KR101764987B1 - 성막 장치 - Google Patents

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히로유키 오리타
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도시바 미쓰비시덴키 산교시스템 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은, 기판상에 막질이 좋은 막을 성막할 수 있고, 용액을 성막 처리에 유효하게 이용할 수 있고, 장치 전체의 소형화를 도모할 수 있는 성막 장치를 제공한다. 그리고, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 스프레이 노즐(1), 제1의 실(2), 제1의 가스 공급구(3a), 제2의 실(4), 관통구멍(5) 및 분무구(10)를 구비하고 있다. 스프레이 노즐(1)로부터 분사되는 액적화된 용액은, 제1의 실(2)에 수용되고, 제1의 가스 공급구(3a)로부터의 기체에 의해, 제1의 실(2) 내에서 용액은 미스트화된다. 미스트화된 용액은, 관통구멍(5)을 통과하여 제1의 실(2)로부터 제2의 실(4)에 이동하고, 제2의 실(4)에 마련된 분무구(10)로부터, 기판(50)을 향하여 분무된다.

Description

성막 장치{FILM-FORMING APPARATUS}
본 발명은, 기판에 대해 막을 성막하는 성막 장치에 관한 것이다.
기판에 대해 막을 성막하는 방법으로서, 종래, 「스프레이법」과 「미스트법」이 존재한다. 여기서, 「스프레이법」에서는, 10㎛ 내지 100㎛ 정도의 액적(液滴)을, 기판에 대해 분사한다. 이에 대해, 「미스트법」에서는, 수㎛ 정도의 미스트를, 기판에 대해 분무한다.
또한, 「스프레이법」에서는, 용액에 기체(氣體)를 충돌시킴에 의해, 당해 용액을 수십㎛ 정도의 크기로 액적화한, 2류체(二流遞) 스프레이 노즐을 사용하는 것이 일반적이다. 다른 한편, 「미스트법」에서는, 초음파 진동자 등에 의해, 용액을 수㎛ 정도의 미세한 미스트화하고, 기다란 배관을 통하여 당해 미스트화된 용액을, 기판이 재치(載置)되어 있는 반응실(또는 분무구)까지 반송한다.
또한, 「스프레이법」에 관한 선행 문헌으로서, 예를 들면 특허 문헌 1이 존재한다. 또한, 「미스트법」에 관한 선행 문헌으로서, 예를 들면 특허 문헌 2가 존재한다.
일본 특개2007-144297호 공보 일본 특개2005-307238호 공보
그런데, 「스프레이법」에서는, 용액에 충돌시키는 기체는, 통상, 큰 압력 및 유량이 필요하다. 이 때문에, 액적의 초속도(初速度)가 커지고, 당해 액적인 채로 가열 중의 기판에 충돌한다. 당해 액적의 지름은, 100㎛ 내지 수십㎛ 정도로 크기 때문에, 화학 반응에 필요한 열에너지를 수취할 수가 없다. 따라서, 「스프레이법」에서는, 기판에 성막되는 막의 막질이 열화된다는 문제가 있다.
다른 한편, 「미스트법」에서는, 수㎛ 정도로 미스트화된 용액이 기판에 분무되기 때문에, 「스프레이법」이 갖는 상기 문제는 발생하지 않는다. 즉, 「미스트법」에서는, 캐리어 가스로 반송된 미스트화된 용액이, 가열된 기판에 공급된다. 이 때문에, 미스트의 초속도가 작고, 기판 표면 부근에서 용매가 증발하기 때문에, 「미스트법」에서는, 기판에 성막되는 막의 막질이 향상한다.
그러나, 「미스트법」에서는, 용액을 미스트화시키기 위한 큰 기구를 마련할 필요가 있다. 따라서 「미스트법」이 적용된 성막 장치는, 장치 전체의 대형화라는 문제를 갖는다.
또한, 「미스트법」이 적용된 성막 장치에서는, 미스트화된 용액을, 길다란 배관을 통하여, 기판이 재치되어 있는 반응실(또는 분무구)까지 반송할 필요가 있다. 따라서 당해 배관 내에서, 미스트화한 용액이 응집되기 쉬워진다. 따라서, 「미스트법」에서는, 재료(용액)를 효율적으로 성막 처리에 이용하는 것이 곤란하다, 라는 문제가 생긴다.
또한, 상기 배관 내에서의 용액의 응집에 의해, 농도가 불균일한 미스트가 기판에 반송된다. 따라서 미스트를 정류(整流)하는 기구를 기판 부근의 미스트 공급부에 마련하는 것이, 필요하다. 따라서, 「미스트법」이 적용된 성막 장치에서는, 미스트 공급부가 대형화·중량화하고, 메인터넌스가 곤란하다, 라는 문제도 가진다.
그래서, 본 발명은, 기판상에 막질이 좋은 막을 성막할 수 있고, 용액을 성막 처리에 유효하게 이용할 수 있고, 장치 전체의 소형화를 도모할 수 있는, 성막 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 관한 성막 장치는, 기판에 대해 막을 성막하는 성막 장치로서, 액적화된 용액을 분사하는 스프레이 노즐과, 상기 스프레이 노즐로부터 분사되는 액적화된 상기 용액을 수용하는 것이 가능한 제1의 실과, 상기 제1의 실 내에 존재하는 상기 용액에 대해 충돌시키는 기체를 분사하는 제1의 가스 공급구와, 상기 제1의 실에 인접하여 있는 제2의 실과, 상기 제1의 실과 상기 제2의 실과의 사이에 존재하는 벽면에 천공(穿設)되고, 상기 제1의 가스 공급구로부터 분사된 상기 기체의 충돌을 받음에 의해 미스트화된 상기 용액을, 상기 제1의 실로부터 상기 제2의 실로 유도하는 관통구멍과, 상기 제2의 실의 외측에 배치된 상기 기판에 면하도록, 상기 제2의 실에 대해 배설되고, 상기 기판에 대해 미스트화된 상기 용액의 분무를 행하는 분무구를, 구비하고 있다.
본 발명에 관한 성막 장치는, 액적화된 용액을 분사하는 스프레이 노즐과, 상기 스프레이 노즐로부터 분사되는 액적화된 상기 용액을 수용하는 것이 가능한 제1의 실과, 상기 제1의 실 내에 존재하는 상기 용액에 대해 충돌시키는 기체를 분사하는 제1의 가스 공급구와, 상기 제1의 실에 인접하여 있는 제2의 실과, 상기 제1의 실과 상기 제2의 실과의 사이에 존재하는 벽면에 천공되고, 상기 제1의 가스 공급구로부터 분사된 상기 기체의 충돌을 받음에 의해 미스트화된 상기 용액을, 상기 제1의 실로부터 상기 제2의 실로 유도하는 관통구멍과, 상기 제2의 실의 외측에 배치된 상기 기판에 면하도록, 상기 제2의 실에 대해 배설되고, 상기 기판에 대해 미스트화된 상기 용액의 분무를 행하는 분무구를, 구비하고 있다.
이와 같이, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 스프레이 노즐에 의해 분사된 액적화한 용액을, 제1의 가스 공급구로부터 분출된 기체와의 충돌에 의해, 제1의 실 내에서 미스트화할 수 있다. 따라서, 스프레이상(狀)의 용액이, 기판에 직접 접촉하는 일도 없고, 용액의 미스트화가 가능하게 되고, 당해 미스트상(狀)의 용액이 기판에 분무되기 때문에, 대기 중에서, CVD라이크한 성막이 가능해진다. 따라서, 당해 성막 장치에서는, 기판상에 막질이 좋은 막을 성막할 수 있다.
또한, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 용액의 기판에 대한 분무구 부근인 제1의 실에 있어서, 스프레이상의 용액을 미스트화시키고 있다. 따라서, 미스트상의 용액의 반송 거리가, 종래의 「미스트법」 기술이 채용된 성막 장치보다, 극단적으로 단축할 수 있다. 따라서, 미스트상의 용액의 이동 도중에 있어서 응집되는 것을 억제할 수 있다. 이에 의해, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 용액을 성막 처리에 유효하게 이용할 수 있고, 기판에 대해 농도가 안정된 용액을 분무시킬 수 있다.
또한, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 스프레이상의 용액을 분출한 후에, 기체를 충돌시킴에 의해, 용액의 미스트화를 시행하고 있다. 즉, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 용액의 미스트화를 위한 구성은 극히 간이하고, 초음파 진동자 등도 불필요하다. 따라서, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 장치 전체의 소형화를 도모할 수 있다. 또한, 당해 간이(簡易) 구성에 기인하여, 본 발명에 관한 성막 장치에서는 메인터넌스성도 향상한다.
본 발명의 목적, 특징, 국면, 및 이점은, 이하의 상세한 설명과 첨부 도면에 의해, 보다 명백하게 된다.
도 1은 본 실시의 형태에 관한 성막 장치의 주요부 부분의 구성을 도시하는 단면도.
도 2는 본 실시의 형태에 관한 성막 장치의 주요부 부분의 구성을, 상방향에서 본 양상을 도시하는 평면도.
도 3은 제1의 실(2) 및 당해 제1의 실(2)에 접속되는 구성 부재의 구성을 도시하는 확대 단면도.
도 4는 제2의 실(4) 및 당해 제2의 실(4)에 접속되는 구성 부재의 구성을 도시하는 확대 단면도.
도 5는 제3의 실(12) 및 당해 제3의 실(12)에 접속되는 구성 부재의 구성을 도시하는 확대 단면도.
도 6은 제4의 실(8) 및 당해 제4의 실(8)에 접속되는 구성 부재의 구성을 도시하는 확대 단면도.
도 7은 세정액을 사용한, 스프레이 노즐(1)의 세정 처리를 설명하기 위한 확대 단면도.
본 발명은, 대기 중에서, 기판에 대해 막을 성막하는 성막 장치에 관한 것이다. 대기 중의 개방적인 공간에 기판이 배치되고, 당해 기판의 상방의 개방적인 공간에, 도 1에 도시하는 용액 분무 구성체를 위치시킨다. 이하, 본 발명을 그 실시의 형태를 도시하는 도면에 의거하여 구체적으로 설명한다.
<실시의 형태>
도 1은, 본 실시의 형태에 관한 성막 장치의 주요부 부분(보다 구체적으로는, 기판에 용액을 분무하는 용액 분무부 부근)의 구성을 도시하는 단면도이다. 여기서, 도 1에는, X-Y-Z방향을 도시하고 있다. 또한, 도 2는, 도 1에 도시한 구성을, 도 1의 상방향에서 본 구성을 도시하는 평면도이다. 여기서, 도 2에는, X-Y방향을 도시하고 있다. 또한, 도 2에서는, 도면 간략화를 위해, 각 구성 부재(16, 17, 60)의 도시를 생략하고 있다.
또한, 도 3은, 도 1에서 도시한, 제1의 실(2) 및 당해 제1의 실(2)에 접속되는 구성 부재(1, 3) 등의 구성을 도시하는 확대 단면도이다. 또한, 도 4는, 도 1에서 도시한, 제2의 실(4) 및 당해 제2의 실(4)에 접속되는 구성 부재(6)의 구성을 도시하는 확대 단면도이다. 또한, 도 5는, 도 1에서 도시한, 제3의 실(12) 및 당해 제3의 실(12)에 접속되는 구성 부재(14)의 구성을 도시하는 확대 단면도이다. 또한, 도 6은, 도 1에서 도시한, 제4의 실(8) 및 당해 제4의 실(8)에 접속되는 구성 부재(7)의 구성을 도시하는 확대 단면도이다.
이하, 도 1 내지 6을 이용하여, 본 실시의 형태에 관한 성막 장치의 구성에 관해, 상세히 설명한다.
도 1에 도시하는 바와 같이, 상기 용액 분무부는, 4개의 실(2, 4, 8, 12)로 구성되어 있고, 각 실(2, 4, 8, 12)은, 벽면에 의해 구획되어 있다. 즉, 도 1의 구성례에 도시하는 바와 같이, 각 실(2, 4, 8, 12)은, 수용 공간이 형성되도록, 주위가 벽면에 의해 위요(圍繞)되어 있다.
도 1의 구성례에서는, 제1의 실(2)은, X방향(도 1의 우(右)방향)에서, 제2의 실(4)에 인접하여 있다. 또한, 제2의 실(4)은, X방향(도 1의 우방향)에서, 제3의 실(12)에 인접하여 있다. 즉, X방향에서, 제1의 실 2, 제2의 실(4) 및 제3의 실(12)은 당해 순서로 인접하여 있다. 다른 한편, 제1의 실(2)은, -Z방향(도 1의 하방향)에서, 제4의 실(8)에 인접하여 있다.
우선, 도 1, 2, 3을 참조하여, 제1의 실(2)을 포함하는 구성에 관해 설명한다.
도 2에 도시하는 바와 같이, 제1의 실(2)은, Y방향으로 연설(延說)한 장방형의 평면시(平面視) 형상을 갖는다. 도 1, 3에 도시하는 바와 같이, 제1의 실(2)에는, 수용 공간이 형성되도록, 주위가 벽면에 의해 둘러싸여 있다. 즉, 제1의 실(2)의 상하좌우에서 벽면을 배치함에 의해, 제1의 실(2)에는, 닫혀진 공간이 형성되어 있다.
여기서, 도 1, 3에 도시하는 바와 같이, 제2의 실(4)과 인접하여 있는 제1의 실(2)의 벽면에는, 제1의 실(2)과 제2의 실(4)을 연결하는, 관통구멍(5)이 천공되어 있다. 당해 관통구멍(5)은, 1개라도, 복수라도 좋다. 또한, 관통구멍(5)의 개구 형상도 임의의 것을 채용할 수 있고, 한 예로서, Y방향으로 연설한 장방형(슬릿형상)이라도 좋다.
도 1, 3에 도시하는 바와 같이, 액적화된 용액을 분사하는 스프레이 노즐(1)이 배설되어 있다. 여기서, 스프레이 노즐(1)의 분사구(1a)로부터는, 「스프레이법」에 의해 액적화된 용액이 분사된다. 즉, 스프레이 노즐(1)로부터는, 수십㎛ 정도의 크기의 액적이 분사된다. 또한, 스프레이 노즐(1)로서, 예를 들면, 상술한 2류체 스프레이 노즐을 채용할 수 있다. 또한, 당해 용액에는, 기판(50)에 성막되는 막의 원재(原材) 재료가 포함되어 있다.
여기서, 도 1, 3의 구성례에서는, 스프레이 노즐(1)의 도중의 경로에는, 전환 밸브(16)가 배설되어 있고, 당해 전환 밸브(16)에는, 세정액 공급 노즐(17)이 접속되어 있다. 세정액 공급 노즐(17)의 세정액 공급구로부터는, 스프레이 노즐(1) 내를 세정하는 세정액이 분사된다.
전환 밸브(16)를 일방의 방향으로 전환하면, 세정액 공급 노즐(17)의 세정액 공급구만이 닫히고, 스프레이 노즐(1) 내에는, 용액만이 흐른다. 이에 대해, 전환 밸브(16)를 타방의 방향으로 전환하면, 세정액 공급 노즐(17)의 세정액 공급구는 열리고, 전환 밸브(16)의 상류측에서 스프레이 노즐(1)의 유체 경로가 닫혀진다. 따라서, 이 경우에는, 전환 밸브(16)의 하류측의 스프레이 노즐(1) 내에는, 세정액 공급 노즐(17)의 세정액 공급구로부터 분사된 세정액만이 흐른다.
제1의 실(2)의 상면측의 벽면에는, 복수의 구멍이 천공되어 있고, 당해 구멍에, 스프레이 노즐(1)의 선단부(전환 밸브(16)보다 하류측의 스프레이 노즐(1)의 부분)가 삽통(揷通)되어 있다. 여기서, 도 2에 예시하는 바와 같이, 제1의 실(2)의 상면에 대해 복수의 스프레이 노즐(1)이 접속되어 있어도 좋고(도 2의 구성례에서는, Y방향에 따라, 스프레이 노즐(1)끼리가 소정의 간격을 두고 일렬로 나열되어 있다), 제1의 실(2)의 상면에 대해 1개의 스프레이 노즐(1)이 접속되어 있어도 좋다. 또한, 스프레이 노즐(1)이 제1의 실(2)에 접속되어 있는 상태에서, 제1의 실(2)의 상면에 천공된 구멍(스프레이 노즐(1)의 삽통 구멍)은, 밀봉상태가 확보되어 있다.
스프레이 노즐(1)의 선단부는 제1의 실(2)의 상면측의 벽면을 관통하고 있고, 스프레이 노즐(1)의 분사구(1a)는 제1의 실(2) 내에 존재한다. 스프레이 노즐(1)의 분사구(1a)로부터 제1의 실(2) 내를 향하여, 액적화(수십㎛의 크기)된 용액은 분사되고, 당해 분사된 용액은, 제1의 실(2) 내에 수용된다.
도 1, 2, 3에 도시하는 바와 같이, 제1의 가스 공급 노즐(3)이 복수 배설되어 있다. 당해 제1의 가스 공급 노즐(3)의 제1의 가스 공급구(3a)로부터는, 기체가 분사된다.
제1의 실(2)의 좌측의 벽면에는, 복수의 구멍이 천공되어 있고, 당해 구멍에, 제1의 가스 공급 노즐(3)의 선단부가 삽통되어 있다. 여기서, 도 2에 예시하는 바와 같이, 제1의 실(2)의 측면에 대해 복수의 제1의 가스 공급 노즐(3)이 접속되어 있어도 좋고(도 2의 구성례에서는, Y방향에 따라, 제1의 가스 공급 노즐(3)끼리가 소정의 간격을 두고 배설되어 있다), 제1의 실(2)의 측면에 대해 1개의 제1의 가스 공급 노즐(3)이 접속되어 있어도 좋다.
여기서, 제1의 가스 공급 노즐(3)의 제1의 가스 공급구(3a)로부터 분사되는 기체는, 제1의 실(2) 내에 존재하는 액적화한 용액과 충돌한다. 스프레이 노즐(1)로부터 분사된 용액과 제1의 가스 공급 노즐(3)로부터 분사한 기체가 충돌하도록, 제1의 가스 공급구(3a)를, 스프레이 노즐(1)로부터 분사된 용액의 방향으로 향하게 하는 것이 바람직하다.
또한, 제1의 가스 공급 노즐(3)이 제1의 실(2)에 접속되어 있는 상태에서, 제1의 실(2)의 측면에 천공된 구멍(제1의 가스 공급 노즐(3)의 삽통 구멍)은, 밀봉상태가 확보되어 있다.
스프레이 노즐(1)로부터 분사된 용액과 제1의 가스 공급 노즐(3)로부터 분사한 기체가 충돌함에 의해, 액적화 상태의 용액은, 미스트화된다. 즉, 당해 충돌에 의해, 제1의 실(2) 내에서, 수㎛ 정도의 크기 안개상(霧狀)의 용액이 생성된다.
상술한 바와 같이, 제1의 실(2)의 우측의 측면에는, 제2의 실(4)에 통하는 관통구멍(5)이 천공되어 있다. 여기서, 상기 미스트화한 용액이, 제1의 가스 공급 노즐(3)로부터 분사되는 기체에 타고서, 당해 관통구멍(5)에 유도되는 것이 바람직하다. 즉, 제1의 가스 공급 노즐(3)로부터 분사되는 기체의 분사 방향의 연장선상에, 관통구멍(5)이 배설되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 도 1, 3에 도시하는 바와 같이, 제1의 실(2)의 상면측의 벽면 내에는, 온도 조정이 가능한 온도 조정부(15)가 배설되어 있다. 당해 온도 조정부(15)는, 스프레이 노즐(1)의 선단부 부근에 배설되어 있고, 당해 선단부를 소정의 온도로 할 수 있다.
다음에, 도 1, 2, 4를 참조하여, 제2의 실(4)을 포함하는 구성에 관해 설명한다.
도 2에 도시하는 바와 같이, 제2의 실(4)은, 제1의 실(2)과 마찬가지로, Y방향으로 연설한 장방형의 평면시 형상을 갖는다(도 2의 구성례에서는, 제1의 실(2)의 Y방향의 치수와, 제2의 실(4)의 Y방향의 치수는 같고, 단부(端部)가 정돈되어 있다). 도 1, 4에 도시하는 바와 같이, 제2의 실(4)에는, 수용 공간이 형성되도록, 하면을 제외한 주위가 벽면에 의해 둘러싸여 있다. 즉, 제2의 실(4)의 상좌우(上左右)에서 벽면을 배치함에 의해, 제2의 실(4)에는, 하면 이외에서 닫혀진 공간이 형성되어 있다.
제2의 실(4)의 하면에는, 개구한 분무구(10)가 형성되어 있다. 당해 분무구(10)는, 제2의 실(4)의 외측에서 기판 재치부(60)에 재치된 기판(50)의 주면(主面)과, 소정의 거리를 띄우고서 면하여 있다(도 1 참조). 따라서, 분무구(10)로부터는, 미스트화한 용액이 기판(50)의 주면에 대해 분무된다. 당해 분무구(10)는, Y방향으로 늘어나는 장방형의 개구부(슬릿형상)이다.
여기서, 상술한 바와 같이, 제1의 실(2)과 인접하여 있는 제2의 실(4)의 벽면에는, 제1의 실(2)과 제2의 실(4)을 연결하는, 관통구멍(5)이 천공되어 있다.
도 1, 2, 4에 도시하는 바와 같이, 제2의 가스 공급 노즐(6)이 복수 배설되어 있다. 당해 제2의 가스 공급 노즐(6)의 제2의 가스 공급구(6a)로부터는, 기체가 분사된다.
제2의 실(4)의 상면측의 벽면에는, 복수의 구멍이 천공되어 있고, 당해 구멍에, 제2의 가스 공급 노즐(6)의 선단부가 삽통되어 있다. 여기서, 도 2에 예시하는 바와 같이, 제2의 실(4)의 상면에 대해 복수의 제2의 가스 공급 노즐(6)이 접속되어 있어도 좋고(도 2의 구성례에서는, Y방향에 따라, 제2의 가스 공급 노즐(6)끼리가 소정의 간격을 두고 일렬로 나열되어 있다), 제2의 실(4)의 상면에 대해 1개의 제2의 가스 공급 노즐(6)이 접속되어 있어도 좋다. 또한, 제2의 가스 공급 노즐(6)이 제2의 실(4)에 접속되어 있는 상태에서, 제2의 실(4)의 상면에 천공된 구멍(제2의 가스 공급 노즐(6)의 삽통 구멍)은, 밀봉상태가 확보되어 있다.
관통구멍(5)을 통하여, 제1의 실(2) 내에서 미스트화된 용액이, 제2의 실(4) 내에 운반되고, 수용된다. 그리고, 당해 제2의 가스 공급구(6a)로부터 분사된 기체는, 제2의 실(2) 내에 수용되어 있는 미스트화된 용액을, 분무구(10)측으로 유도한다.
다음에, 도 1, 2, 5를 참조하여, 제3의 실(12)을 포함하는 구성에 관해 설명한다.
도 2에 도시하는 바와 같이, 제3의 실(12)은 제1의 실(2) 및 제2의 실(4)과 마찬가지로 Y방향으로 연설한 장방형의 평면시 형상을 갖는다(도 2의 구성례에서는, 제1의 실(2)의 Y방향의 치수와, 제2의 실(4)의 Y방향의 치수와, 제3의 실(12)의 Y방향의 치수와는 같고, 각각에서 단부가 정돈되어 있다). 도 1, 5에 도시하는 바와 같이, 제3의 실(12)에는, 수용 공간이 형성되도록, 하면을 제외한 주위가 벽면에 의해 둘러싸여 있다. 즉, 제3의 실(12)의 상좌우에서 벽면을 배치함에 의해, 제3의 실(12)에는, 하면 이외에서 닫혀진 공간이 형성되어 있다.
제3의 실(12)의 하면에는, 개구한 배기구(11)가 형성되어 있다. 당해 배기구(11)는, 제3의 실(12)의 외측에서 기판 재치부(60)에 재치된 기판(50)의 주면과, 소정의 거리를 띄우고서 면하여 있다(도 1 참조). 따라서, 배기구(11)로부터는, 기판(50)의 상방에 존재하는 미반응의 액체나 가스 등이 흡인된다. 당해 배기구(11)는, Y방향으로 늘어나는 장방형의 개구부(슬릿형상)이다. 도 1에 도시하는 바와 같이, 분무구(10)의 우측에서 배기구(11)가 인접하여 있고, 분무구(10)의 높이 위치와 배기구(11)의 높이 위치는, 같다.
도 1, 2, 5에 도시하는 바와 같이, 배기 노즐(14)이 복수 배설되어 있다. 당해 배기 노즐(14)의 배기 구멍(14a)으로부터는, 흡인력이 작용하고 있다.
제3의 실(12)의 상면측의 벽면에는, 복수의 구멍이 천공되어 있고, 당해 구멍에, 배기 노즐(14)의 선단부가 삽통되어 있다. 여기서, 도 2에 예시하는 바와 같이, 제3의 실(12)의 상면에 대해 복수의 배기 노즐(14)이 접속되어 있어도 좋고(도 2의 구성례에서는, Y방향에 따라, 배기 노즐(14)끼리가 소정의 간격을 두고 일렬로 나열되어 있다), 제3의 실(12)의 상면에 대해 1개의 배기 노즐(14)이 접속되어 있어도 좋다. 또한, 배기 노즐(14)이 제3의 실(12)에 접속되어 있는 상태에서, 제3의 실(12)의 상면에 천공된 구멍(배기 노즐(14)의 삽통 구멍)은, 밀봉상태가 확보되어 있다.
또한, 도 1, 5에 도시하는 바와 같이, 제3의 실(12) 내에서, 경사 상방향으로 연설한 칸막이판(13)이 배설되어 있다. 당해 칸막이판(13)의 일방단은, 제3의 실(12)의 일방의 측면과 접속하고 있지만, 당해 칸막이판(13)의 타방단은, 제3의 실(12)의 타방의 측면과는 접속하고 있지 않다.
배기 노즐(14)로부터의 흡인력에 의해, 배기구(11)로부터, 기판(50) 상방에 존재하는 기체·액체가 흡상(吸上)된다. 당해 칸막이판(13)의 존재에 의해, 제3의 실(12) 내의 칸막이판(13)보다 상방에 존재하는, 배기구(11)로부터 흡인된 기체·액체 등이, 배기구(11)측으로 낙하하는 것을 억제한다.
다음에, 도 1, 2, 6을 참조하여, 제4의 실(8)을 포함하는 구성에 관해 설명한다.
제4의 실(8)은, 제1의 실(2)의 하면측에 배치되어 있고, 당해 제1의 실(2)과 마찬가지로 Y방향으로 연설한 장방형의 평면시 형상을 갖는다(제1의 실(2)의 Y방향의 치수와 제4의 실(8)의 Y방향의 치수와는 같고, 단부가 정돈되어 있다). 도 1, 6에 도시하는 바와 같이, 제4의 실(8)에는, 수용 공간이 형성되도록, 주위가 벽면에 의해 둘러싸여 있다. 즉, 제4의 실(8)의 상하좌우에서 벽면을 배치함에 의해, 제4의 실(8)에는, 닫혀진 공간이 형성되어 있다.
제4의 실(8)의 하면측의 벽면에는, 제3의 가스 공급구(9)가 천공되어 있다. 당해 제3의 가스 공급구(9)는, 제4의 실(8)의 외측에서 기판 재치부(60)에 재치된 기판(50)의 주면과, 소정의 거리를 띄우고서 면하여 있다(도 1 참조). 따라서, 제3의 가스 공급구(9)로부터는, 기판(50)의 상방을 향하여 기체가 분출된다. 당해 제3의 가스 공급구(9)는, Y방향으로 늘어나는 장방형의 개구부(슬릿형상)이다. 도 1에 도시하는 바와 같이, 분무구(10)의 좌측에서 제3의 가스 공급구(9)가 인접하여 있고, 분무구(10)의 높이 위치와 제3의 가스 공급구(9)의 높이 위치는, 같다.
도 1, 2, 6에 도시하는 바와 같이, 제3의 가스 공급 노즐(7)이 복수 배설되어 있다. 제3의 가스 공급 노즐(7)의 분출구(7a)로부터는, 제4의 실(8) 내를 향하여 기체가 분출된다.
제4의 실(8)의 측면측의 벽면에는, 복수의 구멍이 천공되어 있고, 당해 구멍에, 제3의 가스 공급 노즐(7)의 선단부가 삽통되어 있다. 여기서, 도 2에 예시하는 바와 같이, 제4의 실(8)의 측면에 대해 복수의 제3의 가스 공급 노즐(7)이 접속되어 있어도 좋고(도 2의 구성례에서는, Y방향에 따라, 제3의 가스 공급 노즐(7)끼리가 소정의 간격을 두고 나열되어 있다), 제4의 실(8)의 측면에 대해 1개의 제3의 가스 공급 노즐(7)이 접속되어 있어도 좋다. 또한, 제3의 가스 공급 노즐(7)이 제4의 실(8)에 접속되어 있는 상태에서, 제4의 실(8)의 측면에 천공된 구멍(제3의 가스 공급 노즐(7)의 삽통 구멍)은, 밀봉상태가 확보되어 있다.
제3의 가스 공급 노즐(7)로부터 분사된 기체는, 제4의 실(8) 내에 수용되고, 당해 제4의 실(8)에 천공된 제3의 가스 공급구(9)로부터, 기판(50)의 상면에 대해 분사된다.
또한, 도 1에 도시하는 바와 같이, 성막 장치에는, 기판(50)이 재치되는 기판 재치부(60)가 마련되어 있다. 당해 기판 재치부(60)는, 기판(50)을 재치시킨 상태에서, 도 1의 좌우 방향(X방향)으로 이동한다(수평 방향의 이동이라면 좋다). 즉, 분무구(10)로부터는 수직 방향으로 미스트화된 용액이 기판(50)에 분무되면서, 기판 재치부(60)의 상기 이동에 의해, 당해 기판(50)은 수평 방향으로 이동한다. 또한, 기판 재치부(60)에는, 히터가 배설되어 있다. 따라서 당해 히터에 의해, 기판 재치부(60)에 재치된 기판(50)은 소정의 온도(성막 온도)까지 가열된다.
다음에, 성막 동작에 관해 설명한다.
기판 재치부(60)상에 기판(50)을 싣는다. 그리고, 기판 재치부(60)를 X방향으로 이동시킴에 의해, 기판(50)을 분무구(10)의 하방에까지 이동시킨다. 여기서, 기판 재치부(60)에 배설된 히터에 의해, 기판(50)은 성막 온도까지 가열되어 있다.
한편, 스프레이 노즐(1)로부터는 스프레이상의 용액(액적화한 용액)이, 제1의 실(2) 내로 분출된다. 여기서, 전환 밸브(16)는 일방의 방향으로 전환되어 있고, 세정액 공급 노즐(17)의 세정액 공급구는 닫혀져 있다. 따라서, 스프레이 노즐(1) 내의 액체 경로에는, 용액만이 흐른다. 제1의 가스 공급구(3a)로부터는, 기체가, 제1의 실(2) 내에 존재하는 스프레이상의 용액에 대해 분출된다.
스프레이상의 용액에 대해 제1의 가스 공급구(3a)로부터의 기체가 충돌함에 의해, 제1의 실(2) 내에서, 미스트상의 용액이 생성된다. 즉, 당해 충돌에 의해, 스프레이상의 용액의 입경이 더욱 작아져서, 용액은 안개화(霧化)한다.
미스트상의 용액은, 제1의 가스 공급구(3a)로부터 분출되는 기체를 타고서, 관통구멍(5)을 통과하여, 제2의 실(4) 내로 유도된다. 제2의 실(4) 내에서, 미스트상의 용액은, 제2의 가스 공급구(6a)로부터 분출되는 기체를 타고서, 분무구(10)의 방향으로 유도된다. 그리고, 분무구(10)로부터는 미스트상의 용액이, 기판(50)의 상면에 대해 분무된다.
여기서, 배기구(11)로부터의 흡인력에 의해, 분무구(10)로부터 배기구(11)를 향하여서의 흐름이 생긴다. 따라서, 분무구(10)로부터 분무된 미스트상의 용액은, 기판(50)의 상면측에서, 배기구(11)측으로 이동하는 흐름이 생성된다. 배기구(11)로부터 흡인된 기체 및 액체는, 제3의 실(12) 내 및 배기 노즐(14)을 통하여, 외부로 배기된다.
또한, 분무구(10)로부터의 미스트상의 용액의 분무할 때에, 제3의 가스 공급구(9)로부터, 기판(50)의 상면을 향하여, 기체를 분출시킨다. 여기서, 상술한 바와 같이, 제3의 가스 공급구(9)로부터 분출된 기체는, 제3의 가스 공급 노즐(7)로부터 제4의 실(8) 내에 공급된 것이다. 당해 제3의 가스 공급구(9)로부터의 기체의 분출에 의해, 분무구(10)로부터 분무된 용액이, 제3의 가스 공급구(9)보다도 좌측으로 새는 것을 방지할 수 있다. 즉, 제3의 가스 공급구(9)로부터의 기체는, 분무구(10)로부터 분무된 용액에 대해, 「스크린」으로서 기능한다.
배기구(11)로부터의 흡인력에 의해, 제3의 가스 공급구(9)로부터 배기구(11)를 향하여서의 흐름이 생긴다. 따라서, 제3의 가스 공급구(9)로부터 분사된 기체는, 기판(50)의 상면측에서, 배기구(11)측으로 이동하는 흐름이 생성된다.
상기한, 분무구(10)로부터의 용액의 분무, 배기구(11)로부터의 흡인 및 제3의 가스 공급구(9)로부터의 기체의 분출을 행하면서, 기판 재치부(60)를 X방향으로 이동시킨다. 이에 의해, 분무구(10)로부터 분무된 용액이 대기와 반응하고, 가열 상태의 기판(50)의 상면 전체에 걸쳐서, 균일한 막이 성막된다.
여기서, 스프레이 노즐(1)로부터 분출되는 용액은, 성막되는 막에 응하여 임의로 선택된다. 또한, 노즐(3, 6, 7)로부터 분출되는 기체도 임의의 것을 선택할 수 있다.
예를 들면, 스프레이 노즐(1)로부터, 산소와의 반응성이 풍부한 용액을 분사하는 경우에는, 제1의 가스 공급구(3a) 및 제2의 가스 공급구(6a)로부터는 불활성 가스를 분사하고, 제3의 가스 공급구(9)로부터는 산화제(예를 들면, 물, 산소 또는 오존 등을 포함하는 유체)를 분사하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 당해 용액이, 제1의 실(2) 및 제2의 실(4) 내에서 산화되는 것을 억제할 수 있고, 분무구(10)와 기판(50)과의 사이에서, 분무된 용액과 산화제와의 반응을 촉진시킬 수 있다.
또한, 예를 들면, 스프레이 노즐(1)로부터, 산소와의 반응성이 풍부한 용액을 분사하는 경우에는, 제1의 가스 공급구(3a)로부터는 불활성 가스를 분사하고, 제2의 가스 공급구(6a)로부터는 산화제(예를 들면, 산소나 오존 등)를 분사하여도 좋다. 또한 이 경우, 제3의 가스 공급구(9)로부터는, 예를 들면 공기를 분사하여도 좋다. 이에 의해, 당해 용액이, 제1의 실(2) 내에서 산화되는 것을 억제할 수 있고, 미스트화된 용액과 산화제와의 반응을 촉진하면서, 기판(50)을 향하여, 산화 반응하면서 용액을 분무할 수 있다.
이상과 같이, 본 실시의 형태에 관한 성막 장치에서는, 스프레이 노즐(1)로부터 분사되는 액적화된 용액을 수용하는 것이 가능한 제1의 실(2)을 구비하고 있다. 그리고, 제1의 실(2) 내에 존재하는 용액에 대해 충돌시키는 기체를 분사하는 제1의 가스 공급구(3a)와, 제1의 실(2)에 인접하여 있는 제2의 실(4)을 구비하고 있다. 여기서, 제1의 실(2)과 제2의 실(4)과의 사이에 존재하는 벽면에는, 미스트화한 용액이 흐른 관통구멍(5)이 천공되어 있다. 그리고, 당해 성막 장치는, 제2의 실(4)의 외측에 배치된 기판(50)에 면하도록, 제2의 실(4)에 대해 배설되고, 기판(50)에 대해 미스트화된 용액의 분무를 행하는 분무구(10)를, 구비하고 있다.
이와 같이, 당해 성막 장치에서는, 스프레이 노즐(1)에 의해 분사된 액적화한 용액을, 제1의 가스 공급구(3a)로부터 분출된 기체와의 충돌에 의해, 제1의 실(2) 내에서의 미스트화할 수 있다. 따라서, 스프레이상의 용액이, 기판(50)에 직접 접촉하는 일도 없고, 용액의 미스트화가 가능하게 되고, 당해 미스트상의 용액이 기판(50)에 분무되기 때문에, 대기 중에서, CVD라이크한 성막이 가능해진다. 따라서, 당해 성막 장치에서는, 기판(50)상에 막질이 좋은 막을 성막할 수 있다.
또한, 당해 성막 장치에서는, 용액의 기판(50)에 대한 분무구(10) 부근인 제1의 실(2)에서, 스프레이상의 용액을 미스트화시키고 있다. 따라서, 미스트상의 용액의 반송 거리가, 종래의 「미스트법」 기술이 채용된 성막 장치보다, 극단적으로 단축할 수 있다. 따라서, 미스트상의 용액의 이동 도중에서 응집되는 것을 억제할 수 있다. 이에 의해, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 용액을 성막 처리에 유효하게 이용할 수 있고, 기판(50)에 대해 농도가 안정된 용액을 분무시킬 수 있다.
또한, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 스프레이상의 용액을 분출한 후에, 기체를 충돌시킴에 의해, 용액의 미스트화를 행하고 있다. 즉, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 용액의 미스트화를 위한 구성은 극히 간이하고, 초음파 진동자 등도 불필요하다. 따라서, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 장치 전체의 소형화를 도모할 수 있다. 또한, 당해 간이 구성에 기인하여, 본 발명에 관한 성막 장치에서는 메인터넌스성도 향상한다.
즉, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 미스트법에 의해 얻어지는 막질의 향상과, 스프레이 법에 의해 얻어지는 간이 구성·고(高) 메인터넌스성을, 겸비할 수 있다.
또한, 제1의 실(2)에 의해, 스프레이 노즐(1)로부터 분출된 액적의 큰 용액이, 주위에 비산하는 것도 방지할 수 있다. 또한, 제2의 실(4)에 의해, 미스트상의 용액이, 주위에 비산하는 것도 방지할 수 있다. 또한, 제4의 실(8) 내에 의해, 기체가 주위에 비산된 것도 방지할 수 있다. 또한, 제3의 실(12)에 의해, 액체·기체의 집약(集約)한 배기 처리도 가능해진다.
또한, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 제2의 실(4)에 존재하는 미스트화된 용액을, 분무구(10)로 유도하는 기체를 분사하는 제2의 가스 공급구(6a)를, 또한 구비하고 있다. 따라서 미스트화한 용액을, 기판(50)측으로 공급하는 흐름을 만들어낼 수 있다.
또한, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 분무구(10)에 인접하여 배설되어 있는 배기구(11)를, 또한 구비하고 있다. 따라서 분무구(10)로부터 배기구(11)를 향하여 의 흐름이 생긴다. 따라서, 분무구(10)로부터 분무된 미스트상의 용액은, 기판(50)의 상면측에서, 배기구(11)측으로 이동하는 흐름이 생성된다.
또한, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 분무구(10)에 인접하여 배설되어 있는, 기체를 분사하는 제3의 가스 공급구(9)를, 또한 구비하고 있다. 분무구(10)로부터 분무된 용액이, 제3의 가스 공급구(9)보다도 좌측으로 새는 것을 방지할 수 있다.
여기서, 분무구(10), 배기구(11) 및 제3의 가스 공급구(9)는 각각, Y방향으로 늘어나는 슬릿형상이다. 따라서 제2의 실(4)에 수용되어 있는 미스트상의 용액을, 분무구(10)로부터 균일하게 분무할 수 있고, 제4의 실(8) 내에 수용되어 있는 기체를, 제3의 가스 공급구(9)로부터 균일하게 분사할 수 있고, 배기구(11)로부터의 배기도 Y방향에 따라 균일하게 실시된다.
또한, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 스프레이 노즐(1)은, 제1의 실(2)의 상측의 벽면을 관통하도록 배설되어 있다. 그리고, 스프레이 노즐(1)이 관통하고 있는 당해 벽면 내에는, 온도 조정부(15)가 배설되어 있다.
따라서 스프레이 노즐(1)의 분사구(1a) 부근이 소정의 온도로 유지될 수 있다. 따라서, 스프레이 노즐(1)의 분사구(1a) 부근에서의 용액의 응집을 방지할 수 있고, 스프레이 노즐(1)의 눈막힘을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 수평 방향으로 이동하는 기판 재치부(60)를 또한 구비하고 있다. 따라서, 용액 분무측의 구성 부재를 고정시킨 채로, 대면적인 기판(50)에 대한 성막도 가능해진다. 또한, 기판 재치부(60)에는 히터가 배설되어 있기 때문에, 재치되어 있는 기판(50)을 가열시키는 것도 가능하다.
또한, 본 실시의 형태에 관한 성막 장치로서, 하기한 바와 같은 구성도 채용할 수 있다.
즉, 스프레이 노즐(1), 전환 밸브(16) 및 세정액 공급 노즐(17)로 이루어지는 구성체를, 수직 및 수평 방향으로 이동시키는 이동 기구를 마련한다. 그리고, 스프레이 노즐(1)의 세정시에는, 다음의 동작을 행한다.
우선, 상기 이동 기구에 의해 상기 구성체를 도 1의 상방향으로 이동하고, 제1의 실(2)의 상측의 벽면으로부터 스프레이 노즐(1)의 선단부를 인발한다. 그리고, 상기 이동 기구에 의해 상기 구성체를 수평 방향 등으로 이동시킨다. 이에 의해, 도 7에 도시하는 바와 같이, 스프레이 노즐(1)의 선단부를, 성막 처리 에어리어 밖에 배설된 용기(30)의 상방에 위치시킨다.
그리고, 전환 밸브(16)를 타방의 방향으로 전환하여, 세정액 공급 노즐(17)의 세정액 공급구를 열고, 전환 밸브(16)의 상류측에서 스프레이 노즐(1)의 유체 경로가 닫힌다. 이에 의해, 스프레이 노즐(1) 내의 유체 통로에 세정액을 공급하는 세정액 공급구가 접속되는 상황이 형성된다.
그리고, 세정액 공급 노즐(17)에 세정액을 흘리면, 세정액 공급구로부터 스프레이 노즐(1) 내의 유체 통로에 세정액이 흐르고, 이에 의해, 스프레이 노즐(1) 내의 유체 통로에서의 용액에 기인한 오염을 세정할 수 있다. 또한, 스프레이 노즐(1)의 분사구(1a)로부터 출력되는 세정액은, 용기(30) 내에 수용된다.
스프레이 노즐(1)의 세정 후, 성막 처리를 행할 때에는, 상기 이동 기구에 의해 상기 구성체를 이동시키고, 도 1에 도시한 바와 같이, 스프레이 노즐(1)을 제1의 실(2)의 상측의 벽면에 천공된 구멍에 삽통시킨다. 그리고, 전환 밸브(16)를 일방의 방향으로 전환되고, 세정액 공급 노즐(17)의 세정액 공급구만이 닫히고, 스프레이 노즐(1) 내에는, 용액만이 흐르도록 유체 경로를 형성시킨다.
상기 이동 기구 및 세정기구에 의해, 성막 처리에 의해 오염된 스프레이 노즐(1)을 적절히, 세정할 수 있다.
본 발명에서는, 대기 중의 개방적인 공간에, 도 1에 도시하는 용액 분무 구성체를 배치하고, 또한 기판 재치부(60)의 수평 방향의 이동에 의해, 용액 분무 구성체와 기판(50)과의 사이의 공간은, 닫혀진 공간이 되지 않는다. 그리고, 본 발명에서는, 배기구(11)의 존재에 의해, 용액 분무 구성체와 기판(50)과의 사이의 공간에서(즉, 개방적인 공간에서), 일정한 기류를 발생시키고 있다.
따라서, 본 발명에 관한 성막 장치에서는, 용액 분무 구성체와 기판(50)과의 사이의 공간에서, 생성물 등의 파티클이 부착하는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 당해 성막 장치에서는, 파티클의 혼입에 의해 성막되는 막의 막질이 악화하는 것도 방지할 수 있다.
또한, 용액 분무 구성체와 기판(50)과의 사이의 공간은, 개방적으로 되기 때문에, 용액 분무 구성체의 기판(50)과 대면하는 부분의 메인터넌스도 용이하다. 또한, 제2의 가스 공급구(6a)로부터, 미스트화한 용액을 제2의 실(4)로부터 분무구(10)(즉, 기판(50))으로 유도하는 기체를, 분사하고 있다. 이에 의해, 용액 분무 구성체와 기판(50)과의 사이의 거리를, 크게 취하는 것이 가능해져서, 상기 효과가 보다 현저해진다.
본 발명은 상세히 설명되었지만, 상기한 설명은, 모든 국면에서, 예시이고, 본 발명이 그것으로 한정되는 것이 아니다. 예시되지 않은 무수한 변형례가, 본 발명의 범위로부터 벗어나는 일 없이 상정될 수 있는 것으로 해석된다.
1 : 스프레이 노즐
1a : 분사구
2 : 제1의 실
3 : 제1의 가스 공급 노즐
3a : 제1의 가스 공급구
4 : 제2의 실
5 : 관통구멍
6 : 제2의 가스 공급 노즐
6a : 제2의 가스 공급구
7 : 제3의 가스 공급 노즐
8 : 제4의 실
9 : 제3의 가스 공급구
10 : 분무구
11 : 배기구
12 : 제3의 실
13 : 칸막이판
14 : 배기 노즐
15 : 온도 조정부
16 : 전환 밸브
17 : 세정액 공급 노즐
30 : 용기
50 : 기판
60 : 기판 재치부

Claims (13)

  1. 기판(50)에 대해 막을 성막하는 성막 장치로서,
    액적화된 용액을 분사하는 스프레이 노즐(1)과,
    상기 스프레이 노즐로부터 분사되는 액적화된 상기 용액을 수용하는 것이 가능한 제1의 실(2)과,
    상기 제1의 실 내에 존재하는 상기 용액에 대해 충돌시키는 기체를 분사하는 제1의 가스 공급구(3a)를 구비하고, 상기 제1의 실 내에서, 상기 제1의 가스 공급구로부터 분사된 상기 기체의 충돌을 받음에 의해, 액적화된 상기 용액이 미스트화되고,
    상기 제1의 실에 인접하여 있는 제2의 실(4)과,
    상기 제1의 실과 상기 제2의 실과의 사이에 존재하는 벽면에 천공되고, 미스트화된 상기 용액을, 상기 제1의 실로부터 상기 제2의 실로 유도하는 관통구멍(5)과,
    상기 제2의 실의 외측에 배치된 상기 기판에 면하도록, 상기 제2의 실에 대해 배설되고, 상기 기판에 대해 미스트화된 상기 용액의 분무를 행하는 분무구(10)를, 또한 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 성막 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제2의 실에 존재하는 미스트화된 상기 용액을, 상기 분무구로 유도하는 기체를 분사하는 제2의 가스 공급구(6a)를 또한 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 성막 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 기판에 면하여 있고, 상기 분무구와 일방 측면측에서 인접하여 배설되어 있고, 배기를 행하는 배기구(11)를 또한 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 성막 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 기판에 면하여 있고, 상기 분무구와 타방 측면측에서 인접하여 배설되어 있고, 기체를 분사하는 제3의 가스 공급구(9)를 또한 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 성막 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 분무구는, 장방형의 개구부인 것을 특징으로 하는 성막 장치.
  6. 제3항에 있어서,
    상기 배기구는, 장방형의 개구부인 것을 특징으로 하는 성막 장치.
  7. 제4항에 있어서,
    상기 제3의 가스 공급구는, 장방형의 개구부인 것을 특징으로 하는 성막 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 스프레이 노즐은, 상기 제1의 실의 벽면을 관통하도록 배설되어 있고,
    상기 스프레이 노즐이 관통하고 있는 상기 벽면에는, 온도 조정이 가능한 온도 조정부(15)가 배설되어 있는 것을 특징으로 하는 성막 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 스프레이 노즐은, 상기 제1의 실로부터 떨어지는 방향으로 이동 가능하고,
    상기 스프레이 노즐에는, 상기 스프레이 노즐 내의 유체 통로에 세정액을 공급하는 세정액 공급구가 배설되어 있는 것을 특징으로 하는 성막 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 기판이 재치되고, 상기 분무구에 대해, 수평 방향으로 이동하는 기판 재치부(60)를 또한 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 성막 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 기판 재치부에는, 히터가 배설되어 있는 것을 특징으로 하는 성막 장치.
  12. 제4항에 있어서,
    상기 스프레이 노즐로부터, 산소와 반응하는 상기 용액을 분사하고,
    상기 제1의 가스 공급구로부터는, 불활성 가스를 분사하고,
    상기 제2의 가스 공급구로부터는, 불활성 가스를 분사하고,
    상기 제3의 가스 공급구로부터는, 산화제를 분사하는 것을 특징으로 하는 성막 장치.
  13. 제2항에 있어서,
    상기 스프레이 노즐로부터, 산소와 반응하는 상기 용액을 분사하고,
    상기 제1의 가스 공급구로부터는, 불활성 가스를 분사하고,
    상기 제2의 가스 공급구로부터는, 산화제를 분사하는 것을 특징으로 하는 성막 장치.
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