲槽110的侧部设置着具有一对投光器121和受光器122的投受光传感器120，投光器121和受光器122挟着缓冲槽110而对向配置，并且以使从投光器121投射出来的光线经过缓冲槽110内的处理液投向受光器122的方式确定投光器121和受光器122的位置关系。基板处理装置101使用这样的投受光传感器120来检测供给到缓冲槽110内的微泡是否充分。以下说明投受光传感器120的检测动作。

图6～图8是表示存积在缓冲槽110内的微泡水的状态和、投受光传感器120的动作的图。例如，如图6所示，在缓冲槽110内未充分地供给微泡时，缓冲槽110内的微泡水的透明度比较高。因此，从投光器121投射出来的光线到达受光器122，从而受光器122检测到光线。另一方面，如图7所示，在缓冲槽110内充分地供给有微泡时，缓冲槽110内的微泡水因微泡而混浊，从而透明度下降。因此，从投光器121投射出来的光线不能到达受光器122，受光器122检测不到光线。

此外，如图8所示，在从微泡发生器64a、64b喷出比较大的气泡(比微泡大的气泡)的情况下，纯水不会因为该气泡混浊。因此，从投光器121投射出来的光线到达受光器122，受光器122检测到光线。也就是说，投受光传感器120仅仅在缓冲槽110内充分地供给有微泡的情况下才成为遮光状态，而停止受光器122的受光。因此，投受光传感器120基于受光器122停止受光的情况而能够感知到缓冲槽110内已经被供给了足够的微泡。

返回到图5，在从氮气供给源62延伸到配管65d的路径途中，设置有可电气控制的流量控制阀门即质量流控制器130。并且，上述的受光器122和质量流控制器130经规定的通信线路连接在流量控制部140上。流量控制部140接收来自受光器122的检测信号的同时，根据该检测信号控制质量流控制器130的动作。由此，来调节流经配管65d内的氮气的流量以及从微泡发生器64a、64b喷出来的微泡的量。流量控制部140既可以用与控制部50共同的计算机来构成，也可以用单独的计算机来构成。

与上述的基板处理装置1一样，基板处理装置101沿图4的流程图进行基板W的处理。可是，在将微泡水存积在缓冲槽10内时，使上述的投受光传感器120动作，然后根据受光器122的检测信号控制质量流控制器130的设定流量。例如，在受光器122感受到光线时，判断为未将微泡充分供给到缓冲槽110内，因而慢慢地提高质量流控制器130的流量。在受光器122停止受光时，判断为缓冲槽110内已经供给了足够的微泡，因而维持此时刻的质量流控制器130的流量。这样，基板处理装置101就以把微泡充分供给到了缓冲槽110内的状态(图7的状态)为目标，来控制微泡的喷出量。

如上所述，该基板处理装置101具有经缓冲槽110内的纯水进行投光和受光的投受光传感器120，因此，能够检测是否缓冲槽110内已经供给了足够的微泡。此外，该基板处理装置101根据受光器122的检测信号控制质量流控制器130，来调节从微泡发生器64a、64b喷出的微泡的量。因此，能够自动生成缓冲槽110内已经供给了足够的微泡的状态。

此外，该基板处理装置101经质量流控制器130把从氮气供给源62供给的氮气送到微泡发生器64a、64b，因此，即使在来自氮气供给源62的氮气供给量发生了变动的情况下，也能够以恒定的流量供给氮气。

另外，上述的基板处理装置101利用流量控制部140来控制氮气的流量，但是也可以使氮气的流量恒定而控制纯水的流量。具体地说，在纯水用的配管65a的路径途中设置质量流控制器，由流量控制部140来控制该质量流控制器。但是，与控制非压缩流体即纯水的流量相比，控制压缩流体即氮气的流量能够把流量控制得更加稳定。此外，虽然也可以同时控制氮气的流量和纯水的流量，但是固定一方的流量而控制另一方的流量不会引起不规则的乱调，能够稳定地控制流量。

<3.变形例>

以上说明了本发明的实施方式，但是本发明并不限定于上述的示例。例如，上述的基板处理装置1使用纯水作为处理液，但是也可以使用其它药液作为处理液，例如也可以使用对基板W有高清洗效果的SC-1液等。此外，上述的基板处理装置1是仅仅进行基板W的清洗处理的装置，但是也可以构成能够进行其他处理的装置。

此外，上述的基板处理装置1在缓冲槽63内设置了两个微泡发生器64a、64b，但是微泡发生器的数量可以是一个也可以是三个以上。微泡发生器不限定于上述的微泡发生器64a、64b，也可以利用各种公知的微泡发生器。

此外，也可以在第二配管部70的配管72上设置流量调节阀门，以便能够调节从纯水供给源71供给的纯水的流量。这样就能够更加容易地调节从缓冲槽63汲出的微泡水与从纯水供给源71供给的纯水的混合比。

此外，也可以通过根据流量计68a的计量值控制流量调节阀门67a和泵69的动作，把导入微泡发生器64a、64b的纯水的流量和从缓冲槽63汲出的微泡水的流量控制得基本相同。这样，把缓冲槽63内的微泡水维持为一定量，就可以稳定地把微泡水供给到处理槽10。此外，由于缓冲槽63内的微泡水的量不变动，所以能够使缓冲槽63更加小型化。

此外，在上述的第一实施方式中，说明了把多张基板W一起浸渍到处理槽10内的批量式的基板处理装置1，但是本发明的基板处理装置也可以是图9所示的那种单张式的基板处理装置2。图9的基板处理装置2是用保持部91把一张基板W保持为水平姿势，同时使其绕垂直轴转动，并从喷出部92向基板W的表面喷出纯水，来清洗基板W的表面的装置。在喷出部92上装配着超声波振子93，使超声波振子93动作时，就把超声波振动施加到从喷出部92喷出的纯水中。另外，基板处理装置2的各部的动作受控制部94的控制。在该基板处理装置2中，与图1的纯水供给部40等同的构成适用于连接在喷出部92上的纯水供给部95。因此，能够得到与上述的基板处理装置1等同的效果。

此外，在第二实施方式中，说明了把多张基板W一起浸渍到处理槽10内的批量式的基板处理装置1，但是本发明的基板处理装置也可以是图10所示的那种单张式的基板处理装置102。图10的基板处理装置102是用保持部91把一张基板W保持为水平姿势，同时使其绕垂直轴转动，并从喷出部92向基板W的表面喷出纯水，来清洗基板W的表面的装置。在喷出部92上装配着超声波振子93，使超声波振子93动作时，就把超声波振动施加到从喷出部92喷出的纯水中。另外，基板处理装置102的各部的动作受控制部94的控制。在该基板处理装置102中，与图5的纯水供给部40等同的构成适用于连接在喷出部92上的纯水供给部95。因此，能够得到与上述的基板处理装置101等同的效果。

Claims (21)

1.一种基板处理装置，其用处理液处理基板，其特征在于，设置有：

存积处理液的处理槽、

在所述处理槽内保持基板的保持部、

向所述处理槽内供给处理液的处理液供给部、

在所述处理液供给部的供给路径途中存积处理液的缓冲槽、和

在存积于所述缓冲槽内的处理液中产生微泡的微泡发生部。

2.根据权利要求1记载的基板处理装置，其特征在于，

所述处理液供给部具有：经由所述缓冲槽供给处理液的第一送给路径和、不经所述缓冲槽供给处理液的第二送给路径，

并且所述处理液供给部使从所述第一送给路径送来的包含微泡的处理液和从所述第二送给路径送来的处理液汇合来进行供给。

3.根据权利要求2记载的基板处理装置，其特征在于，还具有流量调节部，该流量调节部调节从所述第一送给路径和所述第二送给路径之一送来的处理液的流量、或者调节从所述第一送给路径和所述第二送给路径两方送来的处理液的流量。

4.根据权利要求3记载的基板处理装置，其特征在于，向所述缓冲槽供给的处理液的流量与从所述缓冲槽汲出的处理液的流量基本上相同。

5.根据权利要求4记载的基板处理装置，其特征在于，

所述微泡发生部具有微泡发生器，

该微泡发生器具有：内侧面呈近似圆锥状的容器、沿所述容器的内侧面导入处理液的处理液导入部、将规定的气体导入所述容器的气体导入部、从所述容器的收敛侧喷出处理液和气体的喷出部，

该微泡发生器使在所述容器的内部形成的由处理液和气体构成的双层回旋流从所述喷出部喷出，由此在处理液中产生微泡。

6.根据权利要求5记载的基板处理装置，其特征在于，所述微泡发生部在所述缓冲槽内具有多个所述微泡发生器。

7.根据权利要求6记载的基板处理装置，其特征在于，所述处理液供给部具有无脉动泵，该无脉动泵汲出存积在所述缓冲槽内的处理液并将该处理液送向基板侧。

8.根据权利要求7记载的基板处理装置，其特征在于，还具备对正在用处理液进行处理的基板赋予超声波振动的超声波振动赋予部。

9.根据权利要求8记载的基板处理装置，其特征在于，还具备经所述缓冲槽内的处理液进行投光和受光的投受光传感器。

10.根据权利要求9记载的基板处理装置，其特征在于，还具备根据所述投受光传感器的检测信号控制所述微泡发生部的控制部。

11.一种基板处理装置，其用处理液处理基板，其特征在于，设置有：

保持基板的保持部、

对被保持在所述保持部上的基板供给处理液的处理液供给部、

在所述处理液供给部的供给路径途中存积处理液的缓冲槽、和

在存积于所述缓冲槽内的处理液中产生微泡的微泡发生部。

12.根据权利要求11记载的基板处理装置，其特征在于，

所述处理液供给部具有：经由所述缓冲槽供给处理液的第一送给路径和、不经所述缓冲槽供给处理液的第二送给路径，

并且所述处理液供给部将从所述第一送给路径送来的包含微泡的处理液和从所述第二送给路径送来的处理液汇合来进行供给。

13.根据权利要求12记载的基板处理装置，其特征在于，还具有流量调节部，该流量调节部调节从所述第一送给路径和所述第二送给路径之一送来的处理液的流量、或者调节从所述第一送给路径和所述第二送给路径两方送来的处理液的流量。

14.根据权利要求13记载的基板处理装置，其特征在于，向所述缓冲槽供给的处理液的流量与从所述缓冲槽汲出的处理液的流量基本上相同。

15.根据权利要求14记载的基板处理装置，其特征在于，

所述微泡发生部具有微泡发生器，

该微泡发生器具有：内侧面呈近似圆锥状的容器、沿所述容器的内侧面导入处理液的处理液导入部、将规定的气体导入所述容器的气体导入部、从所述容器的收敛侧喷出处理液和气体的喷出部，

该微泡发生器使在所述容器的内部形成的由处理液和气体构成的双层回旋流从所述喷出部喷出，由此在处理液中产生微泡。

16.根据权利要求15记载的基板处理装置，其特征在于，所述微泡发生部在所述缓冲槽内具有多个所述微泡发生器。

17.根据权利要求16记载的基板处理装置，其特征在于，所述处理液供给部具有无脉动泵，该无脉动泵汲出存积在所述缓冲槽内的处理液并将该处理液送向基板侧。

18.根据权利要求17记载的基板处理装置，其特征在于，还具备对正在用处理液进行处理的基板赋予超声波振动的超声波振动赋予部。

19.根据权利要求18记载的基板处理装置，其特征在于，还具备经所述缓冲槽内的处理液进行投光和受光的投受光传感器。

20.根据权利要求19记载的基板处理装置，其特征在于，还具备根据所述投受光传感器的检测信号控制所述微泡发生部的控制部。

21.一种基板处理方法，其用处理液处理基板，其特征在于，具备如下工序：

(a)在缓冲槽内存积处理液；

(b)所述工序(a)之后，在所述缓冲槽内的处理液中产生微泡；

(c)所述工序(b)之后，把所述缓冲槽内的处理液供给基板。

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