CN104755174B - 成膜装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种成膜装置，其能够在基板上形成膜质良好的膜，能够将溶液有效地用于成膜处理，能够实现装置整体的小型化。因此，在本发明的成膜装置中，具备喷嘴(1)、第一室(2)、第一气体供给口(3a)、第二室(4)、贯通孔(5)以及喷雾口(10)。从喷嘴(1)喷射的液滴化了的溶液收纳于第一室(2)，通过来自第一气体供给口(3a)的气体，在第一室内(2)内使溶液雾化。雾化后的溶液通过贯通孔(5)从第一室(2)向第二室(4)移动，从设置于第二室(4)的喷雾口(10)朝向基板(50)雾状喷射。

Description

成膜装置
技术领域
本发明涉及在基板上形成膜的成膜装置。
背景技术
作为在基板上形成膜的方法，以往有“射流法”和“喷雾法”。这里，在“射流法”中，将10μm～100μm左右的液滴向基板喷射。与此相对，在“喷雾法”中，将几μm左右的水雾向基板雾状喷射。
另外，在“射流法”中，一般使用通过使气体与溶液碰撞而使该溶液液滴化成几十μm左右的大小的双流体喷嘴。另一方面，在“喷雾法”中，通过超声波振子等将溶液雾化成几μm左右的微小水雾，通过长配管将该雾化的溶液搬运至载置有基板的反应室(或者喷雾口)。
需要说明的是，作为与“射流法”有关的在先文献，例如有专利文献1。另外，作为与“喷雾法”有关的在先文献，例如有专利文献2。
在先技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2007-144297号公报
专利文献2：日本特开2005-307238号公报
然而，在“射流法”中，与溶液碰撞的气体通常需要较大的压力以及流量。因此，液滴的初始速度较大，以该液滴的状态而与加热中的基板碰撞。由于该液滴的直径较大，为100μm～几十μm左右，因此无法获取化学反应所需的热能。由此，在“射流法”中，存在形成在基板上的膜的膜质劣化的问题。
另一方面，在“喷雾法”中，由于向基板雾状喷射雾化成几μm左右的溶液，因此不会产生“射流法”所具有的上述问题。换句话说，在“喷雾法”中，由运载气体搬运的雾化了的溶液向加热后的基板供给。因此，水雾的初始速度小，溶剂在基板表面附近蒸发，故而在“喷雾法中，在基板上形成的膜的膜质提高。
然而，在“喷雾法”中，需要设置用于使溶液雾化的大型机构。因此，应用“喷雾法”的成膜装置存在装置整体大型化的问题。
另外，在应用“喷雾法”的成膜装置中，需要将雾化了的溶液经由长配管搬运至载置有基板的反应室(或者喷雾口)。因此，在该配管内，雾化了的溶液容易凝结。由此，在“喷雾法”中，产生难以将材料(溶液)高效地用于成膜处理的问题。
此外，由于所述配管内的溶液的凝结，导致向基板搬运浓度不均匀的水雾。因此，需要在基板附近的水雾供给部设置对水雾进行整流的机构。由此，在应用了“喷雾法”的成膜装置中，还存在水雾供给部大型化并重型化、难以维护的各问题。
发明内容
发明要解决的课题
因此，本发明的目的在于提供一种成膜装置，该成膜装置能够在基板上形成膜质良好的膜，能够将溶液有效地用于成膜处理，能够实现装置整体的小型化。
用于解决课题的手段
为了实现上述目的，本发明的成膜装置在基板上形成膜，其特征在于，具备：喷嘴，其喷射液滴化了的溶液；第一室，其能够收纳从所述喷嘴喷射的液滴化了的所述溶液；第一气体供给口，其喷射与存在于所述第一室内的所述溶液碰撞的气体；第二室，其与所述第一室邻接；贯通孔，其贯穿设置于存在于所述第一室与所述第二室之间的壁面，并将通过受到从所述第一气体供给口喷射的所述气体的碰撞而雾化了的所述溶液从所述第一室向所述第二室引导；以及喷雾口，其以面向配置在所述第二室的外侧的所述基板的方式配设于所述第二室，并对所述基板进行雾化后的所述溶液的雾状喷射。
发明效果
本发明的成膜装置包括：喷嘴，其喷射液滴化了的溶液；第一室，其能够收纳从所述喷嘴喷射的液滴化了的所述溶液；第一气体供给口，其喷射与存在于所述第一室内的所述溶液碰撞的气体；第二室，其与所述第一室邻接；贯通孔，其贯穿设置于存在于所述第一室与所述第二室之间的壁面，并将通过受到从所述第一气体供给口喷射的所述气体的碰撞而雾化了的所述溶液从所述第一室向所述第二室引导；以及喷雾口，其以面向配设在所述第二室的外侧的所述基板的方式配设于所述第二室，并对所述基板进行雾化后的所述溶液的雾状喷射。
这样，在本发明的成膜装置中，通过使由喷嘴喷射的液滴化了的溶液与从第一气体供给口喷出的气体碰撞，由此能够在第一室内进行雾化。由此，射流状的溶液不与基板直接接触就能够进行溶液的雾化，由于向基板雾状喷出该雾状的溶液，因此能够在大气中进行类似CVD的成膜。由此，在该成膜装置中，能够在基板上形成膜质良好的膜。
此外，在本发明的成膜装置中，在溶液的对于基板的喷雾口附近的第一室中，使射流状的溶液雾化。由此，与以往的采用“喷雾法”技术的成膜装置相比，能够大幅缩短雾状的溶液的搬运距离。由此，能够抑制水雾状的溶液在移动中途凝结。由此，在本发明的成膜装置中，能够将溶液有效地用于成膜处理，能够向基板雾状喷出浓度稳定的溶液。
此外，在本发明的成膜装置中，在喷出射流状的溶液之后，通过使气体与熔液碰撞而实施溶液的雾化。换句话说，在本发明的成膜装置中，用于进行溶液的雾化的结构极其简易，也不需要超声波振子等。由此，在本发明的成膜装置中，能够实现装置整体的小型化。另外，由于结构简易，还提高了本发明的成膜装置的维护性。
通过以下详细说明与附图而进一步明确本发明的目的、特征、方式以及优点。
附图说明
图1是示出本实施方式的成膜装置的主要部分的结构的剖视图。
图2是示出从上方观察本实施方式的成膜装置的主要部分的结构的状态的俯视图。
图3是示出第一室2以及与该第一室2连接的构成部件的结构的放大剖视图。
图4是示出第二室4以及与该第二室4连接的构成部件的结构的放大剖视图。
图5是示出第三室12以及与该第三室12连接的构成部件的结构的放大剖视图。
图6是示出第四室8以及与该第四室8连接的构成部件的结构的放大剖视图。
图7是用于对利用了清洗液的喷嘴1的清洗处理进行说明的放大剖视图。
具体实施方式
本发明涉及在大气中在基板上形成膜的成膜装置。在大气中的开放空间配置基板，使图1所示的溶液喷雾结构体位于该基板的上方的开放空间。以下，根据示出本发明的实施方式的附图对本发明进行具体说明。
<实施方式>
图1是示出本实施方式的成膜装置的主要部分(更具体而言，是向基板雾状喷出溶液的溶液喷雾部附近)的结构的剖视图。这里，图1中示出了X-Y-Z方向。另外，图2是示出从图1的上方观察图1所示的结构时的构成的俯视图。这里，图2示出X-Y方向。另外，在图2中，为了简化附图，省略各构成部件16、17、60的图示。
另外，图3是示出图1所示的、第一室2以及与该第一室2连接的构成部件1、3等的结构的放大剖视图。另外，图4是示出图1所示的、第二室4以及与该第二室4连接的构成部件6的结构的放大剖视图。另外，图5是示出图1所示的、第三室12以及与该第三室12连接的构成部件14的结构的放大剖视图。此外，图6是示出图1所示的、第四室8以及与该第四室8连接的构成部件7的结构的放大剖视图。
以下，使用图1～6对本实施方式的成膜装置的结构进行详细说明。
如图1所示，上述溶液喷雾部包括四个室2、4、8、12，各室2、4、8、12被壁面分隔。换句话说，如图1的构成例所示，各室2、4、8、12的周围被壁面包围，从而形成收纳空间。
在图1的构成例中，第一室2在X方向(图1的右方)上与第二室4邻接。另外，第二室4在X方向(图1中为右方)上与第三室12邻接。换句话说，在X方向上，第一室2、第二室4以及第三室12依次邻接。另一方面，第一室2在-Z方向(图1的下方)上与第四室8邻接。
首先，参照图1、2、3对包括第一室2的结构进行说明。
如图2所示，第一室2具有在Y方向上延伸设置的长方形的俯视形状。如图1、3所示，第一室2的周围被壁面包围，从而形成收纳空间。换句话说，通过在第一室2的上下左右配置壁面，由此在第一室2中形成封闭的空间。
这里，如图1、3所示，在与第二室4邻接的第一室2的壁面上，贯穿设置有将第一室2与第二室4连接的贯通孔5。该贯通孔5既可以是一个，也可以是多个。另外，贯通孔5的开口形状也能够采用任意形状，作为一例，可以采用在Y方向上延伸设置的长方形(狭缝状)。
如图1、3所示，配设有喷射液滴化了的溶液的喷嘴1。这里，从喷嘴1的喷射口1a喷射通过“射流法”而液滴化了的溶液。换句话说，从喷嘴1喷射几十μm左右大小的液滴。需要说明的是，作为喷嘴1，例如能够采用上述的双流体喷嘴。需要说明的是，该溶液中含有在基板50上形成的膜的原材料。
这里，在图1、3的构成例中，在喷嘴1的中途的路径上配设有切换阀16，在该切换阀16上连接有清洗液供给喷嘴17。从清洗液供给喷嘴17的清洗液供给口喷射对喷嘴1内进行清洗的清洗液。
当将切换阀16向一个方向切换时，仅清洗液供给喷嘴17的清洗液供给口关闭，在喷嘴1内仅流通有溶液。与此相对，当将切换阀16向另一个方向切换时，清洗液供给喷嘴17的清洗液供给口打开，切换阀16的上游侧的喷嘴1的流体路径关闭。由此，在该情况下，在切换阀16的下游侧的喷嘴1内仅流通有从清洗液供给喷嘴17的清洗液供给口喷射的清洗液。
在第一室2的上面侧的壁面贯穿设置有多个孔，在该孔中插通有喷嘴1的前端部(喷嘴1的比切换阀16靠下游侧的部分)。这里，如图2所例示，既可以是多个喷嘴1与第一室2的上面连接(在图2的构成例中，喷嘴1彼此以隔开规定间隔的方式沿着Y方向排成一列)，也可以是一个喷嘴1与第一室2的上面连接。另外，在喷嘴1与第一室2连接的状态下，确保贯穿设置于第一室2的上面的孔(喷嘴1的插入孔)的密封状态。
喷嘴1的前端部贯通第一室2的上面侧的壁面，喷嘴1的喷射口1a存在于第一室2内。从喷嘴1的喷射口1a朝向第一室2内喷射液滴化(几十μm的大小)了的溶液，喷射出的该溶液收纳于第一室2内。
如图1、2、3所示，第一气体供给喷嘴3配设有多个。从该第一气体供给喷嘴3的第一气体供给口3a喷射气体。
在第一室2的左侧的壁面贯穿设置有多个孔，在该孔中插通有第一气体供给喷嘴3的前端部。这里，如图2例示那样，既可以使多个第一气体供给喷嘴3与第一室2的侧面连接(在图2的构成例中，第一气体供给喷嘴3彼此以隔开规定间隔的方式沿着Y方向配设)，也可以是一个第一气体供给喷嘴3与第一室2的侧面连接。
这里，从第一气体供给喷嘴3的第一气体供给口3a喷射的气体与存在于第一室2内的液滴化了的溶液碰撞。优选为，使第一气体供给口3a朝向从喷嘴1喷射的溶液的方向，以使得从喷嘴1喷射的溶液与从第一气体供给喷嘴3喷射的气体碰撞。
需要说明的是，在第一气体供给喷嘴3与第一室2连接的状态下，确保贯穿设置于第一室2的侧面的孔(第一气体供给喷嘴3的插通孔)的密封状态。
通过使从喷嘴1喷射的溶液与从第一气体供给喷嘴3喷射的气体碰撞，液滴化状态的溶液被雾化。换句话说，通过该碰撞而在第一室2内生成几μm左右大小的雾状的溶液。
如上所述，在第一室2的右侧的侧面贯穿设置有与第二室4相通的贯通孔5。这里，优选为，上述雾化了的溶液随着从第一气体供给喷嘴3喷射的气体引导至该贯通孔5。换句话说，优选为，在从第一气体供给喷嘴3喷射的气体的喷射方向的延长线上配设有贯通孔5。
另外，如图1、3所示，在第一室2的上面侧的壁面内配设有能够进行温度调节的温度调节部15。该温度调节部15配设在喷嘴1的前端部附近，能够使该前端部成为规定温度。
接下来，参照图1、2、4，对包括第二室4的结构进行说明。
如图2所示，与第一室2相同，第二室4具有在Y方向上延伸设置的长方形的俯视形状(在图2的构成例中，第一室2的Y方向的尺寸与第二室4的Y方向的尺寸相同，且端部对齐)。如图1、4所示，在第二室4中，除下面之外的周围被壁面包围，从而形成收纳空间。换句话说，通过在第二室4的上方及左右配置壁面，从而在第二室4中形成除下面以外封闭的空间。
在第二室4的下面形成有开口的喷雾口10。该喷雾口10隔着规定距离面向在第二室4的外侧载置于基板载置部60的基板50的主面(参照图1)。由此，从喷雾口10向基板50的主面雾状喷出雾化了的溶液。该喷雾口10是在Y方向上延伸的长方形的开口部(狭缝状)。
这里，如上所述，在与第一室2邻接的第二室4的壁面贯穿设置有将第一室2与第二室4连接的贯通孔5。
如图1、2、4所示，第二气体供给喷嘴6配设有多个。从该第二气体供给喷嘴6的第二气体供给口6a喷射气体。
在第二室4的上面侧的壁面贯穿设置有多个孔，在该孔中插通有第二气体供给喷嘴6的前端部。这里，如图2例示那样，既可以是多个第二气体供给喷嘴6与第二室4的上面连接(在图2的构成例中，第二气体供给喷嘴6彼此以隔开规定间隔的方式沿着Y方向排成一列)，也可以是一个第二气体供给喷嘴6与第二室4的上面连接。另外，在第二气体供给喷嘴6与第二室4连接的状态下，确保贯穿设置于第二室4的上面的孔(第二气体供给喷嘴6的插通孔)的密封状态。
在第一室2内雾化后的溶液通过贯通孔5而搬运至第二室4内并收纳。然后，从该第二气体供给口6a喷射的气体将收纳于第二室2内的雾化后的溶液向喷雾口10侧引导。
接下来，参照图1、2、5对包括第三室12的结构进行说明。
如图2所示，与第一室2以及第二室4相同，第三室12具有在Y方向上延伸设置的长方形的俯视形状(在图2的构成例中，第一室2的Y方向的尺寸、第二室4的Y方向的尺寸以及第三室12的Y方向的尺寸相同，且各自的端部对齐)。如图1、5所示，在第三室12中，除下面之外的周围被壁面包围，从而形成收纳空间。换句话说，通过在第三室12的上方及左右配设壁面，由此在第三室12形成有除下面以外封闭的空间。
在第三室12的下面形成有开口的排气口11。该排气口11隔开规定距离面向在第三室12的外侧载置于基板载置部60的基板50的主面(参照图1)。由此，从排气口11抽吸存在于基板50的上方的未反应的液体、气体等。该排气口11是在Y方向上延伸的长方形的开口部(狭缝状)。如图1所示，在喷雾口10的右侧相邻设置有排气口11，喷雾口10的高度位置与排气口11的高度位置相同。
如图1、2、5所示，排气喷嘴14配设有多个。从该排气喷嘴14的排气孔14a作用抽吸力。
在第三室12的上面侧的壁面贯穿设置有多个孔，在该孔中插入有排气喷嘴14的前端部。这里，如图2例示那样，既可以是多个排气喷嘴14与第三室12的上面连接(在图2的构成例中，排气喷嘴14彼此以隔开规定间隔的方式沿着Y方向排成一列)，也可以是一个排气喷嘴14与第三室12的上面连接。另外，在排气喷嘴14与第三室12连接的状态下，确保贯穿设置于第三室12的上面的孔(排气喷嘴14的插通孔)的密封状态。
需要说明的是，如图1、5所示，在第三室12内配设有向斜上方向延伸设置的分隔板13。虽然该分隔板13的一端与第三室12的一个侧面连接，但该分隔板13的另一端不与第三室12的另一个侧面连接。
通过来自排气喷嘴14的抽吸力从排气口11抽取存在于基板50上方的气体、液体。由于该分隔板13的存在，从而抑制存在于第三室12内的比分隔板13靠上方的、从排气口11抽吸的气体及液体等向排气口11侧落下。
接下来，参照图1、2、6对包括第四室8的结构进行说明。
第四室8配置在第一室2的下面侧，与该第一室2相同，具有在Y方向上延伸设置的长方形的俯视形状(第一室2的Y方向的尺寸与第四室8的Y方向的尺寸相同，且端部对齐)。如图1、6所示，第四室8的周围被壁面包围，从而形成收纳空间。换句话说，通过在第四室8的上下左右配置壁面，由此在第四室8中形成封闭的空间。
在第四室8的下面侧的壁面贯穿设置有第三气体供给口9。该第三气体供给口9隔开规定距离面向在第四室8的外侧载置于基板载置部60的基板50的主面(参照图1)。由此，从第三气体供给口9朝向基板50的上方喷出气体。该第三气体供给口9是在Y方向上延伸的长方形的开口部(狭缝状)。如图1所示，在喷雾口10的左侧相邻设置有第三气体供给口9，喷雾口10的高度位置与第三气体供给口9的高度位置相同。
如图1、2、6所示，第三气体供给喷嘴7配设有多个。从第三气体供给喷嘴7的喷出口7a朝向第四室8内喷出气体。
在第四室8的侧面侧的壁面贯穿设置有多个孔，在该孔中插通有第三气体供给喷嘴7的前端部。这里，如图2例示那样，既可以是多个第三气体供给喷嘴7与第四室8的侧面连接(在图2的构成例中，第三气体供给喷嘴7彼此以隔开规定间隔的方式沿着Y方向排列)，也可以是一个第三气体供给喷嘴7与第四室8的侧面连接。另外，在第三气体供给喷嘴7与第四室8连接的状态下，确保贯穿设置于第四室8的侧面的孔(第三气体供给喷嘴7的插通孔)的密封状态。
从第三气体供给喷嘴7喷射的气体收纳在第四室8内，从贯穿设置于该第四室8的第三气体供给口9朝向基板50的上表面喷射。
需要说明的是，如图1所示，在成膜装置中设置有载置基板50的基板载置部60。该基板载置部60在载置有基板50的状态下，在图1的左右方向(X方向)上移动(只要是水平方向上的移动即可)。换句话说，一边从喷雾口10沿垂直方向朝基板50雾状喷出雾化后的溶液，一边通过基板载置部60的上述移动使该基板50在水平方向上移动。另外，在基板载置部60配设有加热器。因此，通过该加热器将载置于基板载置部60的基板50加热至规定的温度(成膜温度)。
接下来，对成膜动作进行说明。
在基板载置部60上载置基板50。然后，通过使基板载置部60在X方向上移动，由此使基板50移动至喷雾口10的下方。这里，通过配设于基板载置部60的加热器将基板50加热至成膜温度。
另一方面，从喷嘴1向第一室2内喷出射流状的溶液(液滴化了的溶液)。这里，切换阀16向一个方向切换，清洗液供给喷嘴17的清洗液供给口关闭。由此，在喷嘴1内的液体路径中仅流通有溶液。从第一气体供给口3a向存在于第一室2内的射流状的溶液喷出气体。
通过使来自第一气体供给口3a的气体与射流状的溶液碰撞，由此在第一室2内生成雾状的溶液。换句话说，通过该碰撞使射流状的溶液的颗粒直径进一步减小，从而使溶液雾化。
雾状的溶液随着从第一气体供给口3a喷出的气体，穿过贯通孔5向第二室4内引导。在第二室4内，雾状的溶液随着从第二气体供给口6a喷出的气体向喷雾口10的方向引导。然后，从喷雾口10向基板50的上表面雾状喷出雾状的溶液。
这里，通过来自排气口11的抽吸力，产生从喷雾口10朝向排气口11的流动。由此，从喷雾口10雾状喷出的雾状的溶液在基板50的上表面侧生成朝向排气口11侧移动的流动。从排气口11抽吸的气体以及液体经由第三室12内以及排气喷嘴14向外部排出。
另外，在雾状喷出来自喷雾口10的雾状的溶液时，从第三气体供给口9朝向基板50的上表面喷出气体。这里，如上所述，从第三气体供给口9喷出的气体从第三气体供给喷嘴7向第四室8内供给。通过喷出来自该第三气体供给口9的气体，能够防止从喷雾口10雾状喷出的溶液向比第三气体供给口9靠左侧的部分渗漏。换句话说，来自第三气体供给口9作为的气体相对于从喷雾口10雾状喷出的溶液，作为“隔离幕”而发挥功能。
通过来自排气口11的抽吸力产生从第三气体供给口9朝向排气口11的流动。由此，从第三气体供给口9喷射的气体在基板50的上表面侧产生朝向排气口11侧移动的流动。
一边进行上述来自喷雾口10的溶液的雾状喷出、来自排气口11的抽吸以及来自第三气体供给口9的气体的喷出，一边使基板载置部60在X方向上移动。由此，从喷雾口10雾状喷出的溶液与大气发生反应，在遍及加热状态的基板50的上表面整体而形成均匀的膜。
这里，从喷嘴1喷出的溶液根据所形成的膜而任意选择。另外，从喷嘴3、6、7喷出的气体也能够任意选择。
例如，在从喷嘴1喷射与氧的反应性优异的溶液的情况下，优选为，从第一气体供给口3a以及第二气体供给口6a喷射非活性气体，从第三气体供给口9喷射氧化剂(例如，包括水、氧或者臭氧等的流体)。由此，能够抑制该溶液在第一室2以及第二室4内被氧化，能够在喷雾口10与基板50之间促进雾状喷出的溶液与氧化剂的反应。
另外，例如，在从喷嘴1喷出与氧的反应性优异的溶液的情况下，也可以从第一气体供给口3a喷射非活性气体，从第二气体供给口6a喷射氧化剂(例如，氧、臭氧等)。需要说明的是，在这种情况下，也可以从第三气体供给口9喷射例如空气。由此，能够抑制该溶液在第一室2内被氧化，能够促进雾化后的溶液与氧化剂的反应，并且在发生氧化反应的同时朝向基板50雾状喷出溶液。
如上所述，在本实施方式的成膜装置中，具备能够收纳从喷嘴1喷射的液滴化了的溶液的第一室2。并且，具备喷射与存在于第一室2内的溶液碰撞的气体的第一气体供给口3a、以及与第一室2邻接的第二室4。这里，在存在于第一室2与第二室4之间的壁面上贯穿设置有供雾化后的溶液流动的贯通孔5。并且，该成膜装置具有喷雾口10，该喷雾口10以面向配置在第二室4的外侧的基板50的方式配设于第二室4，并向基板50雾状喷出雾化后的溶液。
这样，在该成膜装置中，通过使由喷嘴1喷射的液滴化了的溶液与从第一气体供给口3a喷出的气体碰撞，由此能够在第一室2内进行雾化。由此，射流状的溶液不与基板50直接接触就能够实现溶液的雾化，由于向基板50雾状喷出该雾状的溶液，因此能够在大气中进行类似CVD的成膜。由此，在该成膜装置中，能够在基板50上形成膜质良好的膜。
此外，在该成膜装置中，在溶液的针对基板50的喷雾口10附近的第一室2内，使射流状的溶液雾化。由此，与以往的采用“喷雾法”技术的成膜装置相比，能够大幅缩短雾状溶液的搬运距离。由此，能够抑制雾状的溶液在移动中途凝结。由此，在本发明的成膜装置中，能够将溶液有效地用于成膜处理，能够向基板50雾状喷出浓度稳定的溶液。
此外，在本发明的成膜装置中，通过在喷出射流状的溶液之后，使气体与熔液碰撞，由此实施溶液的雾化。换句话说，在本发明的成膜装置中，用于进行溶液的雾化的结构非常简单，也不需要超声波振子等。由此，在本发明的成膜装置中，能够实现装置整体的小型化。另外，基于该简易结构，本发明的成膜装置的维护性也提高。
换句话说，在本发明的成膜装置中，能够同时实现通过喷雾法而获得的膜质的提高、以及通过射流法获得的简易结构及高维护性。
另外，通过第一室2，还能够防止从喷嘴1喷出的大液滴的溶液向周围飞散。另外，通过第二室4，还能够防止雾状的溶液向周围飞散。另外，通过第四室8内，还能够防止气体向周围飞散。此外，通过第三室12，还能够进行综合了液体、气体的排气处理。
另外，在本发明的成膜装置中，还具备第二气体供给口6a，该第二气体供给口6a喷射将存在于第二室4的雾化后的溶液向喷雾口10引导的气体。因此，能够产生将雾化后的溶液向基板50侧供给的流动。
另外，在本发明的成膜装置中，还具备与喷雾口10相邻配设的排气口11。因此，产生从喷雾口10朝向排气口11的流动。由此，从喷雾口10雾状喷出的雾状的溶液在基板50的上表面侧形成朝向排气口11侧移动的流动。
另外，在本发明的成膜装置中，还具备与喷雾口10相邻配设且喷射气体的第三气体供给口9。能够防止从喷雾口10雾状喷出的溶液向比第三气体供给口9靠左侧的部分渗漏。
这里，喷雾口10、排气口11以及第三气体供给口9均呈在Y方向上延伸的狭缝状。因此，能够从喷雾口10均匀地雾状喷出收纳于第二室4的雾状的溶液，能够从第三气体供给口9均匀地喷射收纳于第四室8内的气体，来自排气口11的排气也沿着Y方向均匀地实施。
另外，在本发明的成膜装置中，喷嘴1以贯通第一室2的上侧的壁面的方式配设。并且，在供喷嘴1贯通的该壁面内配设有温度调节部15。
因此，能够将喷嘴1的喷射口1a附近保持为规定的温度。由此，能够防止喷嘴1的喷射口1a附近处的溶液的凝结，能够防止喷嘴1的堵塞。
另外，在本发明的成膜装置中，还具备在水平方向上移动的基板载置部60。由此，能够在将溶液喷雾侧的构成部件固定的状态下，进行对于大面积的基板50的成膜。需要说明的是，由于在基板载置部60配设有加热器，因此还能够加热所载置的基板50。
需要说明的是，作为本实施方式的成膜装置，还能够采用下述这样的结构。
换句话说，将由喷嘴1、切换阀16以及清洗液供给喷嘴17构成的结构体设为沿垂直以及水平方向移动的移动机构。并且，在进行喷嘴1的清洗时进行以下动作。
首先，通过上述移动机构使上述结构体向图1的上方移动，将喷嘴1的前端部从第一室2的上侧的壁面拉出。然后，通过上述移动机构使上述结构体沿水平方向等移动。由此，如图7所示，使喷嘴1的前端部位于配置在成膜处理区域外的容器30的上方。
然后，将切换阀16向另一方向切换，打开清洗液供给喷嘴17的清洗液供给口，在切换阀16的上游侧关闭喷嘴1的流体路径。由此，形成供给清洗液的清洗液供给口与喷嘴1内的流体通路连接的状况。
然后，当使清洗液流向清洗液供给喷嘴17时，清洗液从清洗液供给口向喷嘴1内的流体通路流动，由此，能够清洗因喷嘴1内的流体通路中的溶液而引起的污染。需要说明的是，从喷嘴1的喷射口1a输出的清洗液收纳在容器30内。
在进行喷嘴1的清洗后，当进行成膜处理时，通过上述移动机构使上述结构体移动，如图1所示那样，使喷嘴1插通在第一室2的上侧的壁面贯穿设置的孔。然后，当将切换阀16向另一方向切换时，仅清洗液供给喷嘴17的清洗液供给口关闭，形成在喷嘴1内仅流通有溶液的流体路径。
通过上述移动机构以及清洗机构，能够适当地清洗因成膜处理而被污染的喷嘴1。
在本发明中，在大气中的开放空间内配置图1所示的溶液喷雾结构体，此外，通过基板载置部60的水平方向上的移动，从而溶液喷雾结构体与基板50之间的空间并非封闭的空间。并且，在本发明中，由于排气口11的存在，在溶液喷雾结构体与基板50之间的空间(换句话说，在开放空间中)产生一定的气流。
由此，在本发明的成膜装置中，能够防止在溶液喷雾结构体与基板50之间的空间内附着有生成物等颗粒。由此，在该成膜装置中，还能够防止因颗粒的混入而导致所形成的膜的膜质恶化。
另外，由于溶液喷雾结构体与基板50之间的空间是开放的，因此，也容易进行溶液喷雾结构体的面向基板50的部分的维护。此外，从第二气体供给口6a喷射将雾化后的溶液从第二室4向喷雾口10(换句话说是基板50)引导的气体。由此，能够增大溶液喷雾结构体与基板50之间的距离，上述效果将更加显著。
对于本发明而言，虽进行了详细说明，但上述说明在全部方面仅是例示，本发明不限定于此。应解释为，在不脱离本发明的范围的情况下能够想到未例示的无数变形例。
附图标记说明
1：喷嘴
1a：喷射口
2：第一室
3：第一气体供给喷嘴
3a：第一气体供给口
4：第二室
5：贯通孔
6：第二气体供给喷嘴
6a：第二气体供给口
7：第三气体供给喷嘴
8：第四室
9：第三气体供给口
10：喷雾口
11：排气口
12：第三室
13：分隔板
14：排气喷嘴
15：温度调节部
16：切换阀
17：清洗液供给喷嘴
30：容器
50：基板
60：基板载置部

Claims (13)

1.一种成膜装置，其在基板上形成膜，所述成膜装置的特征在于，具备：
喷嘴，其喷射液滴化了的溶液；
第一室，其能够收纳从所述喷嘴喷射的液滴化了的所述溶液；
第一气体供给口，其喷射与存在于所述第一室内的所述溶液碰撞的气体，从而使所述溶液雾化；
第二室，其与所述第一室邻接；
贯通孔，其贯穿设置于存在于所述第一室与所述第二室之间的壁面，并将通过受到从所述第一气体供给口喷射的所述气体的碰撞而雾化了的所述溶液从所述第一室向所述第二室引导；以及
喷雾口，其以面向配置在所述第二室的外侧的所述基板的方式配设于所述第二室，并对所述基板进行雾化后的所述溶液的雾状喷射。
2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，
所述成膜装置还具备第二气体供给口，该第二气体供给口喷射将存在于所述第二室内的雾化后的所述溶液向所述喷雾口引导的气体。
3.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，
所述成膜装置还具备排气口，该排气口面向所述基板，且以在所述喷雾口的一侧面侧与该喷雾口相邻的方式配设，并且进行排气。
4.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，
所述成膜装置还具备第三气体供给口，该第三气体供给口面向所述基板，且以在所述喷雾口的另一侧面侧与该喷雾口相邻的方式配设，并且喷射气体。
5.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，
所述喷雾口是长方形的开口部。
6.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于，
所述排气口是长方形的开口部。
7.根据权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，
所述第三气体供给口是长方形的开口部。
8.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，
所述喷嘴以贯通所述第一室的壁面的方式配设，
在供所述喷嘴贯通的所述壁面上配设有能够进行温度调节的温度调节部。
9.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，
所述喷嘴能够移动，
在所述喷嘴上配设有向所述喷嘴内的流体通路供给清洗液的清洗液供给口。
10.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，
所述成膜装置还具备基板载置部，该基板载置部载置所述基板，且相对于所述喷雾口在水平方向上移动。
11.根据权利要求10所述的成膜装置，其特征在于，
在所述基板载置部配设有加热器。
12.根据权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，
从所述喷嘴喷射与氧发生反应的所述溶液，
从所述第一气体供给口喷射非活性气体，
从所述第二气体供给口喷射非活性气体，
从所述第三气体供给口喷射氧化剂。
13.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，
从所述喷嘴喷射与氧发生反应的所述溶液，
从所述第一气体供给口喷射非活性气体，
从所述第二气体供给口喷射氧化剂。
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