CN104865797A - 感光性树脂组合物、使用其的感光性元件、抗蚀图形的形成方法及触摸面板的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种感光性树脂组合物以及使用其的感光性元件。本发明涉及一种正型感光性树脂组合物，其含有：具有不饱和烃基且重均分子量为500～15000的改性酚醛树脂、重均分子量为5000～30000的间-对甲酚树脂、邻甲酚树脂和通过光生成酸的化合物。

Description

感光性树脂组合物、使用其的感光性元件、抗蚀图形的形成方法及触摸面板的制造方法

技术领域

本发明涉及感光性树脂组合物、使用其的感光性元件、抗蚀图形的形成方法及触摸面板的制造方法。

背景技术

在半导体集成电路、液晶显示元件、印刷配线板等电子部件的制造中，作为形成导体的微细图形的方法，提出了使用含有酚醛清漆型酚醛树脂和1,2-醌二叠氮化合物的正型感光性树脂组合物的方案(例如，参照日本特开2007-316577号公报或国际公开第2007/026475号)。

近年来，由于智能手机、平板终端等便携设备的普及，触摸面板的需求提高。在触摸面板中，在传感器部位、引出配线部位等形成有数μm宽的微细导体图形。在该图形形成中，也使用正型感光性树脂组合物。

就正型感光性树脂组合物而言，由于照射了光的部分(曝光部)能够用碱性水溶液溶解去除，未照射光的部分(未曝光部)不被碱性水溶液溶解而未去除，因此能够形成图形。由此，研究了如下内容：通过反复进行针对由正型感光性树脂组合物形成的感光层的曝光处理和显影处理、以及针对导体的蚀刻处理，来形成多层导体图形。

为了形成多层导体图形，提出了使用含有特定酚醛树脂的正型感光性树脂组合物的方案(例如，参照日本特开2012-252095号公报)。

发明内容

另一方面，在形成触摸面板用途的导体图形时，伴随着图形的微细化、稀有金属替代金属的使用、传感器部位的小型化、触摸面板的低成本化、触摸面板的生产率提高等，使用了多种导体。进而，该导体的表面处理方法也多种多样。因此，对于形成图形所使用的正型感光性树脂组合物，要求与各种导体表面的密合性优异。

然而，就由以往的正型感光性树脂组合物形成的感光层而言，不能说其充分满足了与具有各种导体的基板的密合性，有在形成了抗蚀图形时产生缺口等不良的情况。根据以往的正型感光性树脂组合物，难以形成能够在维持上述密合性的同时兼顾反复显影时未曝光部的耐显影液性和曝光部的显影性的感光层。

本发明的目的在于，提供正型感光性树脂组合物以及使用其的感光性元件，所述正型感光性树脂组合物能够形成如下感光层，所述感光层与具有各种导体的基板的密合性优异，并且即使在反复进行使用碱性水溶液的显影的情况下，曝光部的显影性和未曝光部的耐显影液性也充分优异。

本发明提供一种正型感光性树脂组合物，其含有：具有不饱和烃基且重均分子量为500～15000的改性酚醛树脂、重均分子量为5000～30000的间-对甲酚树脂、邻甲酚树脂和通过光生成酸的化合物。

上述邻甲酚树脂的重均分子量以500～5000为佳。

上述改性酚醛树脂所具有的不饱和烃基的碳原子数以4～100为佳。

此外，上述正型感光性树脂组合物可以进一步含有氟系表面活性剂，也可以进一步含有密合性赋予剂。

本发明还提供一种感光性元件，其具备支撑体和设置于该支撑体上的由上述本发明的正型感光性树脂组合物形成的感光层。

本发明进一步提供一种抗蚀图形的形成方法，其具备如下工序：使用上述正型感光性树脂组合物或上述感光性元件，在基板上形成感光层的工序；对感光层的规定部分照射活性光线，形成曝光部的工序；以及将曝光部去除而形成由未曝光部的感光层构成的图形的工序。

在上述抗蚀图形的形成方法中，可以进一步具备如下工序：对由上述未曝光部构成的感光层的规定部分照射活性光线，形成曝光部的工序；以及将曝光部去除而形成由未曝光部的感光层构成的图形的工序。

本发明还提供一种触摸面板的制造方法，其具备对通过上述抗蚀图形的形成方法形成了抗蚀图形的基板进行蚀刻处理的工序。

根据本发明，能够提供正型感光性树脂组合物以及使用其的感光性元件，所述正型感光性树脂组合物能够形成如下感光层，所述感光层与具有各种导体的基板的密合性优异，并且即使在反复进行使用碱性水溶液的显影的情况下，曝光部的显影性和未曝光部的耐显影液性也充分优异。

附图说明

图1是表示本发明感光性元件的一个实施方式的示意截面图。

图2是表示使用负型感光性树脂组合物的触摸面板的制造方法的示意截面图。

图3是表示使用正型感光性树脂组合物的触摸面板的制造方法的一个方式的示意截面图。

图4是表示利用本发明得到的触摸面板的一个方式的俯视图。

附图标记说明：

2：支撑体，4：感光层，6：保护层，10：感光性元件，22：支撑基材，24：透明导电层，26：金属层，28：感光层，29：抗蚀图形，30：感光层，31：抗蚀图形，40：感光层，40a、40b：抗蚀图形，52：透明电极(X电极)，54：透明电极(Y电极)，56、57：引出配线，100：触摸面板。

具体实施方式

以下，根据需要一边参照附图，一边对本发明的实施方式进行详细说明。予以说明的是，附图中，对同一要素附上同一附图标记，并省略重复说明。此外，关于上下左右等位置关系，只要没有特别指出，就设为基于附图所示位置关系的位置关系。而且，附图的尺寸比率并不限于图示比率。此外，在以下的实施方式中，关于其构成要素(也包括步骤要素等)，除了特别明确表示的情况以及认为原理上显然需要的情况等之外并不一定是必须的，这是自不待言的。这对于数值和范围也是同样的，应解释为不会不合理地限制本公开内容。

予以说明的是，在本说明书中，关于“层”这一用语，在以平面图进行观察时，除了整面形成的形状的结构之外，还包含部分形成的形状的结构。在本说明书中，“工序”这一用语不仅包括独立的工序，即使在与其它工序不能明确区别的情况下，如果能实现该工序的预期目的，则也包含在本用语中。在本说明书中，使用“～”表示的数值范围表示包含“～”前后所记载的数值分别作为最小值和最大值的范围。本说明书中阶段性记载的数值范围中，某一阶段的数值范围的上限值或下限值可以置换成其他阶段的数值范围的上限值或下限值。本说明书中记载的数值范围中，该数值范围的上限值或下限值可以置换成实施例所示的值。此外，“一面”、“第1”、“第2”等用语是为了将一个构成要素与其它构成要素区别开而使用的，构成要素并不受上述用语限定。

本实施方式的正型感光性树脂组合物的特征在于，含有：作为(A)成分的具有不饱和烃基且重均分子量为500～15000的改性酚醛树脂、作为(B)成分的重均分子量为5000～30000的间-对甲酚树脂、作为(C)成分的邻甲酚树脂和作为(D)成分的通过光生成酸的化合物。

以下，对构成正型感光性树脂组合物的各成分进行详细说明。

＜(A)成分＞

(A)成分为具有不饱和烃基的改性酚醛树脂。通过使用具有不饱和烃基的改性酚醛树脂作为(A)成分，形成感光层时的可挠性提高。

酚醛树脂优选为酚醛清漆型酚醛树脂，该酚醛清漆型酚醛树脂为含有邻甲酚、或者间甲酚和对甲酚作为主成分的酚衍生物与醛类的缩聚产物。缩聚在例如酸等催化剂存在下进行。具有不饱和烃基的改性酚醛树脂可以是酚衍生物与具有不饱和烃基的化合物(以下称为“含有不饱和烃基的化合物”。)的反应产物(以下称为“不饱和烃基改性酚衍生物”。)、与醛类的缩聚产物，也可以是酚醛树脂与含有不饱和烃基的化合物的反应产物。

作为具有不饱和烃基的改性酚醛树脂，可以使用由利用含有不饱和烃基的化合物进行了改性的酚衍生物得到的酚醛树脂。此外，作为具有不饱和烃基的改性酚醛树脂，也可以使用将酚醛树脂用含有不饱和烃基的化合物改性而成的树脂。

上述不饱和烃基的碳原子数优选为4～100。该碳原子数下限值更优选大于或等于8，进一步优选大于或等于10，该碳原子数上限值更优选小于或等于80，进一步优选小于或等于60。通过设为上述范围，能够进一步提高正型感光性树脂组合物的可挠性。

在酚衍生物包含间甲酚和对甲酚作为主成分的情况下，关于间甲酚与对甲酚的质量比，从曝光部的显影性和未曝光部的耐显影液性的观点考虑，优选间甲酚/对甲酚为30/70～70/30，更优选为35/65～65/35，进一步优选为40/60～60/40。

作为为了得到(A)成分而使用的酚衍生物，也可以将甲酚以外的酚衍生物进行共聚。作为甲酚以外的酚衍生物，例如可以举出苯酚；2-乙基苯酚、3-乙基苯酚、4-乙基苯酚、2-丁基苯酚、3-丁基苯酚、4-丁基苯酚、2,3-二甲苯酚、2,4-二甲苯酚、2,5-二甲苯酚、2,6-二甲苯酚、3,4-二甲苯酚、3,5-二甲苯酚、2,3,5-三甲基苯酚、3,4,5-三甲基苯酚等烷基苯酚；甲氧基苯酚、2-甲氧基-4-甲基苯酚等烷氧基苯酚；乙烯基苯酚、烯丙基苯酚等烯基苯酚；苄基苯酚等芳烷基苯酚；甲氧基羰基苯酚等烷氧基羰基苯酚；苯甲酰氧基苯酚等芳基羰基苯酚；氯苯酚等卤代苯酚；邻苯二酚、间苯二酚、邻苯三酚等多羟基苯等。它们可以单独使用1种或者将2种以上组合使用。这些酚衍生物可以在不损害本发明所起到的效果的范围内进行添加，其添加量优选以为了得到(A)成分而使用的酚衍生物的总量为基准小于或等于30质量％。

作为醛类，例如可以举出甲醛、乙醛、丙酮、甘油醛、乙醛酸甲酯等。此外，也可以在与酚衍生物的反应中使用仲甲醛，三烷等甲醛的前体。它们可以单独使用1种或者将2种以上组合使用。

关于含有不饱和烃基的化合物，从密合性和可挠性的观点考虑，优选具有2个以上的不饱和烃基。此外，从制成树脂组合物时的相溶性和感光层的可挠性的观点考虑，含有不饱和烃基的化合物的碳原子数优选为4～100，更优选为8～80，进一步优选为10～60。

作为含有不饱和烃基的化合物，例如可以举出碳原子数4～100的不饱和烃、具有羧基的聚丁二烯、环氧化聚丁二烯、亚油醇(linolyl alcohol)、油醇、不饱和脂肪酸、不饱和脂肪酸酯等。作为优选的不饱和脂肪酸，例如可以举出巴豆酸、肉豆蔻脑酸、棕榈油酸、油酸、反油酸、异油酸、鳕油酸、芥酸、神经酸、亚油酸、α-亚麻酸、桐油酸、亚麻油酸(stearidonic acid)、花生四烯酸、二十碳五烯酸、二十二碳五烯酸、二十二碳六烯酸等。其中尤其是，更优选碳原子数8～30的不饱和脂肪酸与碳原子数1～10的一元至三元醇的酯，特别优选碳原子数8～30的不饱和脂肪酸与作为三元醇的甘油的酯。

碳原子数8～30的不饱和脂肪酸与甘油的酯例如可以以植物油形式商业获得。植物油的主成分是组成各不相同的各种不饱和脂肪酸与甘油的酯的混合物，作为不饱和脂肪酸，可以举出上述不饱和脂肪酸。作为植物油，例如可以举出碘值小于或等于100的不干性油、碘值大于100且小于130的半干性油、碘值大于或等于130的干性油等。作为不干性油，例如可以举出橄榄油、牵牛花籽油、何首乌果油、茶梅油、山茶油、蓖麻油、花生油等。作为半干性油，例如可以举出玉米油、棉籽油、芝麻油等。作为干性油，例如可以举出桐油、亚麻籽油、大豆油、胡桃油、红花油、向日葵油、苏子油、芥子油等。此外，作为碳原子数8～30的不饱和脂肪酸与甘油的酯，还可以使用对这些植物油进行加工而得到的加工植物油。

在酚衍生物或酚醛树脂与植物油的反应中，从防止过度进行反应所伴随的凝胶化、提高成品率的观点考虑，上述植物油中优选使用不干性油。另一方面，从提高抗蚀图形的密合性和机械强度的观点考虑，优选使用干性油。干性油中，从抗蚀图形的密合性和可挠性更加优异的观点考虑，优选桐油、亚麻籽油、大豆油、胡桃油或红花油，更优选桐油或亚麻籽油。

含有不饱和烃基的化合物可以单独使用1种或者将2种以上组合使用。

在调制具有不饱和烃基的改性酚醛树脂时，可以首先使上述酚衍生物与上述含有不饱和烃基的化合物反应，制作不饱和烃基改性酚衍生物。上述反应优选以50～130℃进行。关于酚衍生物与含有不饱和烃基的化合物的反应比例，从提高由正型感光性树脂组合物形成的感光层的可挠性的观点考虑，优选相对于酚衍生物100质量份，含有不饱和烃基的化合物为1～100质量份，更优选为5～50质量份。在上述反应中，还可以根据需要使用对甲苯磺酸、三氟甲烷磺酸等作为催化剂。

通过使由上述反应生成的不饱和烃基改性酚衍生物与醛类进行缩聚，可以得到具有不饱和烃基的改性酚醛树脂。

在缩聚时，可以采用以往公知的酚醛树脂的合成条件。在缩聚反应中，优选使用酸催化剂或碱催化剂，更优选使用酸催化剂。作为酸催化剂，例如可以举出盐酸、硫酸、甲酸、乙酸、对甲苯磺酸、草酸等。这些酸催化剂可以单独使用1种或者将2种以上组合使用。

上述缩聚优选以反应温度100～120℃进行。此外，反应时间根据所使用的催化剂的种类或者量而不同，通常为1～50小时。反应结束后，以小于或等于200℃的温度对反应产物进行减压脱水，从而得到具有不饱和烃基的改性酚醛树脂。另外，在反应中可以使用甲苯、二甲苯、甲醇等溶剂。

具有不饱和烃基的改性酚醛树脂还可以通过使上述不饱和烃基改性酚衍生物和间二甲苯这样的酚以外的化合物一起与醛类进行缩聚而得到。该情况下，酚以外的化合物相对于使酚衍生物与含有不饱和烃基的化合物反应而得到的化合物的摩尔比优选小于0.5。

具有不饱和烃基的改性酚醛树脂还可以通过使酚醛树脂与含有不饱和烃基的化合物反应而得到。

酚醛树脂与含有不饱和烃基的化合物的反应优选以反应温度50～130℃进行。此外，关于酚醛树脂与含有不饱和烃基的化合物的反应比例，从提高感光层的可挠性的观点考虑，优选相对于酚醛树脂100质量份，含有不饱和烃基的化合物为1～100质量份，更优选为2～70质量份，进一步优选为10～30质量份。此时，也可以根据需要使用对甲苯磺酸、三氟甲烷磺酸等作为催化剂。此外，在反应中可以使用甲苯、二甲苯、甲醇、四氢呋喃等溶剂。

关于(A)成分的分子量，从以更优异的范围兼顾感光特性(灵敏度和分辨力)和机械强度的观点考虑，以重均分子量(Mw)计为500～15000，优选为800～14000，更优选为1000～13000。其中，如果考虑层压速度，则特别优选重均分子量低，如果考虑机械强度，则特别优选重均分子量高。即，(A)成分的Mw下限值优选大于或等于800，更优选大于或等于1000。此外，(A)成分的Mw上限值优选小于或等于14000，更优选小于或等于13000。

予以说明的是，本说明书中的重均分子量是通过凝胶渗透色谱(GPC)测定，并由标准聚苯乙烯标准曲线进行换算所得的值。GPC中的测定条件如下。

泵：L-6200型(株式会社日立制作所制、商品名)

柱：TSKgel-G5000HXL(东曹株式会社制、商品名)

检测器：L-3300RI型(株式会社日立制作所制、商品名)

洗脱液：四氢呋喃

温度：30℃

流量：1.0mL/分钟

从以更优异的范围兼顾由正型感光性树脂组合物形成的感光层的机械强度和曝光部的显影性的观点考虑，感光性树脂组合物中的上述(A)成分的含有比例优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份为5～35质量份，更优选为10～30质量份，进一步优选为15～25质量份。即，(A)成分的含有比例下限值优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份大于或等于5质量份，更优选大于或等于10质量份，进一步优选大于或等于15质量份。另外，(A)成分的含有比例上限值优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份小于或等于35质量份，更优选小于或等于30质量份，进一步优选小于或等于25质量份。

＜(B)成分＞

(B)成分为间-对甲酚树脂。间-对甲酚树脂是由间甲酚和对甲酚得到的树脂。作为间-对甲酚树脂，优选为由间甲酚和对甲酚得到的酚醛清漆型酚醛树脂，更优选为包含间甲酚和对甲酚作为主成分的酚衍生物与醛类的缩聚产物。缩聚在例如酸等催化剂存在下进行。(B)成分是没有用含有不饱和烃基的化合物进行改性的未改性间-对甲酚树脂。

作为醛类，可以使用与(A)成分中所例示的醛类同样的物质。

关于间甲酚与对甲酚的质量比，从曝光部的显影性和未曝光部的耐显影液性的观点考虑，优选间甲酚/对甲酚为30/70～70/30，更优选为35/65～65/35，进一步优选为40/60～60/40。

关于(B)成分的分子量，从以更优异的范围兼顾感光特性(灵敏度和分辨力)和机械强度的观点考虑，以重均分子量(Mw)计为5000～30000，优选为6000～20000，更优选为8000～15000。即，(B)成分的Mw下限值优选大于或等于6000，更优选大于或等于8000。此外，(B)成分的Mw上限值优选小于或等于20000，更优选小于或等于15000。

从兼顾感光层的机械强度和显影性的观点考虑，感光性树脂组合物中的上述(B)成分的含有比例优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份为5～40质量份，更优选为5～35质量份，进一步优选为10～30质量份。即，(B)成分的含有比例下限值优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份大于或等于5质量份，更优选大于或等于10质量份。此外，(B)成分的含有比例上限值优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份小于或等于40质量份，更优选小于或等于35质量份，进一步优选小于或等于30质量份。

＜(C)成分＞

(C)成分为邻甲酚树脂。邻甲酚树脂是由邻甲酚得到的树脂。作为邻甲酚树脂，优选为由邻甲酚得到的酚醛清漆型酚醛树脂，更优选为包含邻甲酚作为主成分的酚衍生物与醛类的缩聚产物。缩聚在例如酸等催化剂存在下进行。(C)成分是没有用含有不饱和烃基的化合物进行改性的未改性邻甲酚树脂。

作为为了得到(C)成分而使用的酚衍生物，可以将邻甲酚以外的酚衍生物进行共聚。作为邻甲酚以外的酚衍生物，例如可以举出苯酚、间甲酚、对甲酚、2-乙基苯酚、3-乙基苯酚、4-乙基苯酚、2-丁基苯酚、3-丁基苯酚、4-丁基苯酚、2,3-二甲苯酚、2,4-二甲苯酚、2,5-二甲苯酚、2,6-二甲苯酚、3,4-二甲苯酚、3,5-二甲苯酚、2,3,5-三甲基苯酚、3,4,5-三甲基苯酚等烷基苯酚；甲氧基苯酚、2-甲氧基-4-甲基苯酚等烷氧基苯酚；乙烯基苯酚、烯丙基苯酚等烯基苯酚；苄基苯酚等芳烷基苯酚；甲氧基羰基苯酚等烷氧基羰基苯酚；苯甲酰氧基苯酚等芳基羰基苯酚；氯苯酚等卤代苯酚；邻苯二酚、间苯二酚、邻苯三酚等多羟基苯。它们可以单独使用1种或者将2种以上组合使用。这些酚衍生物可以在不损害本发明所起到的效果的范围内进行添加，其添加量优选以为了得到(B)成分而使用的酚衍生物的总量为基准小于或等于15质量％。

作为醛类，可以使用(A)成分中所例示的化合物同样的物质。

关于(C)成分的分子量，从能够更加平衡良好地提高感光层中的未曝光部的耐显影液性和曝光部的显影性的观点考虑，优选以重均分子量(Mw)计为500～5000，更优选为800～4000，特别优选为1000～3000。即，(C)成分的Mw下限值优选大于或等于500，更优选大于或等于800，进一步优选大于或等于1000。此外，(C)成分的Mw上限值优选小于或等于5000，更优选小于或等于4000，进一步优选小于或等于3000。

从以更优异的范围兼顾感光层的显影性和与具有各种导体的基板的密合性的观点考虑，(C)成分的含有比例优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份为20～65质量份，更优选为30～60质量份，进一步优选为35～55质量份。即，(C)成分的含有比例下限值优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份大于或等于20质量份，更优选大于或等于30质量份，进一步优选大于或等于35质量份。此外，(C)成分的含有比例上限值优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份小于或等于65质量份，更优选小于或等于60质量份，进一步优选小于或等于55质量份。

＜(D)成分＞

作为(D)成分的通过光生成酸的化合物被用作感光剂。(D)成分具有通过光照射生成酸而提高光照射的部分(曝光部)相对于碱性水溶液的溶解性的功能。作为(D)成分，可以使用通常被称为光酸产生剂的化合物。作为(D)成分，例如可以举出邻醌二叠氮化合物、芳基重氮盐、二芳基碘盐、三芳基锍盐等。其中，从灵敏度高的方面出发，优选1,2-醌二叠氮化合物。

1,2-醌二叠氮化合物是1,2-醌二叠氮和/或其衍生物。该1,2-醌二叠氮化合物是通过使具有磺基和/或磺酰氯基的1,2-醌二叠氮化合物与具有羟基或氨基的有机化合物(以下简称为“有机化合物”。)反应而得到的化合物。此时，有机化合物的羟基或氨基与1,2-醌二叠氮化合物的磺基或磺酰氯基成键。予以说明的是，该键只要在所得到的1,2-醌二叠氮化合物的分子内存在至少一个以上即可。

上述有机化合物优选为下述通式(1)～(3)中任一个所表示的化合物。该情况下，由正型感光性树脂组合物形成的感光层在曝光前与曝光后相对于碱性水溶液的溶解性的差异大，因此存在对比度更优异这样的优点。它们可以单独使用1种或者将2种以上组合使用。

在此，式(1)～(3)中，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹、R¹⁰、R¹¹和R¹²各自独立地表示氢原子、取代或未取代的碳原子数1～5的烷基、或者取代或未取代的碳原子数1～5的烷氧基，X表示单键、氧原子或亚苯基。

在有机化合物为上述通式(1)～(3)中任一个所表示的化合物的情况下，具有磺基和/或磺酰氯基的1,2-醌二叠氮化合物优选为1,2-萘醌-2-二叠氮基-4-磺酸、1,2-萘醌-2-二叠氮基-5-磺酸、1,2-萘醌-2-二叠氮基-4-磺酰氯、或者1,2-萘醌-2-二叠氮基-5-磺酰氯。这些具有磺基和/或磺酰氯基的1,2-醌二叠氮化合物与上述通式(1)～(3)所表示的化合物的相溶性良好。因此，能够减少在将选自由(A)成分、(B)成分和(C)成分组成的组中的至少1种与(D)成分混合时有时产生的凝聚物的产生量。此外，如果使用包含这些化合物的感光性树脂组合物作为正型光致抗蚀剂的感光性成分，则灵敏度、对比度和耐热性变得更加优异。

此外，上述通式(1)～(3)所表示的化合物更优选为下述化学式(4)～(6)中任一个所表示的化合物。该情况下，具有灵敏度更优异这样的优点。

作为使用上述通式(4)～(6)所表示的化合物的1,2-醌二叠氮化合物的合成方法，可以举出下述方法。即可以举出例如将上述通式(4)～(6)中任一个所表示的化合物和1,2-萘醌-2-二叠氮基-磺酰氯添加到二烷、THF(四氢呋喃)这样的溶剂中，在三乙胺、三乙醇胺、碳酸碱或碳酸氢碱等碱催化剂存在下进行反应的方法。此时，能够合成上述通式(4)～(6)所表示的化合物的羟基与1,2-萘醌-2-二叠氮基-磺酰氯的磺酰基缩合而成的1,2-醌二叠氮化合物。予以说明的是，在所得到的1,2-醌二叠氮化合物的分子内，通式(4)～(6)所表示的化合物的羟基与1,2-萘醌-2-二叠氮基-磺酰氯的磺酰基的键只要存在至少一个即可。

作为1,2-萘醌-2-二叠氮基-磺酰氯，优选为1,2-萘醌-2-二叠氮基-4-磺酰氯或1,2-萘醌-2-二叠氮基-5-磺酰氯。它们可以单独使用1种或者将2种以上组合使用。

关于感光性树脂组合物中的(D)成分的含有比例，从感光特性和机械强度的观点考虑，优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份为3～30质量份，更优选为5～25质量份，特别优选为10～20质量份。即，(D)成分的含有比例下限值优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份大于或等于3质量份，更优选大于或等于5质量份，进一步优选大于或等于10质量份。此外，(D)成分的含有比例上限值优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份小于或等于30质量份，更优选小于或等于25质量份，进一步优选小于或等于20质量份。

＜(E)成分＞

为了提高使用正型感光性树脂组合物的感光层的形成容易度、消泡性、流平性等，并且提高制作后述的感光性元件时的支撑体的剥离性，本实施方式的感光性树脂组合物可以含有氟系表面活性剂作为(E)成分。

作为氟系表面活性剂，例如可以使用BM-1000、BM-1100(以上为BMCHEMIE公司制、商品名)；MEGAFAC F142D、MEGAFAC F172、MEGAFACF173、MEGAFAC F183、MEGAFAC R-08、MEGAFAC R-30、MEGAFACR-90PM-20、MEGAFAC BL-20(以上为DIC株式会社制、商品名、“MEGAFAC”为注册商标。)；Fluorad FC-135、Fluorad FC-170C、Fluorad FC-430、FluoradFC-431、Novec FC-4430、Novec FC-4432(以上为住友3M株式会社制、商品名)；Surflon S-112、Surflon S-113、Surflon S-131、Surflon S-141、Surflon S-145(以上为旭硝子株式会社制、商品名、“Surflon”为注册商标。)等市售品。其中，特别是从能够减少曝光工序中所发生的裂缝产生的观点考虑，优选作为具有全氟丁烷磺酸骨架的氟系表面活性剂的Novec FC-4430、Novec FC-4432。它们可以单独使用1种或者将2种以上组合使用。

关于在感光性树脂组合物中配合(E)成分时的含量，优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份为0.1～5质量份，更优选为0.2～2质量份，进一步优选为0.3～1质量份。即，(E)成分的含量下限值优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份大于或等于0.1质量份，更优选大于或等于0.2质量份，进一步优选大于或等于0.3质量份。此外，(E)成分的含量上限值优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份小于或等于5质量份，更优选小于或等于2质量份，进一步优选小于或等于1质量份。如果(E)成分的含量小于或等于5质量份，则有对比度变得更加良好的倾向。

＜(F)成分＞

从进一步提高在支撑体上的涂布容易度、所形成的感光层与具有各种导体的基板的密合性和未曝光部的耐显影液性的观点考虑，本实施方式的感光性树脂组合物可以含有密合性赋予剂作为(F)成分。

作为(F)成分，例如可以举出含氮化合物、硅烷偶联剂(但不包含后述的(G)成分)、铝螯合剂等粘接助剂、高沸点溶剂等溶解性调整剂等。

作为含氮化合物，优选具有唑基、氨基、酰胺基、亚氨基、酰亚胺基等，例如可以举出咪唑、吡唑，苯并咪唑、苯并三唑、巯基三唑等三唑系化合物，烷基胺、哌啶、哌嗪、吗啉、苯胺、乙二胺、邻苯二酚胺、乙二胺四乙酸、二联吡啶、三联吡啶、菲绕啉等。

作为硅烷偶联剂，优选具有羧基、甲基丙烯酰基、异氰酸酯基、环氧基等反应性取代基，例如可以举出三甲氧基甲硅烷基苯甲酸、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷以及β-(3,4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷。

作为铝螯合剂，例如可以举出乙酰乙酸乙酯-二异丙醇铝(aluminumethylacetoacetate diisopropylate)、三乙酰乙酸乙酯铝、二乙酰乙酸乙酯-单乙酰丙酮铝、三乙酰丙酮铝等。

这些粘接助剂中，特别是从显影性的观点考虑，优选含氮化合物，更优选三唑系化合物，特别优选巯基三唑。

关于在感光性树脂组合物中配合粘接助剂时的含量，优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份为0.1～5质量份，更优选为0.15～3质量份，进一步优选为0.2～2质量份。即，粘接助剂的含量下限值优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份大于或等于0.1质量份，更优选大于或等于0.15质量份，进一步优选大于或等于0.2质量份。此外，粘接助剂的含量上限值优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份小于或等于5质量份，更优选小于或等于3质量份，进一步优选小于或等于2质量份。

高沸点溶剂表示在常压下的沸点大于或等于150℃的溶剂。作为高沸点溶剂，例如可以举出N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲亚砜、二己基醚、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苄醇、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、γ-丁内酯、苯基乙酸溶纤剂(phenyl cellosolve acetate)等。

关于上述溶解性调整剂的配合量，可以根据用途或者涂布方法适当地调整，只要是能够均匀混合上述感光性树脂组合物的配合量就没有特别限定，优选相对于感光性树脂组合物总量小于或等于60质量％，更优选小于或等于40质量％。

＜(G)成分＞

从进一步提高所形成的感光层与具有各种导体的基板的密合性和曝光部的显影性的观点考虑，本实施方式的感光性树脂组合物也可以含有多元酸或多元酸酐作为(G)成分。

通过添加多元酸或多元酸酐，从而导入羧基，容易发生与金属基板表面的络合反应而使密合性提高，进而即使使用弱碱水溶液(显影液)也能够容易地进行显影。

从在调制感光性树脂组合物时所使用的溶剂中的溶解性的观点考虑，作为(G)成分，优选使用多元酸酐。对于多元酸酐，只要具有含多个羧基的多元酸的羧基进行脱水缩合而形成的酸酐基，就没有特别限定。作为多元酸酐，例如可以举出邻苯二甲酸酐、琥珀酸酐、辛烯基琥珀酸酐、十五烯基琥珀酸酐、马来酸酐、衣康酸酐、四氢邻苯二甲酸酐、六氢邻苯二甲酸酐、甲基四氢邻苯二甲酸酐、甲基六氢邻苯二甲酸酐、纳迪克酸酐、3,6-桥亚甲基四氢邻苯二甲酸酐、甲基桥亚甲基四氢邻苯二甲酸酐、四溴邻苯二甲酸酐和均苯四酸酐等二元酸酐，联苯四羧酸二酐、萘四羧酸二酐、二苯基醚四羧酸二酐、丁烷四羧酸二酐、环戊烷四羧酸二酐、均苯四酸酐和二苯甲酮四羧酸二酐等芳香族四元酸二酐。它们可以单独使用1种或将2种以上组合使用。其中，多元酸酐优选为二元酸酐，更优选为选自由四氢邻苯二甲酸酐、琥珀酸酐和邻苯二甲酸酐组成的组中的1种以上。该情况下，存在能够形成具有进一步良好形状的抗蚀图形这样的优点。

对于多元酸，只要具有将上述多元酸酐水解而成的具备多个羧基的多元酸，就没有特别限定。此外，作为(G)成分，也可以使用如偏苯三酸酐或者均苯四甲酸一酐那样在一个分子中包含多元酸和多元酸酐双方的物质。

在感光性树脂组合物含有多元酸或多元酸酐的情况下，关于其含量，从感光特性和机械特性的观点考虑，优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份大于或等于0.1质量份且小于40质量份，更优选为1～35质量份，进一步优选为3～30质量份。即，多元酸或多元酸酐的含量下限值优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份大于或等于0.1质量份，更优选大于或等于1质量份，进一步优选大于或等于3质量份。此外，多元酸或多元酸酐的含量上限值优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份小于40质量份，更优选小于或等于35质量份，进一步优选小于或等于30质量份。

作为多元酸或多元酸酐，可以使用具有多元酸骨架或多元酸酐骨架的硅烷化合物。通过添加具有多元酸骨架或多元酸酐骨架的硅烷化合物，从而导入羧基，容易发生与具有金属的基板表面的络合反应，因此能够提高与具有各种导体的基板的密合性。此外，通过导入羧基，在使用弱碱性水溶液进行显影的情况下，能够进一步提高显影性。从在调制感光性树脂组合物时所使用的溶剂中的溶解性的观点考虑，优选使用具有多元酸酐骨架的硅烷化合物。

作为硅烷化合物，从(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分与(G)成分的多元酸骨架或多元酸酐骨架的反应性，以及(G)成分的保存稳定性的观点考虑，优选具有烷氧基甲硅烷基，具体地说，更优选具有三甲氧基甲硅烷基或三乙氧基甲硅烷基。

作为具有多元酸酐骨架的硅烷化合物，例如可以举出3-三甲氧基甲硅烷基丙基琥珀酸酐、3-三甲氧基甲硅烷基丙基马来酸酐和3-三甲氧基甲硅烷基丙基偏苯三酸酐。作为具有多元酸骨架的硅烷化合物，例如可以举出3-三甲氧基甲硅烷基丙基琥珀酸、3-三甲氧基甲硅烷基丙基马来酸和3-三甲氧基甲硅烷基丙基偏苯三酸。

在感光性树脂组合物含有具有多元酸骨架或多元酸酐骨架的硅烷化合物的情况下，关于其含量，从密合性、曝光部的显影性、未曝光部的耐显影液性和机械强度的观点考虑，优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份大于或等于0.1质量份且小于10质量份，更优选为0.1～9质量份，进一步优选为0.5～9质量份，特别优选为1～8质量份。即，具有多元酸骨架或多元酸酐骨架的硅烷化合物的含量下限值优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份大于或等于0.1质量份，更优选大于或等于0.5质量份，进一步优选大于或等于1质量份。此外，具有多元酸骨架或多元酸酐骨架的硅烷化合物的含量上限值优选相对于(A)成分、(B)成分、(C)成分和(D)成分的总量100质量份小于10质量份，更优选小于或等于9质量份，进一步优选为8质量份以下。

＜其它成分＞

本实施方式的感光性树脂组合物可以根据需要含有用于调整粘度的后述溶剂，也可以含有敏化剂、吸光剂(染料)、增塑剂、颜料、填充材、阻燃剂、稳定剂、香料、热交联剂等。这些其它成分的含量只要在不损害上述特性的范围内，就没有特别限定。

关于本实施方式的感光性树脂组合物的调制，只要用通常的方法进行混合、搅拌即可，在添加填充材、颜料等的情况下，只要使用高速分散机、均化器、三辊磨等分散机进行分散、混合即可。此外，也可以根据需要进一步使用网、膜滤器等进行过滤。

[感光性元件]

本实施方式的感光性元件具备支撑体和设置在该支撑体上的由上述正型感光性树脂组合物形成的感光层。在感光层的与支撑体相反一侧的面上，可以根据需要层叠保护层。

图1是表示感光性元件的一个实施方式的示意截面图。图1中所示的感光性元件10具有如下结构：在支撑体2上层叠有感光层4，进一步在感光层4的与支撑体2相反一侧的面上层叠有保护层6。感光层4是使用本实施方式的感光性树脂组合物来形成的层。

＜支撑体＞

本实施方式的支撑体2优选至少一个面经脱模处理。通过在支撑体的脱模处理面上具有由上述正型感光性树脂组合物形成的感光层，从而在去除支撑体时，感光层不易产生缺口等不良。在此，所谓脱模处理是指，利用有机硅系表面活性剂、硅树脂等有机硅系化合物、氟系表面活性剂、氟树脂等含氟化合物、醇酸树脂等脱模剂，薄薄地涂布支撑体表面的化学处理；对支撑体进行电晕处理等的物理处理。

在支撑体上涂布脱模剂的情况下，优选在能够得到提高脱模性效果的范围内薄薄地涂布。可以在涂布脱模剂之后，通过热或者UV处理使脱模剂固定于支撑体。更优选在涂布脱模剂之前，对支撑体施加底涂层。

从感光性树脂组合物的涂布性和感光层的剥离性的观点考虑，优选支撑体的脱模处理面在23℃时的表面张力(润湿张力)为20～45mN/m，更优选为30～45mN/m，进一步优选为35～45mN/m。

此外，从感光层的剥离性的观点考虑，优选支撑体的脱模处理面在23℃时的180°剥离强度为0.193～11.564N/m，更优选为0.193～7.713N/m，进一步优选为3.861～7.713N/m。上述180°剥离强度可以使用粘胶带(例如，日东电工株式会社制、商品名：“NITTO31B”)，利用常规方法(例如，按照JIS K6854-2的方法等)进行测定。

作为实施脱模处理之前的支撑体，优选表面平滑且具有耐热性和耐溶剂性，例如可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯等聚合物膜，其中，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(以下，称为“PET膜”)。

作为至少一个面用有机硅化合物进行了脱模处理的PET膜，例如可以以市售品形式获得“Purex A53”，“A31-25”，“A51-25”，“A53-38”(以上为帝人杜邦薄膜株式会社制、商品名、“Purex”为注册商标。)等。

支撑体2的厚度优选为15～50μm，更优选为25～40μm。如果上述支撑体2的厚度大于或等于15μm，则有如下倾向：脱模处理时的应变不易残留，在卷绕支撑体时不易产生卷褶，如果小于或等于50μm，则有如下倾向：在基板上层压感光层4时，气泡不易进入基板与感光层4之间。

＜保护层＞

作为保护层6，例如可以使用聚乙烯、聚丙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯等聚合物膜。此外，与支撑体同样地，也可以使用实施了脱模处理的聚合物膜。从将感光性元件卷绕成卷状时的柔性的观点考虑，作为保护层6，特别优选为聚乙烯膜。此外，保护层6优选为低鱼眼的膜，以能够减少感光层表面的凹陷。

保护层6的厚度优选为10～100μm，特别优选为15～80μm。

接下来，对本实施方式的感光性元件10的制作方法进行说明。

感光层4可以通过将上述感光性树脂组合物制成液状抗蚀剂并涂布在支撑体2上而形成。当将感光性树脂组合物涂布在支撑体2上时，可以根据需要将上述感光性树脂组合物溶解于规定溶剂中，制成固体成分20～90质量％的溶液，将该溶液用作涂布液。该情况下，也可以具有在将感光性树脂组合物涂布于支撑体2上后去除溶剂的工序。

作为溶剂，例如可以举出甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、乙二醇、丙二醇、丙酮、甲基异丁基酮、二乙基酮、二异丁基酮、甲基戊基酮、甲基乙基酮、环己酮、甲苯、二甲苯、四甲基苯、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基乙酰胺、二甲亚砜、六甲基磷酰胺、四亚甲基砜、γ-丁内酯、乙二醇单乙醚、乙二醇单甲醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单丁醚、二乙二醇二甲基醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丙醚、丙二醇单丁基醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、三乙二醇单乙醚、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸乙酯、乙酸苄酯、乙酸正丁酯、乙氧基乙基丙酸酯、3-甲基甲氧基丙酸酯、乙二醇单乙醚乙酸酯、乙二醇单丁醚乙酸酯、二乙二醇单乙醚乙酸酯、二乙二醇单丁醚乙酸酯、二丙二醇单甲醚、二丙二醇二乙醚、二丙二醇单甲醚乙酸酯等有机溶剂或者它们的混合溶剂。

作为涂布方法，例如可以举出辊涂、逗点涂布、凹版涂布、气刀涂布、模涂、棒涂、旋涂等方法。此外，对于去除上述溶剂的工序，只要能够从涂布后的感光层去除溶剂的至少一部分，就没有特别限制，例如可以通过加热来进行，此时加热温度优选为70～150℃，加热时间优选为5～30分钟。

关于所形成的感光层4中的残存溶剂量，从防止后续工序中的有机溶剂扩散的观点考虑，优选小于或等于2质量％。

此外，感光层4的厚度可以根据用途适当地选择，优选将溶剂去除后的厚度为1～30μm。此外，在将感光性元件以卷状使用的情况下，从能够抑制感光层4产生裂缝的观点考虑，感光层4的厚度优选为1～5μm。

感光性元件10可以在支撑体2与感光层4之间、和/或感光层4与保护层6之间进一步具有缓冲层、粘接层、光吸收层、阻气层等中间层或者保护层6以外的保护层。

感光性元件10例如可以卷绕在圆筒状等的卷芯上而以卷状形态保存。作为卷芯，只要是以往使用的材料就没有特别限定，例如可以举出聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚氯乙烯树脂、ABS树脂(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物)等。保存时，优选卷绕成支撑体在最外侧。此外，在卷绕成卷状的感光性元件的端面，从保护端面的观点考虑，优选设置端面隔板，而且从耐熔边的观点考虑，优选设置防湿端面隔板。此外，在捆包感光性元件10时，优选包入到透湿性小的黑薄片中进行包装。

[抗蚀图形的形成方法]

接下来，对抗蚀图形的形成方法进行说明。

抗蚀图形的形成方法具备如下工序：使用上述正型感光性树脂组合物或上述感光性元件在具有导体的基板上形成感光层的工序、将感光层曝光为规定图形的工序、以及利用碱性水溶液对曝光后的感光层进行显影而形成抗蚀图形的工序。本实施方式的由正型感光性树脂组合物或感光性元件形成的感光层可以反复进行曝光处理和显影处理的工序。

作为具有导体的基板，例如可以使用如下基板，所述基板在由不溶解于导体用途的蚀刻液中的材料构成的层(也称为“基材”)上具备包含2层以上导体的层(以下，称为金属层。)。

作为基材，例如可以使用由玻璃、氧化钛、氧化铝等金属氧化物，硅等半导体，聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯、聚酯、聚碳酸酯等有机化合物等构成的材料。

作为上述2层以上的金属层，可以举出包含2层以上金属氧化物的层、包含2层以上金属的层、或者包含至少1层金属氧化物和至少1层金属的层。作为金属，例如可以举出金、银、铜、铝、铁、钨、钼、钛、镍等。作为金属氧化物，例如可以举出氧化铟锡(ITO)、氧化锌等。关于金属层，可以通过真空蒸镀、溅射等物理气相生长、电镀、化学镀、等离子体化学蒸镀等化学气相生长，将这些金属或者金属氧化物形成在上述基材上。

作为形成感光层的方法，可以举出如下方法：将上述正型感光性树脂组合物涂布在基板上，干燥，使溶剂等挥发而形成涂膜(感光层)的方法；将上述感光性元件中的感光层转印到基板上的方法等。

作为将上述正型感光性树脂组合物涂布在基板上的方法，可以使用与上述在支撑体上涂布的方法同样的方法。

对使用感光性元件10在基板上形成感光层的方法进行说明。在感光性元件10具有保护层6的情况下，将保护层6去除后，以感光层4密合于基板上的方式进行层叠(层压)。就层压而言，可以将感光层4一边加热一边压接到基板上，从而在基板上形成感光层。这样，通过层压，能够得到依次层叠有基板、感光层4和支撑体2的层叠体。层压条件可以根据需要适当地调整，层压时的加热优选为例如70℃～130℃的温度，层压时的压接优选为例如0.1MPa～1.0MPa的压力。层压时，可以将电路形成用基板预先加热到上述温度范围。此外，也可以在减压下在基板上形成感光层4。

就抗蚀图形的形成方法而言，在基板上形成感光层后，以图像状照射活性光线，通过显影去除照射了活性光线的区域(曝光部)。在未照射活性光线的区域(未曝光部)，作为感光剂的(D)成分与作为(A)成分、(B)成分和(C)成分的酚醛树脂的酚羟基发生相互作用，(D)成分作为阻溶剂起作用，因此相对于碱性水溶液的溶解性变低。然而，在曝光部中，(D)成分进行光分解，不会发生前述的相互作用，丧失阻溶效果。由此，在曝光部中，相对于碱性水溶液的溶解性提高。

为了以图像状照射活性光线，可以使用例如负或正掩模图形，可以透过负或正掩模图形以图像状照射活性光线而形成曝光部。此时，在使用感光性元件来形成感光层，存在于感光层4上的支撑体2相对于活性光线具有透过性的情况下，可以透过支撑体2照射活性光线。另一方面，在支撑体2相对于活性光线具有遮光性的情况下，将支撑体2去除后对感光层4照射活性光线。

作为活性光线的光源，可以使用以往公知的光源，例如可以使用碳弧灯、汞蒸气弧灯、高压汞灯、氙灯等有效放射紫外线、可见光等的光源。此外，也可以使用激光直接描绘曝光法等。

曝光后，通过显影将曝光部的感光层去除，从而形成抗蚀图形。作为所述曝光部的去除方法，可以举出如下方法：在感光层4上存在支撑体2的情况下，用自动削皮机(auto peeler)等将支撑体2去除，通过利用碱性水溶液、有机溶剂等显影液进行的湿式显影或者干式显影去除曝光部的方法等，优选使用湿式显影。

作为湿式显影中所使用的碱性水溶液，例如可以举出将碳酸钠、碳酸钾、氨等弱碱无机化合物；氢氧化钠、氢氧化钾等碱金属化合物；氢氧化钙等碱土金属化合物；单甲胺、二甲胺、三甲胺、单乙胺、二乙胺、三乙胺、单丙胺、二甲基丙胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、乙二胺、二亚乙基三胺、甲基丙烯酸二甲基氨基乙酯、聚乙烯亚胺等弱碱有机化合物；四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵等溶解而成的水溶液。它们可以将单独1种或者组合2种以上以水溶液形式使用。

碱性水溶液的pH优选为9～13，从减少环境负荷的观点考虑，pH更优选为9～12。碱性水溶液的温度可以根据感光层的显影性适当地调整。此外，也可以在碱性水溶液中混入表面活性剂、消泡剂、有机溶剂等。

作为上述显影方法，例如可以举出浸渍方式、喷雾方式、刷涂、拍击等。此外，作为显影后的处理，可以根据需要在60～250℃进行加热等从而使抗蚀图形固化来使用。

通过使用本实施方式的感光性元件10，感光层4在基板上的转印性优异，支撑体2的剥离、去除变得容易，感光层4能够没有缺陷地转印到基板上，其结果是，能够形成缺陷足够少的抗蚀图形。

此外，感光层4的曝光部分由于碱显影性非常良好，因此能够容易地用弱碱性水溶液进行溶解而从基板上去除，从而形成对比度优异的微细抗蚀图形。

此外，在本实施方式中，可以将正型感光性树脂组合物直接涂布在上述基板上并进行干燥而形成感光层。该情况下，例如，使用旋涂机等将正型感光性树脂组合物涂布在基板上，形成涂膜。使用热板、烘箱等，对形成有该涂膜的基板进行干燥。由此，在基板上形成感光层。形成感光层后的曝光工序和显影工序可以与使用感光性元件10的情况同样地进行。

在本实施方式中，可以在基板上形成了感光层的状态下，根据需要将曝光工序和显影工序反复进行2次以上。即，通过使用本实施方式的正型感光性树脂组合物，能够省略将在反复进行曝光工序和显影工序并对2层以上的金属层进行蚀刻时暂时形成的抗蚀图形从基板剥离，再在基板上形成新的感光层的工序。由此，在使用抗蚀图形对基板上的金属层进行蚀刻的情况下，能够缩短工序，因此在廉价且能够减少环境负荷的方面有用。

＜触摸面板的制造方法＞

本实施方式的正型感光性树脂组合物能够适合用于触摸面板的制造方法。本实施方式的触摸面板的制造方法具有对通过上述抗蚀图形的形成方法形成了抗蚀图形的基板进行蚀刻处理的工序。蚀刻处理是将所形成的抗蚀图形作为掩模对基板的导体层等进行的。通过蚀刻处理，形成引出配线和透明电极的图形，从而制造触摸面板。以下，一边与使用负型感光性树脂组合物的情况进行对比，一边对使用本实施方式的正型感光性树脂组合物的触摸面板的制造方法进行说明。

图2是表示使用负型感光性树脂组合物的触摸面板的制造方法的示意截面图。该方法具有如下工序：第1工序，在具备支撑基材22、设置于支撑基材22的一面上的透明导电层24和设置于透明导电层24上的金属层26的层叠基材的金属层26上，形成由感光性树脂组合物的固化物构成的抗蚀图形29；第2工序，对金属层26和透明导电层24进行蚀刻，形成由透明导电层24的剩余部和金属层26的剩余部构成的层叠图形(图2(d)中的24+26)；以及第3工序，从层叠图形的一部分去除金属层，形成由透明导电层24的剩余部构成的透明电极和由金属层的剩余部构成的金属配线。

在第1工序中，首先，如图2(a)所示，在具备支撑基材22、设置于支撑基材22的一面上的透明导电层24和设置于透明导电层24上的金属层26的层叠基材的金属层26上，使用负型感光性树脂组合物层叠负型感光层28。感光层28可以在与金属层26相反一侧的面上具备支撑体。

作为金属层26，可以举出包含铜、铜与镍的合金、钼-铝-钼层叠体、银与钯与铜的合金等的金属层。透明导电层24含有氧化铟锡(ITO)。

接着，通过照射活性光线，使感光层28的一部分区域固化，形成固化物区域，并从层叠基材上去除感光层的固化物区域以外的区域。由此，如图2(b)所示，在层叠基材上形成抗蚀图形29。

在第2工序中，通过蚀刻处理，从支撑基材22上去除未被抗蚀图形29掩蔽的区域的金属层26和透明导电层24。

蚀刻处理的方法可以根据应去除的层适当地选择。例如，作为用于去除金属层的蚀刻液，可以举出氯化铜溶液、氯化铁溶液、磷酸溶液等。此外，作为用于去除透明导电层的蚀刻液，可以使用草酸、盐酸、王水等。

图2(c)是表示蚀刻处理后的图，在支撑基材22上形成有由金属层26的剩余部、透明导电层24的剩余部和感光层28的剩余部构成的层叠体。在本实施方式的制造方法中，从该层叠体去除抗蚀图形29。

在去除抗蚀图形29时，例如可以使用与上述显影工序中所使用的碱性水溶液相比碱性更强的水溶液。作为该强碱性水溶液，可以使用1～10质量％氢氧化钠水溶液、1～10质量％氢氧化钾水溶液等。其中，优选使用1～10质量％氢氧化钠水溶液或者氢氧化钾水溶液，更优选使用1～5质量％氢氧化钠水溶液或者氢氧化钾水溶液。作为抗蚀图形的剥离方式，可以举出浸渍方式、喷雾方式等，它们可以单独使用，也可以并用。

图2(d)是表示剥离抗蚀图形29后的图，在支撑基材22上形成有由金属层26的剩余部和透明导电层24的剩余部构成的层叠图形。

在第3工序中，从该层叠图形去除金属层26中用于形成金属配线的部分以外的部分，形成由金属层26的剩余部构成的金属配线和由透明导电层24的剩余部构成的透明电极。

在使用负型感光性树脂组合物的方法中，在欲通过多阶段蚀刻使透明导电层24的一部分露出的情况下，会产生再次形成感光层的必要性。

即，在第3工序中，首先，在经过第2工序的层叠基材上，使用负型感光性树脂组合物形成感光层30(图2(e))。接着，经过感光层30的曝光和显影，形成由感光层30的固化物构成的抗蚀图形31(图2(f))。

接下来，通过蚀刻处理，从层叠图形中未形成抗蚀图形31的部分去除金属层26。此时，作为蚀刻处理液，可以使用与上述用于去除金属层的蚀刻液同样的物质。

图2(g)是表示蚀刻处理后的图，在支撑基材22上形成有由透明导电层24的剩余部构成的透明电极，此外，在一部分透明电极上形成有由金属层26和抗蚀图形31构成的层叠体。通过从该层叠体去除抗蚀图形31，从而如图2(h)所示，在支撑基材22上形成由透明导电层24的剩余部构成的透明电极和由金属层26的剩余部构成的金属配线。

相对于此，在使用本实施方式的正型感光性树脂组合物的方法中，在欲通过多阶段蚀刻使透明导电层24的一部分露出的情况下，不需要再次形成感光层的工序。在使用正型感光性树脂组合物形成感光层的情况下，具有曝光部能够用碱性水溶液去除、未曝光部作为膜残留这样的特性，因此通过对残留的膜再次进行光照射，能够形成抗蚀图形。

图3是表示使用正型感光性树脂组合物的触摸面板的制造方法的一个方式的示意截面图。

在第1工序中，首先，如图3(a)所示，在具备支撑基材22、设置于支撑基材22的一面上的透明导电层24和设置于透明导电层24上的金属层26的层叠基材的金属层26上，使用正型感光性树脂组合物层叠正型感光层40。感光层40可以在与金属层26相反一侧的面上具备支撑体。

接着，对感光层40的一部分区域照射活性光线而形成曝光部后，通过显影从层叠基材上去除曝光部的感光层。由此，如图3(b)所示，在层叠基材上形成由未曝光部的感光层40构成的抗蚀图形40a。

在第2工序中，通过蚀刻处理，从支撑基材22上去除未被抗蚀图形40a掩蔽的区域的金属层26和透明导电层24。

蚀刻处理的方法，可以根据应去除的层适当地选择。例如，作为用于去除金属层的蚀刻液，可以举出过硫酸铵溶液、过硫酸钠溶液、氯化铜溶液、氯化铁溶液、磷酸溶液等。此外，作为用于去除透明导电层的蚀刻液，可以使用草酸、盐酸、王水等。

图3(c)是表示蚀刻处理后的图，在支撑基材22上形成有由金属层26的剩余部、透明导电层24的剩余部和抗蚀图形40a构成的层叠体。

接着，在第3工序中，对抗蚀图形40a的一部分区域照射活性光线而形成曝光部后，通过显影从层叠基材上去除曝光部的感光层。由此，如图3(d)所示，在层叠基材上形成由未曝光部的抗蚀图形40b构成的抗蚀图形。

接下来，通过蚀刻处理，从层叠图形中未形成抗蚀图形40b的部分去除金属层26。此时，作为蚀刻处理液，可以使用与上述用于去除金属层的蚀刻液同样的物质。

图3(e)是表示蚀刻处理后的图，在支撑基材22上形成有由透明导电层24的剩余部构成的透明电极，此外，在一部分透明电极上形成有由金属层26和抗蚀图形40b构成的层叠体。通过从该层叠体去除抗蚀图形40b，从而如图2(f)所示，在支撑基材22上形成由透明导电层24的剩余部构成的透明电极和由金属层26的剩余部构成的金属配线。

这样，在本实施方式的触摸面板的制造方法中，不需要相当于图2的(d)和(e)的工序。

予以说明的是，透明导电层24含有氧化铟锡(ITO)，但本实施方式的正型感光性树脂组合物也能够适合用于将透明导电层24由ITO变更为金属网的触摸面板的制造方法。

图4是表示利用本发明得到的触摸面板100的一个方式的俯视图。在触摸面板100中，作为透明电极的X电极52和Y电极54交替并列设置，在长度方向的相同列上设置的X电极52之间通过一根引出配线56彼此连结，此外，在宽度方向的相同列上设置的Y电极54之间通过一根引出配线57彼此连结。

以上，对本发明的优选实施方式进行了说明，但本发明并不限于上述实施方式。本发明可以在不脱离其要旨的范围内进行各种变形。

实施例

以下，列举实施例进一步详细说明本发明，但本发明并不限于这些实施例。

(合成例A1)

在邻甲酚450质量份中加入亚麻籽油50质量份，搅拌15分钟后，加入50质量％三氟乙酸水溶液1.12质量份，在120℃搅拌2小时。搅拌2小时后，冷却至室温(25℃，以下同样)，加入92％仲甲醛75质量份、甲醇50质量份和草酸2质量份，在90℃搅拌3小时后，进行减压蒸馏，从而去除未反应的甲酚，得到具有不饱和烃基的改性酚醛树脂(A1)。(A1)的Mw为1500。

(合成例A2)

将所使用的甲酚变更为由间甲酚和对甲酚构成的甲酚混合物(质量比40：60)，将亚麻籽油变更为桐油，将甲醇的添加量变更为18质量份，除此以外，与合成例A1同样地操作，得到具有不饱和烃基的改性酚醛树脂(A2)。(A2)的Mw为12000。

(比较合成例A3)

将所使用的甲酚由邻甲酚变更为将间甲酚和对甲酚以质量比80：20混合而成的甲酚混合物，将甲醇的添加量变更为10质量份，除此以外，与合成例A1同样地操作，得到具有不饱和烃基的改性酚醛树脂(A3)。(A3)的Mw为18000。

(合成例B1)

在将间甲酚和对甲酚以质量比40：60混合而成的甲酚500质量份中，加入92％仲甲醛83质量份、甲醇18质量份和草酸1质量份，在90℃搅拌3小时后，进行减压蒸馏，从而去除未反应的甲酚，得到间-对甲酚树脂(B1)。(B1)的Mw为12000。

(合成例B2)

将所使用的甲酚变更为由间甲酚和对甲酚构成的甲酚混合物(质量比60：40)，除此以外，与合成例B1同样地操作，得到间-对甲酚树脂(B2)。(B2)的Mw为10000。

(比较合成例B3)

将甲醇添加量变更为130质量份，除此以外，与合成例B1同样地操作，得到间-对甲酚树脂(B3)。(B3)的Mw为1000。

(合成例C1)

在邻甲酚336质量份中，加入92％仲甲醛60质量份和草酸1.2质量份，在120℃搅拌4小时后，进行减压蒸馏，从而去除未反应的邻甲酚，得到邻甲酚树脂(C1)。(C1)的Mw为1000。

＜感光性树脂组合物的调制＞

(实施例1)

将改性酚醛树脂(A1)15质量份、间-对甲酚树脂(B1)20质量份、邻甲酚树脂(C1)50质量份、作为1,2-醌二叠氮化合物的重氮萘醌系感光剂(DaitoChemix株式会社制、商品名“PA-28”)(以下，简称为PA-28)15质量份、氟系表面活性剂(住友3M株式会社制、商品名“FC-4430”)0.5质量份、3-巯基-1,2,4-三唑(以下，简称为“3MT”)(和光纯药工业株式会社制、商品名)0.3质量份、作为溶剂的甲基乙基酮(以下，简称为“MEK”)140质量份以及丙二醇单甲醚乙酸酯(以下，简称为PGMEA)90质量份混合，制作感光性树脂组合物。

(实施例2～7以及比较例1～2)

变更为表1中所示的组成(单位：质量份)，除此以外，与实施例1同样地操作，调制感光性树脂组合物。

[表1]

表1中，“Maruka Lyncur M”为聚羟基苯乙烯(丸善石油化学株式会社制、商品名、Mw18000)，“X-12-967C”为3-三甲氧基甲硅烷基丙基琥珀酸酐(信越化学工业株式会社制、商品名)。

＜感光性元件的制作以及感光层的评价＞

(实施例1～7以及比较例1～2)

使用上述感光性树脂组合物，按照以下步骤制作感光性元件。首先，使用旋涂机(Daitron Technology株式会社制)，在以旋转速度300min^-1涂布10秒、接着以旋转速度500min^-1涂布30秒的条件下，在作为支撑体的PET膜(一面用有机硅系化合物进行了脱模处理(帝人杜邦膜株式会社制、商品名“PurexA53”)，使用膜厚25μm的粘胶带(日东电工株式会社制、商品名“NITTO31B”)在23℃时的180°剥离强度为3.861N/m、脱模处理面的表面张力为44mN/m)的脱模处理面上，涂布感光性树脂组合物。接着，利用传送带式干燥机(大日本SCREEN株式会社制、商品名“RCP ovenline”)，在95℃进行5分钟干燥，制作形成了厚度4.0μm的感光层的感光性元件。

使用辊式层压机(日立化成Technoplant株式会社制、商品名)，在压力0.5MPa、上下辊温度120℃、层压速度0.5m/分钟的条件下，将上述感光性元件的感光层层压在由铜构成的基板上，得到正型光致抗蚀层叠体。使用所得到的正型光致抗蚀层叠体，按照下述工序1～3的顺序对感光层进行曝光和显影。

(工序1)

从正型光致抗蚀层叠体剥离支撑体，使用UV曝光机(大日本SCREEN株式会社制、商品名“大型手动曝光机MAP-1200”)，以180mJ/cm²的曝光量(能量)隔着光掩模对感光层进行曝光。作为光掩模，使用以1μm：1μm～50μm：50μm具有曝光部和未曝光部的宽度为1：1的图形的玻璃掩模(凸版印刷株式会社制、商品名“TOPPAN-TEST-CHART-NO1-N L78I1”)。接着，使用25℃的0.7质量％氢氧化钾水溶液作为显影液，用喷雾式显影装置(大日本SCREEN株式会社制、商品名“DVW-911”)喷雾30秒，从而进行显影，进而用蒸馏水清洗后，通过氮气流进行干燥，在由铜构成的基板上形成抗蚀图形X。

(工序2)

用黑薄片覆盖工序1中所形成的抗蚀图形X的一半区域，与工序1同样地以100mJ/cm²的曝光量进行曝光。接下来，使用25℃的0.7质量％氢氧化钾水溶液，与工序1同样地利用喷雾显影机喷雾30秒，从而进行显影，用蒸馏水清洗后，通过氮气流进行干燥，在由铜构成的基板上形成抗蚀图形Y。

(工序3)

对工序2中所形成的抗蚀图形Y的整个面，与工序1同样地以100mJ/cm²的曝光量进行曝光。接下来，使用25℃的0.7质量％氢氧化钾水溶液，与工序1同样地利用喷雾显影机喷雾30秒，从而进行显影，用蒸馏水清洗。然后，通过氮气流进行干燥。

＜感光层的评价＞

对于在支撑体上形成的感光层的可挠性、在基板上形成的感光层的密合性、工序1～3中的感光层的显影性、耐显影液性以及抗蚀图形外观，按照以下基准进行评价。将结果示于表2中。

(可挠性)

关于在支撑体上形成的感光层的可挠性，将感光性元件卷绕在具有各种直径的芯材上，用显微镜放大至100倍来观察裂缝、剥离、转印等不良的有无，并按以下五个等级进行评价。

A：卷绕在直径1cm芯材上的情况下，无不良。

B：卷绕在直径3cm芯材上的情况下，无不良。

C：卷绕在直径5cm芯材上的情况下，无不良。

D：卷绕在直径10cm芯材上的情况下，无不良。

E：卷绕在直径20cm芯材上的情况下，无不良。

(密合性)

关于密合性，按以下五个等级评价工序1后在基板上形成的感光层与基板的密合性。此外，除了工序1中描述的由铜构成的基板之外，还使用5种基板(分别由金、钯、银、ITO和二氧化硅导体构成的基板)。在使用上述5种基板的情况下，通过与使用工序1中描述的由铜构成的基板的情况同样的方法进行评价。

A：曝光后不产生圆形抗蚀缺口。

B：曝光后产生圆形抗蚀缺口的面积小于形成图形的区域整体的10％。

C：曝光后产生圆形抗蚀缺口的面积大于或等于形成图形的区域整体的10％且小于25％。

D：曝光后产生圆形抗蚀缺口的面积大于或等于形成图形的区域整体的25％且小于50％。

E：曝光后，在形成图形的区域的整个面产生圆形抗蚀缺口。

(显影性)

对工序1、2和3中感光层的曝光部的显影性进行评价。具体地说，对于抗蚀图形的边缘部分的切割性、曝光部的显影残留、剥离片或者丝状残渣在基板上的附着，按以下五个等级进行评价。予以说明的是，“边缘部分”这一用语表示未曝光部的抗蚀图形与基板的粘接面的端部，“切割性良好”这一用语表示抗蚀图形的截面形状是矩形，是追随光掩模的形状，“切割性不良”这一用语表示抗蚀图形的截面形状不是矩形。

A：边缘部的切割性良好、曝光部无显影残留、无剥离片、无丝状残渣。

B：边缘部的切割性不良、曝光部无显影残留、无剥离片、无丝状残渣。

C：边缘部的切割性不良、曝光部无显影残留、无剥离片、有丝状残渣。

D：边缘部的切割性不良、曝光部有显影残留、无剥离片、有丝状残渣。

E：边缘部的切割性不良、曝光部有显影残留、有剥离片、有丝状残渣。

(耐显影液性)

在工序1和2中，对感光层的未曝光部的耐显影液性，按照以下基准进行评价。具体地说，按五个等级评价裂缝、膜减少、抗蚀图形表层的剥离。

A：无裂缝、无膜减少、无抗蚀图形表层的剥离。

B：无裂缝、无膜减少、有抗蚀图形表层的剥离。

C：有裂缝、无膜减少、无抗蚀图形表层的剥离。

D：有裂缝、有膜减少、无抗蚀图形表层的剥离。

E：有裂缝、有膜减少、有抗蚀图形表层的剥离。

(抗蚀图形外观)

在工序1和2中，对感光层的未曝光部的抗蚀图形用显微镜放大至100倍进行确认，按照以下基准进行评价。具体地说，按五个等级评价抗蚀图形表面的麻点以及凹凸的程度。

A：良好。

B：有麻点。

C：有凹凸。

D：有层分离或白浊。

E：有基板表面的露出。

[表2]

根据实施例1～5的正型感光性树脂组合物，确认到与基板的密合性充分优异，即使在使用碱性水溶液进行反复显影的情况下，曝光部的显影性和未曝光部的耐显影液性也充分优异。

Claims (9)

1.一种正型感光性树脂组合物，其含有：具有不饱和烃基且重均分子量为500～15000的改性酚醛树脂、重均分子量为5000～30000的间-对甲酚树脂、邻甲酚树脂和通过光生成酸的化合物。

2.根据权利要求1所述的正型感光性树脂组合物，所述邻甲酚树脂的重均分子量为500～5000。

3.根据权利要求1或2所述的正型感光性树脂组合物，所述不饱和烃基的碳原子数为4～100。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的正型感光性树脂组合物，其进一步含有氟系表面活性剂。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的正型感光性树脂组合物，其进一步含有密合性赋予剂。

6.一种感光性元件，其具备支撑体和设置于该支撑体上的感光层，所述感光层是由权利要求1～5中任一项所述的正型感光性树脂组合物形成的层。

7.一种抗蚀图形的形成方法，其具备如下工序：

使用权利要求1～5中任一项所述的正型感光性树脂组合物或权利要求6所述的感光性元件，在基板上形成感光层的工序；

对所述感光层的规定部分照射活性光线，形成曝光部的工序；以及

将所述曝光部去除而形成由未曝光部的感光层构成的图形的工序。

8.根据权利要求7所述的抗蚀图形的形成方法，其进一步具备如下工序：

对由所述未曝光部构成的感光层的规定部分照射活性光线，形成曝光部的工序；以及

将所述曝光部去除而形成由未曝光部的感光层构成的图形的工序。

9.一种触摸面板的制造方法，其具备对通过权利要求7或8所述的抗蚀图形的形成方法形成了抗蚀图形的基板进行蚀刻处理的工序。