CN104892513A - 一种含链烯基吡唑啉类增感剂及其制备方法和应用 - Google Patents
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- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 title abstract description 5
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 8
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 28
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 claims description 28
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 22
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 18
- -1 alkenyl pyrazolines Chemical class 0.000 claims description 18
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 15
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 10
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical group CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 8
- 125000005120 alkyl cycloalkyl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001316 cycloalkyl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical group C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- LRWZZZWJMFNZIK-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-3-methyloxirane Chemical compound CC1OC1Cl LRWZZZWJMFNZIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 claims description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 claims description 4
- SDTHIDMOBRXVOQ-UHFFFAOYSA-N 5-[bis(2-chloroethyl)amino]-6-methyl-1h-pyrimidine-2,4-dione Chemical compound CC=1NC(=O)NC(=O)C=1N(CCCl)CCCl SDTHIDMOBRXVOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical group CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 claims description 3
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 claims description 3
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical group COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 125000006374 C2-C10 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- NSOXQYCFHDMMGV-UHFFFAOYSA-N Tetrakis(2-hydroxypropyl)ethylenediamine Chemical compound CC(O)CN(CC(C)O)CCN(CC(C)O)CC(C)O NSOXQYCFHDMMGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 2
- XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N methylimidazole Natural products CC1=CNC=N1 XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Substances [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 235000015320 potassium carbonate Nutrition 0.000 claims description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 abstract description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 abstract description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 10
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 9
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 8
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 description 7
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 5
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical group 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybenzaldehyde Chemical compound OC1=CC=C(C=O)C=C1 RGHHSNMVTDWUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- BUDQDWGNQVEFAC-UHFFFAOYSA-N Dihydropyran Chemical compound C1COC=CC1 BUDQDWGNQVEFAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N phenylhydrazine Chemical compound NNC1=CC=CC=C1 HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940067157 phenylhydrazine Drugs 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- NPSSWQJHYLDCNV-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoic acid;hydrochloride Chemical compound Cl.OC(=O)C=C NPSSWQJHYLDCNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003381 solubilizing effect Effects 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/06—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
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Abstract
本发明公开一种如式(I)所示的含链烯基吡唑啉类增感剂及其制备方法。在应用于光固化体系时,该增感剂溶解性非常理想,无气味,对感光度的提升效果优异,制成的膜具有很好的分辨率及附着力。
Description
技术领域
本发明属于有机化学领域,具体涉及一种含链烯基吡唑啉类增感剂及其制备方法,以及该增感剂在光固化领域中的应用。
背景技术
紫外光固化技术因固化速度快、环境污染小等优点得到了广泛应用,其中的光引发剂对光固化效率起着决定作用。在实际使用过程中,部分光引发剂由于吸收波长的局限不能很好的引发聚合,往往需要与增感剂配合使用以提高引发效率。增感剂能将吸收的能量不断传递给光引发剂,相当于光化学反应的催化剂。
然而增感剂的应用受到诸多因素的制约,例如溶解性、吸收波长的匹配性、有无气味等。现阶段,寻找与光引发剂吸收波长相匹配且溶解性好、低气味的增感剂已成为该领域的一个研发热点。
吡唑啉类化合物作为增感剂使用已被人们所知悉,如中国专利申请CN101652715A、CN102375341A等公开了不同的吡唑啉类化合物在感光树脂中的应用。但现有的这些吡唑啉类化合物在作为增感剂使用时或多或少地存在着溶解性不理想、有气味、易迁移、感光度提升效果不佳等缺点。
发明内容
针对现有技术的不足,本发明旨在提供一种含链烯基吡唑啉类增感剂。在应用于光固化体系时,该增感剂溶解性非常理想,无气味,对感光度的提升效果优异,制成的膜具有很好的分辨率及附着力。并且由于分子中含有链烯基基团,其在使用中还具有不易迁移的特点。
本发明的含链烯基吡唑啉类增感剂,具有如下式(I)所示的结构:
其中,
R1代表C1-C10的直链或支链烷基、C4-C10的烷基环烷基或环烷基烷基、苯基、取代苯基、C2-C10的链烯基;
R2代表氢、C1-C10的直链或支链烷基、C4-C10的烷基环烷基或环烷基烷基;
R3代表空或-CH2-CH(OH)-CH2-O-;
R4代表氢、C1-C10的直链或支链烷基、C4-C10的烷基环烷基或环烷基烷基。
作为优选技术方案,式(I)中,R1选自苯基、取代苯基或C3-C6的链烯基;进一步优选地,R1选自下列基团:
C6H5*、CH3C6H4*、CH3CH2C6H4*、CH3CH2CH2C6H4*、CH3CH2CH2CH2C6H4*、C6H5C6H4*、C6H5C6H4*、CH3CH=CH2*、CH3CH2CH=CH2*、CH3CH2CH2CH=CH2*、(CH3)2CH2CH=CH2*、CH3CH2CH2CH2CH=CH2*、C6H5CH=CH2*。
R2优选是氢、C1-C4的直链或支链烷基,更优选是氢、甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基或叔丁基。
R4优选是氢、C1-C4的直链或支链烷基,更优选是氢、甲基、乙基、丙基或异丙基。
本发明的另一个目的在于提供上述具有式(I)结构的含链烯基吡唑啉类增感剂的制备方法,包括以下步骤:
(1)原料a和原料b在含催化剂的溶剂中反应,生成中间体a;
(2)中间体a与原料c在强碱作用下反应生成中间体b;
(3)中间体b在酸作用下脱保护,得到中间体c;
(4)中间体c与原料d在冰醋酸中于30-100℃反应2-20h,生成中间体d;
(5)当R3为空时:中间体d和原料e在含有缚酸剂的溶剂中反应,生成产物;
当R3为-CH2-CH(OH)-CH2-O-时:将中间体d与环氧氯丙烷在含有相转移催化剂的溶剂中反应,反应完全后加入强碱继续反应,得到中间体e;然后将中间体e与原料f在催化剂和阻聚剂存在下反应,得到产物;
反应过程式如下所示:
本发明的增感剂是基于对化合物结构的改进和优化。如上面反应过程式所示,其制备方法中涉及的合成均是吡唑啉类化合物合成工艺中的常规步骤,具体可参见例如国际专利WO2009/060235A和中国专利CN1515557A中记载的内容,在此将其全文引入以作为参考。
具体而言,在步骤(1)中,使用的溶剂并没有特别限定,只要是能够溶解反应原料且不参与反应的那些常规有机试剂即可,例如二氯甲烷、二氯乙烷、甲苯、苯、二甲苯等。催化剂可选自甲基磺酸、对甲苯磺酸、对甲苯磺酸吡啶盐。
步骤(2)中所述的强碱是氢氧化钾、氢氧化钠或氢氧化钡。反应在有机溶剂中进行,对溶剂种类没有特别限定,一般为甲醇、乙醇等醇类溶剂。反应温度和反应时间根据原料c的结构不同而有所差异,通常而言,反应温度在0-50℃之间,反应时间为1-10h。
步骤(3)中的脱保护是一个水解反应过程,典型地,可将中间体b溶于含有酸的诸如二氯甲烷、二氯乙烷等烃类溶剂中进行。所述的酸可以是浓盐酸、醋酸、甲磺酸等。
步骤(5)中,当R3为空时,所述的缚酸剂选自三乙胺、碳酸钾、乙二胺、吡啶等,所述的溶剂可为苯、甲苯、二氯甲烷、二氯乙烷等烃类溶剂,反应温度为-10-30℃;
当R3为-CH2-CH(OH)-CH2-O-时,中间体d与环氧氯丙烷的反应可在苯、甲苯、二氯乙烷等烃类溶剂中进行,所述的相转移催化剂可选自四甲基溴化铵、四丁基溴化铵、四丙基溴化铵等季胺盐类催化剂或者二甲基咪唑等碱性催化剂,反应温度通常为10-150℃。反应结束后,加入的强碱是氢氧化钠和/或氢氧化钾。得到中间体e之后,进一步将其与原料f反应,过程中使用的催化剂是三苯基膦,阻聚剂选用对羟基苯甲醚,反应温度为0-100℃。
如本发明上述式(I)所示的化合物无气味,溶解性能优异,吸收波段在350-450nm之间,特别适合作为增感剂在光固化体系特别是含有双咪唑类光引发剂的体系中使用,对感光度的提升效果优异,且制成的膜具有很好的分辨率及附着力。因此,本发明还涉及该含链烯基吡唑啉类增感剂在光固化组合物中的应用。
具体实施方式
以下将结合具体实施例对本发明作进一步详细说明,但不应将其理解为对本发明保护范围的限制。
制备实施例
实施例1
(1)向1000mL四口烧瓶中加入对羟基苯甲醛183g、催化剂对甲苯磺酸吡啶盐5g、二氯甲烷300mL,控温50℃滴加126g二氢吡喃,滴加时间约1h,滴加完毕继续搅拌10h,液相跟踪反应至不再变化关闭反应,接着旋蒸除去二氯甲烷,得到275g中间体1a,纯度98%,直接用于下步反应;
(2)向1000mL四口烧瓶中加入中间体1a 247g、苯乙酮144g、甲醇300mL,室温水浴搅拌,2h内滴加40%的氢氧化钠溶液80g,然后继续搅拌6h,液相跟踪反应至不再发生变化,过滤,甲醇重结晶,烘干得固体330g,即中间体1b,纯度93%;
(3)向1000mL四口烧瓶中加入中间体1b 165g、37%的浓盐酸30g、二氯甲烷500mL,常温搅拌5h,过滤,甲醇漂洗,固体烘干得120g中间体1c,纯度98%;
(4)向1000mL四口烧瓶中加入中间体1c 112g、冰醋酸500g,搅拌升温至50℃,滴加108g苯肼,约2h滴加完,然后继续反应8h,过滤,甲醇重结晶得118g中间体1d,纯度98%;
(5)向250mL的四口烧瓶中加入中间体1d(31.4g,0.1mol)、三乙胺(12.1g,0.12mol)、二氯甲烷(30mL),冰水浴控温0℃左右搅拌,边搅拌边滴加丙烯酰氯(9.05g,0.1mol),液相跟踪反应至完全,停止反应,倒入150mL水中搅拌,二氯甲烷萃取水层,合并二氯甲烷层,旋蒸得白色粘稠液体,得36.3g产物1,收率99.5%,HPLC纯度99%。步骤(5)的反应式如下所示。
产物1的结构通过1H-NMR得到确认。
1H-NMR(CDCl3,500MHz):1.9048(1H,s),1.9437(1H,s),5.5099-5.7629(2H,d),6.40732-6.6221(2H,d),7.0309-7.1198(3H,m),7.3067-7.6319(5H,m)。
实施例2
向500mL的四口烧瓶中加入中间体1d(94.3g,0.3mol)、甲苯(50mL)、环氧氯丙烷(27.8g,0.3mol)、四丁基溴化铵(0.5g),控温70℃左右反应5h,液相跟踪反应至完全,接着降至室温,加入20g氢氧化钠,控温30℃以下反应3h,液相跟踪反应至完全,然后加入100mL水搅拌,甲苯萃取水层,合并甲苯层,旋蒸得106.6g产物中间体e。
取中间体e(37.0g)、甲基丙烯酸(8.6g,0.1mol)、甲苯(30mL)、三苯基磷(0.1g)、对羟基苯甲醚(0.1g),110℃反应5h,反应完毕,降至室温,用水清洗甲苯层,旋蒸甲苯产物溶液,甲醇重结晶,得41.6g产物2,收率88%,纯度99%。
产物2的结构通过1H-NMR得到确认。
1H-NMR(CDCl3,500MHz):1.9122-2.0309(6H,s),4.0887-4.3425(5H,d),5.5909(1H,s),6.1125(1H,s),6.4702-6.7221(5H,m),7.0309-7.3067(7H,m),7.5927-7.6651(2H,t)。
实施例3-14
参照实施例1或2的方法,合成具有如下所示结构的产物3-14:
性能评价
通过配制示例性光固化组合物(即感光性树脂组合物),对本发明式(Ⅰ)所示增感剂的应用性能进行评价。
1、性能评价客体的制备
<感光性树脂层叠体的制备>
将具有表1所示组成的感光性树脂组合物和PGMEA(丙二醇甲醚醋酸酯)充分搅拌、混合,使用棒涂在作为支撑体的19μm厚的聚对苯二酸乙二醇酯薄膜的表面上均匀涂布,然后在95℃的干燥机中干燥4min,形成感光性树脂层,厚度为40μm。
接着在感光性树脂层的没有层叠聚对苯二酸乙二醇酯薄膜的表面上贴合作为保护层的23μm厚的聚乙烯薄膜,获得感光性树脂层叠体。
<基板表面整平>
作为感光度和分辨率评价用基板,准备在0.20MPa喷雾压力下用喷射洗涤研磨机处理的覆酮层压板。
<层压>
一边剥离感光性树脂层叠体的聚乙烯薄膜,一边表面整平,通过热辊层压机在105℃的辊温度下将该层叠体层压至预热至60℃的履酮层压板上,气体压力为0.35MPa,层压速度为1.5m/min。
<曝光>
通过h射线类型的直接描绘式曝光装置,用按照下述感光度评价的阶段式曝光表级数为8的曝光量进行曝光。
<显影>
剥离聚对苯二酸乙二醇酯薄膜后,用30℃的1质量%的碳酸钠水溶液喷雾,溶解除去感光性树脂层的未曝光部分。此时,将未曝光部分的感光性树脂层完全溶解所需的最少时间作为最小显影时间。
表1
注:表1中以简体符号表示的组分的名称/组成在表2中示出。
表2
2、性能评价方法
(1)相容性试验
将具有表1所示组成的感光性树脂组合物充分搅拌、混合,使用棒涂布器均匀地涂布于作为支撑体的19μm厚聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的表面上。在95℃的干燥机中干燥4min,形成感光性树脂层。此后,目测涂布表面,按以下方式分级:
◇:涂布面均匀;
◆:涂布面上析出未溶物。
(2)气味性评价
通过对配制成的感光性树脂组合物通过扇闻法进行评价,进行如下分级:
○:无气味;
◎:有气味。
(3)感光度评价
使用具有从透明到黑色的21级明亮度变化的Stouffer制造的21级阶段式曝光表对层压后基板曝光15min,以评价其感光度。曝光后,以最小显影时间的2倍显影时间进行,根据抗蚀膜完全残留的阶段式曝光表级数为8的曝光量,进行如下分级:
○:曝光量为小于20mJ/cm2;
◎:曝光量为20mJ/cm2-50mJ/cm2;
●:曝光量为大于50mJ/cm2。
(4)分辨率评价
通过曝光部分和未曝光部分的宽度为1:1的比率的线型图案掩模,对层压后的基板曝光15min,然后用最小显影时间的2倍显影时间进行显影,以正常形成固化抗蚀线的最小掩模线宽作为分辨率值。
○:分辨率值为30μm以下;
◎:分辨率值为30μm-50μm(不包括端值);
●:分辨率值为50μm以上。
(5)附着力评价
通过曝光部分和未曝光部分的宽度为1:100的比率的线型图案掩模,对层压后的基板曝光15min,然后用最小显影时间的2倍显影时间进行显影,以正常形成固化抗蚀线的最小掩模线宽作为附着力值。
○:附着力值为30μm以下;
◎:附着力值为30μm-50μm(不包括端值);
●:附着力值为50μm以上。
3、性能评价结果
性能评价结果列于表3。
表3
注:*1由于抗蚀剂表面发生溶解,不能评价;
*2抗蚀剂没有充分固化,不能形成抗蚀线。
从表3的评价结果可以看出,在其他组分相同的情况下,使用了本发明增感剂的组合物(实施例1-5)具有很好的相容性、无气味、感光度高且表现出很好的分辨率及附着力,明显优于使用了现有增感剂的比较例1-3。而比较例4和5表明,在仅含BCIM光引发剂或增感剂的情况下,组合物根本无法固化。
综上,本发明式(I)所示化合物作为增感剂在光固化领域与光引发剂特别是双咪唑类光引发剂如BCIM配合使用时,能够表现出非常优异的应用性能,具有广阔的应用前景。
Claims (12)
1.一种含链烯基吡唑啉类增感剂,具有如下式(I)所示的结构:
其中,
R1代表C1-C10的直链或支链烷基、C4-C10的烷基环烷基或环烷基烷基、苯基、取代苯基、C2-C10的链烯基;
R2代表氢、C1-C10的直链或支链烷基、C4-C10的烷基环烷基或环烷基烷基;
R3代表空或-CH2-CH(OH)-CH2-O-;
R4代表氢、C1-C10的直链或支链烷基、C4-C10的烷基环烷基或环烷基烷基。
2.根据权利要求1所述的增感剂,其特征在于:R1选自苯基、取代苯基或C3-C6的链烯基。
3.根据权利要求1或2所述的增感剂,其特征在于:R1选自下列基团:
C6H5*、CH3C6H4*、CH3CH2C6H4*、CH3CH2CH2C6H4*、CH3CH2CH2CH2C6H4*、C6H5C6H4*、C6H5C6H4*、CH3CH=CH2*、CH3CH2CH=CH2*、CH3CH2CH2CH=CH2*、(CH3)2CH2CH=CH2*、CH3CH2CH2CH2CH=CH2*、C6H5CH=CH2*。
4.根据权利要求1所述的增感剂,其特征在于:R2是氢、C1-C4的直链或支链烷基。
5.根据权利要求1所述的增感剂,其特征在于:R4是氢、C1-C4的直链或支链烷基。
6.权利要求1-5中任一项所述的增感剂的制备方法,包括以下步骤:
(1)原料a和原料b在含催化剂的溶剂中反应,生成中间体a;
(2)中间体a与原料c在强碱作用下反应生成中间体b;
(3)中间体b在酸作用下脱保护,得到中间体c;
(4)中间体c与原料d在冰醋酸中于30-100℃反应2-20h,生成中间体d;
(5)当R3为空时:中间体d和原料e在含有缚酸剂的溶剂中反应,生成产物;
当R3为-CH2-CH(OH)-CH2-O-时:将中间体d与环氧氯丙烷在含有相转移催化剂的溶剂中反应,反应完全后加入强碱继续反应,得到中间体e;然后将中间体e与原料f在催化剂和阻聚剂存在下反应,得到产物;
反应过程式如下所示:
7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于:步骤(1)中,催化剂选自甲基磺酸、对甲苯磺酸、对甲苯磺酸吡啶盐。
8.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于:步骤(2)中,所述的强碱是氢氧化钾、氢氧化钠或氢氧化钡。
9.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于:步骤(5)中,当R3为空时,所述的缚酸剂选自三乙胺、碳酸钾、乙二胺、吡啶,所述的溶剂选自苯、甲苯、二氯甲烷、二氯乙烷。
10.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于:步骤(5)中,当R3为-CH2-CH(OH)-CH2-O-时,所述的相转移催化剂选自四甲基溴化铵、四丁基溴化铵、四丙基溴化铵等季胺盐类催化剂或者二甲基咪唑等碱性催化剂,所述的强碱是氢氧化钠和/或氢氧化钾,所述的催化剂是三苯基膦,所述的阻聚剂是对羟基苯甲醚。
11.权利要求1-5中任一项所述的增感剂在光固化组合物中的应用。
12.根据权利要求11所述的应用,其特征在于:所述的光固化组合物含有双咪唑类光引发剂。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510264670.9A CN104892513B (zh) | 2015-05-21 | 2015-05-21 | 一种含链烯基吡唑啉类增感剂及其制备方法和应用 |
KR1020177032537A KR102061130B1 (ko) | 2015-05-21 | 2016-05-20 | 피라졸린계 증감제 및 그 제조방법과 응용 |
PCT/CN2016/082853 WO2016184429A1 (zh) | 2015-05-21 | 2016-05-20 | 吡唑啉类增感剂及其制备方法和应用 |
JP2017560554A JP6774430B2 (ja) | 2015-05-21 | 2016-05-20 | ピラゾリン類増感剤及びその製造方法並びに使用 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510264670.9A CN104892513B (zh) | 2015-05-21 | 2015-05-21 | 一种含链烯基吡唑啉类增感剂及其制备方法和应用 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104892513A true CN104892513A (zh) | 2015-09-09 |
CN104892513B CN104892513B (zh) | 2017-05-03 |
Family
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201510264670.9A Active CN104892513B (zh) | 2015-05-21 | 2015-05-21 | 一种含链烯基吡唑啉类增感剂及其制备方法和应用 |
Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN104892513B (zh) |
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---|---|---|---|---|
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CN112574110A (zh) * | 2020-12-25 | 2021-03-30 | 同济大学 | 酰基取代吡唑啉硫鎓盐衍生物的制备及其应用 |
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---|---|---|---|---|
CN1219772C (zh) * | 2003-06-30 | 2005-09-21 | 浙江大学 | 5位含有酯基的1,3-芳基取代的吡唑啉液相合成法 |
TW200622491A (en) * | 2004-09-28 | 2006-07-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | Pattern-forming material, pattern-forming device and pattern-forming method |
GB0722067D0 (en) * | 2007-11-09 | 2007-12-19 | Lambson Fine Chemicals Ltd | Photoinitiators |
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- 2015-05-21 CN CN201510264670.9A patent/CN104892513B/zh active Active
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PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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GR01 | Patent grant |