CN104755570B - 包含硅氧烷化合物的防反射涂敷组合物、利用该防反射涂敷组合物来调节表面能的防反射膜 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及既具有低折射率，还能形成调节表面能的涂敷层的防反射涂敷组合物、利用该防反射涂敷组合物的防反射膜及上述防反射膜的制备方法，更详细地，涉及防反射膜及其制备方法，上述防反射膜及其制备方法使用防反射涂敷组合物来形成涂敷层，从而使反射率最小化并调节表面能，上述防反射涂敷组合物作为粘结剂，包含将含有氟烷基的有机硅烷(organosilane)和烷氧基硅烷以规定重量比反应而合成的硅氧烷化合物。由于利用上述反射涂敷组合物的防反射膜的防反射效果优秀，因此，期待能够适用于触摸膜等多种显示设备。

Description

包含硅氧烷化合物的防反射涂敷组合物、利用该防反射涂敷 组合物来调节表面能的防反射膜
技术领域
本发明涉及一种既具有低折射率，还可以形成调节表面能的涂敷层的防反射涂敷组合、利用该防反射涂敷组合物的防反射膜及上述防反射膜的制备方法，更详细地，涉及防反射膜及其制备方法，上述防反射膜及其制备方法使用防反射涂敷组合物来形成涂敷层，从而使反射率最小化并调节表面能，上述防反射涂敷组合物作为粘结剂，包含将含有氟烷基的有机硅烷(organosilane)和烷氧基硅烷以规定重量比反应而合成的硅氧烷化合物。
背景技术
在显示器暴露于各种照明和自然光等的外光的情况下，随着在显示器的内部形成的图像因反射光而未能鲜明地凝聚在眼中，使得产生的对比度(contrast)降低，从而不仅难以看到画面，还会使眼睛感到疲劳或引发头痛。由于这种理由，使得对防反射的要求也在逐渐强烈。
就形成有单层防反射膜的基板而言，将基板定义为基板的折射率为ns、单层防反射膜的折射率为n的情况下，防反射膜的反射率R的最小值表示为(ns-n2)2/(ns+n2)2。上述反射率R的最小值是在n2＝ns时出现，因此，单层防反射膜的折射率n越接近(ns)1/2，单层防反射膜的反射率越小。一般，考虑到在透明导电性膜中作为基板所使用的聚对苯二甲酸乙二酯的折射率ns大约为1.54时，为了降低防反射膜的反射率R，优选地，防反射膜的折射率n尽可能接近大约1.22～1.24范围。
以往的防反射膜主要在透光性基材上配置防反射层，例如，在日本公开专利第2002-200690号中公开了上述防反射层从透光性基材一侧开始依次层迭硬涂层、厚度为1μm以下的高折射率层及低折射率层的三层结构。
并且，为了使制备工序简单，在日本公开专利第2000-233467中公开了在上述防反射层中省略高折射率层，并由硬涂层和低折射率层进行层迭的二层结构。
另一方面，通过作为低折射材料的中空型二氧化硅粒子的开发，进行了对于折射率非常低的低折射涂敷材料的研究。但是，利用现有的丙烯酸树脂来开发的低折射涂敷材料的情况下，折射率未能达到作为对防反射的上述理论性最佳值的1.22～1.24。为了改善这样的问题，进行了添加包含氟的高分子物质来降低折射率的努力，但产生了涂敷面的表面能过高的问题。并且，要求在二氧化硅粒子进行可以与丙烯酸树脂结合的表面处理，用于改善中空型二氧化硅粒子与丙烯酸树脂间的兼容性不好的问题。
在韩国公开专利第2004-0070225号中公开包含对烷氧基硅烷进行水解及缩合处理来获得的二氧化硅前驱体的涂敷组合物。但是，缩合硅烷化合物来进行热固化的方法由于以低温和短时间的热固化无法进行充分的固化，因此，为了具有充分的固化密度，需要高温或长时间的固化，从而具有制备费用提高且生产率变差的问题和损伤塑料膜基材或硬质涂敷层，尤其会使硬涂层因加热而收缩，产生裂纹的问题等。
并且，虽然也在考虑导入含氟的烷氧基硅烷来制备低折射率涂敷层的技术，但在这种情况下存在产生相分离等问题，从而在使用该技术上具有限制。
另一方面，在制备触摸感应面板(Touch Sensor Panel)等方面，需要适当地形成膜的表面的附着力，为此，可以考虑调节涂敷层的表面能，从而控制在涂敷层的表面的附着力。
因此，正处于持续要求开发可以不相分离地在基材形成既具有低折射率，还能呈现适当的表面能的二氧化硅涂敷层的方法的实情。
发明内容
本发明要解决的技术问题
为此，本发明人员为了开发将具有低折射率和适当的表面能的二氧化硅涂敷层涂敷于基材上的防反射膜而进行研究、努力，结果发现，在使用将含有氟烷基的有机硅烷和烷氧基硅烷以规定比例反应而合成的硅氧烷化合物作为粘结剂的涂敷液的情况下，可以制备出既不产生相分离现象，还具有低折射率，并在涂敷层的表面适当地调节对水的接触角的防反射膜，从而完成了本发明。
因此，本发明的目的在于，利用包含硅氧烷化合物粘结剂的涂敷液形成防反射层，来提供光学特性优秀且调节表面能的防反射膜及其制备方法，上述硅氧烷化合物是将含有氟烷基的有机硅烷和烷氧基硅烷以规定比率进行反应而合成的。
技术方案
为了达到上述目的的本发明的防反射涂敷组合物，其特征在于，包含粘结剂和中空二氧化硅粒子，上述粘结剂是相对于100重量份的由下述化学式1表示的硅烷化合物，使用0.1重量份～20重量份的由下述化学式2表示的有机硅烷化合物进行聚合而成的，
化学式1：
R1 xSi(OR2)4-x，
在上述化学式1中，R1为碳数1～10的烷基、碳数6～10的芳基或碳数3～10的烯基，R2为碳数1～6的烷基，x表示0≤x＜4的整数；
化学式2：
R3 ySi(OR4)4-y，在上述化学式2中，R3为碳数1～12的氟烷基，R4为碳数1～6的烷基，y表示0≤y＜4的整数。
并且，本发明的防反射膜，其特征在于，包含上述涂敷组合物涂敷于基材表面而形成的涂敷层，且上述涂敷层表面的对水的接触角为40°～80°。
并且，本发明的防反射膜的制备方法，其特征在于，包括：相对于100重量份的由上述化学式1表示的硅烷化合物，聚合0.1重量份～20重量份的由上述化学式2表示的有机硅烷化合物来制备粘结剂的步骤；在中空二氧化硅粒子添加上述粘结剂和酸催化剂来制备包含进行表面处理的中空二氧化硅粒子的涂敷组合物的步骤；将上述涂敷组合物涂敷于基材膜的至少一表面的步骤；以及对已涂敷的上述涂敷组合物进行热处理的步骤。
有益效果
在使用本发明的防反射涂敷组合物的情况下，既可以解决以往出现的相分离的问题，还可以形成具有低折射率和适当的表面能的反射涂敷层。
利用这样的反射涂敷组合物的防反射膜由于防反射效果优秀，因而期待可以适用于触摸膜等多种显示设备。
具体实施方式
参照详细后述的一些实施例，能够使本发明的优点和特征，以及实现这些优点和特征的方法更加明确。但是，本发明并不局限于以下所公开的一些实施例，而是以相互不同的多种形态体现，本实施例仅仅使本发明的公开更加完整，且为了将本发明的范畴完整地告知于本发明所属技术领域的普通技术人员而提供，本发明仅根据发明要求保护范围来定义。
以下，对本发明的实施例的防反射涂敷组合物、防反射膜及其制备方法进行详细说明。
防反射涂敷组合物
本发明的防反射涂敷组合物包含粘结剂和中空二氧化硅粒子，上述粘结剂是相对于100重量份的由下述化学式1表示的硅烷化合物，使用0.1重量份～20重量份的由下述化学式2表示的有机硅烷化合物进行聚合而成的，
化学式1：
R1 xSi(OR2)4-x，
在上述化学式1中，R1为碳数1～10的烷基、碳数6～10的芳基或碳数3～10的烯基，R2为碳数1～6的烷基，x表示0≤x＜4的整数；
化学式2：
R3 ySi(OR4)4-y，
在上述化学式2中，R3为碳数1～12的氟烷基，R4为碳数1～6的烷基，y表示0≤y＜4的整数。
上述防反射涂敷组合物通过更加降低折射率来改善防反射特性。上述中空二氧化硅粒子在内部形成中空结构，从而具有低折射率，因此，可以从包含这样的中空二氧化硅的防反射涂敷组合物形成体现低折射率的层。一般，为了降低折射率，使用包含氟的涂敷组合物，但在这种情况下，由于表面能降低，因而可能在形成层迭结构内的层时，存在所需要的粘合力降低的问题。与此相反，上述防反射涂敷组合物呈现低折射率的同时，可以形成具有相对高表面能的层。上述防反射涂敷组合物按上述含量比包含由上述化学式1表示的硅烷化合物和由上述化学式2表示的有机硅烷化合物，从而在体现低折射率的同时，还可以不降低表面能。
由上述化学式1表示的硅烷化合物，在x为0的情况下，可表现为具有四个烷氧基的四官能团型烷氧基硅烷，在x为1的情况下，可表现为具有三个烷氧基的三官能团型烷氧基硅烷，在x为2的情况下，可表现为具有两个烷氧基的二官能团型烷氧基硅烷。在x为3的情况下，仅有一个作为官能团的烷氧基，因此，在与由上述化学式2表示的有机硅烷化合物发生缩合反应方面并不优选。
在上述化学式1中，碳数为6～10的芳基可包含苯基或甲苯基等，碳数为3～10的烯基可包含烯丙基、1-丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基或3-丁烯基等。
作为上述硅烷化合物，可以使用选自四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四仲丁氧基硅烷、四叔丁氧基硅烷、三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、异丁基三乙氧基硅烷、环己基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷及二苯基二乙氧基硅烷中的一种或两种以上的化合物，但并不局限于此。
并且，由上述化学式2表示的有机硅烷化合物，可以使用选自三氟甲基三甲氧基硅烷、三氟甲基三乙氧基硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷、三氟丙基三乙氧基硅烷、九氟丁基乙基三甲氧基硅烷、九氟丁基乙基三乙氧基硅烷、九氟己基三甲氧基硅烷、九氟己基三乙氧基硅烷、十三氟辛基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷及十七氟癸基三乙氧基硅烷中的一种或两种以上的化合物，但并不局限于此，并且，更加优选地，R3使用碳数为3～5的氟烷基，这在不产生相分离方面有利。
由上述化学式1表示的硅烷化合物和由上述化学式2表示的有机硅烷化合物在进行水解后进行脱水缩合聚合来形成硅氧烷化合物。另一方面，在上述水解及脱水缩合反应中可以使用酸催化剂，更具体地，可以使用硝酸、盐酸、硫酸或醋酸等。
相对于100重量份的由上述化学式1表示的硅烷化合物，使用0.1重量份～20重量份的由上述化学式2表示的有机硅烷化合物来进行聚合，优选地，使用1重量份～15重量份，更加优选地，使用5重量份～10重量份。在使用小于0.1重量份的上述有机硅烷化合物的情况下，所形成的涂敷层的接触角过低，且存在折射率降低效果甚微的问题，而使用大于20重量份的上述有机硅烷化合物的情况下，涂敷层的接触角过大，存在反而可能增大折射率的问题。因此，可以根据在上述范围内所要求的对于水的接触角，来调节由上述化学式2表示的有机硅烷化合物的含量。
所形成的上述硅氧烷化合物作用为有机-无机复合粘结剂，从而起到处理中空二氧化硅粒子的表面的作用。如上所述，如果利用粘结剂对中空二氧化硅粒子进行表面处理，则可以更加降低折射率。
上述硅氧烷化合物的重均分子量为1000～100000，优选地，为2000～50000，更加优选地，为5000～20000的范围。如果上述重均分子量小于1000，难以形成所要的具有低折射率的涂敷层，在上述重均分子量大于100000的情况下，存在降低防反射膜的透光度的问题。
另一方面，所谓中空二氧化硅粒子(hollow silica particles)是由硅化合物或有机硅化合物汇出的二氧化硅粒子，意味着在上述二氧化硅粒子的表面和/或内部存在空的空间的形态的粒子。如上所述，由于在内部存在空的空间，因此，可以体现更低的折射率。
上述中空二氧化硅粒子为分散于分散溶剂(水或有机溶剂)的形态，上述中空二氧化硅粒子可以是固体成分的含量为5～40重量％的胶体形态。在此，可以作为上述分散溶剂来使用的有机溶剂可以使用甲醇(methanol)、异丙醇(IPA，isoproply alcohol)、乙二醇(ethylene glycol)、丁醇(butanol)等醇类，甲基乙基酮(methyl ethyl ketone)、甲基异丁基酮(MIBK，methyl iso butyl ketone)等酮类，甲苯(toluene)、二甲苯(xylene)等芳香族碳氢类，二甲基甲酰胺(dimethyl formamide)、二甲基乙酰胺(dimethyl acetamide)、N-甲基吡咯烷酮(methyl pyrrolidone)等酰胺类，醋酸乙酯、醋酸丁酯、γ-丁内酯等的酯(ester)类，四氢呋喃(tetrahydrofuran)、1，4-二氧六环等的醚(ether)类或它们的混合物。但如上所述，以分散在分散溶剂的胶体溶液的形态来使用的情况下，考虑到固体成分含量等，优选地，应调节成中空二氧化硅粒子的含量相当于上述范围。
并且，上述中空二氧化硅粒子的数均直径使用1nm～1000nm，优选地，使用5nm～500nm，最优选地，使用10nm～100nm的范围，而这有利于在维持膜的透明性的同时呈现防反射效果。
相对于100重量份的上述中空二氧化硅粒子，使用10重量份～120重量份的上述硅氧烷化合物的粘结剂，优选地，使用20重量份～100重量份，最优选地，使用40重量份～80重量份。在使用小于10重量份的粘结剂的情况下，存在涂敷面产生白化现象的问题，使用大于120重量份的粘结剂的情况下，存在防反射效果显著减少的问题。
另一方面，上述防反射涂敷组合物可包含酸催化剂，以促进基于粘结剂对中空二氧化硅粒子进行表面处理，只要是在本领域通常使用的，上述酸催化剂并不受特殊限定，但是优选使用硝酸或盐酸。优选地，相对于100重量份的上述中空二氧化硅粒子，使用0.1重量份～20重量份的上述酸催化剂。
优选地，在制备上述防反射涂敷组合物时的pH为2～9范围，更加优选地，为3～8，最优选地，为4～7范围，而这对接触角的调节方面有利。
为了调节上述防反射涂敷组合物的pH，还可以包含pH调节剂。如果组合物内的OH-粒子增多，则可以通过上述pH调节剂来减小对于水的接触角，作为上述pH调节剂，使用氨、有机胺类、金属氢氧化物(LiOH、KOH、NaOH)溶液等为佳。
防反射膜
本发明提供防反射膜，上述防反射膜包含上述防反射涂敷组合物涂敷于基材表面而形成的涂敷层。
上述基材可以使用适用于透明高分子树脂等通常的液晶显示设备等的多种基板，具体地，作为上述基材可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET，polyethyleneterephthalate)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN，polyethylenenaphthalate)、聚醚砜(PES，polyethersulfone)、聚碳酸酯(PC，Poly carbonate)、聚丙烯(PP，poly propylene)及降冰片烯类树脂等。
作为上述基材的材质，在使用聚对苯二甲酸乙二醇酯的情况下，聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的厚度为约10μm至约200μm，更加优选地，为约20μm至100μm以内。如果透明基材的厚度小于约10μm，则在基材的机械性强度方面存在问题，如果透明基材的厚度大于约200μm，则存在作为触控面板用时，存在无法实现提高点击点特性的情况。
优选地，借助上述防反射涂敷组合物形成的涂敷层的表面对于水的接触角为40°～80°。如果上述对于水的接触角小于40°，则保护膜等不好分离，且在耐污染性方面存在问题，如果对于水的接触角大于80°，则由于涂敷层的表面的附着力存在问题，使得触控面板等的适用变得困难。
并且，借助上述防反射涂敷组合物形成的涂敷层的折射率在1.20～1.25范围。
并且，优选地，上述涂敷层的厚度为1nm～1000nm，更优选地，为10nm～500nm。在上述涂敷层的厚度小于1nm的情况下，存在防反射效果甚微的问题，在涂敷层的厚度大于1000nm的情况下，存在涂敷层的附着性变差的问题。
由于本发明的防反射膜的透射率为94％以上，视觉反射率在0.5％～2.0％范围内，因而可以呈现出优秀的防反射效果。
防反射膜的制备方法
本发明的防反射膜的制备方法，其特征在于，包括：相对于100重量份的由上述化学式1表示的硅烷化合物，聚合0.1重量份～20重量份的由上述化学式2表示的有机硅烷化合物来制备粘结剂的步骤；在中空二氧化硅粒子中添加上述粘结剂和酸催化剂来制备包含进行表面处理的中空二氧化硅粒子的涂敷组合物的步骤；在基材膜的至少一面涂敷上述涂敷组合物的步骤；以及对已涂敷的上述涂敷组合物进行热处理的步骤。
如果上述粘结剂在溶剂内，在酸催化剂条件下，相对于100重量份的由上述化学式1表示的硅烷化合物，混合0.1重量份～20重量份的由上述化学式2表示的有机硅烷化合物，则可以通过脱水及聚合反应来制备成硅氧烷化合物。
所制备的上述粘结剂在酸催化剂条件下，在溶剂内与中空二氧化硅粒子进行混合，从而适用于上述中空二氧化硅粒子的表面处理。如此，对中空二氧化硅粒子的表面进行处理，从而可以更加降低折射率。上述粘结剂与中空二氧化硅粒子在20℃～40℃条件下，优选地，混合约5小时～50小时，更加优选地，混合10小时～40小时，最优选地，以搅拌的方式混合20小时～30小时。
另一方面，优选地，涂敷组合物如上所述，相对于100重量份的中空二氧化硅粒子，包含10重量份～120重量份的粘结剂以及0.1重量份～20重量份的酸催化剂。
并且，在制备涂敷组合物时，优选地，将pH调节为2～9范围，更加优选地，为3～8，最优选地，为4～7范围。并且，为了调节上述涂敷组合物的pH，可以使用pH调节剂等，作为上述pH调节剂，可以使用氨、有机胺类及金属氢氧化物(LiOH、KOH、NaOH)溶液等。
将借助上述混合来获得的涂敷组合物涂敷于基材膜的至少一面，上述涂敷可以使用选自蚀刻(gravure)涂敷法、槽模(slot die)涂敷法、旋涂法、喷涂法、辊涂法及沉积涂敷法中的一种方法，但并不局限于此。
上述涂敷组合物以1nm～1000nm的厚度涂敷于基材膜的一面，并在涂敷有上述涂敷液的状态下，以50℃～200℃进行热处理，从而形成防反射层。更加具体地，可以在100℃～200℃的高温条件下干燥约1分钟～10分钟，从而在除去溶剂之后，在50℃～100℃条件下进行约10小时～100小时的时效处理(aging)，来形成防反射层。
以下，通过本发明的优选实施例及比较例来对本发明的防反射膜进行详细的说明。
以下的实施例及比较例仅仅用于例示本发明，本发明的范围并不局限于下述实施例。
实施例1
1.硅氧烷化合物粘结剂的制备
将26重量份的水、290重量份的异丙醇及9重量份的0.1M HNO3放入反应器内，并搅拌10分钟。然后，将100重量份的四乙氧基硅烷(硅酸四乙酯，TEOS)和0.65重量份的3,3,3-三氟丙基三乙氧基硅烷通过漏斗慢慢投入30分钟。接着，在50℃条件下搅拌2小时之后冷却为常温，之后以200rpm的速度再搅拌24小时，从而获得透明的粘结剂溶液。上述溶液的固体成分显示为6.7重量％，pH确认为2.1。在不经过额外的纯化过程的情况下，将透明的上述溶液使用于下一步骤的涂敷组合物的制备。
2.防反射涂敷组合物的制备
将100重量份的所制备的上述粘结剂溶液、60重量份的数均直径为60nm的中空二氧化硅粒子-甲基异丁酮分散溶胶(20％w/w，日挥触媒化成株式会社，Thrulya 4320)及1重量份的NH4OH放入反应器中，并在常温下搅拌24小时，从而制备出防反射涂敷组合物。所制备的上述防反射涂敷组合物的固体成分体现为3重量％，pH确认为4.2。
3.防反射膜的制备
将所制备的上述防反射涂敷组合物利用迈耶棒(Mayer bar)，以100nm的厚度涂敷于20μm的厚度的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜上后，在130℃条件下干燥2分钟，由此形成反射涂敷层。之后，在60℃的烤箱中进行24小时的时效处理(aging)，从而制备出最终防反射膜。
实施例2
除了使用1.3重量份的3,3,3-三氟丙基三乙氧基硅烷以外，以与上述实施例1相同的方法制备出防反射涂敷组合物及防反射膜。
实施例3
除了使用2.7重量份的3,3,3-三氟丙基三乙氧基硅烷以外，以与上述实施例1相同的方法制备出防反射涂敷组合物及防反射膜。
实施例4
除了使用3.4重量份的3,3,3-三氟丙基三乙氧基硅烷以外，以与上述实施例1相同的方法制备出防反射涂敷组合物及防反射膜。
实施例5
除了使用5.4重量份的3,3,3-三氟丙基三乙氧基硅烷以外，以与上述实施例1相同的方法制备出防反射涂敷组合物及防反射膜。
实施例6
除了使用7.9重量份的3,3,3-三氟丙基三乙氧基硅烷以外，以与上述实施例1相同的方法制备出防反射涂敷组合物及防反射膜。
实施例7
除了使用13.3重量份的3,3,3-三氟丙基三乙氧基硅烷以外，以与上述实施例1相同的方法制备出防反射涂敷组合物及防反射膜。
实施例8
除了使用7.9重量份的3,3,3-三氟丙基三乙氧基硅烷，且在制备涂敷组合物时未使用NH4OH以外，以与上述实施例1相同的方法制备出防反射涂敷组合物及防反射膜。
实施例9
除了使用7.9重量份的3,3,3-三氟丙基三乙氧基硅烷，且在制备涂敷组合物时使用60重量份的60nm的中空二氧化硅粒子-异丙醇分散溶胶(20％w/w，日挥触媒化成株式会社，Thrulya 4110)，并在制备涂敷组合物时未使用NH4OH以外，以与上述实施例1相同的方法制备出防反射涂敷组合物及防反射膜。
比较例1
除了不使用3,3,3-三氟丙基三乙氧基硅烷，并只对四乙氧基硅烷进行缩合聚合来制备粘结剂以外，以与上述实施例1相同的方法制备出防反射涂敷组合物及防反射膜。
比较例2
除了使用29重量份的3,3,3-三氟丙基三乙氧基硅烷以外，以与上述实施例1相同的方法制备出防反射涂敷组合物及防反射膜。
评价
1.涂敷层的折射率测定
利用棱镜耦合器在532nm、632.8nm、830nm波长中测定所制备的上述防反射膜上的涂敷层的折射率，利用柯西(cauchy)色散公式计算550nm条件下的折射率，并将该结果表示于以下表1。
表1
折射率
实施例1 1.23
实施例2 1.23
实施例3 1.23
实施例4 1.23
实施例5 1.23
实施例6 1.23
实施例7 1.24
实施例8 1.23
实施例9 1.23
比较例1 1.26
比较例2 1.24
如上述表1所示，确认了上述涂敷层在使用聚对苯二甲酸乙二醇酯基材的情况下，可以体现折射率的理论性最佳值1.23。
2.对于水的接触角的测定
在上述实施例及比较例的防反射膜的涂敷层表面中测定对于水的接触角，上述测定通过德菲(Dataphysics)公司的OCA200接触角测定仪来进行，并将其结果表示于以下表2。
表2
接触角(°)
实施例1 44
实施例2 47
实施例3 52
实施例4 55
实施例5 58
实施例6 64
实施例7 75
实施例8 69
实施例9 43
比较例1 15
比较例2 95
如上述表2所示，可以确认的是，在实施例的涂敷层中呈现出40°～80°的对于水的接触角，且粘结剂内的3,3,3-三氟丙基三乙氧基硅烷的含量越高，接触角就会越增加。并且，在不使用NH4OH的情况下，确认到由于pH降低，使接触角增加，因此，确认到通过调节包含氟烷基的有机硅烷化合物的含量和涂敷组合物的pH，可以适当调节接触角。
3.透射率及最低反射率的测定
利用柯尼卡美能达(Konica Minolta)公司的CM-5分光亮度计(CM-5Spectrophotometer)来测定了所制备的上述防反射膜的透射率，并且，对防反射膜的背面进行黑色处理之后，测定了视觉反射率和最低反射率。将上述测定结果表示于以下表3。
表3
如上述表3所示，实施例的防反射膜呈现出透射率为94％以上，视觉反射率为0.6％～1.8％，最低反射率为0.6％～1.6％，因此，确认到可以呈现出优秀的防反射特性。
以上，以本发明的实施例为中心进行了说明，但这仅是示例性的，只要是本发明所属技术领域的普通技术人员就会理解可以由此进行多种变形及均等的其他实施例。因此，本发明的真正的技术保护范围应根据发明要求保护范围进行判断。

Claims (13)

1.一种防反射涂敷组合物，其特征在于，包含粘结剂、pH调节剂和中空二氧化硅粒子，所述粘结剂是相对于100重量份的由下述化学式1表示的硅烷化合物，使用5.4重量份～7.9重量份的由下述化学式2表示的有机硅烷化合物进行聚合而成的，
化学式1：
R1 xSi(OR2)4-x，
在所述化学式1中，R1为碳数1～10的烷基、碳数6～10的芳基或碳数3～10的烯基，R2为碳数1～6的烷基，x表示0≤x＜4的整数；
化学式2：
R3 ySi(OR4)4-y，
在所述化学式2中，R3为碳数1～12的氟烷基，R4为碳数1～6的烷基，y表示0＜y＜4的整数；
其中所述pH调节剂包括选自氨、有机胺类、氢氧化铵、金属氢氧化物溶液中的一种及其组合；
其中所述组合物具有3～8的pH。
2.根据权利要求1所述的防反射涂敷组合物，其特征在于，由所述化学式1表示的硅烷化合物为选自四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四仲丁氧基硅烷、四叔丁氧基硅烷、三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、异丁基三乙氧基硅烷、环己基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷及二苯基二乙氧基硅烷中的一种或两种以上的化合物。
3.根据权利要求1所述的防反射涂敷组合物，其特征在于，由所述化学式2表示的有机硅烷化合物为选自三氟甲基三甲氧基硅烷、三氟甲基三乙氧基硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷、三氟丙基三乙氧基硅烷、九氟丁基乙基三甲氧基硅烷、九氟丁基乙基三乙氧基硅烷、九氟己基三甲氧基硅烷、九氟己基三乙氧基硅烷、十三氟辛基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷及十七氟癸基三乙氧基硅烷中的一种或两种以上的化合物。
4.根据权利要求1所述的防反射涂敷组合物，其特征在于，所述化学式1的x为0、1或2的整数。
5.根据权利要求1所述的防反射涂敷组合物，其特征在于，所述化学式2的R3表示碳数为3～5的氟烷基。
6.根据权利要求1所述的防反射涂敷组合物，其特征在于，所述中空二氧化硅粒子的数均直径在1nm～1000nm范围。
7.一种防反射膜，形成有在基材表面涂敷选自权利要求1至6中任一项所述的涂敷组合物的涂敷层，其特征在于，所述涂敷层的表面的对于水的接触角为58°～64°；其中所述涂敷层的折射率在1.20～1.25范围。
8.根据权利要求7所述的防反射膜，其特征在于，所述涂敷层的厚度为1nm～1000nm。
9.根据权利要求7所述的防反射膜，其特征在于，透射率为94％以上，视觉反射率在0.5％～2.0％范围。
10.一种触控面板，其特征在于，包含权利要求7的防反射膜。
11.一种防反射膜的制备方法，其特征在于，包括：
相对于100重量份的由下述化学式1表示的硅烷化合物，聚合5.4～7.9重量份的由下述化学式2表示的有机硅烷化合物来制备粘结剂的步骤，
在中空二氧化硅粒子添加所述粘结剂、pH调节剂和酸催化剂来制备包含进行了表面处理的中空二氧化硅粒子的涂敷组合物，并将组合物的pH调节为3～8的步骤，
在基材膜的至少一面涂敷所述涂敷组合物的步骤，以及
对已涂敷的所述涂敷组合物进行热处理的步骤；
其中所述pH调节剂包括选自氨、有机胺类、氢氧化铵、金属氢氧化物溶液中的一种及其组合；
化学式1：
R1 xSi(OR2)4-x
在所述化学式1中，R1为碳数1～10的烷基、碳数6～10的芳基或碳数3～10的烯基，R2为碳数1～6的烷基，x表示0≤x＜4的整数；
化学式2：
R3 ySi(OR4)4-y
在所述化学式2中，R3为碳数1～12的氟烷基，R4为碳数1～6的烷基，y表示0＜y＜4的整数。
12.根据权利要求11所述的防反射膜的制备方法，其特征在于，所述涂敷组合物是通过在中空二氧化硅粒子添加所述粘结剂和酸催化剂，并在20℃～40℃的条件下搅拌5小时～50小时来制备。
13.根据权利要求11所述的防反射膜的制备方法，其特征在于，所述热处理在50℃～200℃的温度条件下进行。
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