CN104685417A - 曝光装置、掩模及光学膜 - Google Patents
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Abstract
曝光装置变得复杂。一种曝光装置,其具备输送部、第一偏振光输出部、第二偏振光输出部、第一掩模部及第二掩模部,所述输送部沿输送方向输送形成有取向膜的基材;所述第一偏振光输出部朝向取向膜,输出第一偏振光方向的第一偏振光;所述第二偏振光输出部配置于输送方向上比第一偏振光输出部靠下游侧,朝向取向膜输出第二偏振光方向的第二偏振光,所述第二偏振光方向以小于90°的角度与第一偏振光方向交叉;所述第一掩模部配置于基材与第一偏振光输出部之间,形成有使对取向膜进行曝光的第一偏振光透过的第一开口部,并对第一偏振光进行遮光;所述第二掩模部配置于基材与第二偏振光输出部之间,形成有使对取向膜进行曝光的第二偏振光透过的第二开口部,并对第二偏振光进行遮光;第一开口部及第二开口部形成为对具有取向膜的某个区域进行重复曝光;第一开口部包含使第一偏振光朝向区域透过的第一开口区域;第二开口部包含使第二偏振光朝向区域透过的第二开口区域。
Description
技术领域
本发明涉及一种曝光装置、掩模及光学膜。
背景技术
已知通过掩模以不同偏振光对取向膜的多个区域进行曝光的曝光装置(例如,参照专利文献1、非专利文献1)。
(专利文献1)美国专利申请公开第2011/0217638号说明书,
(非专利文献1)Hubert Seiberle及另外两人,“光取向各向异性光学薄膜(Photo-Aligned Anisotropic Optical Thin Films)”,技术论文之SID研讨会文摘(SID Symposium Digest of Technical Papers),美国,信息显示学会(Society for Information Display),2012年7月5日,第34卷,第1期,第1162-1165页。
发明内容
(一)要解决的技术问题
但是,上述的曝光装置中,在形成复杂图案的情况下,由于图案数量增加,因此存在曝光装置的结构变得复杂这样的技术问题。
(二)技术方案
在本发明的第一方面中,提供一种曝光装置,其具备输送部、第一偏振光输出部、第二偏振光输出部、第一掩模部及第二掩模部,所述输送部沿输送方向输送形成有取向膜的基材;所述第一偏振光输出部朝向所述基材的所述取向膜,输出具有第一偏振光方向的第一偏振光;所述第二偏振光输出部朝向所述基材的所述取向膜,配置在所述输送方向上比所述第一偏振光输出部靠下游侧,输出具有第二偏振光方向的第二偏振光,所述第二偏振光方向以小于90°的角度与所述第一偏振光方向交叉;所述第一掩模部配置于所述基材与所述第一偏振光输出部之间,形成有使对所述取向膜进行曝光的所述第一偏振光透过的第一开口部,并对所述第一偏振光进行遮光;所述第二掩模部配置于所述基材与所述第二偏振光输出部之间,形成有使对所述取向膜进行曝光的所述第二偏振光透过的第二开口部,并对所述第二偏振光进行遮光;所述第一开口部及所述第二开口部形成为对具有所述取向膜的某个区域进行重复曝光,所述第一开口部包含使所述第一偏振光朝向所述区域透过的第一开口区域,所述第二开口部包含使所述第二偏振光朝向所述区域透过的第二开口区域。
在本发明的第二方面中,提供一种掩模,其配置在向形成有取向膜的基材输出的第一偏振光,以及以小于90°的角度与所述第一偏振光交叉的第二偏振光的光路上;具备第一掩模部及第二掩模部,所述第一掩模部配置在所述第一偏振光的光路上,形成有使所述第一偏振光透过的第一开口部,对所述第一偏振光进行遮光;所述第二掩模部配置在所述第二偏振光的光路上,形成有使所述第二偏振光透过的第二开口部,对所述第二偏振光进行遮光;所述第一开口部及所述第二开口部形成为对具有所述取向膜的某个区域进行重复曝光,所述第一开口部包含使所述第一偏振光朝向所述区域透过的第一开口区域,所述第二开口部包含使所述第二偏振光朝向所述区域透过的第二开口区域。
在本发明的第三方式中,提供一种通过利用上述的曝光装置进行曝光而制造的光学膜。
另外,上述发明的概要并没有列举出本发明的全部必要特征。此外,这些特征群的子组合也能够成为发明。
附图说明
图1是通过本实施方式的曝光装置制造的光学膜100的俯视图。
图2是沿图1的II-II线的光学膜100的剖视图。
图3是设置有光学膜100的调光窗部件对300的分解立体图。
图4是说明调光窗部件对300的功能的图。
图5是说明调光窗部件对300的功能的图。
图6是曝光装置10的整体结构图。
图7是曝光部18的放大图。
图8是掩模39的仰视图。
图9是沿图8的IX-IX线的第一掩模38的纵剖视图。
图10是说明在第一偏振光94及第二偏振光96的曝光量相同的情况下,取向膜120的取向方向的图。
图11是说明在第一偏振光94的曝光量E1少于第二偏振光96的曝光量E2的情况下,取向膜120的取向的图。
图12是说明变更的掩模139的仰视图。
图13是说明变更的掩模239的仰视图。
图14是对图13中的位置Pa、Pb、Pc、Pd、Pe的取向方向进行说明的图表。
图15是说明变更的曝光部418的图。
图16是说明掩模439的仰视图。
图17是使用图16所示掩模439被取向的光学膜500的照片。
图18是说明掩模1439的仰视图。
图19是变更的曝光部618的结构图。另外,对与上述结构相同的结构标上相同的附图标记并省略说明。
图20是变更的另一曝光部718的结构图。
图21是变更的另一曝光部818的结构图。
图22是说明偏振光方向与取向膜的光学轴间的关系的图。
图23是发挥摄像装置等中适用的低通滤波器功能的光学膜2300的俯视图。
图24是沿图23的A-A线的光学膜2300的剖视图。
具体实施方式
下面,通过发明的实施方式对本发明进行说明,但以下的实施方式并不限定权利要求书所涉及的发明。此外,在实施方式中所说明的特征的所有组合对于发明的解决方法不一定是必须的。
图1是通过本实施方式的曝光装置制造的光学膜100的俯视图。图1中将箭头所示的长度方向及宽度方向作为光学膜100的长度方向及宽度方向。另外,光学膜100在长度方向上的长度可以短于光学膜100在宽度方向上的长度。
光学膜100形成为一边为数厘米(cm)至数米(m)的四边形。如图1所示,光学膜100具有多个第一偏振光调制部102、多个第二偏振光调制部104及多个第三偏振光调制部106。
第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106在俯视上形成为大致相同形状。第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106形成为沿长度方向延伸的长方形。第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106以彼此一边相接的状态形成。第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106按此顺序沿宽度方向周期性地配置。另外,配置的方向等可以适当变更。另外,在图1所示的例子中,第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106分别形成各两个,但也可以形成各三个以上。
第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106形成为可以透光。第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106对透过的偏振光的偏振光状态进行调制。第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106具有1/2波长板的相位差功能。另外,第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106也可以具有1/4波长板的相位差功能。
第一偏振光调制部102例如具有如图1上端记载的箭头112所示的与长度方向平行的光轴。光轴的例子为进相轴或滞相轴。由此,第一偏振光调制部102将入射的直线偏振光的偏振光方向调制成将以自身的光轴为对称轴的线对称方向作为偏振光方向的直线偏振光,并出射。
第二偏振光调制部104的光轴形成为与第一偏振光调制部102的光轴不同的方向。第二偏振光调制部104的光轴方向如图1上端记载的箭头114所示,与从第一偏振光调制部102的光轴,即长度方向起旋转22.5°的方向平行。第三偏振光调制部106的光轴形成为与第一偏振光调制部102及第二偏振光调制部104的光轴不同的方向。第三偏振光调制部106的光轴方向如图1上端记载的箭头116所示,与从第一偏振光调制部102的光轴起向与第二偏振光调制部104的光轴相同的方向旋转45°的方向平行。换言之,具有第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106的光学膜100的光轴沿宽度方向阶段性地变化。第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106将入射的直线偏振光的偏振光方向调制成将以自身的光轴为对称轴的线对称方向作为偏振光方向的直线偏振光,并出射。
其结果,即使具有相同偏振光方向的直线偏振光入射到第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106,第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106出射的直线偏振光的偏振光方向也不同。
图2是沿图1的II-II线的光学膜100的剖视图。如图2所示,光学膜100具备树脂基材118、取向膜120及液晶膜122。
树脂基材118通过将后述树脂制的长条状的膜切割成一定长度而形成。树脂基材118使光透过。树脂基材118的厚度的一例为50μm~100μm。树脂基材118支承第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106。树脂基材118可以由环烯烃类膜构成。此外,也可以由包含三醋酸纤维素(=TAC)的材料构成。TAC膜可以举出富士胶片公司(富士写真フィルム社)制的FUJITACT80SZ及TD80UL等。
取向膜120形成于树脂基材118的表面上。取向膜120可以适用公知的光取向性化合物。光取向性化合物是在被紫外线等直线偏振光照射时,分子会沿该直线偏振光的偏振光方向规则地取向的材料。进一步地,光取向性化合物具有使形成在自身上的液晶膜122的分子沿着自身的取向排列的功能。作为光取向性化合物的例子,可以举出光分解型、光二聚化型、光致异构化型等化合物。
取向膜120具有多个第一取向区域132、多个第二取向区域134及多个第三取向区域136。多个第一取向区域132、多个第二取向区域134及多个第三取向区域136按此顺序沿宽度方向周期性地排列。第一取向区域132、第二取向区域134及第三取向区域136与相互邻接的第一取向区域132、第二取向区域134及第三取向区域136相接。
第一取向区域132构成第一偏振光调制部102的一部分。第一取向区域132在与第一偏振光调制部102的光轴对应的方向上取向。第二取向区域134构成第二偏振光调制部104的一部分。第二取向区域134在从第一取向区域132的取向方向旋转22.5°的方向,且与第二偏振光调制部104的光轴对应的方向上取向。第三取向区域136构成第三偏振光调制部106的一部分。第三取向区域136在从第一取向区域132的取向方向向与第二取向区域134的取向方向相同的方向旋转45°的方向,且与第三偏振光调制部106的光轴对应的方向上取向。
液晶膜122形成在取向膜120上。液晶膜122可以由通过紫外线或加热等可以固化的液晶分子构成。液晶膜122具有第一液晶区域142、第二液晶区域144及第三液晶区域146。第一液晶区域142构成第一偏振光调制部102的一部分。第一液晶区域142形成在第一取向区域132上。第一液晶区域142的分子沿第一取向区域132的取向被取向。第二液晶区域144构成第二偏振光调制部104的一部分。第二液晶区域144形成在第二取向区域134上。第二液晶区域144的分子沿第二取向区域134的取向被取向。第三液晶区域146构成第三偏振光调制部106的一部分。第三液晶区域146形成在第三取向区域136上。第三液晶区域146的分子沿第三取向区域136的取向被取向。
图3是设置有光学膜100的调光窗部件对300的分解立体图。调光窗部件对300例如设置在建筑物的窗上。如图3所示,调光窗部件对300具备调光窗部件310、320。调光窗部件310、320可在宽度方向上移动地设置在窗上。调光窗部件310、320设置在相同高度上。将图3所示的箭头330作为光的行进方向。光的一例为从外部向建筑物内部的房间等入射的自然光。
调光窗部件310具有基底板312、偏振光板314及光学膜100。在图3中,基底板312、偏振光板314及光学膜100为了说明而错开表示。在调光窗部件310被组装的状态下,以各自的一边一致的方式配置基底板312、偏振光板314及光学膜100。
基底板312由可以透光的玻璃等构成。
偏振光板314设置在光的行进方向上基底板312的下游侧的面上。偏振光板314形成为与基底板312相同的形状。偏振光板314具有与宽度方向平行的透过轴。因此,如果从外部沿箭头330行进的自然光向偏振光板314入射,则偏振光板314将以宽度方向为偏振光方向的直线偏振光向光学膜100出射。
光学膜100设置在光的行进方向上偏振光板314的下游侧的面上。光学膜100形成为与基底板312相同的形状。光学膜100对从偏振光板314出射的直线偏振光的偏振光方向进行调制,并出射。此处,由于光学膜100的第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106具有方向不同的光轴,因此分别出射偏振光方向不同的直线偏振光。
调光窗部件320配置在比调光窗部件310靠光行进方向的下游侧。调光窗部件320可沿宽度方向移动,使得与调光窗部件310部分或全部重叠。调光窗部件320具有基底板322、光学膜200及偏振光板324。基底板322、光学膜200及偏振光板324的形状与基底板312的形状大致相同。
基底板322具有与基底板312相同的结构。
光学膜200设置在光的行进方向上基底板322的下游侧的面上。光学膜200具有第一偏振光调制部202、第二偏振光调制部204及第三偏振光调制部206。光学膜200具有与光学膜100相同的结构。因此,第一偏振光调制部202的光轴方向与第一偏振光调制部102的光轴相同,与长度方向平行。第二偏振光调制部204的光轴方向与第二偏振光调制部104的光轴相同,是从长度方向起倾斜22.5°的方向。第三偏振光调制部206的光轴方向与第三偏振光调制部106的光轴相同,是从长度方向起倾斜45°的方向。由此,光学膜200在直线偏振光入射时,对偏振光进行调制并出射。另外,第一偏振光调制部202、第二偏振光调制部204及第三偏振光调制部206的光轴方向也可以与第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106的光轴不同。
偏振光板324设置在光的行进方向上光学膜200的下游侧的面上。偏振光板324具有例如与长度方向平行的透过轴。换言之,偏振光板324具有与偏振光板314的透过轴垂直的透过轴。由此,偏振光板324在光入射时,对光在宽度方向上的成分进行遮光,出射以长度方向为偏振光方向的直线偏振光。
另外,只要光学膜100、200配置在偏振光板314与偏振光板324之间,基底板312及基底板322的配置可以适当变更。基底板312及基底板322也可以省略。
图4及图5是说明调光窗部件对300的功能的图。在图4及图5中,为了说明仅记载了光学膜100、200。此外,在图4及图5中,光学膜100、200的上边及下边为了说明而错开表示,但在调光窗部件对300被安装在窗上状态下,两边一致。
在图4所示的状态下,光学膜100在宽度方向上的两边与光学膜200在宽度方向上的两边一致。由此,光学膜100的整个面与光学膜200的整个面重叠。因此,光学膜100的第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106分别与光轴相同的光学膜200的第一偏振光调制部202、第二偏振光调制部204及第三偏振光调制部206重叠。
这种情况下,从偏振光板314出射的以宽度方向为偏振光方向的直线偏振光若通过光学膜100的第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106,则偏振光方向被调制。但是,被调制的直线偏振光通过光学膜200的第一偏振光调制部202、第二偏振光调制部204及第三偏振光调制部206,由此被调制成以原来宽度方向为偏振光方向的直线偏振光。由此,直线偏振光被偏振光板324遮光。因此,在图4所示的状态下,以图3的箭头330行进的光几乎被遮光。
另一方面,在图5所示的状态下,光学膜100、200的宽度方向的两边相互错开,光学膜100的第二偏振光调制部104、第三偏振光调制部106及第一偏振光调制部102分别与光学膜200的第一偏振光调制部202、第二偏振光调制部204及第三偏振光调制部206重叠。因此,在相互重叠的区域中,光学膜100的光轴方向与光学膜200的光轴方向不同。
这种情况下,从偏振光板314出射的以宽度方向为偏振光方向的直线偏振光被光学膜100的第二偏振光调制部104、第三偏振光调制部106及第一偏振光调制部102调制。之后,被调制的直线偏振光被光学膜200的第一偏振光调制部202、第二偏振光调制部204及第三偏振光调制部206调制。此处,在光学膜100、200重叠的区域中,由于光学膜100的光轴与光学膜200的光轴为不同方向,因此从光学膜200出射的直线偏振光以具有与作为入射到光学膜100的直线偏振光的偏振光方向的宽度方向不同的偏振光方向的直线偏振光而出射。因此,从光学膜200出射的直线偏振光的一部分通过以长度方向为透过轴的偏振光板324而出射。
其结果,调光窗部件对300通过调整调光窗部件310及调光窗部件320的重叠,即在宽度方向上的相对位置,能够对通过的光量进行调整。
图6是曝光装置10的整体结构图。图7是曝光部18的放大图。图6中将箭头所示的上下作为曝光装置10的上下方向。此外,上游及下游设为输送方向上的上游及下游。另外,输送方向是与长条状树脂基材90的长度方向相同的方向,与宽度方向垂直。长条状树脂基材90是被切断前的长条状树脂基材118。长条状树脂基材90是基材的一例。
如图6及图7所示,曝光装置10具备送出辊12、清洗部13、取向膜涂敷部14、取向膜干燥部16、曝光部18、液晶膜涂敷部20、液晶膜取向部22、液晶膜固化部24、膜供给部26、卷取辊28。
送出辊12配置于长条状树脂基材90的输送路径的最上游侧。在送出辊12的外周卷绕有供给用的长条状树脂基材90。送出辊12以可旋转的方式被支承。由此,送出辊12能够以可送出的方式保持长条状树脂基材90。送出辊12可以通过马达等驱动机构可旋转地构成,也可以随着卷取辊28的旋转可从动地构成。或者,也可以在输送路径的中途设置驱动长条状树脂基材90的机构。
清洗部13配置在送出辊12与取向膜涂敷部14之间。清洗部13对从送出辊12送出的取向膜120被涂敷前的长条状树脂基材90进行清洗。另外,清洗部13也可以省略。
取向膜涂敷部14配置于送出辊12的下游侧,并且是曝光部18的上游侧。取向膜涂敷部14配置在被输送的长条状树脂基材90的输送路径的上方。取向膜涂敷部14向长条状树脂基材90的上面供给并涂敷未取向的液状的取向膜120。未取向的取向膜120的一例为含有取向膜分子的溶液。
取向膜干燥部16配置于取向膜涂敷部14的下游侧。取向膜干燥部16通过加热、光照射或送风等方式,使通过内部的长条状树脂基材90上涂敷的取向膜120的溶剂蒸发并干燥。
曝光部18配置于取向膜干燥部16的下游侧。曝光部18具有光源30、32、第一偏振光输出部50及第二偏振光输出部52、掩模保持部34、36、包含第一掩模38及第二掩模40的掩模39。曝光部18使从光源30、32输出的光通过第一偏振光输出部50及第二偏振光输出部52成为直线偏振光。接着,曝光部18使该直线偏振光通过第一掩模38及第二掩模40照射到长条状树脂基材90上涂敷的取向膜120来进行曝光。由此,曝光部18使取向膜120取向。
光源30、32配置于长条状树脂基材90的输送路径的上方。光源30、32配置在取向膜涂敷部14与液晶膜涂敷部20之间。光源32配置于光源30的下游侧。光源30、32输出相同照度的紫外线。此处所称的照度是指输出光的每单位面积的能量,单位为mW/cm2。
第一偏振光输出部50及第二偏振光输出部52分别配置于光源30、32的下方。第一偏振光输出部50及第二偏振光输出部52的一例为布氏板(ブリュスタープレート)。第一偏振光输出部50在来自光源30的光入射时,输出具有与第一取向区域132的取向相对应的偏振光方向的第一偏振光94。第二偏振光输出部52在来自光源32的光入射时,输出具有与第三取向区域136的取向相对应的偏振光方向的第二偏振光96。第二偏振光输出部52输出的第二偏振光96的偏振光方向与第一偏振光输出部50输出的第一偏振光94的偏振光方向不同而交叉。第一偏振光94的偏振光方向的一例为与输送方向平行。第二偏振光96的偏振光方向与第一偏振光94的偏振光方向的交叉角度的一例为45°。另外,也可以使第二偏振光输出部52输出的第二偏振光96的偏振光方向与第一偏振光输出部50输出的第一偏振光94的偏振光方向以任意角度交叉。
第一偏振光输出部50向被输送的下方的长条状树脂基材90的取向膜120输出第一偏振光94。第二偏振光输出部52向被输送的下方的长条状树脂基材90的取向膜120输出第二偏振光96。光源32及第二偏振光输出部52配置在输送方向上比光源30及第一偏振光输出部50靠下游侧。由此,在输送方向上,第二偏振光96在比第一偏振光94靠下游侧的不同位置到达长条状树脂基材90上的取向膜120。
第一偏振光输出部50将第一偏振光94以相对于长条状树脂基材90大致垂直地入射的方式进行输出。此外,第二偏振光输出部52将第二偏振光96以相对于长条状树脂基材90大致垂直地入射的方式进行输出。另外,第一偏振光输出部50及第二偏振光输出部52也可以将第一偏振光94及第二偏振光96以相对于长条状树脂基材90倾斜地入射。由此,第一偏振光94及第二偏振光96即使在被长条状树脂基材90反射后,被周边设备等反射的情况下,也能够抑制回到涂敷在长条状树脂基材90上的取向膜120上。其结果,能够抑制被反射的第一偏振光94及第二偏振光96照射到取向膜120上未予定的位置上而取向紊乱。
光源30、32输出相同照度(单位:mW/cm2)紫外线的情况下的照度的一例为45mW/cm2以上。另外,曝光的方法可以适当变更。例如第一偏振光输出部50及第二偏振光输出部52可以使第一偏振光94及第二偏振光96从上下方向倾斜并照射。此处所称的上下方向是图6的箭头所示的上下方向。
在铅直方向上延伸的遮光壁优选设置在从第一偏振光输出部50与第二偏振光输出部52之间至第一掩模38与第二掩模40之间为止。由此,遮光壁对两个偏振光进行遮光。该情况下,遮光壁为了抑制第一偏振光94及第二偏振光96的反射,优选黑色。
掩模保持部34配置于第一偏振光94的光路上,并且在第一偏振光输出部50与长条状树脂基材90之间。掩模保持部34保持第一掩模38。掩模保持部36配置于第二偏振光96的光路上,并且在第二偏振光输出部52与长条状树脂基材90之间。掩模保持部36保持第二掩模40。
掩模保持部34及掩模保持部36以能够相对于长条状树脂基材90在与输送方向垂直的宽度方向上单独地相对移动的方式被保持。由此,第一掩模38及第二掩模40通过马达或致动器等与掩模保持部34及掩模保持部36一起移动,在宽度方向上的位置被个别调整。
第一掩模38由掩模保持部34保持,配置于第一偏振光输出部50与长条状树脂基材90之间。作为一例,第一掩模38配置于长条状树脂基材90的数百微米(μm)的上方。由此,第一掩模38配置于第一偏振光94的光路上。第一掩模38具有后述的第一掩模基材56及第一掩模部58。
第二掩模40由掩模保持部36保持,配置于第二偏振光输出部52与长条状树脂基材90之间。作为一例,第二掩模40配置于长条状树脂基材90的数百微米(μm)的上方。由此,第二掩模40配置于第二偏振光96的光路上。此外,第二掩模40配置于比第一掩模38靠下游侧。第二掩模40具有后述的第二掩模基材60及第二掩模部62。
液晶膜涂敷部20配置于曝光部18的下游侧。液晶膜涂敷部20配置于长条状树脂基材90的输送路径的上方。液晶膜涂敷部20向形成于长条状树脂基材90上的取向膜120供给并涂敷未取向的液状的液晶膜122。未取向的液晶膜122的一例为含有液晶分子的醋酸丁酯溶液。
液晶膜取向部22配置于液晶膜涂敷部20的下游侧。液晶膜取向部22通过加热、光照射或送风等方式,使通过内部的取向膜120上形成的液晶膜122沿取向膜120的取向方向取向,同时使溶剂蒸发并干燥。
液晶膜固化部24配置于液晶膜取向部22的下游侧。液晶膜固化部24通过照射紫外线,使液晶膜122固化。由此,沿取向膜120的取向而取向的液晶膜122的分子的取向被固定。
膜供给部26配置于液晶膜固化部24与卷取辊28之间。膜供给部26向长条状树脂基材90的液晶膜122上供给分离膜92,并贴合。分离膜92使卷取的长条状树脂基材90间容易脱离。另外,膜供给部26也可以省略。此外,膜供给部26也可以供给发挥偏振光板314功能的偏振光膜,来替代分离膜。由此,能够使制造光学膜100的工序简单化。
卷取辊28为输送部的一例。卷取辊28配置于液晶膜固化部24的下游侧,并且是输送路径的最下游侧。卷取辊28可旋转驱动地被支承。卷取辊28卷取卷绕形成有取向膜120及液晶膜122的长条状树脂基材90。由此,卷取辊28将形成有未取向及被取向的取向膜120的长条状树脂基材90沿输送方向输送。
图8是掩模39的仰视图。图9是沿图8的IX-IX线的第一掩模38的纵剖视图。如图8所示,宽度方向是与输送方向垂直的垂直方向的一例。
如图8及图9所示,第一掩模38具有第一掩模基材56及第一掩模部58。第二掩模40具有第二掩模基材60及第二掩模部62。
第一掩模基材56及第二掩模基材60形成为矩形的板状。第一掩模基材56及第二掩模基材60由热膨胀系数为5.6×10-7/℃的石英玻璃构成。第一掩模基材56及第二掩模基材60也可以由热膨胀系数为85×10-7/℃的钠钙玻璃构成。在输送方向上的第一掩模基材56及第二掩模基材60的长度为数十毫米(mm)。在宽度方向上的第一掩模基材56及第二掩模基材60的长度配合长条状树脂基材90的宽度而适当设定。
第一掩模部58形成在第一掩模基材56的下面。第一掩模部58配置于第一偏振光输出部50与长条状树脂基材90之间。第一掩模部58由氧化铬等能够对含有第一偏振光94的光进行遮光的材料构成。第一掩模部58上形成有多个,例如两个第一开口部64。第一开口部64配置于第一偏振光94的光路上。第一开口部64使第一偏振光94透过。因此,通过第一开口部64下方的区域的取向膜120由第一偏振光94进行取向。第一开口部64以俯视观察形成为L字状。第一开口部64包含第一开口长部位66以及与第一开口长部位66在输送方向上的长度不同的第一开口短部位68。第一开口短部位68是第一开口区域的一例。第一开口长部位66及第一开口短部位68形成为长方形。宽度方向上的第一开口长部位66的宽度与第一开口短部位68的宽度相等。在宽度方向上,第一开口长部位66形成在与第一开口短部位68不同的位置上。因此,宽度方向上的第一开口长部位66形成在不与第一开口短部位68重叠的位置上。第一开口长部位66与第一开口短部位68连续地形成为一体。输送方向上的第一开口长部位66的长度大于第一开口短部位68的长度。因此,第一开口部64沿宽度方向的右向,在输送方向上的长度阶段性地变短。例如,第一开口长部位66的长度大约为第一开口短部位68长度的两倍。
第二掩模部62形成在第二掩模基材60的下面。第二掩模部62配置于第二偏振光输出部52与长条状树脂基材90之间。第二掩模部62由氧化铬等能够对含有第二偏振光96的光进行遮光的材料构成。第二掩模部62上形成有多个,例如两个第二开口部70。第二开口部70配置于第二偏振光96的光路上。第二开口部70使第二偏振光96透过。因此,通过第二开口部70下方的区域的取向膜120由第二偏振光96进行取向。第二开口部70以俯视观察形成为L字状。第二开口部70包含第二开口长部位72以及与第二开口长部位72在输送方向上的长度不同的第二开口短部位74。第二开口短部位74是第二开口区域的一例。第二开口长部位72及第二开口短部位74形成为长方形。宽度方向上的第二开口长部位72的宽度与第二开口短部位74的宽度相等。在宽度方向上,第二开口长部位72形成在与第二开口短部位74不同的位置上。因此,在宽度方向上的第二开口长部位72形成在不与第二开口短部位74重叠的位置上。第二开口长部位72与第二开口短部位74连续地形成为一体。因此,第二开口部70沿宽度方向的右向,在输送方向上的长度阶段性地变长。输送方向上的第二开口长部位72的长度大于第二开口短部位74的长度。例如,第二开口长部位72的长度大约为第二开口短部位74长度的两倍。
在宽度方向上,第一开口长部位66、第一开口短部位68、第二开口长部位72及第二开口短部位74的宽度彼此相等,光学膜100的第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106的宽度相等。在输送方向上,第一开口长部位66的长度与第二开口长部位72的长度相等。在宽度方向上的相同位置上,输送方向上的第一开口短部位68的长度小于输送方向上的第二开口短部位74的长度。
第一掩模部58及第二掩模部62根据输送方向上的第一开口部64的长度及输送方向上的第二开口部70的长度,决定对取向膜120进行曝光的第一偏振光94及第二偏振光96的曝光量。另外,此处所称的曝光量是每单位面积上照射的第一偏振光94或第二偏振光96的能量的总量。曝光量E可以用下式表示。曝光量的单位为mJ/cm2。另外,如上所述,第一偏振光94及第二偏振光96的照度相同。
E=(偏振光的照度×开口的长度)/输送速度
如图8中虚线La、Lc所示,第一开口长部位66在宽度方向上形成在与第二开口部70不同的位置上。因此,通过第一开口长部位66下方的区域的取向膜120被透过第一开口长部位66的第一偏振光94曝光,进行取向。
如虚线Lb、Lc所示,第二开口长部位72在宽度方向上形成在与第一开口部64不同的位置上。因此,通过第二开口长部位72下方的区域的取向膜120被透过第二开口长部位72的第二偏振光96曝光,进行取向。
此处,在输送方向上,第一开口长部位66的长度与第二开口长部位72的长度相等。因此,对通过第一开口长部位66下方的区域的取向膜120进行曝光的第一偏振光94的曝光量,与对通过第二开口长部位72下方的区域的取向膜120进行曝光的第二偏振光96的曝光量相同。
如虚线La、Lb所示,第一开口短部位68在宽度方向上形成在与第二开口短部位74相同的位置上。因此,通过第一开口短部位68及第二开口短部位74下方的区域的取向膜120,被透过第一开口短部位68的第一偏振光94及透过第二开口短部位74的第二偏振光96曝光,进行取向。该被透过第一开口短部位68的第一偏振光94及透过第二开口短部位74的第二偏振光96曝光的取向膜120上的相同区域是被重复曝光的区域的一例。由此,如果第一开口短部位68向重复曝光区域使第一偏振光透过,第二开口短部位74向重复曝光区域使第二偏振光透过,则重复曝光区域的取向膜120在最初通过第一偏振光94进行取向后,通过第二偏振光96旋转取向方向而进行取向。
此处,在宽度方向上形成有第一开口部64及第二开口部70双方的区域,即形成有第一开口短部位68及第二开口短部位74的区域,第一偏振光94的曝光量和第二偏振光96的曝光量也分别根据第一开口短部位68及第二开口短部位74的长度来决定。此处,在宽度方向上的相同位置上,第一开口部64的长度与第二开口部70的长度不同。具体而言,在宽度方向上的相同位置上,第一开口短部位68的长度小于第二开口短部位74的长度。此外,第一偏振光94的照度与第二偏振光96的照度相等。因此,在通过第一偏振光94及第二偏振光96双方进行曝光的区域,第一偏振光94的曝光量小于第二偏振光96的曝光量。
接着,对通过第一偏振光94及第二偏振光96双方进行曝光的区域的取向膜120的取向方向进行说明。
图10是说明在第一偏振光94及第二偏振光96的曝光量相同的情况下取向膜120的取向方向的图。图10中所示的箭头A1的方向设为表示第一偏振光94的偏振光方向。箭头A1的方向与输送方向平行。箭头A1的长度设为表示第一偏振光94的曝光量E1。箭头A2的方向设为表示第二偏振光96的偏振光方向。箭头A1与箭头A2之间的角度θ1设为45°。箭头A2的长度设为表示第二偏振光96的曝光量E2。在图10所示的例子中,E1=E2,即箭头A1与箭头A2的长度相等。
如果取向膜120被箭头A1所示的第一偏振光94曝光,则沿箭头A1的方向进行取向。此外,如果取向膜120被箭头A2所示的第二偏振光96曝光,沿箭头A2的方向进行取向。
此处,如果取向膜120在被箭头A1所示的第一偏振光94曝光后,被箭头A2所示的第二偏振光96曝光,则沿第一偏振光94的偏振光方向被取向的取向方向向第二偏振光96的偏振光方向旋转。因此,取向膜120在箭头A1与箭头A2之间的方向上被取向。但是,在曝光量E1、E2相等的情况下,被第一偏振光94及第二偏振光96曝光的区域的取向膜120并不是在与箭头A1的角度为θ2(=22.5°)的箭头A3的方向,即箭头A1与箭头A2的中间的箭头A3的方向上被取向,而是在与箭头A1的角度为θ3的箭头A4的方向上被取向。此处,θ3<θ2。这是由于取向膜120的反应性分子因先前的第一偏振光94而减少,通过后面的第二偏振光96而取向的反应性分子少而导致的。
图11是说明在第一偏振光94的曝光量E1少于第二偏振光96的曝光量E2的情况下取向膜120的取向的图。在图11所示的例子中,箭头A2长于箭头A1。在这种情况下,取向膜120首先被第一偏振光94取向,即使反应性分子减少,由于第二偏振光96的曝光量E2多于第一偏振光94的曝光量E1,因此在与箭头A1的角度为θ2(=22.5°)的箭头A5的方向上被取向。另外,曝光量E1与曝光量E2的关系的一例为E1≒0.7×E2。
接着,对光学膜100的制造方法进行说明。首先,准备卷绕在送出辊12上的长条状树脂基材90。此处,作为长条状树脂基材90的全长的一例为大约1000m。长条状树脂基材90的宽度的一例为大约350mm。之后,在保持阶段,长条状树脂基材90的一端固定于卷取辊28上。
接着,开始卷取辊28的旋转驱动。其结果,长条状树脂基材90从送出辊12送出,成为长条状树脂基材90沿输送方向输送的输送阶段。长条状树脂基材90的输送速度的一例为1m/分钟~10m/分钟。
被送出的长条状树脂基材90在由清洗部13清洗后,通过取向膜涂敷部14的下方。由此,通过取向膜涂敷部14,长条状树脂基材90的上面沿宽度方向的几乎整个区域内涂敷未取向的取向膜120。取向膜120的涂敷在长条状树脂基材90的输送过程中连续实施。因此,长条状树脂基材90的上面除两端的一部分以外,沿输送方向的全长连续地涂敷有取向膜120。
输送涂敷有取向膜120的长条状树脂基材90,使其通过取向膜干燥部16的内部。由此,将涂敷在长条状树脂基材90上面的取向膜120干燥。
此后,在曝光阶段,涂敷有取向膜120的区域的长条状树脂基材90通过第一开口部64下方,由此成为第一取向阶段。在第一取向阶段,在长条状树脂基材90持续输送的状态下,通过该第一开口部64下方的区域的取向膜120被从光源30及第一偏振光输出部50输出而透过第一掩模部58的第一开口部64的第一偏振光94曝光而取向。此处,长条状树脂基材90一边通过卷取辊28连续地以一定的速度持续输送,一边被曝光。因此,通过第一开口部64下方的取向膜120沿输送方向连续地被从第一偏振光输出部50输出的第一偏振光94取向。由此,通过第一开口部64下方的区域的取向膜120在与第一开口部64相同宽度且在输送方向上延伸的带状上被曝光,与第一偏振光94相对应地被取向。
此后,涂敷有取向膜120的区域的长条状树脂基材90被输送,通过第二开口部70的下方,由此成为第二取向阶段。在第二取向阶段,在输送阶段持续的状态下,从光源32及第二偏振光输出部52输出的第二偏振光96透过第二掩模部62的第二开口部70,照射到在通过第二开口部70下方的区域上形成的长条状树脂基材90的取向膜120。由于长条状树脂基材90的输送持续,因此该区域的取向膜120在与第二开口部70相同宽度的输送方向延伸的带状上被曝光。此外,该区域的取向膜120被第二偏振光96曝光,与第二偏振光96相对应地被取向。
此处,由于通过第一开口部64的第一开口长部位66下方的区域的取向膜120被第一偏振光94曝光,因此沿第一偏振光94的偏振光方向被取向。由此,第一取向区域132形成在通过第一开口长部位66下方的区域的取向膜120上。
由于通过第二开口部70的第二开口长部位72的下方的区域的取向膜120被第二偏振光96曝光,因此沿从第一偏振光94的偏振光方向旋转45°的第二偏振光96的偏振光方向被取向。由此,第三取向区域136形成在通过第二开口长部位72下方的区域的取向膜120上。
通过第一开口短部位68及第二开口短部位74下方的区域的取向膜12在被第一偏振光94曝光后,被第二偏振光96曝光。由此,该区域的取向膜120在沿第一偏振光94的偏振光方向被取向后,取向方向向第二偏振光96的偏振光方向旋转。此外,由于第二开口短部位74的长度为第一开口短部位68的长度以上,因此第二偏振光96的曝光量E2大于第一偏振光94的曝光量E1。由此,通过第一开口短部位68及第二开口短部位74下方的区域的取向膜120,沿从第一偏振光94的偏振光方向及第二偏振光96的偏振光方向旋转22.5°的方向被取向。由此,第二取向区域134形成在通过第一开口短部位68及第二开口短部位74下方的区域的取向膜120上。
此后,取向膜120被取向的长条状树脂基材90到达液晶膜涂敷部20的下方。由此,液晶膜122涂敷于取向膜120的上面。由于液晶膜122被连续涂敷于输送中的长条状树脂基材90的取向膜120的上面,使得液晶膜122沿长条状树脂基材90的输送方向上的全长被涂敷。之后,涂敷有液晶膜122的长条状树脂基材90被输送,通过液晶膜取向部22。由此,液晶膜122通过液晶膜取向部22被加热,液晶膜122的分子在沿形成在下面的取向膜120的取向被取向的同时被干燥。
接着,涂敷的液晶膜122被取向后的长条状树脂基材90通过液晶膜固化部24。紫外线照射到液晶膜122,液晶膜122在被取向的状态下固化。由此,与第一取向区域132、第二取向区域134及第三取向区域136分别对应地,液晶膜122的分子被取向,形成第一液晶区域142、第二液晶区域144及第三液晶区域146。其结果,如图1及图2所示,在长条状树脂基材90的宽度方向上周期性地形成由取向膜120及液晶膜122形成的第一偏振光调制部102、第二偏振光调制部104及第三偏振光调制部106。接着,在液晶膜122的上面,将分离膜92供给上面并贴合。然后,上面贴有分离膜92的长条状树脂基材90由卷取辊28卷绕。
此后,在通过卷取辊28输送长条状树脂基材90的同时,持续进行取向膜120的曝光,直到卷绕在送出辊12上的长条状树脂基材90供给结束。然后,卷绕在送出辊12上的长条状树脂基材90全部被供给的曝光工序结束。另外,也可以在结束的长条状树脂基材90的后端连接下一个新的长条状树脂基材90的前端,连续对取向膜120进行曝光。最后,形成有取向膜120及液晶膜122的长条状树脂基材90被切割成规定的长度,成为图1及图2所示的具有沿宽度方向阶段性地变化的光轴的光学膜100而完成。
如上所述,在曝光装置10中,第一掩模部58的第一开口部64的一部分与第二掩模部62的第二开口部70的一部分在宽度方向上形成在相同区域上。因此,通过在宽度方向上仅形成有第一开口部64的区域、仅形成有第二开口部70的区域以及形成有第一开口部64及第二开口部70的区域,能够使取向膜120在不同的取向方向上取向。即,曝光装置10通过两个偏振光输出部即第一偏振光输出部50及第二偏振光输出部52、两个掩模部即第一掩模部58及第二掩模部62,能够形成取向方向不同的三个取向区域即第一取向区域132、第二取向区域134及第三取向区域136。由此,曝光装置10减少了以往必须与偏振光调制部的数量相同的数量的第一偏振光输出部50及第二偏振光输出部52的数量、第一掩模部58及第二掩模部62的数量,能够使结构简单化。进一步地,通过使第一偏振光94的偏振光方向与第二偏振光96的偏振光方向交叉,使得两个偏振光方向之间的角度为45°,即小于90°,能够控制通过第一偏振光94而取向的取向方向因第二偏振光96而旋转的方向。
在曝光装置10中,通过形成在宽度方向上第一开口部64与第二开口部70重叠区域上的第一开口短部位68与第二开口短部位74在输送方向上的长度,来设定第一偏振光94的曝光量及第二偏振光96的曝光量。由此,能够容易地设定由第一偏振光94的曝光量及第二偏振光96的曝光量来决定的取向膜120的取向方向。因此,曝光装置10不用改变光源30、32的输出,能够容易地设定取向方向。
在曝光装置10中,形成在宽度方向上第一开口部64与第二开口部70重叠的区域上的第一开口短部位68与第二开口短部位74在输送方向上的长度不同。由此,能够提高通过第一偏振光94和第二偏振光96进行取向的区域的取向膜120在取向方向上的自由度。尤其是通过将输送方向上的第二开口短部位74的长度设为输送方向上的第一开口短部位68的长度以上,曝光装置10能够在取向膜120上形成以第一偏振光94的偏振光方向和第二偏振光96的偏振光方向的大致中间方向为取向方向的第二取向区域134。
接着,对改变了上述实施方式的曝光装置的一部分的实施方式进行说明。
图12是说明变更的掩模139的仰视图。图12的下半部分的图是通过掩模139进行取向的取向膜120及长条状树脂基材90的图。如图12所示,掩模139具有第一掩模138及第二掩模140。第一掩模138配置于比第二掩模140靠上游侧。
第一掩模138配置于从第一偏振光输出部50输出的第一偏振光94的光路上。第一掩模138具有第一掩模基材56及第一掩模部158。第一掩模部158由对第一偏振光94进行遮光的材料构成。在第一掩模部158上形成有第一开口部164。第一开口部164形成为直角三角形。第一开口部164的三角形由与输送方向平行的边、与宽度方向平行的边及相对于宽度方向及输送方向倾斜的边围成。第一开口部164在输送方向上的长度沿宽度方向的右向逐渐连续变短。
第二掩模140配置于从第二偏振光输出部52输出的第二偏振光96的光路上。第二掩模140具有第二掩模基材60及第二掩模部162。第二掩模部162由对第二偏振光96进行遮光的材料构成。在第二掩模部162上形成有第二开口部170。第二开口部170形成为直角三角形。第二开口部170的三角形由与输送方向平行的边、与宽度方向平行的边及相对于宽度方向及输送方向倾斜的边围成。第二开口部170在输送方向上的长度沿宽度方向的右向逐渐连续变长。
第一开口部164的与宽度方向平行的边与相对于宽度方向及输送方向倾斜的边交叉的顶点配置于第二开口部170的与输送方向平行的边的延长线上。第二开口部170的与宽度方向平行的边与相对于宽度方向及输送方向倾斜的边交叉的顶点配置于第一开口部164的与输送方向平行的边的延长线上。
在俯视观察下,第一开口部164的与输送方向平行的边配置于比输送的长条状树脂基材90的一边靠内侧。在俯视观察下,第二开口部170的与输送方向平行的边配置于比输送的长条状树脂基材90的另一边靠内侧。因此,形成在长条状树脂基材90上的取向膜120在宽度方向上的大致整个区域上,被第一偏振光94或第二偏振光96中的至少一个偏振光曝光。
此外,宽度方向的左端部附近的取向膜120几乎被第一偏振光94曝光。若从宽度方向的左端部离开,则取向膜120被第一偏振光94及第二偏振光96曝光。随着靠近宽度方向的右端部,对取向膜120进行曝光的偏振光中,第一偏振光94减少,第二偏振光96增加。宽度方向的右端部附近的取向膜120几乎被第二偏振光96曝光。
此处,如图12的第一开口部164的区域中箭头所示,将第一偏振光94的偏振光方向设为与输送方向平行。此外,如第二开口部170的区域中箭头所示,将第二偏振光96的偏振光方向设为从输送方向倾斜的方向。例如将第二偏振光96的偏振光方向设为相对于第一偏振光94的偏振光方向倾斜80°。
在这种情况下,通过第一掩模138及第二掩模140进行曝光的取向膜120的取向方向成为如长条状树脂基材90上箭头所示。具体而言,由于宽度方向的左端部附近的区域几乎仅被第一偏振光94曝光,因此取向膜120的取向方向成为与输送方向平行。随着去往宽度方向的右侧,取向膜120的取向方向从输送方向逐渐连续倾斜。在宽度方向的右端部附近,取向膜120的取向方向从输送方向大致倾斜80°。
如上所述,第一开口部164及第二开口部170具有相对于宽度方向及输送方向倾斜的一边。由此,第一掩模部158及第二掩模部162能够在宽度方向上使对取向膜取向膜120曝光的第一偏振光94及第二偏振光96的曝光量E1、E2逐渐变化。其结果,第一掩模部158及第二掩模部162能够在宽度方向上使取向膜120的取向方向不是阶段性地变化,而是逐渐连续地变化。由此,通过设置有掩模139的曝光装置10进行曝光的光学膜的光轴沿宽度方向连续地变化。
图13是说明变更的掩模239的仰视图。图13的下半部分的图是通过掩模239进行取向的取向膜120及长条状树脂基材90的图。如图13所示,掩模239具有第一掩模238及第二掩模240。第一掩模238配置于比第二掩模240靠上游侧。
第一掩模238配置于从第一偏振光输出部50输出的第一偏振光94的光路上。第一掩模238具有第一掩模基材56及第一掩模部258。第一掩模部258由对第一偏振光94进行遮光的材料构成。在第一掩模部258上,形成有第一开口部264。
第一开口部264由多个例如四个第一开口部位266a、266b、266c、266d形成。第一开口部位266a、266b、266c、266d形成为长方形。第一开口部位266a、266b、266c、266d配置为各自上游侧的一边一致。第一开口部位266a、266b、266c、266d连续形成为一体。第一开口部位266a、266b、266c、266d在宽度方向上的宽度分别相等。第一开口部位266a、266b、266c、266d在输送方向上的长度随着去往左侧而变短。例如,第一开口部位266a、266b、266c、266d在输送方向上的长度分别为20mm、15mm、10mm、5mm。
第二掩模240配置于从第二偏振光输出部52输出的第二偏振光96的光路上。第二掩模240具有第二掩模基材60及第二掩模部262。第二掩模部262由对第二偏振光96进行遮光的材料构成。在第二掩模部262上形成有第二开口部270。
第二开口部270由多个例如四个第二开口部位272a、272b、272c、272d形成。第二开口部位272a、272b、272c、272d形成为长方形。第二开口部位272a、272b、272c、272d配置为各自下游侧的一边一致。第二开口部位272a、272b、272c、272d连续形成为一体。第二开口部位272a、272b、272c、272d在宽度方向上的宽度分别相等。第二开口部位272a、272b、272c、272d在输送方向上的长度随着去往右侧而变短。例如,第二开口部位272a、272b、272c、272d在输送方向上的长度分别为20mm、15mm、10mm、5mm。
在宽度方向上,第一开口部位266b形成在与第二开口部位272d相同的区域上。在宽度方向上,第一开口部位266c形成在与第二开口部位272c相同的区域上。在宽度方向上,第一开口部位266d形成在与第二开口部位272b相同的区域上。在宽度方向上,第一开口部位266a及第二开口部位272a形成在与其他的第二开口部位272b、272c、272d及第一开口部位266b、266c、266d不重叠的区域上。
此处,如图13的第一开口部264的区域中箭头所示,将第一偏振光94的偏振光方向设为与输送方向平行。此外,如第二开口部270的区域中箭头所示,将第二偏振光96的偏振光方向设为从输送方向倾斜的方向。取向方向中,将与输送方向平行的方向设为0°。取向方向中,将图13所示的逆时针旋转设为正向。例如,第二偏振光96的偏振光方向设为,在俯视观察下,相对于第一偏振光94的偏振光方向倾斜+45°。对这种情况下的图13所示位置Pa、Pb、Pc、Pd、Pe的取向方向进行说明。另外,位置Pa位于通过宽度方向上的第一开口部位266a中心的沿输送方向的中心线上。同样地,位置Pb位于宽度方向上的第一开口部位266b及第二开口部位272d的中心线上。位置Pc位于宽度方向上的第一开口部位266c及第二开口部位272c的中心线上。位置Pd位于宽度方向上的第一开口部位266d及第二开口部位272b的中心线上。位置Pe位于宽度方向上的第二开口部位272a的中心线上。
图14是对图13中的位置Pa、Pb、Pc、Pd、Pe的取向方向进行说明的坐标图。将位置Pe的第二偏振光96的偏振光量设为54mJ/cm2。
如图14所示,仅由第一偏振光94进行取向的右端部区域的取向膜120与输送方向大致平行地被取向。在宽度方向上,随着去往左侧,取向膜120的取向方向以逆时针旋转,接近第二偏振光96的偏振光方向。仅由第二偏振光96进行取向的左端部区域的取向膜120与第二偏振光96的偏振光方向大致平行地被取向,即从输送方向旋转45°的方向地被取向。此外,第一开口部264及第二开口部270在输送方向上的长度阶段性地变化。因此,被设置有掩模239的曝光装置10曝光的光学膜的光轴沿宽度方向阶段性地变化。
进一步地,第一偏振光94及第二偏振光96的曝光量相等的位置Pc的取向方向比第二偏振光96的偏振光方向更靠近第一偏振光94的偏振光方向。由此可知,在使取向膜120向不偏向第一偏振光94的偏振光方向和第二偏振光96的偏振光方向中的任意一个的中间位置取向的情况下,必须使之后进行曝光的第二偏振光96的曝光量大于第一偏振光94的曝光量。
图15是说明变更的曝光部418的图。如图15所示,曝光部418具有光源30、32、530、532、第一偏振光输出部50、第二偏振光输出部52、第三偏振光输出部550、第四偏振光输出部552、掩模保持部34、36、534、536以及包含第一掩模438、第二掩模440、第三掩模538及第四掩模540的掩模439。
光源30、32、530、532沿输送方向从上游侧向下游侧配置。光源30、32、530、532输出相同照度的紫外线。
第一偏振光输出部50、第二偏振光输出部52、第三偏振光输出部550及第四偏振光输出部552按此顺序沿输送方向从上游侧向下游侧配置。第一偏振光输出部50、第二偏振光输出部52、第三偏振光输出部550及第四偏振光输出部552分别输出偏振光方向不同的第一偏振光94、第二偏振光96、第三偏振光594及第四偏振光596。
掩模保持部34、36、534、536分别保持第一掩模438、第二掩模440、第三掩模538及第四掩模540。第一掩模438、第二掩模440、第三掩模538及第四掩模540沿输送方向从上游侧向下游侧配置。
第一掩模438配置于第一偏振光94的光路上。第一掩模438具有第一掩模基材456及第一掩模部458。第二掩模440配置于第二偏振光96的光路上。第二掩模440具有第二掩模基材460及第二掩模部462。第三掩模538配置于第三偏振光594的光路上。第三掩模538具有第三掩模基材556及第三掩模部558。第四掩模540配置于第四偏振光596的光路上。第四掩模540具有第四掩模基材560及第四掩模部562。
图16是说明掩模439的仰视图。图16的下半部分的图是通过掩模439进行取向的取向膜120及长条状树脂基材90的图。如图16所示,在第一掩模部458上形成有第一三角开口部464及两个半三角开口部466、468。第一三角开口部464的三角形的一例为底边为20mm、高度为20mm的等腰三角形。此处所称的底边是指沿宽度方向的边。此外,高度为沿输送方向的长度。因此,第一三角开口部464的右半部分的区域沿宽度方向的右向连续性地变短。另一方面,第一三角开口部464的左半部分的区域沿宽度方向的左向连续性地变短。半三角开口部466、468是将第一三角开口部464分成一半的形状。半三角开口部466、468的三角形状的一例为底边为10mm、高度为20mm的直角三角形。半三角开口部466、468在宽度方向上的外侧的一边与输送方向平行地形成。宽度方向上的左侧的半三角开口部466的外侧的一边形成在比输送的长条状树脂基材90的一边靠内侧的位置上。宽度方向上的右侧的半三角开口部468的外侧的一边形成在比输送的长条状树脂基材90的另一边靠内侧的位置上。
在第二掩模部462上形成有两个第二三角开口部470。第二三角开口部470的形状与第一三角开口部464的形状相同。因此,第二三角开口部470的右半部分的区域沿宽度方向的右向连续性地变短。另一方面,第二三角开口部470的左半部分的区域沿宽度方向的左向连续性地变短。在宽度方向上,第二三角开口部470配置于相对于第一三角开口部464向右侧错开底边的一半长度的位置上。换言之,在与输送方向平行的第二三角开口部470的中心线的延长线上,配置有第一三角开口部464或半三角开口部466、468的底边的一个顶点。由此,沿宽度方向的右向连续性地变短的第一三角开口部464的右半部分的区域,对与沿宽度方向的右向连续性地变长的第二三角开口部470的左半部分的区域相同的取向膜120上的区域进行曝光。
在第三掩模部558上形成有两个第三三角开口部564。第三三角开口部564的形状与第一三角开口部464的形状相同。因此,第三三角开口部564的右半部分的区域沿宽度方向的右向连续性地变短。另一方面,第三三角开口部564的左半部分的区域沿宽度方向的左向连续性地变短。在宽度方向上,第三三角开口部564配置于相对于第二三角开口部470向右侧错开底边的一半长度的位置上。换言之,在与输送方向平行的第三三角开口部564的中心线的延长线上,配置有第二三角开口部470的底边的一个顶点。由此,沿宽度方向的右向连续性地变短的第二三角开口部470的右半部分的区域,对与沿宽度方向的右向连续性地变长的第三三角开口部564的左半部分的区域相同的取向膜120上的区域进行曝光。
在第四掩模部562上形成有两个第四三角开口部570。第四三角开口部570的形状与第一三角开口部464的形状相同。因此,第四三角开口部570的右半部分的区域沿宽度方向的右向连续性地变短。另一方面,第四三角开口部570的左半部分的区域沿宽度方向的左向连续性地变短。在宽度方向上,第四三角开口部570配置于相对于第三三角开口部564向右侧错开底边的一半长度的位置上。换言之,在与输送方向平行的第四三角开口部570的中心线的延长线上,配置有第三三角开口部564的底边的一个顶点。由此,沿宽度方向的右向连续性地变短的第三三角开口部564的右半部分的区域,对与沿宽度方向的右向连续性地变长的第四三角开口部570的左半部分的区域相同的取向膜120上的区域进行曝光。
第一三角开口部464或半三角开口部466、468、第二三角开口部470、第三三角开口部564及第四三角开口部570在宽度方向上以底边的一半长度为周期的方式周期性地配置。另外,也可以增加第一三角开口部464、第二三角开口部470、第三三角开口部564及第四三角开口部570的个数,进而形成多个周期。
在图16右端以箭头表示第一偏振光94、第二偏振光96、第三偏振光594及第四偏振光596的偏振光方向。第一偏振光94的偏振光方向与宽度方向平行。第二偏振光96是从第一偏振光94的偏振光方向以逆时针旋转45°的方向。第三偏振光594是从第二偏振光96的偏振光方向以逆时针旋转45°的方向,与输送方向平行。第四偏振光596是从第三偏振光594的偏振光方向以逆时针旋转45°的方向。换言之,第一偏振光94、第二偏振光96、第三偏振光594及第四偏振光596的偏振光方向为等角度间隔。
如图16所示,定义位置Pf、Pg,Ph、Pj、Pk、Pm、Pn、Pp、Pq。位置Pf是长条状树脂基材90的右端位置。位置Pq位于长条状树脂基材90的左端。位置Pf、Pg、Ph、Pj、Pk、Pm、Pn、Pp、Pq以第一三角开口部464的底边一半的间隔配置。换言之,位置Pf、Pg、Ph、Pj、Pk、Pm、Pn、Pp、Pq是在宽度方向上与第一三角开口部464、半三角开口部466、468、第二三角开口部470、第三三角开口部564及第四三角开口部570中任意一个的顶点相同位置。
图17是通过图16所示的掩模439进行取向的光学膜500的照片。光学膜500在取向膜120上形成具有1/2波长板的相位差的液晶膜122。图17的照片是将两张偏振光板以正交尼科耳的状态配置在光学膜500的前后并撮影。图16及图17中所示的位置Pf、Pg、Ph、Pj、Pk、Pm、Pn、Pp、Pq分别对应。在图17的上部以箭头表示位置Pf、Pg、Ph、Pj、Pk、Pm、Pn、Pp、Pq的取向方向。如图17所示,可知光学膜500的取向方向沿着宽度方向的从右侧向左侧逐渐且周期性地变化。由此可知,通过使第一三角开口部464或半三角开口部466、468、第二三角开口部470、第三三角开口部564、第四三角开口部570的各自一边倾斜,能够使取向方向逐渐连续性地变化。其结果,可知通过适用了设置有掩模439的曝光部418的曝光装置进行曝光的光学膜的光轴沿宽度方向连续性地变化。
此外,通过偏振光方向不同的四个偏振光即第一偏振光94、第二偏振光96、第三偏振光594、第四偏振光596,对取向膜120进行曝光。由此,在宽度方向上不同的区域,能够使取向膜120相对于宽度方向从0°至180°进行取向。其结果,如果将具有图16所示的取向膜120的光学膜适用于调光窗对,则能够连续地进行更加微细的调光。
图18是说明掩模1439的仰视图。图18得下半部分的图是通过掩模1439进行取向的取向膜120及长条状树脂基材90的图。掩模1439可以配置在曝光部418上,来替代图16的掩模439。如图18所示,掩模1439具有第一掩模1438、第二掩模1440、第三掩模1538及第四掩模1540。
第一掩模1438具有第一掩模基材1456、第一掩模部1458。在第一掩模部1458上形成有第一开口部1464、两个半开口部1466、1468。第一开口部1464为底边与宽度方向平行,其余两边为阶梯状的三角形。第一开口部1464的三角形的一例为底边为20mm、高度为20mm的等腰三角形。此处所称的底边是沿宽度方向的边。此外,高度是沿输送方向的长度。因此,第一开口部1464的右半部分的区域沿宽度方向的右向阶段性地变短。另一方面,第一开口部1464的左半部分的区域沿宽度方向的左向阶段性地变短。半开口部1466、1468是将第一开口部1464分成一半的形状。半开口部1466、1468在宽度方向上的外侧的一边与输送方向平行地形成。宽度方向左侧的半开口部1466的外侧的一边形成在比被输送的长条状树脂基材90的一边靠内侧的位置上。宽度方向右侧的半开口部1468的外侧的一边形成在比被输送的长条状树脂基材90的另一边靠内侧的位置上。
第二掩模1440具有第二掩模基材1460及第二掩模部1462。在第二掩模部1462上形成有两个第二开口部1470。第二开口部1470的形状与第一开口部1464的形状相同。因此,第二开口部1470的右半部分的区域沿宽度方向的右向阶段性地变短。另一方面,第二开口部1470左半部分的区域沿宽度方向的左向阶段性地变短。在宽度方向上,第二开口部1470配置于相对于第一开口部1464向右侧错开底边的五分之三长度的位置上。第二开口部1470中央的最长区域配置于在宽度方向上与第一开口部1464或半开口部1466、1468不同的位置上。由此,沿宽度方向的右向阶段性地变短的第一开口部1464的右侧的两段区域,对与沿宽度方向的右向阶段性地变长的第二开口部1470的左侧的两段区域相同的取向膜120上的区域进行曝光。
第三掩模1538具有第三掩模基材1556及第三掩模部1558。在第三掩模部1558上形成有两个第三开口部1564。第三开口部1564的形状与第一开口部1464的形状相同。因此,第三开口部1564的右半部分的区域沿宽度方向的右向阶段性地变短。另一方面,第三开口部1564的左半部分的区域沿宽度方向的左向阶段性地变短。在宽度方向上,第三开口部1564配置于相对于第二开口部1470向右侧错开底边的五分之三长度的位置上。第三开口部1564中央的最长区域配置于在宽度方向上与第二开口部1470不同的位置上。由此,沿宽度方向的右向阶段性地变短的第二开口部1470的右侧的两段区域,对与沿宽度方向的右向阶段性地变长的第三开口部1564的左侧的两段区域相同的取向膜120上的区域进行曝光。
第四掩模1540具有第四掩模基材1560及第四掩模部1562。在第四掩模部1562上形成有两个第四开口部1570。第四开口部1570的形状与第一开口部1464的形状相同。因此,第四开口部1570的右半部分的区域沿宽度方向的右向阶段性地变短。另一方面,第四开口部1570的左半部分的区域沿宽度方向的左向阶段性地变短。在宽度方向上,第四开口部1570配置于相对于第三开口部1564向右侧错开底边的五分之三长度的位置上。第四开口部1570中央的最长区域配置于在宽度方向上与第三开口部1564不同的位置上。由此,沿宽度方向的右向阶段性地变短的第三开口部1564的右侧的两段区域,对与沿宽度方向的右向阶段性地变长的第四开口部1570的左侧的两段区域相同的取向膜120上的区域进行曝光。
第一开口部1464或半开口部1466、1468、第二开口部1470、第三开口部1564、第四开口部1570在宽度方向上以底边的一半长度、底边的五分之三长度为周期的方式周期性地配置。另外,也可以增加第一开口部1464、第二开口部1470、第三开口部1564、第四开口部1570的个数,进而形成多个周期。
在图18的右端以箭头表示第一偏振光94、第二偏振光96、第三偏振光594及第四偏振光596的偏振光方向。第一偏振光94的偏振光方向与宽度方向平行。第二偏振光96是从第一偏振光94的偏振光方向以顺时针旋转45°的方向。第三偏振光594是从第二偏振光96的偏振光方向以顺时针旋转45°的方向,与输送方向平行。第四偏振光596是从第三偏振光594的偏振光方向以顺时针旋转45°的方向。换言之,第一偏振光94、第二偏振光96、第三偏振光594及第四偏振光596的偏振光方向为等角度间隔。
如图18所示,可知取向方向沿着宽度方向的从右侧向左侧阶段性地且周期性地变化。由此,通过使第一开口部1464或半开口部1466、1468、第二开口部1470、第三开口部1564、第四开口部1570的各自一边阶段性地变化,能够使取向方向逐渐阶段性地变化。
此外,通过偏振光方向不同的四个偏振光即第一偏振光94、第二偏振光96、第三偏振光594、第四偏振光596,对取向膜120进行曝光。由此,在宽度方向上不同的区域,能够使取向膜120相对于宽度方向从0°至180°阶段性地进行取向。其结果,通过具有设置有掩模1439的曝光部418的曝光装置进行曝光的光学膜的光轴沿宽度方向阶段性地变化。此外,如果将具有图18所示的取向膜120的光学膜适用于调光窗对,则能够阶段性地进行更加细微的调光。另外,也可分割各个第一开口部1464、第二开口部1470、第三开口部1564及第四开口部1570,而设成多个。在这种情况下,各自的开口形状为,在第一开口部1464、第二开口部1470、第三开口部1564及第四开口部1570的阶差之间空开间隔,输送方向上的长度沿宽度方向阶段性地变长或变短的条状。
接着,对改变了曝光部的方式进行说明。
图19是变更的曝光部618的结构图。另外,对与上述结构相同的结构标上相同的附图标记并省略说明。
如图19所示,曝光部618具有一个光源630及遮光部651。光源630对跨越第一偏振光输出部50、第二偏振光输出部52的区域输出紫外线等光。
遮光部651配置于偏振光输出部750的下方,并且在第一掩模38与第二掩模40之间的上方。由此,遮光部651对在第一掩模38与第二掩模40之间行进的偏振光进行遮光。
曝光部618通将光源630做成一个,能够使结构简单化。此外,由于遮光部651配置于第一偏振光输出部50与第二偏振光输出部52之间,因此能够抑制第一偏振光94与第二偏振光96彼此混合。
图20是变更的另一曝光部718的结构图。另外,对与上述结构相同的结构标上相同的附图标记并省略说明。
如图20所示,曝光部718具有一个光源630、偏振光输出部750、λ/2相位差板752及遮光部651。偏振光输出部750使来自光源630的光成为偏振光并输出。偏振光输出部750的一例为布氏板。λ/2相位差板752配置于偏振光输出部750的下方,并且在第二掩模40的上方。λ/2相位差板752使从偏振光输出部750输出的偏振光的偏振光方向旋转例如45°。另外,在图20所示的方式中,偏振光输出部750的上游侧的区域相当于第一偏振光输出部,偏振光输出部750的下游侧的区域和λ/2相位差板752相当于第二偏振光输出部。
图21是变更的另一曝光部818的结构图。另外,对与上述结构相同的结构标上相同的附图标记并省略说明。也可以如图21所示的曝光部818那样,将图20中的λ/2相位差板752配置于第二掩模40与长条状树脂基材90之间。
上述各实施方式的结构的形状、配置、个数等数值及材料可以适当变更。此外,也可以组合各实施方式。
例如,偏振光调制部的偏振光方向可以适当变更。此外,曝光用偏振光的偏振光方向也可以适当变更。
在上述的实施方式中,示出了连续输送长条状基材的例子,但也可以将上述实施方式适用于,在反复进行输送及停止长条状树脂基材的输送过程中曝光的曝光装置,或在输送不是长条状的树脂基材而是一张树脂基材的同时进行曝光的曝光装置。
在上述实施方式中,分别形成第一掩模部58及第二掩模部62,但也可以在一张掩模基材上形成第一掩模部58及第二掩模部62。当然,也可以在一张掩模基材上形成三个以上的掩模部。
上述实施方式中举出的偏振光的偏振光方向为一例。例如,在通过两个偏振光方向的偏振光进行曝光的情况下,也可以使一个偏振光的偏振光方向与另一偏振光的偏振光方向不同,且小于90°,即不垂直。这是由于通过使两个偏振光方向不垂直,能够对在由一个偏振光进行取向后,由另一偏振光进行旋转的取向的旋转方向进行设定。
在上述实施方式中,示出了设置有两个或四个偏振光输出部的例子,但偏振光输出部的个数并不限定于此。图22是说明偏振光方向与取向膜的光轴间的关系的图。如图22所示,例如,将偏振光输出部的个数设为n个,设为输出偏振光方向不同的n个偏振光。n为3以上的自然数。同样地,将掩模部的个数设为n个。
将偏振光方向设为P1、P2、…、Pn。偏振光方向P1、P2、…、Pn的偏振光在输送方向上曝光的顺序任意。因此,可以为偏振光方向P1的偏振光、偏振光方向P3的偏振光、偏振光方向P2的偏振光的顺序。
此处,如果将输送方向设为0°,从与取向膜表面垂直的方向观察取向膜表面上部,将逆时针旋转设为正角度,将n个偏振光输出部各自输出的偏振光的偏振光方向Pp自输送方向起的角度设为θp(p=1、2、…n),则当角度θp满足以下关系时,能够形成从0°至180°的整个范围的光轴。因此,n个偏振光输出部各自出射的偏振光的偏振光方向优选满足以下关系。
0°≦θ1<θ2<…<θn<180°,
θp+1-θp<90°,
θn-θ1>90°。
根据该关系,在偏振光方向Pp的偏振光与偏振光方向Pp+1的偏振光的曝光中,能够在θp以上θp+1以下的方向间自由地形成光轴。即,可知能够在θ1以上θn以下之间自由地形成光轴。
此处,在从最小角度θ1的偏振光方向P1至最大角度θn的偏振光方向Pn间的角度差(θn-θ1)为90°以下的情况下,只能在θ1以上θn以下的方向间设定光轴。换言之,在0°以上且小于θ1的方向间及大于θn且小于180°的方向间不能设定光轴。因此,可知根据θn-θ1>90°的条件,不能在从0°至180°的整个范围形成光轴。但是,此处,如果设为“0°≦θ<180°”,则某个角度θ的偏振光方向与角度(θ+180°)的偏振光方向为同一偏振光方向。
另外,在这种情况下,n个偏振光输出部优选输出以(180/n)°的间隔旋转的n个偏振光方向的偏振光。由此,从偏振光输出部输出的偏振光的照度的设定,以及在掩模部上形成的输送方向上的开口长度的设计变得容易。
此外,在上述实施方式中,示出了将光学膜100等适用于调光窗部件对300的例子,但也可以将上述光学膜适用于其他光学部件等。例如,也可以将光学膜适用于摄像装置等中适用的低通滤波器。
图23是发挥摄像装置等中适用的低通滤波器功能的光学膜2300的俯视图。图24是沿图23的A-A线的光学膜2300的剖视图。如图23及图24所示,光学膜2300具有多组多个,例如十个偏振光调制部2102、2104、2106、2108、2110、2112、2114、2116、2118、2120。十个偏振光调制部2102、2104、2106、2108、2110、2112、2114、2116、2118、2120由形成在基材2218上的取向膜2220及液晶膜2222构成。
十个偏振光调制部2102、2104、2106、2108、2110、2112、2114、2116、2118、2120按此顺序沿宽度方向周期性地排列。十个偏振光调制部2102、2104、2106、2108、2110、2112、2114、2116、2118、2120形成为相同形状。十个偏振光调制部2102、2104、2106、2108、2110、2112、2114、2116、2118、2120分别具有不同的光轴。十个偏振光调制部2102、2104、2106、2108、2110、2112、2114、2116、2118、2120的光轴随着去往宽度方向的右向,以m为自然数,每(180/m)°,例如每18°顺时针旋转。十个偏振光调制部2102、2104、2106、2108、2110、2112、2114、2116、2118、2120使与自身的滞相轴平行的光的振动成分的相位延迟。十个偏振光调制部2102、2104、2106、2108、2110、2112、2114、2116、2118、2120发挥λ/2相位差板的功能。
这样在光轴以等间隔变化的情况下,光学膜2300在光2100入射时,出射大致一次衍射光。此处,如果将衍射光栅的间距设为p,入射的光的波长设为λ,则一次衍射光的分离角度θ用下式表示。
tanθ=λ/p
由此,通过将光学膜2300配置于摄像装置的撮像器件的入射侧,能够防止在对具有比撮像器件的像素间距高的空间频率的光学图像摄影时产生莫尔条纹。另外,衍射光栅的间距p的一例为500μm。此外,邻接的偏振光调制部的光轴与光轴之间的角度变化越细微,一次衍射率越大,莫尔条纹的防止效果越好。
在上述实施方式中,作为基材适用了树脂基材118,但也可以适用玻璃基材作为基材。玻璃基材的厚度的一例为0.05mm至5mm。构成玻璃基材的材料的例子为,可以适用碱性玻璃、无碱玻璃(例如日本电气硝子(株)公司制造的OA-10)、石英玻璃等。
在上述实施方式中,举出了从多个光源照射的光的照度相同的例子,但也可以从多个光源出射不同照度的光。
以上,使用实施方式对本发明进行了说明,但本发明的技术范围并不限定于上述实施方式所述的范围。本领域技术人员清楚,对于上述实施方式可以施加各种变更或改进。由权利要求书的记载可知,施加了这样的变更或改进的方式也包含在本发明的技术范围内。
值得注意的是,关于权利要求书、说明书及其附图中所示的装置、系统、程序及方法中的动作、次序、步骤及阶段等各处理的实施顺序,只要没有特别写明“更前”、“之前”等,此外,只要不是在后面处理中使用前面处理的输出,则可以以任意顺序实现。关于权利要求书、说明书及其附图中的动作流程,为了方便,使用“首先”、“接着”等进行了说明,但这并不意味着必须按照该顺序实施。
附图标记说明
10―曝光装置;12―送出辊;13―清洗部;14―取向膜涂敷部;16―取向膜干燥部;18―曝光部;20―液晶膜涂敷部;22―液晶膜取向部;24―液晶膜固化部;26―膜供给部;28―卷取辊;30―光源;32―光源;34―掩模保持部;36―掩模保持部;38―第一掩模;39―掩模;40―第二掩模;50―第一偏振光输出部;52―第二偏振光输出部;56―第一掩模基材;58―第一掩模部;60―第二掩模基材;62―第二掩模部;64―第一开口部;66―第一开口长部位;68―第一开口短部位;70―第二开口部;72―第二开口长部位;74―第二开口短部位;90―长条状树脂基材;92―分离膜;94―第一偏振光;96―第二偏振光;100―光学膜;102―第一偏振光调制部;104―第二偏振光调制部;106―第三偏振光调制部;112―箭头;114―箭头;116―箭头;118―树脂基材;120―取向膜;122―液晶膜;132―第一取向区域。
134―第二取向区域;136―第三取向区域;138―第一掩模;139―掩模;140―第二掩模;142―第一液晶区域;144―第二液晶区域;146―第三液晶区域;158―第一掩模部;162―第二掩模部;164―第一开口部;170―第二开口部;200―光学膜;202―第一偏振光调制部;204―第二偏振光调制部;206―第三偏振光调制部;238―第一掩模;239―掩模;240―第二掩模;258―第一掩模部;262―第二掩模部;264―第一开口部;266―第一开口部位;270―第二开口部;272―第二开口部位;300―调光窗部件对;310―调光窗部件;312―基底板;314―偏振光板;320―调光窗部件;322―基底板;324―偏振光板;330―箭头;418―曝光部;438―第一掩模;439―掩模;440―第二掩模;456―第一掩模基材;458―第一掩模部;460―第二掩模基材;462―第二掩模部;464―第一三角开口部;466―半三角开口部;468―半三角开口部;470―第二三角开口部;500―光学膜。
530―光源;532―光源;534―掩模保持部;536―掩模保持部;538―第三掩模;540―第四掩模;550―第三偏振光输出部;552―第四偏振光输出部;556―第三掩模基材;558―第三掩模部;560―第四掩模基材;562―第四掩模部;564―第三三角开口部;570―第四三角开口部;594―第三偏振光;596―第四偏振光;618―曝光部;630―光源;651―遮光部;718―曝光部;750―偏振光输出部;752―λ/2相位差板;818―曝光部;1438―第一掩模;1439―掩模;1440―第二掩模;1456―第一掩模基材;1458―第一掩模部;1460―第二掩模基材;1462―第二掩模部;1464―第一开口部;1466―半开口部;1468―半开口部;1470―第二开口部;1538―第三掩模;1540―第四掩模;1556―第三掩模基材;1558―第三掩模部;1560―第四掩模基材;1562―第四掩模部;1564―第三开口部;1570―第四开口部;2100―光;2102―偏振光调制部;2104―偏振光调制部;2106―偏振光调制部;2108―偏振光调制部;2110―偏振光调制部;2112―偏振光调制部;2114―偏振光调制部;2116―偏振光调制部;2118―偏振光调制部;2120―偏振光调制部;2218―基材;2220―取向膜;2222―液晶膜;2300―光学膜。
Claims (13)
1.一种曝光装置,其具备输送部、第一偏振光输出部、第二偏振光输出部、第一掩模部及第二掩模部;
所述输送部沿输送方向输送形成有取向膜的基材;
所述第一偏振光输出部朝向所述基材的所述取向膜,输出具有第一偏振光方向的第一偏振光;
所述第二偏振光输出部朝向所述基材的所述取向膜,配置于所述输送方向上比所述第一偏振光输出部靠下游侧,输出具有第二偏振光方向的第二偏振光,所述第二偏振光方向以小于90°的角度与所述第一偏振光方向交叉;
所述第一掩模部配置于所述基材与所述第一偏振光输出部之间,形成有使对所述取向膜进行曝光的所述第一偏振光透过的第一开口部,并对所述第一偏振光进行遮光;
所述第二掩模部配置于所述基材与所述第二偏振光输出部之间,形成有使对所述取向膜进行曝光的所述第二偏振光透过的第二开口部,并对所述第二偏振光进行遮光;
所述第一开口部及所述第二开口部形成为对具有所述取向膜的区域进行重复曝光;
所述第一开口部包含使所述第一偏振光朝向所述区域透过的第一开口区域;
所述第二开口部包含使所述第二偏振光朝向所述区域透过的第二开口区域。
2.根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,在与所述输送方向垂直的垂直方向的相同位置的至少一部分上,所述输送方向上的所述第一开口区域的长度与所述输送方向上的所述第二开口区域的长度不同。
3.根据权利要求2所述的曝光装置,其特征在于,在所述至少一部分上,所述输送方向上的所述所述第一开口区域的长度小于所述输送方向上的所述第二开口区域的长度。
4.根据权利要求2或3所述的曝光装置,其特征在于,
所述第一开口部为彼此分开的多个;
所述第二开口部为彼此分开的多个;
所述输送方向上的多个第一开口部的长度不同;
所述输送方向上的多个第二开口部的长度不同。
5.根据权利要求2至4中任意一项所述的曝光装置,其特征在于,
所述第一开口部包含形成如下的一个区域,即,所述输送方向上的所述第一开口区域的长度沿所述垂直方向的第一方向阶段性地变短;
所述第二开口部包含形成如下的区域,即,对所述输送方向上与所述一个区域相同的区域进行曝光的所述第二开口区域的长度沿所述垂直方向的所述第一方向阶段性地变长。
6.根据权利要求5所述的曝光装置,其特征在于,
所述第一开口部还包含形成如下的另一区域,即,所述输送方向上的所述第一开口区域的长度沿所述垂直方向的第二方向阶段性地变短;
所述第二开口部还包含形成如下的区域,即,对所述输送方向上与所述另一区域相同的区域进行曝光的所述第二开口区域的长度沿所述垂直方向的所述第二方向阶段性地变长。
7.根据权利要求2至6中任意一项所述的曝光装置,其特征在于,
所述第一开口部包含形成如下的一个区域,即,所述输送方向上的所述第一开口区域的长度沿所述垂直方向的第一方向连续性地变短;
所述第二开口部包含形成如下的区域,即,对所述输送方向上与所述一个区域相同的区域进行曝光的所述第二开口区域的长度沿所述垂直方向的所述第一方向连续性地变长。
8.根据权利要求7所述的曝光装置,其特征在于,
所述第一开口部还包含形成如下的另一区域,即,所述输送方向上的所述第一开口区域的长度沿所述垂直方向的第二方向连续性地变短;
所述第二开口部还包含形成如下的区域,即,对所述输送方向上与所述另一区域相同的区域进行曝光的所述第二开口区域的长度沿所述垂直方向的所述第二方向连续性地变长。
9.根据权利要求1至8中任意一项所述的曝光装置,其特征在于,
还具备n个偏振光输出部及n个掩模部,其中,n为3以上的自然数;
所述n个偏振光输出部包含所述第一偏振光输出部及所述第二偏振光输出部;
所述n个掩模部包含第一掩模部及第二掩模部;
如果将输送方向设为0°,从与所述取向膜表面垂直的方向观察所述取向膜表面上部,将逆时针旋转设为正角度,将从n个所述偏振光输出部各自输出的偏振光的偏振光方向自输送方向起的角度设为θp,其中,p=1、2、…n,则
0°≦θ1<θ2<…<θn<180°,
θp+1-θp<90°,且
θn-θ1>90°。
10.根据权利要求9所述的曝光装置,其特征在于,
n个偏振光输出部输出彼此以(180/n)°的间隔旋转的偏振光方向的偏振光。
11.一种掩模,其配置在向形成有取向膜的基材输出的第一偏振光,以及以小于90°的角度与所述第一偏振光交叉的第二偏振光的光路上;
具备第一掩模部及第二掩模部;
所述第一掩模部配置在所述第一偏振光的光路上,形成有使所述第一偏振光透过的第一开口部,对所述第一偏振光进行遮光;
所述第二掩模部配置在所述第二偏振光的光路上,形成有使所述第二偏振光透过的第二开口部,对所述第二偏振光进行遮光;
所述第一开口部及所述第二开口部形成为对具有所述取向膜的某个区域进行重复曝光;
所述第一开口部包含使所述第一偏振光朝向所述区域透过的第一开口区域;
所述第二开口部包含使所述第二偏振光朝向所述区域透过的第二开口区域。
12.一种光学膜,其是通过利用权利要求1至10中任意一项所述的曝光装置进行曝光而制造的。
13.根据权利要求12所述的光学膜,其特征在于,在与所述输送方向垂直的垂直方向上,光轴连续性地变化。
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Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6379663B2 (ja) * | 2014-05-19 | 2018-08-29 | 大日本印刷株式会社 | 調光装置及び空間区画構造体 |
JP5983787B2 (ja) * | 2015-01-09 | 2016-09-06 | ウシオ電機株式会社 | 偏光光照射装置及び光配向装置 |
CN105892157A (zh) * | 2016-06-07 | 2016-08-24 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 对液晶面板进行光配向的方法及光罩 |
JP2018049127A (ja) * | 2016-09-21 | 2018-03-29 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
WO2020036469A1 (en) * | 2018-08-16 | 2020-02-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Diffraction grating structure, augmented reality apparatus including the same, and method of manufacturing diffraction grating structure |
WO2024070536A1 (ja) * | 2022-09-26 | 2024-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 配向膜の製造方法及び配向膜の製造装置 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1255203A (zh) * | 1997-05-09 | 2000-05-31 | 罗利克有限公司 | 光学元件 |
US6312875B1 (en) * | 1997-09-05 | 2001-11-06 | Lg Electronics Inc. | Method for manufacturing a multidomain liquid crystal display panel |
CN101622572A (zh) * | 2007-03-05 | 2010-01-06 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置及其制造方法 |
JP2010091906A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の製造方法 |
CN102169200A (zh) * | 2011-05-31 | 2011-08-31 | 京东方科技集团股份有限公司 | 相位差板制作方法、3d面板及3d显示设备 |
KR20110109449A (ko) * | 2010-03-31 | 2011-10-06 | 동우 화인켐 주식회사 | 패턴화 리타더, 이 패턴화 리타더를 제조하는 롤-투-롤 제조장치와 제조공정 |
CN102227672A (zh) * | 2008-12-19 | 2011-10-26 | 株式会社有泽制作所 | 液晶滤波器,相位差板及光学低通滤波器 |
JP2012014064A (ja) * | 2010-07-02 | 2012-01-19 | Dainippon Printing Co Ltd | 光配向膜の製造方法、位相差フィルムの製造方法、光配向膜製造システム、光配向膜及び位相差フィルム |
CN102629080A (zh) * | 2011-02-01 | 2012-08-08 | 株式会社有泽制作所 | 薄膜状产品的制造方法、薄膜状产品的制造装置、及掩膜 |
JP2012198522A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-10-18 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン配向膜の製造方法、それを用いたパターン位相差フィルムの製造方法およびその製造装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5327285A (en) * | 1990-06-11 | 1994-07-05 | Faris Sadeg M | Methods for manufacturing micropolarizers |
US6624863B1 (en) * | 1997-06-28 | 2003-09-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of making a patterned retarder, patterned retarder and illumination source |
US7872718B2 (en) * | 2006-01-26 | 2011-01-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Production method of a liquid crystal display device including dividing an exposure step into two exposure regions that partly overlap each other and a photomask with a halftone part |
US8062836B2 (en) | 2009-02-03 | 2011-11-22 | Lg Chem, Ltd. | Method for manufacturing an optical filter for a stereoscopic image display device |
JP2009187043A (ja) * | 2009-05-29 | 2009-08-20 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
KR101725342B1 (ko) * | 2009-10-12 | 2017-04-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 광배향용 마스크, 이를 이용한 광배향 방법 및 액정 표시 장치 |
KR101777871B1 (ko) * | 2011-02-21 | 2017-09-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | 입체영상 표시장치용 필름형 패턴드 리타더 제조 장치 |
JP5077465B2 (ja) * | 2011-07-14 | 2012-11-21 | ウシオ電機株式会社 | 光配向用偏光光照射装置 |
KR101945068B1 (ko) * | 2011-08-31 | 2019-02-01 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 패턴 위상차 필름의 제조 방법, 패턴 위상차 필름 및 화상 표시 장치 |
JP5922459B2 (ja) * | 2012-03-26 | 2016-05-24 | 株式会社有沢製作所 | 位相差板の製造方法 |
-
2012
- 2012-10-26 JP JP2014543010A patent/JP5866028B2/ja active Active
- 2012-10-26 WO PCT/JP2012/006901 patent/WO2014064742A1/ja active Application Filing
- 2012-10-26 CN CN201280076086.5A patent/CN104685417B/zh active Active
-
2013
- 2013-10-17 TW TW102137414A patent/TWI541574B/zh active
-
2015
- 2015-04-22 US US14/692,756 patent/US9760013B2/en active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1255203A (zh) * | 1997-05-09 | 2000-05-31 | 罗利克有限公司 | 光学元件 |
US6312875B1 (en) * | 1997-09-05 | 2001-11-06 | Lg Electronics Inc. | Method for manufacturing a multidomain liquid crystal display panel |
CN101622572A (zh) * | 2007-03-05 | 2010-01-06 | 夏普株式会社 | 液晶显示装置及其制造方法 |
JP2010091906A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の製造方法 |
CN102227672A (zh) * | 2008-12-19 | 2011-10-26 | 株式会社有泽制作所 | 液晶滤波器,相位差板及光学低通滤波器 |
KR20110109449A (ko) * | 2010-03-31 | 2011-10-06 | 동우 화인켐 주식회사 | 패턴화 리타더, 이 패턴화 리타더를 제조하는 롤-투-롤 제조장치와 제조공정 |
JP2012014064A (ja) * | 2010-07-02 | 2012-01-19 | Dainippon Printing Co Ltd | 光配向膜の製造方法、位相差フィルムの製造方法、光配向膜製造システム、光配向膜及び位相差フィルム |
CN102629080A (zh) * | 2011-02-01 | 2012-08-08 | 株式会社有泽制作所 | 薄膜状产品的制造方法、薄膜状产品的制造装置、及掩膜 |
JP2012198522A (ja) * | 2011-03-04 | 2012-10-18 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン配向膜の製造方法、それを用いたパターン位相差フィルムの製造方法およびその製造装置 |
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