JP2016029442A - エッチングレジスト用感光性樹脂組成物、これを用いて形成した金属膜又は金属酸化物膜の配線パターン及びこの配線パターンを有するタッチパネル - Google Patents

Abstract

【課題】エッチング耐性及びエッチング後の剥離性に優れ、所望のパターン形成が可能なエッチングレジスト用感光性樹脂組成物、これを用いて形成した配線パターン、及びタッチパネルを提供する。
【解決手段】(Ａ)ビスフェノール類から誘導される２個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物と不飽和基含有モノカルボン酸との反応物に対して、（a)ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物、及び（b)テトラカルボン酸又はその酸二無水物を反応させたアルカリ可溶性樹脂、(Ｂ)少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマー、(Ｃ)１分子中に少なくとも２個のエポキシ基を有する化合物、(Ｄ)光重合開始剤、及び(Ｅ)着色材を所定量含んだエッチングレジスト用感光性樹脂組成物であり、また、これを用いて形成した配線パターン、更に、この配線パターンを構成要素とするタッチパネルである。
【選択図】なし

Description

本発明は、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）等の導電性金属酸化物、又は、アルミニウム、モリブデン、銅等の金属を用いた配線パターンの形成に関して、ウェットエッチング耐性及びエッチング後の剥離性に優れ、所望の金属又は金属酸化物の配線パターンを形成することが可能であるエッチングレジスト用感光性樹脂組成物に関する。さらに、これを用いてフォトリソグラフィー法などにより形成したレジストパターンをマスクとして形成した配線パターン、及びこの配線パターンを構成要素として有するタッチパネルに関する。

今日、液晶ディスプレイはパソコンやテレビ等の大型ディスプレイに加えて携帯電話、スマートフォン、タブレット端末等の中小型ディスプレイの需要に牽引されて需要を伸ばしている。最近ではこれらの液晶ディスプレイ等の表示装置におけるデータ入力手段として、タッチパネルが広く用いられるようになって来ており、その中でも静電容量式のタッチパネルが活用されるようになって来ている。静電容量式のタッチパネルは、ＩＴＯ等の透明導電材料によって２層に形成されたモザイク状の電極パターンを画面内に有する。２層の電極パターンはそれぞれｘ軸方向とｙ軸方向に連なった形状を示し、金属等の取出配線を介して外部の制御回路に接続される。画面に指が触れると、その付近の電極パターンに静電容量の変化が生じ、これを制御回路が座標情報として検出して指の位置を識別することができる（例えば特許文献１参照）。

このような電極パターンの形成方法としては、基板上に透明導電膜を形成した後、フォトリソグラフィー法によりレジストパターンを形成し、アルカリ性または酸性のエッチング液によるエッチングにより導電膜が露出した部分を除去した後、アルカリ性のレジスト剥離液によりレジストパターンを除去することで電極パターンを形成する方法が一般的である。（例えば特許文献２および３参照）

電極パターンの形成プロセスにおいて、レジストパターンはエッチングプロセスにおけるエッチング耐性、レジスト剥離プロセスにおける剥離性が要求される。更に、所望の電極パターンを形成できることが求められ、特に液晶ディスプレイの高精細化に伴ってタッチパネルの電極パターンの微細化が要求される。

電極パターンを形成するためのレジスト材料としては、露光部分が現像液に可溶となるポジ型感光性樹脂組成物が広く用いられているが、現像で未露光部を除去することで隣り合う電極パターン間のスペースを形成するために電極パターン間隔の狭小化に限界が生じる。例えば１５μｍ以下の電極間スペースを形成するには、既存のタッチパネル用配線の形成プロセスにおいて既存のポジ型レジストでは精度よく形成できないことが懸念される。すなわち、半導体微細加工のような最先端のプロセスでナノメートルサイズの微細パターンをポジ型感光性樹脂組成物を用いて形成することは可能であるが、液浸露光装置等の特殊な装置を必要とする。そのため、現状タッチパネルのITO等の透明導電膜形成用のフォトグラフィーおよびウェットエッチングプロセスで、１５μｍ以下といった狭い配線間スペース適用できるさらに高性能な材料の開発が望まれている。

特開２０１１−１８６７１７号公報 特開２０１１−２０４０３７号公報 ＷＯ２０１４／０５０５６７パンフレット

そこで、本発明の目的は、従来技術における上記諸問題を解決し、エッチング耐性及びエッチング後の剥離性に優れ、所望のパターン形成が可能であるエッチングレジスト用感光性樹脂組成物、このエッチングレジストを用いて形成した金属又は金属酸化物の配線パターン及びこの配線パターンを構成要素とするタッチパネルを提供することにある。ここでいうエッチングレジスト用感光性樹脂組成物とは、基板上に金属膜または金属酸化物膜を形成した後、フォトリソグラフィー法によりレジストパターンを形成し、そのレジストパターンをマスクとして金属膜または金属酸化物膜が露出した部分をアルカリ性または酸性のエッチング液により除去した後、アルカリ性のレジスト剥離液によりレジストパターンを除去することができる感光性樹脂組成物のことをいう。このエッチングレジストを用いた金属膜又は金属酸化膜のパターン形成は、ITO等の透明導電性金属酸化膜の配線パターン形成に有用なものであるが、アルカリ性又は酸性のエッチング液を用いたウェットエッチングプロセスで電極パターンや金属配線等を形成する際にも広く適用することができる。特に、感光性樹脂組成物の膜厚が０．１〜５μｍの比較的膜厚が薄い場合において、３〜１５μｍといった配線間スペースを精度よく形成するのに好適なエッチングレジストを提供できる感光性樹脂組成物である。

本発明者らは、前記の問題点を解決すべく鋭意研究を進めた結果、特定の構造のアルカリ可溶性樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、着色材等を含む感光性樹脂組成物中に、エポキシ基を２個以上有する化合物を共存させることにより、エッチング耐性及びエッチング後の剥離性を両立することができ、しかも、パターン形成能の低下も無いエッチングレジスト用感光性樹脂組成物が得られることを見出した。すなわち、本発明の要旨は次のとおりである。

（１）本発明は、(Ａ)ビスフェノール類から誘導される２個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物と不飽和基含有モノカルボン酸との反応物に対して、（a)ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物、及び（b)テトラカルボン酸又はその酸二無水物を反応させて得られたアルカリ可溶性樹脂、(Ｂ)少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマー、(Ｃ)１分子中に少なくとも２個のエポキシ基を有する化合物、(Ｄ)光重合開始剤、及び(Ｅ)着色材を含有するエッチングレジスト用感光性樹脂組成物であり、（Ａ）１００質量部に対して、（Ｂ）が１０〜６０質量部、（Ｃ）が５〜８０質量部であり、また、（Ｄ）が、（Ａ）と（Ｂ）の合計量１００質量部に対して２〜４０質量部であり、さらに固形分中（Ｅ）が５〜６０質量％であることを特徴とするエッチングレジスト用感光性樹脂組成物である。

（２）本発明はまた、上記エッチングレジスト用感光性樹脂組成物における（E）着色材が黒色顔料又は顔料の混色による擬似黒色着色材であることを特徴とするエッチングレジスト用感光性樹脂組成物。

（３）本発明はまた、配線用金属膜又は金属酸化膜上に、（１）又は（２）のエッチングレジストレジスト用感光性樹脂組成物を塗布・製膜し、その塗膜をフォトリソグラフィー法により加工しレジストパターンを形成し、そのレジストパターンをマスクとして金属膜又は金属酸化物膜をウェットエッチングし、その後レジストパターンを剥離することにより形成される金属膜又は金属酸化物膜の配線パターン。

（４）本発明はまた、（３）の金属膜又は金属酸化物膜の配線パターンを有するタッチパネルである。

以下に、本発明を詳細に説明する。

本発明のエッチングレジスト用感光性樹脂組成物における（Ａ）は、ビスフェノール類から誘導される２個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物と不飽和基含有モノカルボン酸との反応物に対して、（a)ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物、及び（b)テトラカルボン酸又はその酸二無水物を反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂である。好ましくは、（a）/（b）のモル比が０．０１〜１０となる範囲で反応させたアルカリ可溶性樹脂である。

（Ａ）の原料となるビスフェノール類としては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ケトン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）ケトン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）エーテル、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フルオロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）フルオレン、４，４'−ビフェノール、３，３'−ビフェノール等およびこれらの誘導体が挙げられる。これらの中では、フルオレン−９，９−ジイル基を有するものが特に好適に利用される。

次に、上記ビスフェノール類とエピクロルヒドリンを反応させて２個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物を得る。この反応の際には、一般にジグリシジルエーテル化合物のオリゴマー化を伴うため、下記一般式（I）のエポキシ化合物を得ることになる。

一般式（Ｉ）の式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は、それぞれ独立して水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を表し、Ａは、−ＣＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｃ（ＣＦ₃）₂−、−Ｓｉ（ＣＨ₃）₂−、−ＣＨ₂−、−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−Ｏ−、フルオレン−９，９−ジイル基又は直結合を表す。ｌは０〜１０の整数である。好ましいＲ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄は水素原子であり、好ましいＡはフルオレン−９，９−ジイル基である。また、ｌは通常複数の値が混在するため平均値０〜１０（整数とは限らない）となるが、好ましいｌの平均値は０〜３である。ｌの値が上限値を超えると、当該エポキシ化合物使用して合成したアルカリ可溶性樹脂を用いて感光性樹脂組成物としたときに組成物の粘度が大きくなりすぎて塗工がうまく行かなくなったり、アルカリ可溶性を十分に付与できずアルカリ現像性が非常に悪くなったりする。

次に、一般式（Ｉ）の化合物に、不飽和基含有モノカルボン酸としてアクリル酸若しくはメタクリル酸又はこれらの両方を反応させ、得られたヒドロキシ基を有する反応物に、（a)ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物、及び（b)テトラカルボン酸又はその酸二無水物を、好ましくは（a）/（b）のモル比が０．０１〜１０となる範囲で反応させて、下記一般式（II）で表されるエポキシ（メタ）アクリレート酸付加物の構造を有するアルカリ可溶性樹脂を得る。

（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は、それぞれ独立して水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、ハロゲン原子又はフェニル基を表し、Ｒ₅は、水素原子又はメチル基を表し、Ａは、−ＣＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｃ（ＣＦ₃）₂−、−Ｓｉ（ＣＨ₃）₂−、−ＣＨ₂−、−Ｃ（ＣＨ₃）₂−、−Ｏ−、フルオレン−９，９−ジイル基又は直結合を表し、Ｘは４価のカルボン酸残基を表し、Ｙ₁及びＹ₂は、それぞれ独立して水素原子又は−ＯＣ−Ｚ−（ＣＯＯＨ）_m（但し、Ｚは２価又は３価カルボン酸残基を表し、ｍは１又は２の数を表す）を表し、ｎは１〜２０の整数を表す。）

このエポキシ（メタ）アクリレート酸付加物（II）は、エチレン性不飽和二重結合とカルボキシル基とを併せ持つアルカリ可溶性樹脂であるため、本発明のエッチングレジスト用感光性樹脂組成物の（Ａ）として優れた光硬化性、良現像性、パターニング特性を与え、良好なエッチングレジスト用膜パターンが得られるものである。

本発明の（Ａ）である一般式（II）のエポキシ（メタ）アクリレート酸付加物に利用される（a)ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物としては、鎖式炭化水素ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物や脂環式ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物、芳香族ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物が使用される。ここで、鎖式炭化水素ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物としては、例えば、コハク酸、アセチルコハク酸、マレイン酸、アジピン酸、イタコン酸、アゼライン酸、シトラリンゴ酸、マロン酸、グルタル酸、クエン酸、酒石酸、オキソグルタル酸、ピメリン酸、セバシン酸、スベリン酸、ジグリコール酸等の化合物があり、更には任意の置換基の導入されたジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物でもよい。また、脂環式ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物としては、例えば、シクロブタンジカルボン酸、シクロペンタンジカルボン酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、ノルボルナンジカルボン酸等の化合物があり、更には任意の置換基の導入されたジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物でもよい。更に、芳香族ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物としては、例えばフタル酸、イソフタル酸、トリメリット酸等の化合物があり、更には任意の置換基の導入されたジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物でもよい。

また、本発明の（Ａ）である一般式（II）のエポキシ（メタ）アクリレート酸付加物に利用される（b)テトラカルボン酸又はその酸二無水物としては、鎖式炭化水素テトラカルボン酸又はその酸二無水物や脂環式テトラカルボン酸又はその酸二無水物、又は、芳香族多価カルボン酸又はその酸二無水物が使用される。ここで、鎖式炭化水素テトラカルボン酸又はその酸二無水物としては、例えば、ブタンテトラカルボン酸、ペンタンテトラカルボン酸、ヘキサンテトラカルボン酸等があり、更には置換基の導入されたテトラカルボン酸又はその酸二無水物でもよい。また、脂環式テトラカルボン酸又はその酸二無水物としては、例えば、シクロブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸、シクロヘキサンテトラカルボン酸、シクロへプタンテトラカルボン酸、ノルボルナンテトラカルボン酸等があり、更には置換基の導入されたテトラカルボン酸又はその酸二無水物でもよい。更に、芳香族テトラカルボン酸やその酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸又はその酸二無水物が挙げられ、更には置換基の導入されたテトラカルボン酸又はその酸二無水物でもよい。

本発明の（Ａ）である一般式（II）のエポキシ（メタ）アクリレート酸付加物に使用される（ａ）ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物と（ｂ）テトラカルボン酸又はその酸二無水物とのモル比（ａ）／（ｂ）は、０．０１〜１０、好ましくは０．１〜３．０となる範囲である。モル比（ａ）／（ｂ）が上記範囲を逸脱すると最適分子量が得られず、（Ａ）を使用した感光性樹脂組成物において、アルカリ現像性、耐熱性、耐溶剤性、パターン形状等が劣化するので好ましくない。なお、モル比（ａ）／（ｂ）が小さいほどアルカリ溶解性が大となり、分子量が大となる傾向がある。

また、本発明の（Ａ）である一般式（II）のエポキシ（メタ）アクリレート酸付加物は、重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００〜１００００の間であることが好ましく、３０００〜７０００の間であることが特に好ましい。重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００に満たないと（Ａ）を使用した黒色感光性樹脂組成物の現像時のパターンの密着性が維持できず、パターン剥がれが生じ、また、重量平均分子量（Ｍｗ）が１００００を超えると現像残渣や未露光部の残膜が残り易くなる。更に、（Ａ）は、その酸価が３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲にあることが望ましい。この値が３０ｍｇＫＯＨ／ｇより小さいと（Ａ）を使用した感光性樹脂組成物のアルカリ現像がうまくできないか、強アルカリ等の特殊な現像条件が必要となり、２００ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると（Ａ）を使用した感光性樹脂組成物へのアルカリ現像液の浸透が早くなり過ぎ、剥離現像が起きるので、何れも好ましくない。

本発明で利用される一般式（II）のエポキシ（メタ）アクリレート酸付加物は、上述の工程により、既知の方法、例えば特開平8-278629号公報や特開2008-9401号公報等に記載の方法により製造することができる。先ず、一般式（Ｉ）のエポキシ化合物に不飽和基含有モノカルボン酸を反応させる方法としては、例えば、エポキシ化合物のエポキシ基と当モルの不飽和基含有モノカルボン酸を溶剤中に添加し、触媒（トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、2,6-ジイソブチルフェノール等）の存在下、空気を吹き込みながら９０〜１２０℃に加熱・攪拌して反応させるという方法がある。次に、反応生成物であるエポキシアクリレート化合物の水酸基に酸無水物を反応させる方法としては、エポキシアクリレート化合物と酸二無水物および酸一無水物の所定量を溶剤中に添加し、触媒（臭化テトラエチルアンモニウム、トリフェニルホスフィン等）の存在下、９０〜１３０℃で加熱・攪拌して反応させるという方法がある。

本発明のエッチングレジスト用感光性樹脂組成物における（Ｂ）少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステル類や、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、ソルビトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、又はジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、フォスファゼンのアルキレンオキサイド変性ヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類を挙げることができ、これらの１種又は２種以上を使用することができる。また、当該少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマーは、光重合性基を３個以上有して不飽和基含有アルカリ可溶性樹脂の分子同士を架橋することができるものを用いることが好ましい。なお、（Ｂ）少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマーは遊離のカルボキシ基を有しない。

本発明のエッチングレジスト用感光性樹脂組成物における（Ｃ）１分子中に少なくとも２個のエポキシ基を有する化合物としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、ビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、多価アルコールのグリシジルエーテル、多価カルボン酸のグリシジルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルをユニットとして含む重合体、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）メタン、２，２'−ビス（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロパン、３，４−エポキシシクロヘキサンカルボン酸（３'，４'−エポキシシクロヘキシル）メチル、１，２−エチレン−ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート）、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート等の脂環式エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン骨格を有する多官能エポキシ化合物（例えばＤＩＣ社製ＨＰ７２００シリーズ）、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物（例えばダイセル社製「ＥＨＰＥ３１５０」）、エポキシ化ポリブタジエン（例えば日本曹達社製「ＮＩＳＳＯ−ＰＢ・ＪＰ−１００」）、シリコーン骨格を有するエポキシ化合物等を挙げることができる。これら成分としてはエポキシ当量が９０〜５００ｇ／ｅｑかつ数平均分子量が１００〜５０００の化合物であることが好ましい。なお、（Ｃ）は、１種類の化合物のみを用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。

本発明のエッチングレジスト用感光性樹脂組成物における（Ｄ）光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルアセトフェノン等のアセトフェノン類、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、p,p'-ビスジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類、2-(o-クロロフェニル)-4,5-フェニルビイミダゾール、2-(o-クロロフェニル)-4,5-ジ(m-メトキシフェニル)ビイミダゾール、2-(o-フルオロフェニル)-4,5-ジフェニルビイミダゾール、2-(o-メトキシフェニル)-4,5-ジフェニルビイミダゾール、2,4,5-トリアリールビイミダゾール等のビイミダゾール系化合物類、2-トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル-5-(p-シアノスチリル)-1,3,4-オキサジアゾール、2-トリクロロメチル-5-(p-メトキシスチリル)-1,3,4-オキサジアゾール等のハロメチルジアゾール化合物類、2,4,6-トリス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-メチル−4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-フェニル-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-クロロフェニル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-メトキシフェニル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-メトキシナフチル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-メトキシスチリル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(3,4,5-トリメトキシスチリル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン、2-(4-メチルチオスチリル)-4,6-ビス（トリクロロメチル）-1,3,5-トリアジン等のハロメチル−Ｓ−トリアジン系化合物類、1,2-オクタンジオン,1-［4-（フェニルチオ）フェニル］-,2-（o-ベンゾイルオキシム）、1-(4-フェニルスルファニルフェニル)ブタン-1，2-ジオン-2-オキシム-o-ベンゾアート、1-(4-メチルスルファニルフェニル)ブタン-1，2-ジオン-2-オキシム-o-アセタート、1-(4-メチルスルファニルフェニル)ブタン-1-オンオキシム-o-アセタート等のo-アシルオキシム系化合物類、ベンジルジメチルケタール、チオキサンソン、2-クロロチオキサンソン、2,4-ジエチルチオキサンソン、2-メチルチオキサンソン、2-イソプロピルチオキサンソン等のイオウ化合物、2-エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2-ベンズアントラキノン、2,3-ジフェニルアントラキノン等のアントラキノン類、アゾビスイソブチルニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、クメンパーオキシド等の有機過酸化物、2-メルカプトベンゾイミダゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール等のチオール化合物、トリエタノールアミン、トリエチルアミン等の第３級アミンなどが挙げられる。この中でも、高感度の感光性樹脂組成物を得られやすい観点から、o-アシルオキシム系化合物類を用いることが好ましい。また、これら光重合開始剤を２種類以上使用することもできる。なお、本発明でいう光重合開始剤とは、増感剤を含む意味で使用される。

本発明のエッチングレジスト用感光性樹脂組成物における（Ｅ）着色材としては、無機顔料、有機顔料等を特に制限なく用いることができる。無機顔料としては、カーボンブラック、酸化クロム、酸化鉄、チタンブラック、酸窒化チタン、チタン窒化物等を挙げることができる。有機顔料としては、アゾ顔料、縮合アゾ顔料、アゾメチン顔料、フタロシアニン顔料、キナクリドン顔料、イソインドリノン顔料、イソインドリン顔料、ジオキサジン顔料、スレン顔料、ペリレン顔料、ペリノン顔料、キノフタロン顔料、ジケトピロロピロール顔料、チオインジゴ顔料、ペリレンブラック、シアニンブラック、アニリンブラック等が挙げられるが、カラーインデックス名としては、ピグメント・レッド２、同３、同４、同５、同９、同１２、同１４、同２２、同２３、同３１、同３８、同１１２、同１２２、同１４４、同１４６、同１４７、同１４９、同１６６、同１６８、同１７０、同１７５、同１７６、同１７７、同１７８、同１７９、同１８４、同１８５、同１８７、同１８８、同２０２、同２０７、同２０８、同２０９、同２１０、同２１３、同２１４、同２２０、同２２１、同２４２、同２４７、同２５３、同２５４、同２５５、同２５６、同２５７、同２６２、同２６４、同２６６、同２７２、同２７９、ピグメント・オレンジ５、同１３、同１６、同３４、同３６、同３８、同４３、同６１、同６２、同６４、同６７、同６８、同７１、同７２、同７３、同７４、同８１、ピグメント・イエロー１、同３、同１２、同１３、同１４、同１６、同１７、同５５、同７３、同７４、同８１、同８３、同９３、同９５、同９７、同１０９、同１１０、同１１１、同１１７、同１２０、同１２６、同１２７、同１２８、同１２９、同１３０、同１３６、同１３８、同１３９、同１５０、同１５１、同１５３、同１５４、同１５５、同１７３、同１７４、同１７５、同１７６、同１８０、同１８１、同１８３、同１８５、同１９１、同１９４、同１９９、同２１３、同２１４、ピグメント・グリーン７、同３６、同５８、ピグメント・ブルー１５、同１５：１、同１５：２、同１５：３、同１５：４、同１５：６、同１６、同６０、同８０、ピグメント・バイオレット１９、同２３、同３７等を挙げることができる。着色材としては、単独で用いても2種類以上混合して用いてもよい。それらの中でも黒色顔料又は顔料の混色による擬似黒色着色材が好ましい。

本発明の感光性樹脂組成物においては、上記（Ａ）〜（Ｅ）の他に溶剤を使用して粘度を調整することが好ましい。溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類、α−もしくはβ−テルピネオール等のテルペン類等、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の酢酸エステル類等が挙げられ、これらを用いて溶解、混合させることにより、均一な溶液状の組成物とすることができる。

また、本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて硬化促進剤、熱重合禁止剤、可塑剤、充填材、溶剤、レベリング剤、消泡剤、カップリング剤、界面活性剤等の添加剤を配合することができる。熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、フェノチアジン等を挙げることができ、可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、リン酸トリクレジル等を挙げることができ、充填材としては、ガラスファイバー、シリカ、マイカ、アルミナ等を挙げることができ、消泡剤やレベリング剤としては、シリコーン系、フッ素系、アクリル系の化合物を挙げることができる。また、界面活性剤としてはフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等を挙げることができ、シランカップリング剤としては３−（グリシジルオキシ）プロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。

感光性樹脂組成物中の（Ａ）〜（Ｅ）の各成分の好ましい構成割合については、（Ａ）１００質量部に対して、（Ｂ）が１０〜６０質量部、（Ｃ）が５〜８０質量部であり、また、（Ｄ）が（Ａ）と（Ｂ）の合計量１００質量部に対して２〜４０質量部である。より好ましくは（Ａ）１００質量部に対して、（Ｂ）が３０〜５０質量部、（Ｃ）が１０〜７０質量部であり、また、（Ｄ）が（Ａ）と（Ｂ）の合計量１００質量部に対して３〜３０質量部である。固形分（光硬化反応により固形分となるモノマー成分を含む）中において、さらに（E）が固形分中５〜６０質量％である。

本発明のエッチングレジスト用感光性樹脂組成物は、上記（Ａ）〜（Ｅ）成分を主成分として含有する。感光性樹脂組成物溶液においては、溶剤を除いた固形分（光硬化後に固形分となるモノマー成分を含む）中に、（Ａ）〜（Ｅ）成分が合計で７０質量％以上、好ましくは８０質量％、より好ましくは９０質量％以上含むことがよい。溶剤の量は、目標とする粘度によって変化するが、感光性樹脂組成物溶液中６０〜９０質量％の範囲が好ましい。

本発明のエッチングレジスト用感光性樹脂組成物の使用方法としては、ガラス、透明フィルム（例えば、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフォン等）等の基板上に形成された金属膜又は金属酸化物膜上に塗布・製膜し、その塗膜上にフォトマスクを介して紫外線を照射して露光部を硬化させ、更にアルカリ水溶液を用いて未露光部を溶出させる現像を行ってパターンを形成しポストベークを行うといったフォトリソグラフィー法によりレジストパターンを形成する。そして、そのレジストパターンをマスクとして金属膜又は金属酸化物膜をウェットエッチングし、その後レジストパターンを剥離することにより金属膜又は金属酸化物膜の配線パターンを形成する。

感光性樹脂組成物溶液を基板に塗布する方法としては、公知の溶液浸漬法、スプレー法の他、ローラーコーター機、ランドコーター機、スリットコーター機やスピナー機を用いる方法等の何れの方法を採用することができる。これらの方法によって、所望の厚さに塗布した後、溶剤を除去する（プリベーク）ことにより、被膜が形成される。プリベークはオーブン、ホットプレート等により加熱することによって行われる。プリベークにおける加熱温度及び加熱時間は使用する溶剤に応じて適宜選択され、例えば６０〜１１０℃の温度で１〜３分間行われる。プリベーク後の感光性樹脂組成物の膜厚は０．１〜５μｍが好ましく、膜厚が０．１μｍ未満の場合は基板への密着性が低下する。一方、膜厚が５μｍを超える場合は被膜表面の平坦性が低下し、また基板が透明フィルムの場合に反りの発生が懸念される。

プリベーク後に行われる露光は、露光機によって行なわれ、フォトマスクを介して露光することによりパターンに対応した部分の感光性樹脂組成物のみを感光させる。露光機及びその露光照射条件は適宜選択され、超高圧水銀灯、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、遠紫外線灯等の光源を用いて露光を行い、塗膜中の感光性樹脂組成物を光硬化させる。

露光後のアルカリ現像は、露光されない部分の感光性樹脂組成物を除去する目的で行われ、この現像によって所望のパターンが形成される。このアルカリ現像に適した現像液としては、例えば、アルカリ金属やアルカリ土類金属の炭酸塩の水溶液、アルカリ金属の水酸化物の水溶液等を挙げることができるが、特に炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩を０．０３〜１重量％含有する弱アルカリ性水溶液を用いて２３〜２７℃の温度で現像するのがよく、市販の現像機や超音波洗浄機等を用いて微細な画像を精密に形成することができる。

このようにして現像した後、１００〜１３０℃の温度、３０〜１２０分の条件で熱処理（ポストベーク）が行われる。このポストベークは、レジストパターンが酸性又はアルカリ性のエッチング液に耐えるようにする等の目的で行われる。これはプリベークと同様に、オーブン、ホットプレート等により加熱することによって行われる。これにより、エッチングレジストのパターンが形成される。
次に、形成したレジストパターンをマスクとして、酸性又はアルカリ性のエッチング液に浸漬することにより、金属膜又は酸化物膜のエッチングを行う。その後、レジストパターンを強アルカリ等の剥離液に浸漬することにより、レジストを剥離し、金属膜又は酸化物膜の配線パターンが形成されることになる。

本発明のエッチングレジスト用感光性樹脂組成物はフォトリソグラフィーによるパターン形成が可能であって、特に現像特性に優れ、形成した着色膜はタッチパネルのＩＴＯ配線パターン等の作成のためエッチングプロセスにも耐え得る十分な耐薬品性を有し、さらに良好なレジスト剥離性を有している。これにより、３〜１５μｍといった狭い配線間の配線パターンの形成が可能であり、特に感光性樹脂組成物の膜厚が０．１〜５μｍの比較的膜厚が薄い場合に効果を発揮する。

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

［合成例１］
還留冷却器付き500ml四つ口フラスコ中にビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物 ０．２３mol、アクリル酸 ０．４６mol、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート １６１．０g及び臭化テトラエチルアンモニウム（ＴＥＡＢ） ０．４８gを仕込み、１００〜１０５℃で加熱下に２０hr撹拌して反応させた。次いで、フラスコ内に３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物 ０．１２mol、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物 ０．１２molを仕込み、１２０〜１２５℃で加熱下に６hr撹拌し、アルカリ可溶性樹脂溶液（Ａ）−１を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は５５．６wt%、酸価（固形分換算）は１０３mgKOH/g、ＧＰＣ分析によるMwは３６００であった。

［合成例２］
還留冷却器付き500ml四つ口フラスコ中にビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物 ０．２３mol、アクリル酸 ０．４６mol、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート １６１．０g及び臭化テトラエチルアンモニウム（ＴＥＡＢ） ０．４８gを仕込み、１００〜１０５℃で加熱下に２０hr撹拌して反応させた。次いで、フラスコ内に３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物 ０．０８mol、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物 ０．１８molを仕込み、１２０〜１２５℃で加熱下に６hr撹拌し、アルカリ可溶性樹脂溶液（Ａ）−２を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は５５．６wt%、酸価（固形分換算）は１０１mgKOH/g、ＧＰＣ分析によるMwは２４００であった。

［合成例３］
還留冷却器付き500ml四つ口フラスコ中にビスフェノールフルオレン型エポキシ化合物 ０．２３mol、アクリル酸 ０．４６mol、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート １５６．０g及び臭化テトラエチルアンモニウム（ＴＥＡＢ） ０．４８gを仕込み、１００〜１０５℃で加熱下に２０hr撹拌して反応させた。次いで、フラスコ内に３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物 ０．１５mol、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物 ０．００５molを仕込み、１２０〜１２５℃で加熱下に６hr撹拌し、アルカリ可溶性樹脂溶液（Ａ）−３を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は５５．６wt%、酸価（固形分換算）は９３mgKOH/g、ＧＰＣ分析によるMwは８３００であった。

（感光性樹脂組成物の調製）
表１に示す組成によって配合を行い、実施例１〜７および比較例１〜２の感光性樹脂組成物を調製した。配合に使用した各成分は、次のとおりである。
（Ａ）−１〜（Ａ）−３：合成例１〜３で得られたアルカリ可溶性樹脂溶液
（Ｂ）光重合性モノマー：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの混合物（日本化薬（株）製 商品名DPHA）
（Ｃ）エポキシ化合物：
（Ｃ）−１：２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物（ダイセル社製「ＥＨＰＥ３１５０」、エポキシ当量１７０〜１８０、１分子中の平均官能基数（平均エポキシ基数）１２〜１３）
（Ｃ）−２：フェノールノボラック型エポキシ樹脂（三菱化学（株）製 ＪＥＲ１５４、エポキシ当量１７８、１分子中の平均官能基数（平均エポキシ基数）３）
（Ｃ）−３：ビスフェノールフルオレンとエピクロルヒドリンを反応させて得られたエポキシ樹脂（エポキシ当量３００〜３５０、分子中の平均官能基数（平均エポキシ基数）２〜３）
（Ｃ）−４： ３，４−エポキシシクロヘキサンカルボン酸（３'，４'−エポキシシクロヘキシル）メチル（（株）ダイセル製 セロキサイド２０２１Ｐ、エポキシ当量１３５、１分子中の平均官能基数（平均エポキシ基数）２）
（Ｄ）光重合開始剤：
（Ｄ）−１：１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）カルバゾール−３−イル］エタノン＝Ｏ−アセチルオキシム（ＢＡＳＦ社製 商品名イルガキュアＯＸＥ０２）
（Ｄ）−２：１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ社製 商品名イルガキュアＯＸＥ０１）
（Ｅ）着色材：カーボンブラック濃度２５重量％、高分子分散剤７．５重量％のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶剤のカーボンブラック分散体
（Ｆ）溶剤：
（Ｆ）−１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
（Ｆ）−２：ジエチレングリコールメチルエチルエーテル
（Ｇ）シランカップリング剤（１％シクロヘキサノン溶液）

（感光性樹脂組成物の評価：現像性）
実施例１〜７および比較例１〜２の感光性樹脂組成物溶液を、脱脂洗浄した厚さ１．２mmのＩＴＯ成膜ガラス基板上にスピンコーターを用いて１．０μmの乾燥膜厚になる条件で塗布・乾燥した後、所定の範囲のL/S（ライン幅/スペース幅）を有するフォトマスクを密着させ、５００Wの高圧水銀灯ランプを用いて波長３６５nmの照度１０mW/cm²の紫外線を１０秒間照射した。露光後、０．４%炭酸ナトリウム水溶液を用いて２３℃で６０秒間０．１Mpaの圧力で現像し、塗膜の未露光部を除去し、その後、熱風乾燥機を用いて１２０℃で６０分間加熱硬化処理を行った。
形成されたレジスト膜パターンの細線形成を顕微鏡で確認し、以下の４段階で評価した。結果を表２に示す。
○：L/Sが５μｍ/５μｍ以上のパターンが残渣なく形成されているもの
△：L/Sが１５μｍ/１５μｍ以上のパターンが残渣なく形成されているもの
×：L/Sが１５μｍ/１５μｍ未満のパターンが形成されていないか、パターンの裾引きや残渣が目立つもの

（感光性樹脂組成物の評価：酸性エッチング耐性）
ＵＶ洗浄した厚さ１．２mmのＩＴＯ基板上にスピンコーターを用いて１．０μmの乾燥膜厚になる条件で塗布・乾燥した後、所定の範囲のL/S（ライン幅/スペース幅）を有するフォトマスクを密着させ、５００Wの高圧水銀灯ランプを用いて波長３６５nmの照度１０mW/cm²の紫外線を１０秒間照射した。露光後、０．４%炭酸ナトリウム水溶液を用いて２３℃で６０秒間０．１Mpaの圧力で現像し、塗膜の未露光部を除去し、その後、熱風乾燥機を用いて１２０℃で６０分間加熱硬化処理を行った。
そして、ＩＴＯ基板上に作成した硬化物を、王水の入ったシャーレに室温で２分間浸漬した後、純水で洗浄し、水分を拭き取り、形成されたレジスト膜パターンの剥離、変形等を顕微鏡で確認し、以下の３段階で評価した。結果を表２に示す。
○：L/Sが５μｍ/５μｍ以上のパターンの剥離、変形等が全くみられない
△：L/Sが１０μｍ/１０μｍ以下のパターンの剥離、変形等がみられるが、L/Sが１５μｍ/１５μｍ以上のパターンの剥離、変形等がみられない
×：L/Sが１５μｍ/１５μｍ以上のパターンの剥離、変形等がみられる

（感光性樹脂組成物の評価：アルカリ剥離性）
酸性エッチング耐性試験後のＩＴＯ基板上に作成した硬化物を、２-アミノエタノール３０質量部、グリコールエーテル７０質量部の混合液を８０℃に保持した溶液に浸漬し、１０分後に引き上げて純水で洗浄、乾燥し、以下の３段階で評価した。結果を表２に示す。
○：残渣なく剥離したもの
△：剥離はしているが残渣が残っているもの
×：膜が剥離していないか、残渣が非常に多いもの

実施例１〜７と比較例１の結果から明らかなように、感光性樹脂組成物に（Ｃ）エポキシ化合物を添加することにより、L/Sが５μｍ/５μｍという微細なパターンが形成できる特性を維持した上で、ＩＴＯ膜のエッチングプロセスで使用される強酸性の薬品で処理しても、レジスト膜のＩＴＯ基板との密着性が維持され、かつエッチング後の強アルカリ溶液を用いたレジスト剥離プロセスできれいに剥離することが可能なレジスト膜であることがわかる。また、カーボンブラックを含まない比較例２では、感度の低い光重合開始剤を用いても、現像性においてマスクパターンよりも太くなってしまう傾向があり裾引きや残渣も目立つという現象がみられ、ＩＴＯエッチング後のレジスト剥離もうまくいかない状況であり、実施例１〜７と比較例２の結果からは、黒色顔料であるカーボンブラックのような着色材を添加することにより、現像性に優れ、耐酸性エッチング性を有し、かつ、エッチング後のレジスト剥離をきれいにできることがわかる。

本発明の感光性樹脂組成物は、酸性またはアルカリ性のエッチング液に対する耐性に優れ、かつエッチング後の剥離性に優れるため、微細な電極パターンまたは配線形成が可能である。

Claims (4)

1. (Ａ)ビスフェノール類から誘導される２個のグリシジルエーテル基を有するエポキシ化合物と不飽和基含有モノカルボン酸との反応物に対して、（a)ジカルボン酸若しくはトリカルボン酸又はその酸無水物、及び（b)テトラカルボン酸又はその酸二無水物を反応させて得られたアルカリ可溶性樹脂、(Ｂ)少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する光重合性モノマー、(Ｃ)１分子中に少なくとも２個のエポキシ基を有する化合物、(Ｄ)光重合開始剤、及び(Ｅ)着色材を含有するエッチングレジスト用感光性樹脂組成物であり、（Ａ）１００質量部に対して、（Ｂ）が１０〜６０質量部、（Ｃ）が５〜８０質量部であり、また、（Ｄ）が、（Ａ）と（Ｂ）の合計量１００質量部に対して２〜４０質量部であり、さらに固形分中（E）が５〜６０質量％であることを特徴とするエッチングレジスト用感光性樹脂組成物。
2. 上記（Ｅ）が黒色顔料又は顔料の混色による擬似黒色着色材であることを特徴とする請求項１に記載のエッチングレジスト用感光性樹脂組成物。
3. 配線用金属膜又は金属酸化物膜上に、請求項１又は２に記載のエッチングレジストレジスト用感光性樹脂組成物を塗布・製膜し、その塗膜をフォトリソグラフィー法により加工しレジストパターンを形成し、そのレジストパターンをマスクとして金属膜又は金属酸化物膜をウェットエッチングし、その後レジストパターンを剥離することにより形成される金属膜又は金属酸化物膜の配線パターン。
4. 請求項３に記載の金属膜又は金属酸化物膜の配線パターンを有するタッチパネル。