CN104741291A - 粘合剂涂布装置与构件清洁法及显示面板制造装置与方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种粘合剂涂布装置与构件清洁法及显示面板制造装置与方法。所述粘合剂涂布装置(10)包括:作为粘合剂涂布构件的狭缝涂布机(12),供给粘合剂(R)且从设置于前端的喷嘴(12b)对基板涂布粘合剂(R);以及清洁构件(14),与狭缝涂布机(12)相向配置,狭缝涂布机(12)朝向清洁构件(14)的表面而在垂直方向上移动,使附着于喷嘴(12b)的前端的液滴(D)与清洁构件(14)的表面接触,使液滴(D)流动,且以从清洁构件(14)的表面离开的方式在垂直方向上移动,而将液滴(D)从喷嘴(12b)前端去除。本发明的方案能降低因喷嘴或清洁构件的摩擦或产生灰尘而引起的消耗。
Description
技术领域
本发明涉及一种粘合剂涂布装置、粘合剂涂布构件的清洁方法及显示面板制造装置、显示面板的制造方法。
背景技术
液晶显示器或有机电致发光(electroluminescence,EL)显示器等中使用的显示面板为如下构成,即,例如在液晶面板或有机EL面板等显示用面板上,积层操作用的触摸屏、对表面加以保护的保护面板(罩面板)等。所述基板例如通过对一基板涂布粘合剂而将两个基板加以积层,从而进行贴合。因此,显示面板制造装置包括粘合剂的涂布部与基板的贴合部。
涂布部包括粘合剂涂布装置。粘合剂涂布装置有各种类型,在对平板状的基板涂布粘合剂的情况下,作为一例,使用狭缝涂布机。狭缝涂布机包括具有与基板的短边的尺寸相应的全长的涂布头,在该涂布头的前端设置着狭缝喷嘴。一边从狭缝喷嘴喷出粘合剂,一边使涂布头沿基板在长边方向上移动,由此可将黏合剂以均匀的厚度涂布于基板上。
即便涂布结束后,停止从狭缝喷嘴喷出粘合剂,有时也会因残余压力或粘合剂的粘度、表面张力,而在喷嘴前端残留粘合剂的液滴。此种粘合剂的残留成为下一次涂布开始时的喷出量的差异的因素。如果在该状态下对基板进行涂布作业,则存在产生涂布不均的可能性。因此,需要进行喷嘴的清洁。在进行喷嘴的清洁时,有如下方法:将喷嘴强而有力地按压到板状的清洁构件,使清洁构件在水平方向上移动而擦去液滴;或者将按照狭缝喷嘴的形状成型的高分子树脂的清洁构件按压到喷嘴,使清洁构件沿着喷嘴在水平方向上移动而擦去液滴。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开平7-168015号公报
发明内容
[发明所要解决的问题]
在所述从喷嘴擦去液滴的方法中,不仅会在喷嘴与清洁构件之间因摩擦而消耗清洁构件,还会因滑动而产生灰尘,且存在该尘埃或灰尘附着于喷嘴前端的可能性。如果如所述尘埃或灰尘般的异物存在于喷嘴前端,则该喷嘴前端的有异物存在的部分的粘合剂的喷出状态与对基板的涂布状态,会变成与没有异物存在的部分的粘合剂的喷出状态与对基板的涂布状态不同(无法成为均一),因而容易成为条状的涂布不均。此外,通过将擦去作业重复进行多次,而清洁构件上也会大范围地附着粘合剂,如果在该状态下按压喷嘴,则也存在附着于清洁构件的粘合剂向喷嘴移动从而污染喷嘴前端的可能性。
本发明是为了解决所述问题而提出,其目的在于提供粘合剂涂布装置、粘合剂涂布构件的清洁方法、显示面板制造装置及显示面板的制造方法,所述粘合剂涂布装置可利用减少摩擦或产生灰尘的方法来清洁涂布头的喷嘴,可防止消耗喷嘴或清洁构件,且可确实地去除喷嘴前端的液滴。
[解决问题的技术手段]
为了达成所述目的,本发明的粘合剂涂布装置包括:粘合剂涂布构件,供给粘合剂且从设置于前端的喷嘴对基板涂布粘合剂;以及清洁构件,与所述粘合剂涂布构件相向配置,使所述粘合剂涂布构件朝向所述清洁构件表面而在垂直方向上相对地移动,使附着于所述喷嘴前端的粘合剂的液滴与所述清洁构件表面接触而使该液滴流动,以从所述清洁构件表面离开的方式在垂直方向上相对地移动,将所述液滴从所述喷嘴前端去除。
作为本发明的一形态,所述粘合剂涂布构件也可使所述喷嘴不与所述清洁构件接触而仅使附着于喷嘴前端的液滴与所述清洁构件接触。
作为本发明的一形态,所述粘合剂涂布构件也可使所述喷嘴前端与所述清洁构件接触。
作为本发明的一形态,所述粘合剂涂布构件也可使附着于所述喷嘴前端的液滴与所述清洁构件接触多次。
作为本发明的一形态,所述粘合剂涂布构件与所述清洁构件也可在所述液滴每次接触时相对地移动,更新所述清洁构件的与所述液滴的接触面。
作为本发明的一形态,宜使所述粘合剂涂布构件与所述清洁构件的相对地移动的距离根据所述液滴与所述清洁构件的接触次数而可变。
作为本发明的一形态,所述粘合剂涂布构件宜在所述清洁构件与所述液滴接触后,使液滴再次与所述液滴的一部分所附着的所述清洁构件的表面接触。
作为本发明的一形态,也可在粘合剂涂布装置设置粘合剂去除构件,所述粘合剂去除构件从横切方向与从所述喷嘴前端下垂的液滴接触,使所述液滴的一部分流动并从所述喷嘴前端去除。
作为本发明的一形态,也可在粘合剂涂布装置设置擦拭构件,所述擦拭构件在所述清洁构件的表面滑动,将附着于所述清洁构件的粘合剂擦拭。
作为本发明的一形态,粘合剂涂布装置还包括:涂布单元,具备照射能量的照射单元,所述能量使利用所述粘合剂涂布构件涂布的粘合剂临时硬化;以及清洁单元,配置着所述清洁构件,所述粘合剂涂布构件能够在所述涂布单元与所述清洁单元之间移动,在所述涂布单元与所述清洁单元之间设置着规定间隔,所述规定间隔为如下距离,即,所述涂布单元的临时硬化的能量未到达已移动到所述清洁单元内的所述粘合剂涂布构件。
作为本发明的一形态,粘合剂涂布装置还包括:涂布单元,具备照射能量的照射单元,所述能量使利用所述粘合剂涂布构件涂布的粘合剂临时硬化;以及清洁单元,配置着所述清洁构件,所述粘合剂涂布构件能够在所述涂布单元与所述清洁单元之间移动,在所述涂布单元与所述清洁单元之间也可设置着可开闭的遮光构件。
作为本发明的一形态,粘合剂涂布装置还包括鼓风机,所述鼓风机与所述粘合涂布构件靠近地配置,将附着于所述喷嘴前端的液滴朝向所述清洁构件吹送。
作为本发明的一形态,也可对所述喷嘴前端部实施抗液(liquid-repellent)处理。
作为本发明的一形态,粘合剂涂布装置也可包括粘度降低部件,所述粘度降低部件使附着于所述粘合剂涂布构件的喷嘴前端的粘合剂的液滴的粘度降低。
作为本发明的一形态,所述粘度降低部件也可为对附着于所述喷嘴前端的粘合剂的液滴进行加热的加热部件。
作为本发明的一形态,也可在使附着于所述喷嘴前端的粘合剂的液滴与所述清洁构件表面接触时,所述加热部件对所述液滴进行加热。
作为本发明的一形态,所述加热部件也可对所述清洁构件进行加热。
本发明的清洁方法是粘合剂涂布构件的清洁方法,所述粘合剂涂布构件供给粘合剂且从设置于前端的喷嘴对基板涂布粘合剂,将清洁构件与所述粘合剂涂布构件相向配置,使所述粘合剂涂布构件朝向所述清洁构件表面而在垂直方向上相对地移动,使附着于所述喷嘴前端的粘合剂的液滴与所述清洁构件表面接触,且以从所述清洁构件表面离开的方式在垂直方向上相对地移动,使所述液滴从所述喷嘴前端向所述清洁构件流动而从所述喷嘴前端去除。
本发明的制造装置是显示面板的制造装置,所述显示面板是将包含显示用面板的一对基板经由粘合剂贴合而成,所述制造装置包括:涂布部,对所述一对基板的至少一基板的表面涂布所述粘合剂;贴合部,将所述一对基板利用所述涂布的粘合剂贴合;硬化部,使所述贴合部中贴合的所述一对基板的所述粘合剂硬化;以及搬送部,将所述一对基板在所述涂布部、所述贴合部及所述硬化部之间进行搬送,所述涂布部包括:粘合剂涂布构件,供给所述粘合剂且从设置于前端的喷嘴对基板涂布所述粘合剂;以及清洁构件,与所述粘合剂涂布构件相向配置,所述粘合剂涂布构件朝向所述清洁构件表面而在垂直方向上相对地移动,使附着于所述喷嘴前端的粘合剂的液滴与所述清洁构件表面接触而使所述液滴流动,且以从所述清洁构件表面离开的方式在垂直方向上相对地移动,而将所述液滴从所述喷嘴前端去除。
本发明的制造方法是经由粘合剂将包含显示用面板的一对基板加以贴合而制造显示面板的方法,其包括下述工序:使用前端设置着喷嘴的粘合剂涂布构件,对所述一对基板的至少一基板的表面涂布所述粘合剂;每次在涂布所述粘合剂时,对所述粘合剂涂布构件进行清洁;将所述一对基板隔着所述涂布的粘合剂而相向保持,使至少一个移动,由此经由所述粘合剂将一对基板贴合;以及将贴合的一对基板的所述粘合剂硬化,在对所述粘合剂涂布构件进行清洁的工序中,将清洁构件与所述粘合剂涂布构件相向配置,使所述粘合剂涂布构件朝向所述清洁构件表面而在垂直方向上相对地移动,使附着于所述喷嘴前端的粘合剂的液滴与所述清洁构件表面接触而使该液滴流动,且以从所述清洁构件表面离开的方式在垂直方向上相对地移动,而将所述液滴从所述喷嘴前端去除。
[发明的效果]
根据本发明,使清洁构件与液滴接触,通过使液滴流动而将其从喷嘴去除,因而无须将喷嘴强而有力地按压到清洁构件,可减少由喷嘴或清洁构件的摩擦或产生灰尘而引起的消耗或污染,从而可进行稳定的清洁。由此可进行无涂布不均的粘合剂的涂布,从而可制造高品质的显示面板。
附图说明
图1是本发明的第一实施方式的显示面板制造装置的概略构成图。
图2是本发明的第一实施方式的粘合剂涂布装置的概略构成图。
图3(A)是表示粘合剂涂布装置的涂布单元的粘合剂的涂布的示意图,图3(B)是表示所涂布的粘合剂的外缘部的形状的放大图。
图4(A)、图4(B)是表示粘合剂涂布装置的涂布单元的粘合剂的涂布的示意图。
图5(A)是表示附着于喷嘴前端的液滴的示意图,图5(B)是表示在液滴残留的状态下进行粘合剂的涂布时的涂布不均的一例的图。
图6(A)~图6(D)是说明本发明的第一实施方式的清洁单元的作用的图。
图7(A)、图7(B)是表示显示面板制造装置的贴合部的构造及作用的图。
图8(A)、图8(B)是表示显示面板制造装置的硬化部的构造及作用的图。
图9是表示从基板上方观察时的粘合剂的涂布端的差异的示意图。
图10(A)~图10(G)是说明本发明的第二实施方式的清洁单元的作用的图。
图11是表示比较例1及实施例1、实施例3~实施例7的起点凸起量的曲线图。
图12是表示比较例1及实施例1、实施例3~实施例7的直线性的曲线图。
图13是表示比较例2及实施例2、实施例8~实施例12的起点凸起量的曲线图。
图14是表示比较例2及实施例2、实施例8~实施例12的直线性的曲线图。
图15是本发明的第三实施方式的粘合剂涂布装置的概略构成图。
图16(A)~图16(D)是说明本发明的第三实施方式的清洁单元的作用的图。
图17(A)~图17(C)是说明本发明的第三实施方式的清洁单元的作用的图。
图18是说明在擦拭构件设置切口的情况下的作用的图。
图19是本发明的第四实施方式的粘合剂涂布装置的概略构成图。
图20(A)~图20(D)是说明本发明的第四实施方式的清洁单元的作用的图。
图21是本发明的第五实施方式的粘合剂涂布装置的概略构成图。
图22是说明本发明的第五实施方式的涂布单元的作用的图。
图23是表示图21的变形例的图。
图24是其他实施方式的粘合剂涂布装置的概略构成图。
图25是其他实施方式的粘合剂涂布装置的概略构成图。
图26是其他实施方式的粘合剂涂布装置的概略构成图。
[符号的说明]
1:涂布部
2:贴合部
3:硬化部
4:搬送部
5:装载机
6:卸载机
7:控制装置
10:粘合剂涂布装置
10A:涂布单元
10B:清洁单元
11:平台
12:狭缝涂布机
12a:涂布头
12b:狭缝喷嘴
13:UV照射单元
14:清洁构件
15:载置台
16:擦拭构件
17:支撑构件
18:粘合剂去除构件
19:再生构件
20:基板贴合装置
21:腔室
22:下侧板
23:上侧板
25:升降机构
30:硬化装置
31:平台
33:UV照射单元
50:快门
51:鼓风机
52:辊
53:链轮
54:传送带
100:显示面板制造装置
C:间隔
D:液滴
HDIF:凸起量
HMAX:顶点部的高度
HMIN:底边高度
L:液晶显示面板
M1:驱动机构
M2:驱动机构
R:粘合剂
S1:液晶面板
S2:保护面板
S10:积层面板
T:贮箱
X、Y、Z:轴
具体实施方式
参照附图对本发明的实施方式(以下称作实施方式)进行具体说明。另外,实施方式中,作为显示面板制造装置中制造的显示面板的示例,使用液晶显示面板。而且,作为基板贴合装置中贴合的一对基板的示例,使用作为显示用面板的液晶面板、及覆盖液晶面板的保护面板。即,通过将液晶面板与保护面板积层而加以贴合,来构成液晶显示面板。
[第一实施方式]
(显示面板制造装置)
如图1所示,显示面板制造装置100包括涂布部1、贴合部2、硬化部3及搬送部4。显示面板制造装置100还包括控制装置7。控制装置7进行构成各部的装置的动作的控制或基板的搬送时机的控制。
搬送部4包括将液晶面板S1及保护面板S2向各部搬送的搬送部件及其驱动机构。搬送部件例如考虑转台、输送机等,但只要可在所述各部之间搬送基板,则可为任一装置。
液晶面板S1及保护面板S2利用装载机5而搬入到显示面板制造装置100,且由搬送部4搬送。沿着搬送部4配置着涂布部1、贴合部2及硬化部3。液晶面板S1及保护面板S2利用未图示的拾取部件从搬送部4拾取,并经由未图示的搬入口而向各部搬入及搬出。经由各部中的以下详细叙述的工序来制造液晶显示面板L,且利用卸载机6将所述液晶显示面板L从显示面板制造装置100中搬出。为了方便说明,将搬送部4的搬送方向称作X轴方向。将与X轴方向正交的从搬送部4向各部的搬入及搬出方向称作Y轴方向。而且,也将上下方向称作Z轴方向。
(涂布部)
涂布部1如图2所示包括粘合剂涂布装置10。在粘合剂涂布装置10上,设置着对基板进行粘合剂R的涂布的涂布单元10A、以及与涂布单元10A邻接而进行涂布后的清洁的清洁单元10B。基板的搬入口设置于涂布单元10A侧。另外,可对构成液晶显示面板的液晶面板S1与保护面板S2中的任一个、或者也可对两个来进行粘合剂R对基板的涂布。本实施方式中,对在液晶面板S1的表面涂布粘合剂R的示例进行说明。而且,可使用各种粘合剂R,但为了在后述的硬化部3中使用UV照射来进行粘合剂R的硬化,优选使用紫外线(ultraviolet,UV)硬化树脂。
涂布单元10A包括平台11、及作为粘合剂涂布构件的狭缝涂布机12。平台11上载置着液晶面板S1,所述液晶面板S1由搬送部4搬送,且利用未图示的拾取部件搬入到涂布部1。
本实施方式中,对使用了俯视为长方形的液晶面板S1的情况进行说明。液晶面板S1在平台11上以如下方式定位,即,长边沿图2的纸面左右方向,即X轴方向延伸,短边沿纸面内方向,即Y轴方向延伸。
狭缝涂布机12位于平台11上方,且如图3(A)所示,包括涂布头12a,所述涂布头12a具有与液晶面板S1的短边的尺寸相应的长度方向尺寸。在该涂布头12a的前端设置着细长的狭缝状的开口,且形成着喷出粘合剂R的狭缝喷嘴(以下简称作“喷嘴”)12b。因此,由喷嘴12b进行的粘合剂R的喷出区域为细长的线状。
如图2所示,狭缝涂布机12经由配管而与收容粘合剂R的贮箱(tank)T连接。狭缝涂布机12包括驱动机构M1,且构成为在平台11上可沿X轴方向及Z轴方向移动。一边从喷嘴12b喷出粘合剂R,一边使涂布头12a沿着液晶面板S1在液晶面板S1的X轴方向上移动,由此可在液晶面板S1上以均匀的厚度涂布粘合剂R。其中,如图3(B)所示,在相当于粘合剂R的涂布开始与涂布结束的部分的外缘部,有时会因表面张力的影响而产生凸起,进而产生向其内侧凹陷的部分。如果残留于狭缝涂布机12的液滴D的残留量多,则存在凸起与凹陷的差异增大的倾向。
狭缝涂布机12还可利用驱动机构M1,而在涂布单元10A与邻接的清洁单元10B之间可进退地移动。
如图4(A)所示,在涂布粘合剂R时,狭缝涂布机12进入到涂布单元10A中,且位于载置于平台11的液晶面板S1的短边侧的一端上。狭缝涂布机12一边从喷嘴12b喷出粘合剂R,一边将X轴方向从一端侧朝向另一端侧移动。而且,在到达另一端侧处停止。由此,如图4(B)所示,遍及液晶面板S1的整个表面供给粘合剂R。当涂布结束时,狭缝涂布机12从平台11上向X轴方向移动,由此从涂布单元10A退避而进入到邻接的清洁单元10B中。
另外,所述的示例中,狭缝涂布机12中具备驱动机构M1,狭缝涂布机12在平台11上移动而涂布粘合剂R,但只要狭缝涂布机12的移动为相对移动即可。即,也可在平台11侧具备驱动机构,对应来自狭缝涂布机12的粘合剂R的喷出而使平台11移动,由此在液晶面板S1上涂布粘合剂R。
清洁单元10B如图2所示,包括板状的清洁构件14、以及安装着清洁构件14的载置台15。载置台15与涂布单元10A的平台11邻接而配置,且位于从平台11上方退避的狭缝涂布机12的下方。
就板状的清洁构件14而言,认为优选对上表面的至少附着粘合剂R的部分,使用抗液性不高的原材料。例如,可使用玻璃或吸水纸等原材料,硅胶(silicon rubber)或聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate,PET)膜等亲液性的树脂,或实施了提高与粘合剂R的亲和性的涂布或表面处理等而成的树脂。清洁构件14具有与狭缝涂布机12的长度方向尺寸相同长度以上的边,且以该边与狭缝涂布机12大致平行的方式,即以沿Y轴方向延伸的方式配置于载置台15。
狭缝涂布机12在利用涂布单元10A进行的涂布结束时,停止粘合剂R的喷出,但根据配管或喷嘴内的残余压力或粘合剂R的粘度、表面张力,而如图5(A)所示,液滴D会残留于喷嘴12b的前端。此处,“液滴”是指因表面张力而残留于喷嘴前端的粘合剂,其形状不限于球形。例如,图5(A)所示的液滴D即便剖面观察为大致球形,如果从狭缝涂布机12的下方观察,则为细长的线状,此种形状也包含于液滴D中。
如果利用保持着该液滴D状态的喷嘴12b继续进行涂布,则在开始对基板进行下一次涂布时,新喷出的粘合剂R会与残留的液滴D混合地被喷出,从而无法成为预定的喷出量。而且,如果相对于喷嘴12b的长度方向而言,不均匀地残留液滴D,则喷嘴12b的长度方向的喷出量也会变得不均等。如果为此种喷出,则如图5(B)所示,涂布开始部分的直线性变差,从而产生涂布不均。尤其在涂布开始及涂布结束的分布中产生涂布不均时,很有可能成为不良制品。
因此,在粘合剂R的涂布结束后,狭缝涂布机12从涂布单元10A向清洁单元10B移动,进行喷嘴12b前端的清洁。对清洁单元10B的作用更详细地加以说明。
首先,从涂布单元10A退避的狭缝涂布机12进入到清洁单元10B中,如图6(A)所示,移动到载置台15上的清洁构件14的上方。
然后,如图6(B)所示,狭缝涂布机12朝向清洁构件14的表面而向垂直方向下降,在至少喷嘴12b前端的液滴D与清洁构件14的表面接触的位置处停止。此处,理想的是喷嘴12b自身不与清洁构件14的表面接触,或者即便接触也限制为不会被强而有力地按压到清洁构件14的表面的程度。尤其在使用玻璃等硬质的原材料时,如果喷嘴12b的前端被强而有力地按压到清洁构件14,则有喷嘴12b及清洁构件14中的任一个或两个发生破损的可能。为了防止破损,狭缝涂布机12的停止位置宜设为清洁构件14的上表面或者比该上表面稍上方的位置。根据所使用的粘合剂R的粘度而残留于喷嘴12b前端的液滴D的大小也会发生变化,因而通过预先对粘合剂R的粘度与液滴D的大小的相关关系进行调查,可适当决定停止位置。另外,在使用硅胶等具有弹性的原材料来作为清洁构件14的情况下,也可将喷嘴12b前端以某种程度按压到清洁构件14的表面。
如果清洁构件14与液滴D接触,则液滴D会向清洁构件14润湿扩散。而且,因液滴D的对喷嘴12b及清洁构件14的表面张力的作用,液滴D中朝向被润湿扩散的清洁构件14的向下方拉伸的力发挥作用。由此,如图6(C)所示,液滴D从喷嘴12b前端向清洁构件14的表面流动。
然后,如图6(D)所示,狭缝涂布机12向垂直方向上升而离开清洁构件14的表面。此处,认为如果狭缝涂布机12在保持着使液滴D接触的状态下沿水平方向移动,则液滴D附在喷嘴12b侧面反而会造成污染。本实施方式中,狭缝涂布机12向垂直方向上升而离开清洁表面,由此液滴D不会附在侧面而是从喷嘴12b前端顺畅地得到剥离,且移动到清洁构件14的表面。由此,狭缝涂布机12的清洁结束。对清洁构件14的附着有液滴D的部分使用抗液性不高的原材料,由此液滴D从喷嘴12b前端向清洁构件14的表面的移动将变得顺畅。另外,也可对喷嘴12b前端部例如进行氟剂涂布等抗液处理。由此,液滴D顺畅地离开喷嘴12b且容易移动到抗液性不高的清洁构件14。
狭缝涂布机12再次移动到涂布单元10A,对基板进行粘合剂R的涂布。狭缝涂布机12因利用清洁而将液滴D去除,所以涂布开始部分的直线性保持得良好,从而可防止涂布不均。
且说,如果清洁构件14与喷嘴12b前端的平行度(parallelism)未保持为某种程度,则清洁构件14与粘合剂R的液滴D或喷嘴12b前端的接触会变得不均匀,从而液滴D的流动状态变得不均匀。尤其在如狭缝喷嘴般呈线状地喷出的情况下,喷嘴前端与清洁构件的平行度将变得重要。因此,也可设置对清洁构件与喷嘴前端的平行度进行调整的机构。
然而,例如在使用硅胶等弹性体作为清洁构件14、且使喷嘴12b前端与清洁构件14的表面接触时,弹性体发生弯曲而沿着喷嘴12b前端的形状。因此,无需使清洁构件14与喷嘴12b前端的平行度严格一致。
(贴合部)
涂布了粘合剂R的液晶面板S1利用未图示的拾取部件而从涂布部1搬出,由搬送部4搬送,且被搬入到贴合部2。此处,保护面板S2也被搬入到贴合部2。液晶面板S1与保护面板S2的搬送时机以可在贴合部2中合并的方式调整即可,并不限定于一个时机。
例如,是将保护面板S2与液晶面板S1同时地搬入到显示面板制造装置100,涂布部1通过且先搬入到贴合部2。而且,也可在利用涂布部1对液晶面板S1涂布粘合剂R的期间,贴合部2处于待机。或者,也可为保护面板S2在比液晶面板S1后的时机搬入到显示面板制造装置100,且在与已由涂布部1结束涂布的液晶面板S1相同的时机搬入到贴合部2。
贴合部2如图7(A)所示,包括将液晶面板S1与保护面板S2积层而加以贴合的基板贴合装置20。基板贴合装置20为在腔室21内将下侧板22与上侧板23相向配置而成的构成。腔室21可上下移动,如果向上方移动则下侧板22与上侧板23向外部开放而可搬入液晶面板S1与保护面板S2。如果向下方移动则下侧板22与上侧板23收容于腔室内,从而在腔室内部形成密闭空间。腔室21可利用未图示的排气部件来调整内部压力。即,如果搬入液晶面板S1与保护面板S2,则腔室21下降而内部得到密闭后减压,在减压环境下进行贴合。
下侧板22作为支撑部,对载置于板上的基板进行支撑。上侧板23作为保持部,利用保持机构来保持基板。本实施方式中,作为一例而说明如下情况,即由下侧板22支撑涂布了粘合剂R的液晶面板S1,且由上侧板23保持保护面板S2。
作为上侧板23的保持机构,可应用例如静电夹头、机械夹头、真空夹头、粘合夹头等当前或将来可能利用的所有保持机构。也可并用多种夹头。在上侧板23包括升降机构25作为驱动部。上侧板23利用该升降机构25而可与下侧板22接近或离开地移动,且如图7(B)所示,将由上侧板23保持的保护面板S2按压到由下侧板22支撑的液晶面板S1并进行积层。液晶面板S1与保护面板S2经由涂布于液晶面板S1的表面的粘合剂R而贴合,从而形成着积层面板S10。
如所述般,涂布于液晶面板S1的表面的粘合剂R的外缘部产生凸起。在将液晶面板S1与保护面板S2加以贴合时,通常在贴合时,该外缘部的凸起因保护面板S2而压扁从而凹陷也消失。然而,如所述般,如果残留于狭缝涂布机12的液滴D的残留量多,则存在凸起量增多而凸起与凹陷的高度之差增大的倾向。如果在凸起与凹陷的高度之差大的状态下进行贴合,则凸起未被完全压扁而凹陷残留,结果可能在积层面板S10上产生孔隙(void)。然而,本实施方式中如所述般,因在涂布部进行狭缝涂布机12的清洁,所以可减小粘合剂R的外缘部的凸起与凹陷之差,从而可减少孔隙的产生。
下侧板22也可包括与上侧板23相同的保持机构以使所载置的液晶面板S1的位置不会偏离。
将液晶面板S1与保护面板S2贴合而形成的积层面板S10利用未图示的拾取部件而从贴合部2搬出,由搬送部4搬送,且被搬入到硬化部3。
(硬化部)
如图8(A)、图8(B)所示,硬化部3包括硬化装置30,所述硬化装置30使粘合液晶面板S1与保护面板S2的粘合剂R硬化。硬化装置30包括载置着积层面板S10的平台31、及配置于平台31上的UV照射单元33。
UV照射单元33包括可发出紫外线(UV)的1个或多个UV灯或发光二极管(light-emitting diode,LED)等。UV照射单元33的照射以如下方式得到调节,即,可照射使粘合剂R硬化所需的能量(energy)量的紫外线。该能量量利用紫外线照射的强度与时间来进行调整。
如图8(A)所示,由搬送部4搬送的积层面板S10载置于平台31上。而且,如图8(B)所示,UV照射单元33照射使粘合剂R完全硬化所需的能量量的紫外线,从而粘合剂R的硬化结束。
另外,显示面板制造装置100也可在涂布部1、贴合部2及硬化部3的前后或之间进行其他工序。因此,显示面板制造装置100也可包括例如在涂布部1的前段或贴合部2的前段拍摄基板的外观而进行位置对准的位置对准部、或将已完成的液晶显示面板L捆包的捆包单元等。
[评估试验1]
在所述本实施方式的显示面板制造装置100中,预先将粘合剂R的涂布处理进行多次,从而成为狭缝涂布机12的喷嘴12b前端附着液滴D的状态。而且,作为实施例1,通过进行一次将喷嘴12b前端按压到清洁构件14来进行清洁。然后,再次对基板进行粘合剂R的涂布处理。而且,作为比较例1,对进行多次涂布处理而附着了液滴D的狭缝涂布机12,不进行清洁,而是再次对基板进行粘合剂R的涂布处理。
按照以下的条件来进行清洁。
·清洁构件...硅胶
·喷嘴按压时间...0.1sec
·喷嘴按压量...0.2mm
此处,喷嘴按压量是指将喷嘴前端从清洁构件的表面的位置向下方压入的深度。
按照以下的条件进行涂布处理。
·基板...玻璃制,152.4×91.4(mm)的长方形,厚度0.7mm
·粘合剂...粘度2900mPa·s的紫外线(UV)硬化树脂
·粘合剂涂布厚度目标...200μm
如果测定用作清洁构件14的硅胶与粘合剂R的接触角,则约为76°。接触角越接近0°则亲液性越高,但硅胶的抗液性相对不高,可以说对粘合剂R具有亲液性。
对实施例1及比较例1分别进行涂布于基板上的粘合剂R的形状的评估。
[起点凸起量]
首先,对实施例1及比较例1,如图3(B)所示,从侧方观察基板,对凸起的顶点部的高度HMAX分别进行测定。此外,对从顶点部朝向基板中心移动10mm的地点的高度进行测定。因粘合剂R的特性而有若干误差,在从凸起的顶点部朝向基板中心小于约10mm的范围内产生凹陷,相比于该凹陷,基板中心侧为平坦的面,且成为涂布厚度。在将从顶点部向基板中心侧移动10mm的地点的高度作为涂布厚度、将该高度作为凸起的底边高度HMIN时,可将从顶点部的高度HMAX减去底边高度HMIN所得的值,作为粘合剂R比涂布厚度凸起的量,即,凸起量HDIF。
将实施例1与比较例1的测定结果表示于以下的表1中。
[表1]
喷嘴按压次数 | 凸起量HDIF[μm] | |
比较例1 | 0 | 25 |
实施例1 | 1 | 22 |
根据表1可知,进行了清洁的实施例1的凸起量比不进行清洁的比较例1少。因利用清洁将狭缝涂布机12的液滴D加以去除,所以凸起量减少,从而可减少孔隙的产生。
[直线性]
接下来,对粘合剂R的涂布开始部分的直线性进行评估。如图9所示,对从基板上方观察时粘合剂R的涂布端中的离基板外缘最近的部分、与离基板外缘最远的部分之间的距离I进行测定。该距离I表示涂布端的差异,可评估为距离I越小则直线性越良好。另外,图9为了容易理解而将差异夸张描述,并非表示实际的差异。关于实施例1,作为实施例1-1及实施例1-2,而在相同条件下进行2次试验。
将实施例1-1、实施例1-2及比较例1的测定结果表示于以下的表2中。
[表2]
按压次数[次] | 距离I[mm] | |
比较例1 | 0 | 3.448 |
实施例1-1 | 1 | 1.384 |
实施例1-2 | 1 | 1.297 |
根据表2可知,进行了清洁的实施例1-1及实施例1-2比起未进行清洁的比较例1,距离I短,且直线性良好。因利用清洁将狭缝涂布机12的液滴D加以去除,所以涂布端的差异减少,从而可减少涂布不均。
[评估试验2]
在评估试验1中,清洁构件14使用的是硅胶,但在评估试验2中,使用两面贴附有PET膜而成的硅凝胶片(silicon gel sheet)来作为清洁构件14。如果对PET膜与粘合剂R的接触角进行测定,则约为53°。PET膜也可以说抗液性相对不高,且对粘合剂R具有亲液性。其他在与评估试验1相同的条件下进行试验。作为实施例2,通过进行一次将喷嘴12b前端按压到清洁构件14来进行清洁。比较例2中未进行清洁。而且,对实施例2及比较例2分别进行起点凸起量与直线性的评估。
[起点凸起量]
将实施例2及比较例2的测定结果表示于以下的表3中。
[表3]
喷嘴按压次数 | 凸起量HDIF[μm] | |
比较例2 | 0 | 135 |
实施例2 | 1 | 60 |
如表3所示可知,在使用贴附了PET膜的硅凝胶片作为清洁构件14的实施例2中,比起未进行清洁的比较例2,凸起量也得到减少,从而可降低孔隙产生的可能性。
[直线性]
将实施例2及比较例2的测定结果表示于以下的表4中。
[表4]
按压次数[次] | 距离I[mm] | |
比较例2 | 0 | 3.448 |
实施例2 | 1 | 2.439 |
如表4所示,在将贴附了PET膜的硅凝胶片用作清洁构件14的实施例2中,比起未进行清洁的比较例2,距离I也变短,且直线性也良好。因利用清洁将狭缝涂布机12的液滴D加以去除,所以涂布端的差异减少,从而可减少涂布不均。
(效果)
(1)本实施方式的粘合剂涂布装置10包括:作为粘合剂涂布构件的狭缝涂布机12,供给粘合剂R而从设置于前端的喷嘴12b对基板涂布粘合剂R;以及清洁构件14,与狭缝涂布机12相向配置,狭缝涂布机12朝向清洁构件14的表面而在垂直方向上移动,使附着于喷嘴12b的前端的液滴D与清洁构件14的表面接触,使液滴D流动,且以离开清洁构件14的表面的方式在垂直方向上移动,从而将液滴D从喷嘴12b前端去除。
使清洁构件14与液滴D接触,通过使液滴D流动而从喷嘴12b去除,因而无需将喷嘴12b强而有力地按压到清洁构件14,可减少因喷嘴12b或清洁构件14的摩擦或产生灰尘而引起的消耗或污染。而且,狭缝涂布机12在垂直方向上移动,且仅以与清洁构件14接近或离开的方式进行动作,并不进行在水平方向上移动而利用清洁构件14擦去液滴D的动作。因此,不会有液滴D附着于喷嘴12b的侧面反而污染到喷嘴12b的情况。由此,可使清洁后的涂布为不均少的稳定的涂布。
而且,在使清洁构件沿着狭缝涂布机12的细长的喷嘴12b移动而将液滴D擦去的方法中,使清洁构件沿着喷嘴12b移动需要时间。另一方面,本实施方式中,利用清洁构件14的一次移动,可进行喷嘴12b整个前端的清洁,因而可缩短清洁时间。越增加擦拭次数则越能够大幅缩短清洁时间。
另外,只要狭缝涂布机12的相对于清洁构件14的移动为相对移动即可,因而也可使清洁构件14以与狭缝涂布机12接近或离开的方式移动。该情况下,宜在载置着清洁构件14的载置台15上另外具备驱动机构,且使清洁构件14可移动。
(2)狭缝涂布机12使喷嘴12b不与清洁构件14接触,而仅使附着于喷嘴12b前端的液滴D与清洁构件14接触。
本实施方式中,通过使液滴D流动来进行喷嘴12b的清洁,因而无须使清洁构件14与喷嘴12b直接接触,从而可进一步减少喷嘴12b与清洁构件14的消耗。
(3)或者,狭缝涂布机12也可使喷嘴12b前端与清洁构件14接触。通过接触而可使喷嘴12b前端的液滴D确实地与清洁构件14接触。此外,利用喷嘴12b使液滴D扩展,因而可更确实地使液滴D移动到清洁构件14。
[第二实施方式]
接下来,参照图10(A)~图10(G)对第二实施方式进行说明。另外,在以后的实施方式中,对与第一实施方式的构成要素相同的构成要素,附上相同的符号并省略详细的说明。第二实施方式中,例如所使用的粘合剂R的粘度高,在使喷嘴12b与清洁构件14仅接触一次而难以将喷嘴12b前端的液滴D完全去除时,使喷嘴12b前端的液滴D与清洁构件14接触多次。
第二实施方式的显示面板制造装置100及粘合剂涂布装置10的构成与第一实施方式相同。而且,涂布部1的涂布单元10A、贴合部2及硬化部3的作用与第一实施方式相同,因而省略说明。使用图10(A)~图10(G)对本实施方式的涂布部1的清洁单元10B的作用进行说明。
图10(A)~图10(C)与第一实施方式相同。即,从涂布单元10A退避的狭缝涂布机12进入到清洁单元10B中,且位于载置台15的清洁构件14的上方(图10(A)),朝向清洁构件14下降(图10(B)),使液滴D与清洁构件14的表面接触,且移动到清洁构件14的表面(图10(C))。然而,如果如所述般粘合剂R的粘度高,则有时一次接触无法使所有液滴D移动。因此,如图10(D)所示,当使狭缝涂布机12上升时,液滴D虽然小,但依然附着于喷嘴12b前端。因此,本实施方式中,在进行一次接触之后,使狭缝涂布机12移动,使用清洁构件14的未使用的部分进行第二次接触。
如图10(E)所示,狭缝涂布机12将清洁构件14的上方朝向X轴方向移动规定量。规定量是指如下距离,即,狭缝涂布机12的喷嘴12b前端部分离开清洁构件14表面的附着有液滴D的部分,而可移动到未附着液滴D的部分之上为止。即,在清洁构件14与液滴D接触后,狭缝涂布机12在清洁构件14的上方移动,由此可更新清洁构件14的与液滴D的接触面。另外,图中作为一例,狭缝涂布机12向左方向移动,但移动方向可根据清洁构件14的新的接触面的位置而适当选择,也可向右方向移动。
对于狭缝涂布机12的移动量而言,可根据粘合剂R的粘度等,而预先掌握、预先决定清洁构件14上形成着多大面积的粘合剂R的液滴D。或者,也可在第一次接触结束后,通过目视来确认清洁构件14表面的粘合剂R的液滴D的大小,以喷嘴12b前端不会与该液滴D接触的方式,利用手动使狭缝涂布机12移动。
在使狭缝涂布机12在清洁构件14的上方移动后,如图10(F)所示,再次朝向清洁构件14下降,进行第二次接触。残存于喷嘴12b前端的液滴D与清洁构件14表面接触地流动,且移动到清洁构件14的表面。在液滴D移动后,如图10(G)所示,狭缝涂布机12再次上升而离开清洁构件14。残存于喷嘴12b前端的液滴D被去除,从而清洁结束。
有时根据粘合剂R的粘度等,即便进行两次接触也无法将液滴D完全去除。该情况下,也可使狭缝涂布机12进一步移动,而进行第三次以上的接触。狭缝涂布机12的移动量均可设为固定距离,但因考虑到附着于清洁构件14表面的粘合剂R的面积逐渐减小,所以移动量也可在每次重复接触次数时减小。比起将移动量设为相同量,而使移动时间的合计量缩短,故能够进一步缩短清洁时间。
而且,狭缝涂布机12的停止位置与第一实施方式同样地,为至少喷嘴12b前端的液滴D与清洁构件14的表面接触的位置。即,宜设为仅液滴D与清洁构件14的表面接触的位置、或喷嘴12b前端虽与清洁构件14的表面接触但不会被强而有力地按压的位置。
然而,在第一次接触与第二次接触中,也可变更停止位置。例如,在第一次接触中,液滴D为最大的状态,因而也可在比清洁构件14的上表面稍上方处停止,仅使液滴D与清洁构件14的表面接触。而且,在第二次接触中,也可下降到清洁构件14的上表面位置,使喷嘴12b自身与清洁构件14的表面接触。虽预测液滴D第二次会比第一次小,也可通过使喷嘴12b自身接触,而使液滴D确实地与清洁构件14接触。
当然,在包含第一次接触的所有接触中,也可使喷嘴12b前端与清洁构件14接触。或者,也可视目的而适当选择按照次数划分的狭缝涂布机的停止位置,例如在第一次使喷嘴12b前端与清洁构件14接触,而在第二次仅使液滴D与清洁构件14接触等。
也可与第一实施方式同样地,设置对清洁构件14与喷嘴12b前端的平行度进行调整的机构。然而,如所述般,在使用硅胶等弹性体来作为清洁构件14,且使喷嘴12b前端与清洁构件14的表面接触时,弹性体弯曲而沿着喷嘴12b前端的形状,因而也可省略调整机构。尤其在第二实施方式中,使狭缝涂布机12在X轴方向上移动而改变与清洁构件14的接触部位,因而需要进行清洁构件14整个范围内的平行度的调整。因此,如果使用弹性体来作为清洁构件14,则不再需要调整平行度,因而可大幅提高清洁的效率。
[评估试验3]
第一实施方式的评估试验1及评估试验2中,是将喷嘴12b前端仅向清洁构件14按压一次而进行清洁。在第二实施方式的评估试验3中,进而作为实施例3~实施例7,是将喷嘴12b前端向清洁构件14按压2次~6次而进行清洁。喷嘴12b的按压是每次在水平方向上移动来变更与清洁构件14的接触位置。就清洁构件14而言,与第一实施方式的评估试验1同样地使用硅胶。
[起点凸起量]
将比较例1、实施例1及实施例3~实施例7的起点凸起量的测定结果表示于以下的表5中。而且,将测定结果制成曲线图表示于图11中。
[表5]
喷嘴按压次数 | 凸起量HDIF[μm] | |
比较例1 | 0 | 25 |
实施例1 | 1 | 22 |
实施例3 | 2 | 17 |
实施例4 | 3 | 9 |
实施例5 | 4 | 8 |
实施例6 | 5 | 7 |
实施例7 | 6 | 6 |
如表5及图11所示可知,即便在将喷嘴12b的按压仅进行一次的情况下,也可减少凸起量,但通过增加按压次数,而可大幅减少凸起量。尤其可知在将按压次数设为3次的实施例4中,可将凸起量抑制到接近实施例3的一半,从而由清洁实现的孔隙减少效果大。
[直线性]
将比较例1、实施例1及实施例3~实施例7的与直线性相关的测定结果表示于以下的表6中。对实施例1及实施例3~实施例7分别在相同条件下进行2次试验。将测定结果制成曲线图表示于图12中。
[表6]
按压次数[次] | 距离I[mm] | |
比较例1 | 0 | 3.448 |
实施例1-1 | 1 | 1.384 |
实施例1-2 | 1 | 1.297 |
实施例3-1 | 2 | 1.073 |
实施例3-2 | 2 | 1.046 |
实施例4-1 | 3 | 0.189 |
实施例4-2 | 3 | 0.140 |
实施例5-1 | 4 | 0.138 |
实施例5-2 | 4 | 0.215 |
实施例6-1 | 5 | 0.131 |
实施例6-2 | 5 | 0.080 |
实施例7-1 | 6 | 0.126 |
实施例7-2 | 6 | 0.187 |
根据表6及图12可知,即便在将喷嘴12b的按压仅进行一次的实施例1中,也可获得优于比较例1的直线性,但通过增加按压次数,而可获得更好的直线性。尤其在将按压次数设为3次的实施例4-1及实施例4-2中,距离I大幅减小,可看见直线性大幅改善。
[评估试验4]
评估试验4与第一实施方式的评估试验2同样地,使用两面贴附了PET膜的硅凝胶片来作为清洁构件14。进而,作为实施例8~实施例12,将喷嘴12b前端向清洁构件14按压2次~6次而进行清洁。此外,在与评估试验3相同的条件下进行试验。
[起点凸起量]
将比较例2、实施例2及实施例8~实施例12的起点凸起量的测定结果表示于以下的表7中。而且,将测定结果制成曲线图表示于图13中。
[表7]
喷嘴按压次数 | 凸起量HDIF[μm] | |
比较例2 | 0 | 135 |
实施例2 | 1 | 60 |
实施例8 | 2 | 25 |
实施例9 | 3 | 0 |
实施例10 | 4 | 1 |
实施例11 | 5 | 0 |
实施例12 | 6 | 0 |
如表7及图13所示可知,即便在使用清洁构件14上贴附了PET膜而成的硅凝胶片时,也可通过增加按压次数而大幅减小凸起量。尤其在按压次数为3次以上的实施例9~实施例12中,凸起量可抑制为大致0,从而由清洁实现的孔隙减少效果大。
[直线性]
将比较例2、实施例2及实施例8~实施例12的与直线性相关的测定结果表示于以下的表8中。而且,将测定结果制成曲线图表示于图14中。
[表8]
按压次数[次] | 距离I[mm] | |
比较例2 | 0 | 3.448 |
实施例2 | 1 | 2.439 |
实施例8 | 2 | 1.928 |
实施例9 | 3 | 0.547 |
实施例10 | 4 | 0.189 |
实施例11 | 5 | 0.124 |
实施例12 | 6 | 0.147 |
根据表8及图14可知,即便在使用清洁构件14上贴附了PET膜而成的硅凝胶片时,也可通过增加按压次数而获得更好的直线性。尤其在按压次数为3次以上的实施例9~实施例12中,可看到直线性得到大幅改善。
(效果)
(1)第二实施方式的粘合剂涂布装置10中,狭缝涂布机12使附着于喷嘴12b前端的液滴D与清洁构件14接触多次。
例如,因粘合剂R的粘度高,所以即便在使液滴D与清洁构件14仅接触一次而难以将液滴D从喷嘴12b前端完全去除时,通过进行多次接触,而可将液滴D完全去除。
而且,如第一实施方式所示,可利用清洁构件14的一次移动来进行喷嘴12b前端整体的清洁,因而可缩短清洁时间。在使液滴D与清洁构件14接触多次的情况下,即进行多次清洁的情况下,可进一步增大清洁时间的缩短效果。
(2)狭缝涂布机12在液滴D的接触之后相对于清洁构件14移动,更新清洁构件14与液滴D的接触面。由此,即便进行多次接触时,也可每次使用未附着粘合剂R的新的面来进行清洁。
另外,只要狭缝涂布机12的相对于清洁构件14的移动为相对移动即可,故在狭缝涂布机12位于清洁构件14的上方时,也可使清洁构件14移动而更新接触面。该情况下,宜在载置着清洁构件14的载置台15上另外具备驱动机构,且使清洁构件14可移动。
(3)狭缝涂布机12相对于清洁构件14移动的距离也可根据液滴D与清洁构件14的接触次数而设为可变。例如,随着重复接触次数而液滴D逐渐减小,可缩小移动距离,由此可减小液滴D附着于清洁构件14的面积。而且,因比起将移动距离设为等间隔,而使移动时间的合计量缩短,所以可进一步缩短清洁时间。
在进行下一次清洁时,可更换清洁构件14,也可使用相同清洁构件14的尚未附着液滴D的部分进行清洁。该情况下,能够利用一次清洁尽可能地减小液滴D的附着面积,由此可利用面积有限的清洁构件14进行更多次数的清洁,更换间隔也得到延长,从而可缩短更换作业所需的液晶显示面板的非生产时间。而且,在清洁构件14为吸水纸等一次性材料的情况下,也可降低材料成本。
[第三实施方式]
接下来,参照图15~图17(A)、图17(B)、图17(C)对第三实施方式进行说明。第三实施方式的粘合剂涂布装置10如图15所示,清洁单元10B中具备擦拭构件16,所述擦拭构件16对附着于清洁构件14的粘合剂R的液滴D进行擦拭。
擦拭构件16为包含橡胶等弹性体的刮刀(1ancet)状构件。擦拭构件16由支撑构件17支撑,且配置于载置台15上方。支撑构件17与驱动机构M2连接,且擦拭构件16利用驱动机构M2而可在X轴方向及Z轴方向上移动。擦拭构件16为与清洁构件14的沿Y轴方向延伸的边大致相同的长度,且具有俯视大致平行的边。
擦拭构件16在图中配置于清洁单元10B的左侧,但配置位置并不限于此。例如,理想的是配置于清洁单元10B内的Y轴方向内侧等不会妨碍狭缝涂布机12的前进道路的位置,但因连接于驱动机构M2,所以也可在狭缝涂布机12进入时移动。
使用图16(A)~图16(D)对擦拭构件16的第一动作例进行说明。此处列举如下情况为例进行说明,即第二实施方式中说明的液滴D与清洁构件14的接触进行多次。当然,自不必说也可在第一实施方式中说明的液滴D与清洁构件14的接触为一次的情况下进行。
如图16(A)所示,在清洁构件14的上表面附着多个液滴D。另外,结束清洁的狭缝涂布机12已从清洁单元10B退避。
如图16(B)所示,擦拭构件16在X轴方向上移动,且在载置台15上方的清洁构件14的外缘附近的位置处停止。接下来,如图16(C)所示,擦拭构件16下降,且在比清洁构件14的上表面稍下方的位置处停止。进一步,如图16(D)所示,擦拭构件16朝向清洁构件14而在X轴方向上移动。
擦拭构件16顶接于清洁构件14的侧面,但因包含弹性体,所以会发生弯曲而被清洁构件14的上表面向上推。而且,在被按压到清洁构件14的上表面的状态下滑动。由此,擦拭构件16如橡胶刮板(rubber spatula)那样将附着于清洁构件14的上表面的多个液滴D集中擦拭。
另外,在图16(B)中图示的状态下,擦拭构件16以顶接于清洁构件14的侧面的方式,在清洁构件14的外缘附近的位置处停止,擦拭构件16也能够以一开始便顶接于清洁构件14的上表面的方式,在清洁构件14上表面的上方处停止。而且,图中,作为一例,擦拭构件16在清洁构件14的表面向左方向滑动,但可根据擦拭构件16的配置位置而适当选择移动方向,也可向右方向滑动。
使用图17(A)~图17(C)对擦拭构件16的第二动作例进行说明。第二动作例为擦拭构件16的再生处理。如图16(A)~图16(D)所示,擦拭构件16从清洁构件14的上表面的一端向另一端滑动,将附着于清洁构件14的液滴D擦拭。擦拭后的擦拭构件16上附着粘合剂R。擦拭构件16一旦上升而从清洁构件14的上表面离开后,进行再生处理。
通过将附着于擦拭构件16的粘合剂R去除而进行再生处理。作为去除方法,考虑擦去、挤取或抽吸等方法,但此处对利用再生构件19将粘合剂R擦去的方法进行说明。图17(A)~图17(C)表示再生处理的三个示例。
图17(A)所示的例中,清洁构件14的角部构成再生构件19。即,利用清洁构件14的角部将粘合剂R擦去。擦拭构件16在擦拭结束后上升而从清洁构件14的上表面离开,且以追溯X轴方向的方式移动。而且,在图16(B)中图示的载置台15上方的清洁构件14的外缘附近的位置处再次停止。接下来,擦拭构件16下降,在比清洁构件14的上表面靠下方的位置处停止。此时,为了将附着于擦拭构件16的粘合剂R确实地擦去,下降位置也可位于比图16(C)所示的擦拭时的下降位置靠下方处。
擦拭构件16朝向清洁构件14而在X轴方向上移动,由此如图17(A)所示,在擦拭构件16发生弯曲而从清洁构件14的侧面触碰到上表面时,所附着的粘合剂R被连接侧面与上表面的角部所擦去。
在图17(B)所示的例中,载置台15的角部构成再生构件19。将粘合剂R擦去的方法与图17(A)相同,但该情况下,擦拭构件16在载置台15的外缘附近且比载置台15的上表面靠下方的位置处停止。而且,朝向载置台15而在X轴方向上移动,由此利用载置台15的角部将附着于擦拭构件16的粘合剂R擦去。
在图17(C)所示的例中,准备专用的再生构件19,利用其角部将粘合剂R擦去。再生构件19如清洁构件14或载置台15般宜设为具有角的例如大致长方体的构件。而且,宜为例如由玻璃、金属、树脂等形成,具有一定程度的硬度,且可使包含弹性体的清洁构件14弯曲。再生构件19也可包括未图示的驱动机构,在进行再生处理时移动到载置台15上方。
将粘合剂R擦去的方法与图17(A)及图17(B)所图示的示例相同,但该情况下,擦拭构件16在再生构件19的外缘附近且比再生构件19的上表面靠下方的位置处停止。而且,朝向再生构件19而在X轴方向上移动,由此利用再生构件19的角部将附着于擦拭构件16的粘合剂R擦去。
图17(A)~图17(C)中,作为一例,擦拭构件16使清洁单元10B向左方向移动而与再生构件19接触,但可根据擦拭构件16的配置位置而适当选择移动方向,也可向右方向滑动。
在擦拭处理及再生处理后,擦拭构件16从载置台15上方退避,利用液滴D已被擦拭的清洁构件14,再次进行狭缝涂布机12的清洁。
另外,第一实施方式中,已对清洁构件14中优选使用抗液性不高的原材料进行了叙述,但第三实施方式中,更优选使用吸液性也不高的玻璃或硅胶等原材料。由此,可利用擦拭构件16将附着于清洁构件14的表面的液滴D顺畅地擦拭。
且说,在使用擦拭构件16来将清洁构件14表面的粘合剂R擦拭时,也可不需要将粘合剂R完全去除,而具有一定程度的擦拭残留。或者,也可以强行存在擦拭残留的方式进行擦拭。认为因清洁构件14的表面存在粘合剂R,而可增加亲液性,即与粘合剂R的亲和性。由此认为,清洁时,可使残留于喷嘴12b前端的液滴D更顺畅地移动到清洁构件14。
这样在积极地设置擦拭残留部分的情况下,例如,如图18所示,宜在擦拭构件16的与清洁构件14的接触部分设置多个切口或槽等。或者,宜使接触部分的表面变得粗糙而成为凹凸状。通过设为此种构成,在擦拭时清洁构件14的表面形成线状的擦拭残留部分。此时,线状的擦拭残留部分宜以与喷嘴12b的线状的喷出区域交叉的方式延伸。该情况下,擦拭构件16的切口或凹部的方向也宜设为与喷嘴12b的狭缝正交的方向。由此,可将亲液部分从喷出区域的始端到终端为止均匀地设置,在清洁时,不再需要将喷嘴12b前端位置对准于形成在清洁构件14的擦拭残留的亲液部分。即,在亲液部分与喷嘴12b的前端平行的情况下,需要进行位置对准以使喷嘴12b的前端与亲液部分接触,但因亲液部分与喷嘴12b正交,所以不需要将喷嘴12b进行特别地位置对准,喷嘴12b的狭缝或者液滴D也可与亲液部分接触。
另外,狭缝涂布机12在垂直方向上移动,且仅以与清洁构件14接近或离开的方式进行动作,因而即便在存在此种擦拭残留部分,或者对清洁构件14的表面涂布具有亲液性的材料的情况下,也可防止粘合剂R逆附着而积存于喷嘴12b的侧面。
(效果)
(1)在第三实施方式的粘合剂涂布装置10上设置擦拭构件16,该擦拭构件16在清洁构件14的表面上滑动,将附着于清洁构件14的粘合剂R的液滴D擦拭。由此,即便不更换清洁构件14,也可再次用于清洁,因而可减少清洁构件14的更换次数,降低材料成本,从而可提高作业效率。
而且,尤其在将液滴D与清洁构件14的接触进行多次的情况下,液滴D附着于清洁构件14的多个部位。该多个部位的液滴D可由擦拭构件16集中擦拭,因而可容易地进行清洁构件14的再生处理。
(2)设置着再生构件19,该再生构件19将附着于擦拭构件16的粘合剂R擦去而使擦拭构件16再生。由此,即便并非在每次擦拭时更换擦拭构件16,也可再次进行擦拭,因而可减少擦拭构件16的更换次数,降低材料成本,从而可提高作业效率。
(3)由清洁构件14的角部或载置着清洁构件14的载置台15的角部来构成再生构件19。由此,不需要另外设置专用的再生构件,从而可达成节省空间及节省成本。
[第四实施方式]
接下来,参照图19及图20(A)~图20(D)对第四实施方式进行说明。第四实施方式中,对如下形态进行说明,即,在使喷嘴12b前端的液滴D与清洁构件14的上表面接触之前,进行预备的液滴D的去除。
第四实施方式的显示面板制造装置100及粘合剂涂布装置10的构成与第一实施方式大致相同,如图19中圆圈所示,板状的清洁构件14的角部,即,侧面及与侧面连接的上表面的外缘部分作为进行液滴D的预备去除的粘合剂去除构件18而构成。另外,图中,将清洁构件14的右侧的角部作为粘合剂去除构件18而构成,但也可根据狭缝涂布机12的驱动方向,将清洁构件14的左侧的角部作为粘合剂去除构件18。
使用图20(A)~图20(D)对该粘合剂去除构件18的作用进行说明。关于利用粘合剂去除构件18的将液滴D预备去除以外的作用,因与第一实施方式或第二实施方式相同,故省略说明。
如图20(A)所示,从涂布单元10A退避的狭缝涂布机12进入到清洁单元10B中。第一实施方式及第二实施方式中,狭缝涂布机12位于载置台15的清洁构件14的上方。第四实施方式中,狭缝涂布机12位于载置台15上的清洁构件14附近,向不存在清洁构件14的位置移动,且朝向载置台15下降。而且,从喷嘴12b前端下垂的液滴D位于比清洁构件14的上表面靠下方的位置,且在不与载置台15表面接触的位置处停止。因此,本实施方式的清洁构件14的厚度理想的是设为比从喷嘴12b前端滴下的液滴D的全长要长。
如图20(B)所示,狭缝涂布机12使X轴方向朝向清洁构件14移动。利用该移动,清洁构件14的侧面以横切从喷嘴12b前端下垂的液滴D的方式进行接触。利用该接触,如图20(C)所示,液滴D的一部分流动而从喷嘴12b前端离开。离开的液滴D的一部分随着狭缝涂布机12的移动,以触碰清洁构件14的上表面的外缘部的方式附着。即,清洁构件14的侧面及与侧面连接的上表面外缘部作为将液滴D的一部分去除的构件发挥作用。
在液滴D的一部分移动到清洁构件14后,狭缝涂布机12暂时上升。而且,如图20(D)所示,在X轴方向上移动到液滴D未附着的部分为止后,与第一实施方式同样地,朝向清洁构件14下降,使残留于喷嘴12b前端的液滴D与清洁构件14接触而将其去除。
另外,图中,作为一例,狭缝涂布机12向左方向移动而与再生构件19接触,可根据擦拭构件16的配置位置而适当选择移动方向,也可向右方向滑动。而且,本实施方式中,粘合剂去除构件18作为清洁构件14的一部分而构成,也可作为其他构件而设置。
(效果)
第四实施方式的粘合剂涂布装置10中,设置着粘合剂去除构件,该粘合剂去除构件从横切方向与从喷嘴12b前端下垂的液滴D接触,使液滴D的一部分流动而从喷嘴12b前端去除。
例如,因粘合剂R的粘度高,所以即便在仅使液滴D与清洁构件14接触而难以将液滴D从喷嘴12b前端完全去除的情况下,也可利用从横切方向与液滴D接触的粘合剂去除构件18,来将液滴D的一部分去除,因而可更确实地将液滴D去除。
另外,本实施方式中,使狭缝涂布机12移动而使液滴D与清洁构件14的侧面接触,但也可在载置着清洁构件14的载置台15上设置驱动机构,使清洁构件14移动而使侧面与液滴D接触。
[第五实施方式]
接下来,参照图21~图23对第五实施方式进行说明。如图21所示,第五实施方式中,在粘合剂涂布装置10的涂布单元10A设置UV照射单元13作为粘合剂R的临时硬化部。而且,在涂布单元10A与清洁单元10B之间设置着规定的间隔C。
UV照射单元13包含可发出紫外线(UV)的一个或多个灯或LED等,且配置于平台11上。如图22所示,UV照射单元13对涂布于液晶面板S1的表面的粘合剂R进行UV照射。
该涂布部1的UV照射在弱照射强度下进行,或者在大气下进行以可引起氧抑制。因此,粘合剂R成为广泛包含未硬化部分残留的状态的所谓的临时硬化的状态。
因成为临时硬化的状态,而抑制粘合剂R的流动,且防止在直到后述贴合为止的搬送等的时间内或贴合中涂布形状的变形或粘合剂R向面板外的溢出。另外,因未硬化部分残留,所以粘合剂R的粘合性或缓冲性得以维持。在使用的粘合剂R的粘度低而不易维持涂布形状的情况下,该临时硬化尤其有效。
如第一实施方式中说明般,狭缝涂布机12在结束对液晶面板S1涂布粘合剂R后,从涂布单元10A退避到清洁单元10B中。此处,如果UV照射单元13的照射光到达存在于清洁单元10B的狭缝涂布机12,则存在附着于喷嘴12b前端的粘合剂R的液滴D也硬化的可能性。硬化的液滴D存在即便与清洁构件14接触也无法从喷嘴12b前端去除的可能性。
如所述般,在涂布单元10A与清洁单元10B之间设置着规定的间隔C。该规定间隔C为UV照射单元13的照射光无法到达退避到清洁单元10B的狭缝涂布机12的距离,可根据照射光的到达距离而适当设定。通过设置该规定间隔C,可防止附着于喷嘴12b前端的粘合剂R的液滴D硬化。
图23为图21的变形例,代替在涂布单元10A与清洁单元10B之间设置间隔C,而设置可开闭的快门50。当狭缝涂布机12在涂布单元10A与清洁单元10B之间移动时,快门50打开。而且,在至少利用涂布单元10A进行UV照射时,关闭该快门50。由此,可防止UV照射光到达清洁单元10B的狭缝涂布机12,使附着于喷嘴12b前端的粘合剂R的液滴D硬化。而且,在设置快门50的情况下,可使涂布单元10A与清洁单元10B接近,因而有助于节省空间。
[其他实施方式]
(1)本发明并不限定于所述实施方式。例如,如图24所示,也可以与进入到清洁单元10B中的狭缝涂布机12接近的方式来配置鼓风机51,向附着于喷嘴12b前端的液滴D吹送向下的空气,从而液滴D容易移动到清洁构件14。由此,可更确实地进行清洁。而且,尤其可降低对喷嘴12b前端的上升部分的附着残留。
此时,如图21或图23般,也可在清洁单元10B与涂布单元10A之间设置间隔或快门。可利用空气的吹送而防止液滴D飞散到涂布单元10A上。
(2)而且,也可代替将清洁构件14配置于载置台15上,而使其弯曲地配置于旋转构件上。图25表示将清洁构件14配置于辊52的外周上的示例。对应液滴D与清洁构件14的多次接触的时机而使辊旋转,由此即便并未使喷嘴12b自身在X轴方向上移动,也可使液滴D一直与清洁构件14的未附着粘合剂R的洁净的面接触。
而且,也可将擦拭构件16配置于辊52的外周上。就配置位置而言,宜为在从液滴D与清洁构件14的接触位置向辊52的旋转方向的下游侧处,预先与清洁构件14的表面进行接触。由此,附着于清洁构件14的液滴D利用辊52的旋转而到达擦拭构件16的配置位置,而被擦拭构件16擦拭。因此,不需要使擦拭构件16自身移动。
作为擦拭构件16的配置位置的一例,也可将附着于辊52上的清洁构件14的液滴D配置于朝向下方或者侧方的位置。利用此种配置,可使被擦拭构件16擦拭的粘合剂R直接落到下方,因而擦拭构件16不易污染,即便没有再生构件19也可延长使用次数。
(3)或者,如图26所示,也可将链条的传送带54架设在旋转的2个链轮53、链轮53上,而在该传送带54上配置清洁构件14。利用链轮53、链轮53的旋转将传送带54传送,由此与辊52的情况同样地,即便不使喷嘴12b自身在X轴方向上移动,也可使液滴D一直与清洁构件14的未附着粘合剂R的洁净的面接触。可利用链轮53、链轮53的间隔来调节传送带54的长度,通过在该传送带54上配置清洁构件14,而可形成大的清洁构件14的面积。适合于被要求多次接触的清洁。当然,即便代替链条的传送带与链轮而使用平皮带与滑轮,也可获得相同的效果。
在传送带54的情况下,可与辊52同样地,将擦拭构件16配置于传送带54的外周上。配置位置也可与辊52同样地,将附着于传送带54上的清洁构件14的液滴D配置在朝向下方或者侧方的位置,使由擦拭构件16擦拭的粘合剂R直接落到下方。而且,也可代替在辊52或传送带54上配置清洁构件14,而将辊52或传送带54自身作为清洁构件14而构成。
(4)所述实施方式中,在液晶面板S1的表面涂布了粘合剂R,也可取而代之涂布于保护面板S2的表面。或者,也可涂布于液晶面板S1及保护面板S2两个的表面。
(5)所述实施方式中,以液晶面板S1与保护面板S2作为进行贴合的基板为例进行了说明,但并不限于此,可使用各种基板。例如,作为显示用面板,只要为有机EL面板等平面显示器(平板显示器)便可适用。而且,除保护面板外可使用操作用的触摸屏。此外,还包含在保护面板上贴合触摸屏。而且,贴合的基板也不限于一对。也可除液晶面板或保护面板外进而贴合触摸屏,或者将保护面板上下贴合等,而贴合3块以上的基板或两对以上的基板。即,只要将构成显示面板的基板贴合便可适用。
(6)所述实施方式中已进行了叙述,粘合剂涂布装置10的狭缝涂布机12的相对于液晶面板S1或清洁构件14的移动为相对移动即可。因此,也可通过使载置着液晶面板S1的平台11或载置着清洁构件14的载置台15移动,而进行涂布或清洁。而且,就狭缝涂布机12的对涂布单元10A及清洁单元10B的进入及退避而言,也可不使狭缝涂布机12自身移动,而通过使各单元中具备的平台11或载置台15移动来进行。
(7)所述实施方式中,在基板贴合装置20的上侧板23上设置了升降机构,但也可取而代之而在下侧板22设置升降机构。或者,也可在下侧板22与上侧板23两个上设置升降机构。
(8)所述实施方式中,列举了包括狭缝状喷嘴的狭缝涂布机12来作为粘合剂涂布构件的示例进行了说明,但也可使用其他种类的涂布机,例如包含圆筒喷嘴,即针形喷嘴的涂布机。该情况下,可为单喷嘴,也可为将多个喷嘴线状排列的多喷嘴。尤其在为多喷嘴的情况下,成为长的喷出区域,因而具有与狭缝喷嘴相同的效果。
(9)在使用粘度高的粘合剂R的情况下,认为即便使附着于喷嘴12b前端的粘合剂R的液滴D与清洁构件14接触,也不易移动到清洁构件14的表面。这是因为,粘度高的粘合剂R除流动需要时间外,与清洁构件14的接触角增大,而向清洁构件14的润湿扩散变差。因此,也可设置在清洁时使粘合剂R的粘度降低的部件。
作为粘合剂R的粘度降低部件之一,考虑使粘合剂R的温度上升。因此,也可在狭缝涂布机12的喷嘴12b的前端设置加热器等加热部件。狭缝涂布机12在为了清洁而向清洁单元10B移动时,利用加热部件使喷嘴12b的前端的温度上升。由此,附着于喷嘴12b前端的粘合剂R的液滴D也可加热。液滴D因被加热而粘度降低,因此可顺畅地从喷嘴12b前端移动到清洁构件14的表面。这样,即便在粘合剂R的粘度高的情况下,也可通过设置粘度降低部件来维持清洁的效果。在即便对喷嘴12b前端进行加热而进行清洁的情况下,在再次开始涂布处理前,宜设置调整温度的时间以使喷嘴12b的余热不会对后面的涂布造成影响。
或者,也可在清洁单元10B的安装着清洁构件14的载置台15上设置加热器等加热部件。加热部件对载置台15进行加热,由此安装于载置台15的清洁构件14的温度也上升。通过与温度上升的清洁构件14接触,附着于喷嘴12b前端的粘合剂R的液滴D也被加热。这样,在对清洁构件14侧进行加热的情况下,并非对喷嘴12b直接加热,因而不需要设置喷嘴12b的温度调整时间,从而作业效率佳。
此外,在将清洁单元10B设为图24所示的设置着鼓风机51的构成的情况下,宜将该鼓风机51作为粘合剂R的粘度降低部件。即,设为使鼓风机51吹送经加热的空气的构成,由此在向附着于喷嘴12b前端的液滴D吹送向下的空气时,也可对液滴D进行加热。与利用加热来降低液滴D的粘度同时地,对液滴D施加向下的力,因而可使液滴D更顺畅地向清洁构件14的表面移动。
即便在采用任一部件的情况下,仅在清洁时,即,使附着于喷嘴12b前端的液滴D与清洁构件14接触时进行液滴D的加热。因此,对粘合剂R的影响少,在利用涂布单元10A进行涂布时,粘合剂R可进行包含本来的粘度的特性下的涂布。因此,可不对所制造的液晶显示面板L的品质造成影响而确实地进行清洁。此种粘度降低部件不仅可适用于所述紫外线硬化树脂,也可适用于各种粘度或种类的粘合剂。即便在例如使用热硬化型的树脂作为粘合剂R的情况下,只要为未达到硬化的温度下的加热,则可降低粘度。
(10)所述实施方式中,显示面板制造装置100的涂布部1与贴合部2作为分开的粘合剂涂布装置10与基板贴合装置20而构成,也可作为同一装置而构成。例如,在上侧板23与下侧板22相向配置的腔室21内,将狭缝涂布机12与UV照射单元13设置成可移动,将下侧板22用作涂布部1的平台11。即,也可在对载置于下侧板22的液晶面板S1涂布粘合剂R而临时硬化后,使狭缝涂布机12与UV照射单元13从下侧板22上退避,并进行贴合。而且,也可与腔室21邻接地设置清洁单元10B,进行从腔室21退避的狭缝涂布机12的清洁。
(11)所述实施方式中,硬化部3的硬化装置30中具备UV照射单元33。而且,第五实施方式中,使用UV照射单元13作为粘合剂涂布装置10的临时硬化部。然而,只要为可输出使粘合剂R硬化或临时硬化的能量,则不限于UV照射单元。例如,可使用电磁波照射单元、放射线照射单元、或者红外线照射单元或加热器。关于所使用的粘合剂R,也可根据临时硬化的形态,而使用利用电磁波硬化的树脂、利用放射线硬化的树脂或者热硬化型树脂。
(12)所述实施方式中,贴合部2中,对基板贴合装置20的腔室21内部进行减压而在真空下进行贴合,但也可在大气下进行贴合。即便未设置将腔室21密闭而形成减压空间所需的部件也无妨,因而能够以更低的成本构成装置,且能够以低成本制造显示面板。
(13)第二实施方式中,在清洁构件14与液滴D的接触后,使狭缝涂布机12在清洁构件14的上方相对地移动后再次进行接触,由此更新清洁构件14的与液滴D的接触面,但也可不向上方移动,而在相同位置再次进行接触。由此,喷嘴12b前端的液滴D与已附着于清洁构件14的表面的粘合剂R接触并一体化,由此容易使朝向下方拉伸的力发挥作用,从而可更确实地将液滴D去除。该情况下,第二次接触中,对下降的狭缝涂布机12停止的位置进行调整,从而附着于清洁构件14表面的粘合剂R不会附着于喷嘴12b的侧面。
或者,也可预先利用刮刀等将粘合剂R拉伸得薄并涂布于清洁构件14的表面,或者在为吸水纸的情况下,也可预先将粘合剂R渗入纸中。由此,即便更新液滴D与清洁构件14的接触面,液滴D与清洁构件14表面的附着、润湿扩散也变得容易,从而可获得将液滴D向下方拉的力。
Claims (20)
1.一种粘合剂涂布装置,其特征在于包括:
粘合剂涂布构件,供给粘合剂且从设置于前端的喷嘴对基板涂布粘合剂;以及
清洁构件,与所述粘合剂涂布构件相向配置,
使所述粘合剂涂布构件朝向所述清洁构件表面而在垂直方向上相对地移动,使附着于所述喷嘴前端的粘合剂的液滴与所述清洁构件表面接触而使所述液滴流动,且以从所述清洁构件表面离开的方式在垂直方向上相对地移动,将所述液滴从所述喷嘴前端去除。
2.根据权利要求1所述的粘合剂涂布装置,其特征在于:
所述粘合剂涂布构件使所述喷嘴不与所述清洁构件接触而仅使附着于喷嘴前端的液滴与所述清洁构件接触。
3.根据权利要求1所述的粘合剂涂布装置,其特征在于:
所述粘合剂涂布构件使所述喷嘴前端与所述清洁构件接触。
4.根据权利要求1所述的粘合剂涂布装置,其特征在于:
所述粘合剂涂布构件使附着于所述喷嘴前端的液滴与所述清洁构件接触多次。
5.根据权利要求4所述的粘合剂涂布装置,其特征在于:
所述粘合剂涂布构件与所述清洁构件在所述液滴每次接触时相对地移动,更新所述清洁构件的与所述液滴的接触面。
6.根据权利要求5所述的粘合剂涂布装置,其特征在于:
使所述粘合剂涂布构件与所述清洁构件的相对地移动的距离根据所述液滴与所述清洁构件的接触次数而可变。
7.根据权利要求4所述的粘合剂涂布装置,其特征在于:
所述粘合剂涂布构件在所述清洁构件与所述液滴接触后,使液滴再次与所述液滴的一部分所附着的所述清洁构件的表面接触。
8.根据权利要求1所述的粘合剂涂布装置,其特征在于:
设置粘合剂去除构件,所述粘合剂去除构件从横切方向与从所述喷嘴前端下垂的液滴接触,使所述液滴的一部分流动并从所述喷嘴前端去除。
9.根据权利要求1所述的粘合剂涂布装置,其特征在于:
设置擦拭构件,所述擦拭构件在所述清洁构件的表面滑动,将附着于所述清洁构件的粘合剂擦拭。
10.根据权利要求1所述的粘合剂涂布装置,其特征在于还包括:
涂布单元,具备照射能量的照射单元,所述能量使利用所述粘合剂涂布构件涂布的粘合剂临时硬化;以及
清洁单元,配置着所述清洁构件,
所述粘合剂涂布构件能够在所述涂布单元与所述清洁单元之间移动,
在所述涂布单元与所述清洁单元之间设置着规定间隔,所述规定间隔为如下距离:所述涂布单元的临时硬化的能量未到达已移动到所述清洁单元内的所述粘合剂涂布构件。
11.根据权利要求1所述的粘合剂涂布装置,其特征在于还包括:
涂布单元,具备照射能量的照射单元,所述能量使利用所述粘合剂涂布构件涂布的粘合剂临时硬化;以及
清洁单元,配置着所述清洁构件,
所述粘合剂涂布构件能够在所述涂布单元与所述清洁单元之间移动,
在所述涂布单元与所述清洁单元之间设置着可开闭的遮光构件。
12.根据权利要求1所述的粘合剂涂布装置,其特征在于还包括:
鼓风机,所述鼓风机与所述粘合涂布构件靠近地配置,将附着于所述喷嘴前端的液滴朝向所述清洁构件吹送。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的粘合剂涂布装置,其特征在于:
对所述喷嘴前端部实施抗液处理。
14.根据权利要求1所述的粘合剂涂布装置,其特征在于包括:
粘度降低部件,所述粘度降低部件使附着于所述粘合剂涂布构件的喷嘴前端的粘合剂的液滴的粘度降低。
15.根据权利要求14所述的粘合剂涂布装置,其特征在于:
所述粘度降低部件为对附着于所述喷嘴前端的粘合剂的液滴进行加热的加热部件。
16.根据权利要求15所述的粘合剂涂布装置,其特征在于:
在使附着于所述喷嘴前端的粘合剂的液滴与所述清洁构件表面接触时,所述加热部件对所述液滴进行加热。
17.根据权利要求15或16所述的粘合剂涂布装置,其特征在于:
所述加热部件对所述清洁构件进行加热。
18.一种粘合剂涂布构件的清洁方法,所述粘合剂涂布构件供给粘合剂且从设置于前端的喷嘴对基板涂布粘合剂,所述粘合剂涂布构件的清洁方法的特征在于:
将清洁构件与所述粘合剂涂布构件相向配置,
使所述粘合剂涂布构件朝向所述清洁构件表面而在垂直方向上相对地移动,使附着于所述喷嘴前端的粘合剂的液滴与所述清洁构件表面接触,且以从所述清洁构件表面离开的方式在垂直方向上相对地移动,而将所述液滴从所述喷嘴前端向所述清洁构件流动而从所述喷嘴前端去除。
19.一种显示面板制造装置,所述显示面板是将包含显示用面板的一对基板经由粘合剂贴合而成,所述显示面板制造装置的特征在于包括:
涂布部,对所述一对基板的至少一基板的表面涂布所述粘合剂;
贴合部,将所述一对基板利用所述涂布的粘合剂加以贴合;
硬化部,使所述贴合部中贴合的所述一对基板的所述粘合剂硬化;以及
搬送部,将所述一对基板在所述涂布部、所述贴合部及所述硬化部之间进行搬送,
所述涂布部包括:
粘合剂涂布构件,供给所述粘合剂且从设置于前端的喷嘴对基板涂布所述粘合剂;以及
清洁构件,与所述粘合剂涂布构件相向配置,
所述粘合剂涂布构件朝向所述清洁构件表面而在垂直方向上相对地移动,使附着于所述喷嘴前端的粘合剂的液滴与所述清洁构件表面接触而使所述液滴流动,且以从所述清洁构件表面离开的方式在垂直方向上相对地移动,而将所述液滴从所述喷嘴前端去除。
20.一种显示面板的制造方法,经由粘合剂将包含显示用面板的一对基板加以贴合而制造显示面板,其特征在于包括下述工序:
使用前端设置着喷嘴的粘合剂涂布构件,对所述一对基板的至少一基板的表面涂布所述粘合剂;
每当涂布所述粘合剂时,对所述粘合剂涂布构件进行清洁;
将所述一对基板隔着所述涂布的粘合剂而相向保持,通过使至少一个移动,而经由所述粘合剂将一对基板加以贴合;以及
将贴合的一对基板的所述粘合剂硬化,
在对所述粘合剂涂布构件进行清洁的工序中,
使清洁构件与所述粘合剂涂布构件相向配置,
使所述粘合剂涂布构件朝向所述清洁构件表面而在垂直方向上相对地移动,使附着于所述喷嘴前端的粘合剂的液滴与所述清洁构件表面接触而使所述液滴流动,且以从所述清洁构件表面离开的方式在垂直方向上相对地移动,而将所述液滴从所述喷嘴前端去除。
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