TW201423237A - 曝光裝置、罩幕以及光學膜 - Google Patents

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Tatsuya Sato
Kazuhiro Ura
Kenichi Watabe
Yuichi Kakubari
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Arisawa Seisakusho Kk
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Abstract

曝光裝置的構成複雜。本發明提供一種曝光裝置、罩幕以及光學膜。曝光裝置包括：搬送部，將形成著配向膜的基材沿著搬送方向搬送；第1偏光輸出部，朝向配向膜，輸出第1偏光方向的第1偏光；第2偏光輸出部，朝向配向膜，配置於搬送方向上比第1偏光輸出部靠下游側處，輸出與第1偏光方向以小於90°的角度交叉的第2偏光方向的第2偏光；第1罩幕部，配置於基材與第1偏光輸出部間，形成透射將配向膜曝光的第1偏光的第1開口部，且遮蔽第1偏光；第2罩幕部，配置於基材與第2偏光輸出部間，形成透射將配向膜曝光的第2偏光的第2開口部，且遮蔽第2偏光，第1開口部以及第2開口部以將配向膜的某區域重複曝光的方式而形成，第1開口部包含朝向區域透射第1偏光的第1開口區域，第2開口部包含朝向區域透射第2偏光的第2開口區域。

Description

曝光裝置、罩幕以及光學膜
本發明是有關於一種曝光裝置、罩幕以及光學膜。
藉由罩幕而利用不同的偏光將配向膜的多個區域曝光的曝光裝置已為人所知(例如，參照專利文獻1、非專利文獻1)。
[專利文獻1]美國專利申請案公開第2011/0217638號說明書
[非專利文獻1]Hubert Seiberle及另外2人，「光對準各向異性光學薄膜(Photo-Aligned Anisotropic Optical Thin Films)」，資訊顯示學會研討會技術論文摘要((Society for Information Display，SID)Symposium Digest of Technical Papers)，美國，資訊顯示學會(Society for Information Display)，2012年7月5日，34卷，期刊1，1162-1165頁
然而，當在上述曝光裝置中，形成複雜圖案時，因圖案的數量增加，故存在曝光裝置的構成變得複雜的課題。
本發明的第1形態中提供一種曝光裝置，包括：搬送部，將形成著配向膜的基材沿著搬送方向搬送；第1偏光輸出部，朝向上述基材的上述配向膜，輸出具有第1偏光方向的第1偏光；第2偏光輸出部，朝向上述基材的上述配向膜，配置於上述搬送方向上比上述第1偏光輸出部靠下游側處，輸出具有與上述第1偏光方向以小於90°的角度交叉的第2偏光方向的第2偏光；第1罩幕部，配置於上述基材與上述第1偏光輸出部之間，形成著第1開口部，該第1開口部透射將上述配向膜曝光的上述第1偏光，且上述第1罩幕部遮蔽上述第1偏光；以及第2罩幕部，配置於上述基材與上述第2偏光輸出部之間，形成著第2開口部，該第2開口部透射將上述配向膜曝光的上述第2偏光，且上述第2罩幕部遮蔽上述第2偏光，上述第1開口部及上述第2開口部以將上述配向膜的某區域重複曝光的方式而形成，上述第1開口部包括朝向上述區域透射上述第1偏光的第1開口區域，上述第2開口部包括朝向上述區域透射上述第2偏光的第2開口區域。
本發明的第2形態中提供一種罩幕，配置於向形成著配向膜的基材輸出的第1偏光、以及與上述第1偏光以小於90°的角度交叉的第2偏光的光路上，且包括：第1罩幕部，配置於上述第1偏光的光路上，形成著第1開口部，該第1開口部透射上述第1偏光，且上述第1罩幕部遮蔽上述第1偏光；以及第2罩幕部，配置於上述第2偏光的光路上，形成著第2開口部，該第2 開口部透射上述第2偏光，且上述第2罩幕部遮蔽上述第2偏光，且上述第1開口部及上述第2開口部以將上述配向膜的某區域重複曝光的方式而形成，上述第1開口部包含朝向上述區域透射上述第1偏光的第1開口區域，上述第2開口部包含朝向上述區域透射上述第2偏光的第2開口區域。
本發明的第3形態中提供一種藉由利用上述曝光裝置曝光而製造的光學膜。
另外，上述發明的概要並非列舉本發明的全部必要特徵。而且，該些特徵群的次組合亦可成為發明。
10‧‧‧曝光裝置
12‧‧‧送出滾輪
13‧‧‧洗淨部
14‧‧‧配向膜塗佈部
16‧‧‧配向膜乾燥部
18、418、618、718、818‧‧‧曝光部
20‧‧‧液晶膜塗佈部
22‧‧‧液晶膜配向部
24‧‧‧液晶膜硬化部
26‧‧‧膜供給部
28‧‧‧捲繞滾輪
30、32、530、532、630‧‧‧光源
34、36、534、536‧‧‧罩幕保持部
38、138、238、438、1438‧‧‧第1罩幕
39、139、239、439、1439‧‧‧罩幕
40、140、240、440、1440‧‧‧第2罩幕
50‧‧‧第1偏光輸出部
52‧‧‧第2偏光輸出部
56、456、1456‧‧‧第1罩幕基材
58、158、258、458、1458‧‧‧第1罩幕部
60、460、1460‧‧‧第2罩幕基材
62、162、262、462、1462‧‧‧第2罩幕部
64、164、264、1464‧‧‧第1開口部
66‧‧‧第1開口長部位
68‧‧‧第1開口短部位
70、170、270、1470‧‧‧第2開口部
72‧‧‧第2開口長部位
74‧‧‧第2開口短部位
90‧‧‧長條狀樹脂基材
92‧‧‧隔離膜
94‧‧‧第1偏光
96‧‧‧第2偏光
100、200、500、2300‧‧‧光學膜
102、202‧‧‧第1偏光調變部
104、204‧‧‧第2偏光調變部
106、206‧‧‧第3偏光調變部
112、114、116、330‧‧‧箭頭
118‧‧‧樹脂基材
120、2220‧‧‧配向膜
122、2222‧‧‧液晶膜
132‧‧‧第1配向區域
134‧‧‧第2配向區域
136‧‧‧第3配向區域
142‧‧‧第1液晶區域
144‧‧‧第2液晶區域
146‧‧‧第3液晶區域
266a、266b、266c、266d‧‧‧第1開口部位
272a、272b、272c、272d‧‧‧第2開口部位
300‧‧‧調光窗構件對
310‧‧‧調光窗構件
312、322‧‧‧基底板
314、324‧‧‧偏光板
320‧‧‧調光窗構件
464‧‧‧第1三角開口部
466、468‧‧‧半三角開口部
470‧‧‧第2三角開口部
538、1538‧‧‧第3罩幕
540、1540‧‧‧第4罩幕
550‧‧‧第3偏光輸出部
552‧‧‧第4偏光輸出部
556、1556‧‧‧第3罩幕基材
558、1558‧‧‧第3罩幕部
560、1560‧‧‧第4罩幕基材
562、1562‧‧‧第4罩幕部
564‧‧‧第3三角開口部
570‧‧‧第4三角開口部
594‧‧‧第3偏光
596‧‧‧第4偏光
651‧‧‧遮光部
750‧‧‧偏光輸出部
752‧‧‧λ/2相位差板
1466、1468‧‧‧半開口部
1564‧‧‧第3開口部
1570‧‧‧第4開口部
2100‧‧‧光
2102、2104、2106、2108、2110、2112、2114、2116、2118、 2120‧‧‧偏光調變部
2218‧‧‧基材
A1、A2、A3、A4、A5‧‧‧箭頭
La、Lb、Lc‧‧‧虛線
Pa、Pb、Pc、Pd、Pe、Pf、Pg、Ph、Pj、Pk、Pm、Pn、Pp、Pq、‧‧‧位置
θ1、θ2、θ3、θn‧‧‧角度
圖1是藉由本實施形態的曝光裝置製造的光學膜100的平面圖。
圖2是沿著圖1的II-II線的光學膜100的剖面圖。
圖3是設置著光學膜100的調光窗構件對300的分解立體圖。
圖4是說明調光窗構件對300的功能的圖。
圖5是說明調光窗構件對300的功能的圖。
圖6是曝光裝置10的整體構成圖。
圖7是曝光部18的放大圖。
圖8是罩幕39的底面圖。
圖9是沿著圖8的IX-IX線的第1罩幕38的縱剖面圖。
圖10是說明第1偏光94以及第2偏光96的曝光量相同的情 況下的配向膜120的配向方向的圖。
圖11是說明第1偏光94的曝光量E1比第2偏光96的曝光量E2少的情況下的配向膜120的配向的圖。
圖12是說明經變更的罩幕139的底面圖。
圖13是說明經變更的罩幕239的底面圖。
圖14是對圖13的位置Pa、位置Pb、位置Pc、位置Pd、位置Pe的配向方向進行說明的圖表。
圖15是說明經變更的曝光部418的圖。
圖16是說明罩幕439的底面圖。
圖17是藉由圖16所示的罩幕439而配向的光學膜500的照片。
圖18是說明罩幕1439的底面圖。
圖19是經變更的曝光部618的構成圖。另外，對於與上述構成相同的構成附上相同的符號並省略說明。
圖20是經變更的另一曝光部718的構成圖。
圖21是經變更的另一曝光部818的構成圖。
圖22是說明偏光方向與配向膜的光學軸的關係的圖。
圖23是作為應用於攝像裝置等的低通濾波器而發揮功能的光學膜2300的平面圖。
圖24是沿著圖23的A-A線的光學膜2300的剖面圖。
以下，通過發明的實施形態對本發明進行說明，但以下 的實施形態並不限定申請專利範圍的發明。而且，實施形態中說明的特徵的全部組合未必為發明的解決手段所必須。
圖1是藉由本實施形態的曝光裝置而製造的光學膜100的平面圖。將圖1中箭頭所示的長度方向以及寬度方向設為光學膜100的長度方向以及寬度方向。另外，光學膜100的長度方向上的長度亦可比光學膜100的寬度方向上的長度短。
光學膜100形成為一邊為數厘米(cm)至數米(m)的四邊形狀。如圖1所示，光學膜100包括多個第1偏光調變部102、多個第2偏光調變部104、以及多個第3偏光調變部106。
第1偏光調變部102、第2偏光調變部104、以及第3偏光調變部106形成為俯視時為大致相同的形狀。第1偏光調變部102、第2偏光調變部104、以及第3偏光調變部106形成為沿著長度方向延伸的長方形狀。第1偏光調變部102、第2偏光調變部104、以及第3偏光調變部106彼此以一邊接觸的狀態形成。第1偏光調變部102、第2偏光調變部104以及第3偏光調變部106按照該順序沿著寬度方向週期性地配置。另外，配置的方向等可適當變更。另外，圖1所示的例中，第1偏光調變部102、第2偏光調變部104以及第3偏光調變部106分別各形成2個，但亦可各形成3個以上。
第1偏光調變部102、第2偏光調變部104以及第3偏光調變部106形成為可透射光。第1偏光調變部102、第2偏光調變部104以及第3偏光調變部106使透射的偏光的偏光狀態調變。 第1偏光調變部102、第2偏光調變部104以及第3偏光調變部106具有1/2波長板的相位差功能。另外，第1偏光調變部102、第2偏光調變部104以及第3偏光調變部106亦可具有1/4波長板的相位差功能。
第1偏光調變部102例如如圖1的上端記載的箭頭112所示具有與長度方向平行的光學軸。光學軸的例為進相軸或遲相軸。藉此，第1偏光調變部102使入射的直線偏光的偏光方向調變為如下的直線偏光而出射，即，將以自己的光學軸為對稱軸的線對稱的方向設為偏光方向。
第2偏光調變部104的光學軸形成於與第1偏光調變部102的光學軸不同的方向上。第2偏光調變部104的光學軸的方向如圖1的上端記載的箭頭114所示，與自第1偏光調變部102的光學軸，亦即，長度方向旋轉22.5°而成的方向平行。第3偏光調變部106的光學軸形成於與第1偏光調變部102、以及第2偏光調變部104的光學軸不同的方向。第3偏光調變部106的光學軸的方向如圖1的上端記載的箭頭116所示，與自第1偏光調變部102的光學軸，向與第2偏光調變部104的光學軸相同的方向旋轉45°而成的方向平行。換言之，具有第1偏光調變部102、第2偏光調變部104以及第3偏光調變部106的光學膜100的光學軸沿著寬度方向階段性地變化。第2偏光調變部104、以及第3偏光調變部106使入射的直線偏光的偏光方向調變為如下的直線偏光而出射，即，將以自己的光學軸為對稱軸的線對稱的方向設為偏光方 向。
結果，即便具有相同的偏光方向的直線偏光入射至第1偏光調變部102、第2偏光調變部104以及第3偏光調變部106，第1偏光調變部102、第2偏光調變部104以及第3偏光調變部106出射的直線偏光的偏光方向亦不同。
圖2是沿著圖1的II-II線的光學膜100的剖面圖。如圖2所示，光學膜100包括樹脂基材118、配向膜120、及液晶膜122。
樹脂基材118是將後述的樹脂製的長條狀的膜切斷為固定的長度而形成。樹脂基材118透射光。樹脂基材118的厚度的一例為50μm~100μm。樹脂基材118對第1偏光調變部102、第2偏光調變部104以及第3偏光調變部106進行支持。樹脂基材118可包含環烯烴系的膜。而且，亦可包含含有三醋酸纖維素(=Triacetylcellulose，TAC)的材料。TAC膜可列舉富士軟片公司製造的Fujitac T80SZ以及TD80UL等。
配向膜120形成於樹脂基材118的面上。配向膜120可使用公知的光配向性化合物。光配向性化合物是若被照射紫外線等直線偏光，則在該直線偏光的偏光方向上分子規則地配向的材料。進而，光配向性化合物具有使形成於自己之上的液晶膜122的分子沿著自己的配向而排列的功能。作為光配向性化合物的例，可列舉光分解型、光二聚化型、光異構化型等化合物。
配向膜120包括多個第1配向區域132、多個第2配向區域134、及多個第3配向區域136。多個第1配向區域132、多 個第2配向區域134、以及多個第3配向區域136依序沿著寬度方向週期性地排列。第1配向區域132、第2配向區域134、以及第3配向區域136與相互鄰接的第1配向區域132、第2配向區域134、以及第3配向區域136相接。
第1配向區域132構成第1偏光調變部102的一部分。第1配向區域132在與第1偏光調變部102的光學軸相對應的方向上配向。第2配向區域134構成第2偏光調變部104的一部分。第2配向區域134在自第1配向區域132的配向方向旋轉22.5°而成的方向上，且在與第2偏光調變部104的光學軸相對應的方向上配向。第3配向區域136構成第3偏光調變部106的一部分。第3配向區域136在自第1配向區域132的配向方向，向與第2配向區域134的配向方向相同的方向旋轉45°而成的方向上，且在與第3偏光調變部106的光學軸相對應的方向上配向。
液晶膜122形成於配向膜120上。液晶膜122可包含能夠藉由紫外線或加熱等而硬化的液晶分子。液晶膜122包括第1液晶區域142、第2液晶區域144、及第3液晶區域146。第1液晶區域142構成第1偏光調變部102的一部分。第1液晶區域142形成於第1配向區域132上。第1液晶區域142的分子沿著第1配向區域132的配向而配向。第2液晶區域144構成第2偏光調變部104的一部分。第2液晶區域144形成於第2配向區域134上。第2液晶區域144的分子沿著第2配向區域134的配向而配向。第3液晶區域146構成第3偏光調變部106的一部分。第3 液晶區域146形成於第3配向區域136上。第3液晶區域146的分子沿著第3配向區域136的配向而配向。
圖3是設置著光學膜100的調光窗構件對300的分解立體圖。調光窗構件對300例如設置於建築物的窗戶上。如圖3所示，調光窗構件對300包括調光窗構件310、調光窗構件320。調光窗構件310、調光窗構件320可沿寬度方向移動地設置於窗戶上。調光窗構件310、調光窗構件320設置為相同高度。將圖3所示的箭頭330設為光的前進方向。光的一例為自外部入射至建築物的內部的房間等的自然光。
調光窗構件310包括基底板312、偏光板314、及光學膜100。圖3中，說明上將基底板312、偏光板314以及光學膜100錯開顯示。在組裝調光窗構件310的狀態下，以彼此的一邊一致的方式，配置著基底板312、偏光板314以及光學膜100。
基底板312包含可透射光的玻璃等。
偏光板314在光的前進方向上，設置於基底板312的下游側的面。偏光板314形成為與基底板312相同的形狀。偏光板314具有與寬度方向平行的透射軸。因此，若自外部沿著箭頭330前進的自然光入射至偏光板314，偏光板314將以寬度方向為偏光方向的直線偏光向光學膜100出射。
光學膜100在光的前進方向上設置於偏光板314的下游側的面。光學膜100形成為與基底板312相同的形狀。光學膜100使自偏光板314出射的直線偏光的偏光方向調變後出射。此處， 光學膜100的第1偏光調變部102、第2偏光調變部104以及第3偏光調變部106因具有方向不同的光學軸，故分別出射偏光方向不同的直線偏光。
調光窗構件320配置於比調光窗構件310靠光的前進方向的下游側處。調光窗構件320能夠以一部分或全部與調光窗構件310重疊的方式而沿著寬度方向移動。調光窗構件320包括基底板322、光學膜200、以及偏光板324。基底板322、光學膜200、以及偏光板324的形狀與基底板312的形狀大致相同。
基底板322具有與基底板312相同的構成。
光學膜200在光的前進方向上，設置於基底板322的下游側的面。光學膜200具有第1偏光調變部202、第2偏光調變部204、及第3偏光調變部206。光學膜200具有與光學膜100相同的構成。因此，第1偏光調變部202的光學軸的方向與和第1偏光調變部102的光學軸相同的長度方向平行。第2偏光調變部204的光學軸的方向為自與第2偏光調變部104的光學軸相同的長度方向傾斜22.5°而成的方向。第3偏光調變部206的光學軸的方向為自與第3偏光調變部106的光學軸相同的長度方向傾斜45°而成的方向。藉此，若直線偏光入射，則光學膜200使偏光調變而出射。另外，第1偏光調變部202、第2偏光調變部204、以及第3偏光調變部206的光學軸的方向亦可與第1偏光調變部102、第2偏光調變部104以及第3偏光調變部106的光學軸不同。
偏光板324在光的前進方向上，設置於光學膜200的下 游側的面。偏光板324例如具有與長度方向平行的透射軸。換言之，偏光板324具有與偏光板314的透射軸正交的透射軸。藉此，若光入射，則偏光板324遮蔽光的寬度方向的成分，並出射以長度方向為偏光方向的直線偏光。
另外，若光學膜100、光學膜200配置於偏光板314與偏光板324之間，則可適當變更基底板312以及基底板322的配置。基底板312以及基底板322亦可省略。
圖4以及圖5是說明調光窗構件對300的功能的圖。關於圖4以及圖5，說明上僅記載光學膜100、光學膜200。而且，圖4以及圖5中，在說明上將光學膜100、光學膜200的上邊以及下邊錯開而記載，但在調光窗構件對300安裝於窗戶的狀態下兩邊為一致。
在圖4所示的狀態下，光學膜100的寬度方向的兩邊與光學膜200的寬度方向的兩邊一致。藉此，光學膜100的整個面與光學膜200的整個面重疊。因此，光學膜100的第1偏光調變部102、第2偏光調變部104以及第3偏光調變部106分別與光學軸相同的光學膜200的第1偏光調變部202、第2偏光調變部204、以及第3偏光調變部206重疊。
該情況下，自偏光板314出射的以寬度方向作為偏光方向的直線偏光，其偏光方向被調變為通過光學膜100的第1偏光調變部102、第2偏光調變部104以及第3偏光調變部106。然而，經調變的直線偏光藉由通過光學膜200的第1偏光調變部202、第 2偏光調變部204、以及第3偏光調變部206，而調變為以原來的寬度方向作為偏光方向的直線偏光。藉此，直線偏光藉由偏光板324而遮蔽。因此，在圖4所示的狀態下，沿圖3的箭頭330前進的光幾乎被遮蔽。
另一方面，在圖5所示的狀態下，光學膜100、光學膜200的寬度方向的兩邊相互錯開，光學膜100的第2偏光調變部104、第3偏光調變部106、以及第1偏光調變部102分別與光學膜200的第1偏光調變部202、第2偏光調變部204、以及第3偏光調變部206重疊。因此，在相互重疊的區域中，光學膜100的光學軸的方向與光學膜200的光學軸的方向不同。
該情況下，以自偏光板314出射的寬度方向作為偏光方向的直線偏光，藉由光學膜100的第2偏光調變部104、第3偏光調變部106、以及第1偏光調變部102而調變。然後，經調變的直線偏光藉由光學膜200的第1偏光調變部202、第2偏光調變部204、以及第3偏光調變部206而調變。此處，在光學膜100、光學膜200重疊的區域，光學膜100的光學軸與光學膜200的光學軸為不同的方向，因而自光學膜200出射的直線偏光作為如下直線偏光而出射，即，具有與入射至光學膜100的直線偏光的偏光方向即寬度方向不同的偏光方向。因此，自光學膜200出射的直線偏光的一部分通過以長度方向作為透射軸的偏光板324而出射。
結果，調光窗構件對300對調光窗構件310以及調光窗構件320的重疊，即，寬度方向的相對位置進行調整，藉此可調 整通過的光量。
圖6是曝光裝置10的整體構成圖。圖7是曝光部18的放大圖。圖6中將箭頭所示的上下設為曝光裝置10的上下方向。而且，上游以及下游設為搬送方向上的上游以及下游。另外，搬送方向與長條狀樹脂基材90的長度方向為相同方向，且與寬度方向正交。長條狀樹脂基材90為被切斷前的長條狀的樹脂基材118。長條狀樹脂基材90為基材的一例。
如圖6以及圖7所示，曝光裝置10包括送出滾輪12、洗淨部13、配向膜塗佈部14、配向膜乾燥部16、曝光部18、液晶膜塗佈部20、液晶膜配向部22、液晶膜硬化部24、膜供給部26、及捲繞滾輪28。
送出滾輪12配置於長條狀樹脂基材90的搬送路徑的最上游側處。在送出滾輪12的外周捲繞著供給用的長條狀樹脂基材90。送出滾輪12可旋轉地受到支持。藉此，送出滾輪12可將長條狀樹脂基材90送出地對其加以保持。送出滾輪12可構成為由馬達等驅動機構而可旋轉，亦可構成為伴隨捲繞滾輪28的旋轉而可從動。或者，亦可在搬送路徑的中途設置使長條狀樹脂基材90驅動的機構。
洗淨部13配置於送出滾輪12與配向膜塗佈部14之間。洗淨部13將自送出滾輪12送出且塗佈配向膜120之前的長條狀樹脂基材90洗淨。另外，洗淨部13亦可省略。
配向膜塗佈部14配置於送出滾輪12的下游側，且曝光 部18的上游側。配向膜塗佈部14配置於搬送的長條狀樹脂基材90的搬送路徑的上方。配向膜塗佈部14向長條狀樹脂基材90的上表面供給並塗佈未配向的液狀的配向膜120。未配向的配向膜120的一例為包含配向膜分子的溶液。
配向膜乾燥部16配置於配向膜塗佈部14的下游側。配向膜乾燥部16藉由加熱、光照射、或送風等，使通過內部的塗佈於長條狀樹脂基材90上的配向膜120的溶劑蒸發並乾燥。
曝光部18配置於配向膜乾燥部16的下游側。曝光部18包括光源30、光源32，第1偏光輸出部50、以及第2偏光輸出部52，罩幕保持部34、罩幕保持部36，以及包含第1罩幕38及第2罩幕40的罩幕39。曝光部18藉由第1偏光輸出部50以及第2偏光輸出部52而使自光源30、光源32輸出的光成為直線偏光。而且，曝光部18經由第1罩幕38、以及第2罩幕40，將該直線偏光照射至塗佈於長條狀樹脂基材90上的配向膜120並進行曝光。藉此，曝光部18使配向膜120配向。
光源30、光源32配置於長條狀樹脂基材90的搬送路徑的上方。光源30、光源32配置於配向膜塗佈部14與液晶膜塗佈部20之間。光源32配置於光源30的下游側。光源30、光源32輸出相同照度的紫外線。此處所提及的照度，是指輸出的光的每單位面積的能量，單位為mW/cm2。
第1偏光輸出部50以及第2偏光輸出部52分別配置於光源30、光源32的下方。第1偏光輸出部50以及第2偏光輸出 部52的一例為布魯斯特片(Brewster plate)。若來自光源30的光入射，則第1偏光輸出部50輸出具有與第1配向區域132的配向相對應的偏光方向的第1偏光94。若來自光源32的光入射，則第2偏光輸出部52輸出具有與第3配向區域136的配向相對應的偏光方向的第2偏光96。第2偏光輸出部52輸出的第2偏光96的偏光方向與第1偏光輸出部50輸出的第1偏光94的偏光方向不同且交叉。第1偏光94的偏光方向的一例為與搬送方向平行。第2偏光96的偏光方向與第1偏光94的偏光方向的交叉角度的一例為45°。另外，第2偏光輸出部52輸出的第2偏光96的偏光方向與第1偏光輸出部50輸出的第1偏光94的偏光方向能夠以任意的角度交叉。
第1偏光輸出部50將第1偏光94輸出至被搬送的下方的長條狀樹脂基材90的配向膜120。第2偏光輸出部52將第2偏光96輸出至被搬送的下方的長條狀樹脂基材90的配向膜120。光源32以及第2偏光輸出部52在搬送方向上，自比光源30以及第1偏光輸出部50靠下游側起配置。藉此，在搬送方向上，第2偏光96在比第1偏光94靠下游側的不同的位置，到達長條狀樹脂基材90上的配向膜120。
第1偏光輸出部50將第1偏光94以相對於長條狀樹脂基材90大致垂直地入射的方式輸出。而且，第2偏光輸出部52將第2偏光96以相對於長條狀樹脂基材90大致垂直地入射的方式輸出。另外，第1偏光輸出部50以及第2偏光輸出部52亦可 使第1偏光94以及第2偏光96相對於長條狀樹脂基材90傾斜地入射。藉此，第1偏光94以及第2偏光96即便在藉由長條狀樹脂基材90反射後，藉由周邊設備等反射的情況下，亦可抑制返回到塗佈於長條狀樹脂基材90的配向膜120。結果，可抑制經反射的第1偏光94以及第2偏光96被照射至配向膜120上的非預定的部位，從而配向紊亂。
光源30、光源32輸出相同照度(單位：mW/cm2)的紫外線的情況下的照度的一例為45mW/cm2以上。另外，曝光的方法亦可適當變更。例如，第1偏光輸出部50以及第2偏光輸出部52亦可使第1偏光94以及第2偏光96自上下方向傾斜而照射。此處提及的上下方向是圖6的箭頭所示的上下方向。
沿鉛垂方向延伸的遮光壁較佳為自第1偏光輸出部50與第2偏光輸出部52之間設置至第1罩幕38與第2罩幕40之間為止。藉此，遮光壁遮蔽彼此的偏光。該情況下，遮光壁為了抑制第1偏光94以及第2偏光96的反射而較佳為黑色。
罩幕保持部34配置於第1偏光94的光路上，且第1偏光輸出部50與長條狀樹脂基材90之間。罩幕保持部34對第1罩幕38加以保持。罩幕保持部36配置於第2偏光96的光路上，且第2偏光輸出部52與長條狀樹脂基材90之間。罩幕保持部36對第2罩幕40加以保持。
罩幕保持部34以及罩幕保持部36對於長條狀樹脂基材90，在與搬送方向正交的寬度方向上，可各別地相對移動地保持。 藉此，第1罩幕38以及第2罩幕40藉由馬達或致動器等而連同罩幕保持部34以及罩幕保持部36一併移動，且寬度方向的位置各別地得到調整。
第1罩幕38藉由罩幕保持部34而保持，且配置於第1偏光輸出部50與長條狀樹脂基材90之間。作為一例，第1罩幕38配置於長條狀樹脂基材90的數百微米(μm)上方處。藉此，第1罩幕38配置於第1偏光94的光路上。第1罩幕38具有後述的第1罩幕基材56以及第1罩幕部58。
第2罩幕40藉由罩幕保持部36而保持，且配置於第2偏光輸出部52與長條狀樹脂基材90之間。作為一例，第2罩幕40配置於長條狀樹脂基材90的數百μm上方處。藉此，第2罩幕40配置於第2偏光96的光路上。而且，第2罩幕40配置於比第1罩幕38靠下游側處。第2罩幕40具有後述的第2罩幕基材60以及第2罩幕部62。
液晶膜塗佈部20配置於曝光部18的下游側。液晶膜塗佈部20配置於長條狀樹脂基材90的搬送路徑的上方。液晶膜塗佈部20對形成於長條狀樹脂基材90的配向膜120，供給並塗佈未配向的液狀的液晶膜122。未配向的液晶膜122的一例為包含液晶分子的乙酸丁酯溶液。
液晶膜配向部22配置於液晶膜塗佈部20的下游側。液晶膜配向部22藉由加熱、光照射或送風等，將形成於通過內部的配向膜120上的液晶膜122一邊沿著配向膜120的配向方向配向， 一邊使溶劑蒸發並乾燥。
液晶膜硬化部24配置於液晶膜配向部22的下游側。液晶膜硬化部24藉由照射紫外線而使液晶膜122硬化。藉此，沿著配向膜120的配向而配向的液晶膜122的分子的配向得到固定。
膜供給部26配置於液晶膜硬化部24與捲繞滾輪28之間。膜供給部26將隔離膜92供給至長條狀樹脂基材90的液晶膜122上並進行貼合。隔離膜92容易進行經捲繞的長條狀樹脂基材90間的脫離。另外，膜供給部26亦可省略。而且，膜供給部26亦可取代隔離膜而供給作為偏光板314發揮功能的偏光膜。藉此，可簡化製造光學膜100的步驟。
捲繞滾輪28為搬送部的一例。捲繞滾輪28配置於液晶膜硬化部24的下游側，且搬送路徑的最下游側處。捲繞滾輪28可旋轉驅動地受到支持。捲繞滾輪28將形成著配向膜120以及液晶膜122的長條狀樹脂基材90捲繞。藉此，捲繞滾輪28將形成著未配向以及經配向的配向膜120的長條狀樹脂基材90沿搬送方向搬送。
圖8是罩幕39的底面圖。圖9是沿著圖8的IX-IX線的第1罩幕38的縱剖面圖。如圖8所示，寬度方向為與搬送方向正交的正交方向的一例。
如圖8以及圖9所示，第1罩幕38包括第1罩幕基材56及第1罩幕部58。第2罩幕40包括第2罩幕基材60及第2罩幕部62。
第1罩幕基材56以及第2罩幕基材60形成為矩形的板狀。第1罩幕基材56以及第2罩幕基材60包含熱膨張係數為5.6×10-7/℃的石英玻璃。亦可使第1罩幕基材56以及第2罩幕基材60包含熱膨張係數為85×10-7/℃的鈉鈣玻璃(soda lime glass)。搬送方向上的第1罩幕基材56以及第2罩幕基材60的長度為數十毫米(mm)。寬度方向上的第1罩幕基材56以及第2罩幕基材60的長度相應於長條狀樹脂基材90的寬度而適當設定。
第1罩幕部58形成於第1罩幕基材56的下表面。第1罩幕部58配置於第1偏光輸出部50與長條狀樹脂基材90之間。第1罩幕部58包含氧化鉻等可遮蔽含有第1偏光94的光的材料。第1罩幕部58上形成著多個、例如2個第1開口部64。第1開口部64配置於第1偏光94的光路上。第1開口部64透射第1偏光94。因此，通過第1開口部64的下方的區域的配向膜120藉由第1偏光94而配向。第1開口部64形成為俯視為L字狀。第1開口部64包括第1開口長部位66、及與第1開口長部位66在搬送方向上的長度不同的第1開口短部位68。第1開口短部位68為第1開口區域的一例。第1開口長部位66以及第1開口短部位68形成為長方形狀。寬度方向上的第1開口長部位66的寬度與第1開口短部位68的寬度相等。在寬度方向上，第1開口長部位66形成於與第1開口短部位68不同的位置。因此，寬度方向上的第1開口長部位66形成於不與第1開口短部位68重疊的位置。第1開口長部位66與第1開口短部位68一體且連續地形成。搬送方 向上的第1開口長部位66的長度比第1開口短部位68的長度長。因此，第1開口部64沿著寬度方向的右方向而搬送方向上的長度階段性地變短。例如，第1開口長部位66的長度為第1開口短部位68的長度的約2倍。
第2罩幕部62形成於第2罩幕基材60的下表面。第2罩幕部62配置於第2偏光輸出部52與長條狀樹脂基材90之間。第2罩幕部62包含氧化鉻等可遮蔽含有第2偏光96的光的材料。第2罩幕部62上形成著多個、例如2個第2開口部70。第2開口部70配置於第2偏光96的光路上。第2開口部70透射第2偏光96。因此，通過第2開口部70的下方的區域的配向膜120藉由第2偏光96而配向。第2開口部70形成為俯視為L字狀。第2開口部70包括第2開口長部位72、及與第2開口長部位72在搬送方向上的長度不同的第2開口短部位74。第2開口短部位74為第2開口區域的一例。第2開口長部位72以及第2開口短部位74形成為長方形狀。寬度方向上的第2開口長部位72的寬度與第2開口短部位74的寬度相等。寬度方向上，第2開口長部位72形成於與第2開口短部位74不同的位置。因此，寬度方向上的第2開口長部位72形成於不與第2開口短部位74重疊的位置。第2開口長部位72與第2開口短部位74一體且連續地形成。因此，第2開口部70沿著寬度方向的右方向而搬送方向上的長度階段性地變長。搬送方向上的第2開口長部位72的長度比第2開口短部位74的長度長。例如，第2開口長部位72的長度為第2開口短 部位74的長度的約2倍。
寬度方向上的第1開口長部位66、第1開口短部位68、第2開口長部位72以及第2開口短部位74的寬度彼此相等，且與光學膜100的第1偏光調變部102、第2偏光調變部104以及第3偏光調變部106的寬度相等。搬送方向上的第1開口長部位66的長度與第2開口長部位72的長度相等。在寬度方向上的相同的位置，搬送方向上的第1開口短部位68的長度小於搬送方向上的第2開口短部位74的長度。
第1罩幕部58以及第2罩幕部62根據搬送方向上的第1開口部64的長度以及搬送方向上的第2開口部70的長度，來決定曝光配向膜120的第1偏光94以及第2偏光96的曝光量。另外，此處提及的曝光量是指每單位面積照射的第1偏光94或第2偏光96的能量的總量。曝光量E可由下式表示。曝光量的單位為mJ/cm2。另外，如上述般第1偏光94以及第2偏光96的照度相同。
E=(偏光的照度×開口的長度)/搬送速度
如圖8中虛線La、虛線Lc所示，第1開口長部位66在寬度方向上，形成於與第2開口部70不同的位置。因此，通過第1開口長部位66的下方的區域的配向膜120藉由已透射第1開口長部位66的第1偏光94而曝光且配向。
如虛線Lb、虛線Lc所示，第2開口長部位72在寬度方向上，形成於與第1開口部64不同的位置。因此，通過第2開口長部位72的下方的區域的配向膜120藉由已透射第2開口長部位72的第2偏光96而曝光且配向。
此處，搬送方向上的第1開口長部位66的長度與第2開口長部位72的長度相等。因此，將通過第1開口長部位66的下方的區域的配向膜120曝光的第1偏光94的曝光量，與將通過第2開口長部位72的下方的區域的配向膜120曝光的第2偏光96的曝光量相同。
如虛線La、虛線Lb所示，第1開口短部位68在寬度方向上，形成於與第2開口短部位74相同的位置。因此，通過第1開口短部位68以及第2開口短部位74的下方的區域的配向膜120，藉由已透射第1開口短部位68的第1偏光94、以及已透射第2開口短部位74的第2偏光96而曝光並配向。藉由已透射該第1開口短部位68的第1偏光94、以及已透射第2開口短部位74的第2偏光96而曝光的配向膜120上的相同的區域，為被重複曝光的區域的一例。藉此，若第1開口短部位68朝向重複曝光區域透射第1偏光，第2開口短部位74朝向重複曝光區域透射第2偏光，則重複曝光區域的配向膜120最先藉由第1偏光94配向後，藉由第2偏光96而使配向方向旋轉並配向。
此處，在寬度方向上，形成第1開口部64以及第2開口部70這兩者的區域，即，形成著第1開口短部位68以及第2 開口短部位74的區域中，第1偏光94的曝光量與第2偏光96的曝光量亦分別藉由第1開口短部位68以及第2開口短部位74的長度而決定。此處，在寬度方向的相同的位置，第1開口部64的長度與第2開口部70的長度不同。具體而言，在寬度方向的相同的位置，第1開口短部位68的長度小於第2開口短部位74的長度。而且，第1偏光94的照度與第2偏光96的照度相等。因此，在藉由第1偏光94以及第2偏光96這兩者而曝光的區域，第1偏光94的曝光量小於第2偏光96的曝光量。
其次，對藉由第1偏光94以及第2偏光96這兩者而曝光的區域的配向膜120的配向方向進行說明。
圖10是說明第1偏光94以及第2偏光96的曝光量相同的情況下的配向膜120的配向方向的圖。圖10所示的箭頭A1的方向設為表示第1偏光94的偏光方向。箭頭A1的方向與搬送方向平行。箭頭A1的長度設為表示第1偏光94的曝光量E1。箭頭A2的方向設為表示第2偏光96的偏光方向。箭頭A1與箭頭A2之間的角度θ1設為45°。箭頭A2的長度設為表示第2偏光96的曝光量E2。圖10所示的例中，E1=E2，即，箭頭A1、箭頭A2的長度相等。
配向膜120若藉由箭頭A1所示的第1偏光94而曝光，則沿著箭頭A1的方向配向。而且，配向膜120若藉由箭頭A2所示的第2偏光96而曝光，則沿著箭頭A2的方向配向。
此處，配向膜120若在藉由箭頭A1所示的第1偏光94 曝光後，藉由箭頭A2所示的第2偏光96曝光，則沿著第1偏光94的偏光方向配向的配向方向旋轉為第2偏光96的偏光方向。因此，配向膜120在箭頭A1與箭頭A2之間的方向上配向。然而，在曝光量E1、曝光量E2相等的情況下，藉由第1偏光94以及第2偏光96而曝光的區域的配向膜120，並非在與箭頭A1的角度為θ2(=22.5°)的箭頭A3的方向，即箭頭A1與箭頭A2的中央的箭頭A3的方向，而是在與箭頭A1的角度為θ3的箭頭A4的方向上配向。另外，θ3<θ2。這起因於，配向膜120的反應性分子因之前的第1偏光94而減少，從而藉由之後的第2偏光96而配向的反應性分子少。
圖11是說明第1偏光94的曝光量E1比第2偏光96的曝光量E2少的情況下的配向膜120的配向的圖。圖11所示的例中，箭頭A2比箭頭A1長。該情況下，配向膜120即便先藉由第1偏光94而配向，反應性分子減少，但因第2偏光96的曝光量E2比第1偏光94的曝光量E1多，故在與箭頭A1的角度為θ2(=22.5°)的箭頭A5的方向上配向。另外，曝光量E1與曝光量E2的關係的一例為E1-≒0.7×E2。
其次，對光學膜100的製造方法進行說明。首先，準備卷在送出滾輪12上的長條狀樹脂基材90。此處，長條狀樹脂基材90的全長的一例為約1000m。長條狀樹脂基材90的寬度的一例為約350mm。然後，在保持階段，將長條狀樹脂基材90的一端固定於捲繞滾輪28。
其次，捲繞滾輪28的旋轉驅動開始。結果，成為將長條狀樹脂基材90自送出滾輪12送出、長條狀樹脂基材90沿搬送方向搬送的搬送階段。長條狀樹脂基材90的搬送速度的一例為1m/min~10m/min。
送出的長條狀樹脂基材90藉由洗淨部13洗淨後，通過配向膜塗佈部14的下方。藉此，在長條狀樹脂基材90的上表面，藉由配向膜塗佈部14，遍及寬度方向的大致整個區域塗佈未配向的配向膜120。配向膜120的塗佈在長條狀樹脂基材90的搬送過程中被連續地執行。因此，在長條狀樹脂基材90的上表面，除兩端的一部分外，遍及搬送方向上的全長而連續地塗佈配向膜120。
塗佈著配向膜120的長條狀樹脂基材90被搬送，且通過配向膜乾燥部16的內部。藉此，塗佈於長條狀樹脂基材90的上表面的配向膜120被乾燥。
然後，在曝光階段，塗佈著配向膜120的區域的長條狀樹脂基材90藉由通過第1開口部64的下方而成為第1配向階段。在第1配向階段，在長條狀樹脂基材90的搬送持續進行的狀態下，通過第1開口部64的下方的區域的配向膜120，藉由自光源30以及第1偏光輸出部50輸出且透射第1罩幕部58的第1開口部64的第1偏光94而曝光且配向。此處，長條狀樹脂基材90一邊藉由捲繞滾輪28連續地以固定的速度持續搬送，一邊曝光。因此，通過第1開口部64的下方的配向膜120沿著搬送方向，連續地藉由自第1偏光輸出部50輸出的第1偏光94而配向。藉此， 已通過第1開口部64的下方的區域的配向膜120呈與第1開口部64為相同寬度且沿搬送方向延伸的帶狀曝光，並與第1偏光94相對應地配向。
然後，塗佈著配向膜120的區域的長條狀樹脂基材90被搬送，藉由通過第2開口部70的下方而成為第2配向階段。在第2配向階段，在持續搬送階段的狀態下，自光源32以及第2偏光輸出部52輸出的第2偏光96透射第2罩幕部62的第2開口部70，照射至形成於通過第2開口部70的下方的區域的長條狀樹脂基材90的配向膜120。長條狀樹脂基材90的搬送持續進行，因而該區域的配向膜120呈與第2開口部70為相同寬度且沿搬送方向延伸的帶狀曝光。而且，該區域的配向膜120藉由第2偏光96曝光，而與第2偏光96相對應地配向。
此處，通過第1開口部64的第1開口長部位66的下方的區域的配向膜120藉由第1偏光94而曝光，因而沿著第1偏光94的偏光方向配向。藉此，第1配向區域132形成於通過第1開口長部位66的下方的區域的配向膜120。
通過第2開口部70的第2開口長部位72的下方的區域的配向膜120藉由第2偏光96而曝光，因而沿著自第1偏光94的偏光方向旋轉了45°而成的第2偏光96的偏光方向配向。藉此，第3配向區域136形成於通過第2開口長部位72的下方的區域的配向膜120。
通過第1開口短部位68以及第2開口短部位74的下方 的區域的配向膜120藉由第1偏光94而曝光後，藉由第2偏光96而曝光。藉此，該區域的配向膜120在沿著第1偏光94的偏光方向配向後，配向方向旋轉為第2偏光96的偏光方向。而且，第2開口短部位74的長度為第1開口短部位68的長度以上，因而第2偏光96的曝光量E2大於第1偏光94的曝光量E1。藉此，通過第1開口短部位68以及第2開口短部位74的下方的區域的配向膜120沿著自第1偏光94的偏光方向以及第2偏光96的偏光方向旋轉了22.5°而成的方向配向。藉此，第2配向區域134形成於通過第1開口短部位68以及第2開口短部位74的下方的區域的配向膜120。
然後，配向膜120得到配向的長條狀樹脂基材90到達液晶膜塗佈部20的下方。藉此，液晶膜122塗佈於配向膜120的上表面。液晶膜122連續地塗佈於搬送中的長條狀樹脂基材90的配向膜120的上表面，因而液晶膜122遍及長條狀樹脂基材90的搬送方向的全長而塗佈。然後，塗佈著液晶膜122的長條狀樹脂基材90被搬送，並通過液晶膜配向部22。藉此，液晶膜122藉由液晶膜配向部22而加熱，液晶膜122的分子一邊沿著形成於下表面的配向膜120的配向而配向一邊得到乾燥。
其次，塗佈的液晶膜122得到配向的長條狀樹脂基材90通過液晶膜硬化部24。紫外線被照射至液晶膜122，以液晶膜122得到配向的狀態硬化。藉此，與第1配向區域13、第2配向區域134、以及第3配向區域136各自相對應地，配向液晶膜122的分 子，並形成第1液晶區域142、第2液晶區域144、以及第3液晶區域146。結果，如圖1以及圖2所示，由配向膜120以及液晶膜122形成的第1偏光調變部102、第2偏光調變部104以及第3偏光調變部106沿著長條狀樹脂基材90的寬度方向週期性地形成。其次，在液晶膜122的上表面，將隔離膜92供給並貼合於上表面。而且，隔離膜92貼於上表面的長條狀樹脂基材90藉由捲繞滾輪28而捲繞。
然後，一邊藉由捲繞滾輪28搬送長條狀樹脂基材90，一邊持續進行配向膜120的曝光，直至卷在送出滾輪12的長條狀樹脂基材90的供給結束為止。然後，卷在送出滾輪12的長條狀樹脂基材90被全部供給的曝光步驟結束。另外，亦可在已結束的長條狀樹脂基材90的後端，連接下一新的長條狀樹脂基材90的前端，從而連續地曝光配向膜120。最後，形成著配向膜120以及液晶膜122的長條狀樹脂基材90被切斷為規定的長度，從而具有沿著圖1以及圖2所示的寬度方向階段性地變化的光學軸的光學膜100完成。
如上述般，曝光裝置10中，第1罩幕部58的第1開口部64的一部分與第2罩幕部62的第2開口部70的一部分在寬度方向上，形成於相同的區域。因此，在寬度方向上，可在僅形成著第1開口部64的區域、僅形成著第2開口部70的區域、及形成著第1開口部64以及第2開口部70的區域，使配向膜120在不同的配向方向上配向。即，曝光裝置10可由2個第1偏光輸出 部50以及第2偏光輸出部52、2個第1罩幕部58以及第2罩幕部62，而形成配向方向不同的3個第1配向區域13、第2配向區域134、以及第3配向區域136。藉此，曝光裝置10可減少先前必須與偏光調變部的數量為相同數量的第1偏光輸出部50以及第2偏光輸出部52的數量，第1罩幕部58以及第2罩幕部62的數量，從而可簡化構成。進而，第1偏光94的偏光方向與第2偏光96的偏光方向之間的角度以45°，即小於90°的方式，使兩偏光方向交叉，藉此由第1偏光94而配向的配向方向可控制藉由第2偏光96而旋轉的方向。
曝光裝置10中，藉由在寬度方向上，形成於第1開口部64與第2開口部70重疊的區域的、搬送方向上的第1開口短部位68與第2開口短部位74的長度，來設定第1偏光94的曝光量以及第2偏光96的曝光量。藉此，可容易地設定藉由第1偏光94的曝光量以及第2偏光96的曝光量而決定的配向膜120的配向方向。因此，曝光裝置10無須變更光源30、光源32的輸出便可容易地設定配向方向。
曝光裝置10中，在寬度方向上，形成於第1開口部64與第2開口部70重疊的區域的、搬送方向上的第1開口短部位68與第2開口短部位74的長度不同。藉此，可提高藉由第1偏光94與第2偏光96而配向的區域的配向膜120的配向方向的自由度。尤其藉由將搬送方向上的第2開口短部位74的長度設為大於搬送方向上的第1開口短部位68的長度，而曝光裝置10可將第2配 向區域134形成於配向膜120，該第2配向區域134以第1偏光94的偏光方向與第2偏光96的偏光方向的大致中央的方向作為配向方向。
其次，對變更了上述實施形態的曝光裝置的一部分的實施形態進行說明。
圖12是說明經變更的罩幕139的底面圖。圖12的下半部分的圖是藉由罩幕139而配向的配向膜120以及長條狀樹脂基材90的圖。如圖12所示，罩幕139具有第1罩幕138以及第2罩幕140。第1罩幕138配置於比第2罩幕140靠上游側處。
第1罩幕138配置於自第1偏光輸出部50輸出的第1偏光94的光路上。第1罩幕138具有第1罩幕基材56、及第1罩幕部158。第1罩幕部158包含遮蔽第1偏光94的材料。第1罩幕部158上形成著第1開口部164。第1開口部164形成為直角三角形狀。第1開口部164的三角形狀由與搬送方向平行的邊、與寬度方向平行的邊、及相對於寬度方向以及搬送方向傾斜的邊而包圍。第1開口部164的搬送方向上的長度沿著寬度方向的右方向而逐漸且連續地變短。
第2罩幕140配置於自第2偏光輸出部52輸出的第2偏光96的光路上。第2罩幕140具有第2罩幕基材60、及第2罩幕部162。第2罩幕部162包含遮蔽第2偏光96的材料。第2罩幕部162上形成著第2開口部170。第2開口部170形成為直角三角形狀。第2開口部170的三角形狀由與搬送方向平行的邊、 與寬度方向平行的邊、及相對於寬度方向以及搬送方向傾斜的邊包圍。第2開口部170的搬送方向上的長度沿著寬度方向的右方向而逐漸且連續地變長。
第1開口部164的與寬度方向平行的邊和相對於寬度方向以及搬送方向傾斜的邊交叉的頂點，配置於與第2開口部170的搬送方向平行的邊的延長線上。第2開口部170的與寬度方向平行的邊和相對於寬度方向以及搬送方向傾斜的邊交叉的頂點，配置於與第1開口部164的搬送方向平行的邊的延長線上。
俯視時，第1開口部164的與搬送方向平行的邊配置於比被搬送的長條狀樹脂基材90的一邊靠內側處。俯視時，第2開口部170的與搬送方向平行的邊配置於比被搬送的長條狀樹脂基材90的另一邊靠內側處。因此，形成於長條狀樹脂基材90的配向膜120在寬度方向的大致整個區域，由第1偏光94或第2偏光96的至少一者曝光。
而且，寬度方向的左端部附近的配向膜120幾乎藉由第1偏光94而曝光。若自寬度方向的左端部離開，則配向膜120藉由第1偏光94以及第2偏光96而曝光。隨著接近寬度方向的右端部，將配向膜120曝光的偏光中，第1偏光94減少，第2偏光96增加。寬度方向的右端部附近的配向膜120幾乎藉由第2偏光96而曝光。
此處，如圖12的第1開口部164的區域中箭頭所示，將第1偏光94的偏光方向設為與搬送方向平行。而且，如第2開 口部170的區域中箭頭所示，將第2偏光96的偏光方向設為自搬送方向傾斜而成的方向。例如，第2偏光96的偏光方向相對於第1偏光94的偏光方向傾斜80°。
該情況下，藉由第1罩幕138以及第2罩幕140而曝光的配向膜120的配向方向成為如長條狀樹脂基材90中箭頭所示。具體而言，寬度方向的左端部附近的區域幾乎僅藉由第1偏光94而曝光，因而配向膜120的配向方向與搬送方向平行。隨著朝寬度方向的右側前進，配向膜120的配向方向自搬送方向逐漸且連續地傾斜。在寬度方向的右端部附近，配向膜120的配向方向大致自搬送方向傾斜80°。
如上述般，第1開口部164以及第2開口部170具有相對於寬度方向以及搬送方向傾斜的一邊。藉此，第1罩幕部158以及第2罩幕部162在寬度方向上，可使將配向膜120曝光的第1偏光94以及第2偏光96的曝光量E1、曝光量E2逐漸地變化。結果，第1罩幕部158以及第2罩幕部162在寬度方向上，可使配向膜120的配向方向並非階段性地而是逐漸且連續地變化。藉此，藉由設置著罩幕139的曝光裝置10而曝光的光學膜中，光學軸沿著寬度方向而連續地變化。
圖13是說明經變更的罩幕239的底面圖。圖13的下半部分的圖是藉由罩幕239而配向的配向膜120以及長條狀樹脂基材90的圖。如圖13所示，罩幕239具有第1罩幕238以及第2罩幕240。第1罩幕238配置於比第2罩幕240靠上游側處。
第1罩幕238配置於自第1偏光輸出部50輸出的第1偏光94的光路上。第1罩幕238包括第1罩幕基材56、及第1罩幕部258。第1罩幕部258包含遮蔽第1偏光94的材料。在第1罩幕部258形成著第1開口部264。
第1開口部264由多個、例如4個第1開口部位266a、第1開口部位266b、第1開口部位266c、第1開口部位266d而形成。第1開口部位266a、第1開口部位266b、第1開口部位266c、第1開口部位266d形成為長方形狀。第1開口部位266a、第1開口部位266b、第1開口部位266c、第1開口部位266d以彼此的上游側的一邊一致的方式而配置。第1開口部位266a、第1開口部位266b、第1開口部位266c、第1開口部位266d一體且連續地形成。第1開口部位266a、第1開口部位266b、第1開口部位266c、第1開口部位266d的寬度方向的寬度分別相等。第1開口部位266a、第1開口部位266b、第1開口部位266c、第1開口部位266d的搬送方向上的長度隨著向左側前進而變短。例如，第1開口部位266a、第1開口部位266b、第1開口部位266c、第1開口部位266d的搬送方向上的長度分別為20mm、15mm、10mm、5mm。
第2罩幕240配置於自第2偏光輸出部52輸出的第2偏光96的光路上。第2罩幕240具有第2罩幕基材60、及第2罩幕部262。第2罩幕部262包含遮蔽第2偏光96的材料。在第2罩幕部262形成著第2開口部270。
第2開口部270由多個、例如4個第2開口部位272a、第2開口部位272b、第2開口部位272c、第2開口部位272d而形成。第2開口部位272a、第2開口部位272b、第2開口部位272c、第2開口部位272d形成為長方形狀。第2開口部位272a、第2開口部位272b、第2開口部位272c、第2開口部位272d以彼此的下游側的一邊一致的方式而配置。第2開口部位272a、第2開口部位272b、第2開口部位272c、第2開口部位272d一體且連續地形成。第2開口部位272a、第2開口部位272b、第2開口部位272c、第2開口部位272d的寬度方向的寬度分別相等。第2開口部位272a、第2開口部位272b、第2開口部位272c、第2開口部位272d的搬送方向上的長度隨著向右側前進而變短。例如，第2開口部位272a、第2開口部位272b、第2開口部位272c、第2開口部位272d的搬送方向上的長度分別為20mm、15mm、10mm、5mm。
在寬度方向上，第1開口部位266b形成於與第2開口部位272d相同的區域。在寬度方向上，第1開口部位266c形成於與第2開口部位272c相同的區域。在寬度方向上，第1開口部位266d形成於與第2開口部位272b相同的區域。在寬度方向上，第1開口部位266a以及第2開口部位272a形成於不與其他第2開口部位272b、第2開口部位272c、第2開口部位272d以及第1開口部位266b、第1開口部位266c、第1開口部位266d重疊的區域。
此處，如圖13的第1開口部264的區域中箭頭所示，將第1偏光94的偏光方向設為與搬送方向平行。而且，如第2開口部270的區域中箭頭所示，將第2偏光96的偏光方向設為自搬送方向傾斜而成的方向。配向方向是將與搬送方向平行的方向設為0°。配向方向是將圖13所示的逆時針旋轉設為正的方向。例如，第2偏光96的偏光方向設為在俯視時，相對於第1偏光94的偏光方向傾斜+45°。對該情況下的圖13所示的位置Pa、位置Pb、位置Pc、位置Pd、位置Pe的配向方向進行說明。另外，位置Pa位於通過寬度方向上第1開口部位266a的中心的沿著搬送方向的中心線上。同樣地，位置Pb位於寬度方向上的第1開口部位266b以及第2開口部位272d的中心線上。位置Pc位於寬度方向上的第1開口部位266c以及第2開口部位272c的中心線上。位置Pd位於寬度方向上的第1開口部位266d以及第2開口部位272b的中心線上。位置Pe位於寬度方向上的第2開口部位272a的中心線上。
圖14是對圖13中的位置Pa、位置Pb、位置Pc、位置Pd、位置Pe的配向方向進行說明的圖表。位置Pe的第2偏光96的偏光量設為54mJ/cm2。
如圖14所示，僅藉由第1偏光94而配向的右端部的區域的配向膜120與搬送方向大致平行地配向。在寬度方向上，隨著向左側前進，配向膜120的配向方向逆時針地旋轉，接近第2偏光96的偏光方向。僅藉由第2偏光96而配向的左端部的區域 的配向膜120在與第2偏光96的偏光方向大致平行，即，自搬送方向旋轉45°而成的方向上配向。而且，第1開口部264以及第2開口部270的搬送方向上的長度階段性地變化。因此，由設置著罩幕239的曝光裝置10曝光的光學膜中，光學軸沿著寬度方向階段性地變化。
進而，第1偏光94以及第2偏光96的曝光量相等的位置Pc的配向方向比第2偏光96的偏光方向接近第1偏光94的偏光方向。藉此，可知在使配向膜120配向在不向第1偏光94的偏光方向與第2偏光96的偏光方向中的任一者偏靠的中間的位置的情況下，必須使之後曝光的第2偏光96的曝光量比第1偏光94的曝光量大。
圖15是說明經變更的曝光部418的圖。如圖15所示，曝光部418包括：光源30、光源32、光源530、光源532，第1偏光輸出部50，第2偏光輸出部52，第3偏光輸出部550，第4偏光輸出部552，罩幕保持部34、罩幕保持部36、罩幕保持部534、罩幕保持部536，以及包含第1罩幕438、第2罩幕440、第3罩幕538及第4罩幕540的罩幕439。
光源30、光源32、光源530、光源532沿著搬送方向自上游側向下游側配置。光源30、光源32、光源530、光源532輸出相同照度的紫外線。
第1偏光輸出部50、第2偏光輸出部52、第3偏光輸出部550、以及第4偏光輸出部552依序沿著搬送方向，自上游側 向下游側配置。第1偏光輸出部50、第2偏光輸出部52、第3偏光輸出部550、以及第4偏光輸出部552分別輸出偏光方向不同的第1偏光94、第2偏光96、第3偏光594、第4偏光596。
罩幕保持部34、罩幕保持部36、罩幕保持部534、罩幕保持部536分別對第1罩幕438、第2罩幕440、第3罩幕538、以及第4罩幕540加以保持。第1罩幕438、第2罩幕440、第3罩幕538、以及第4罩幕540沿著搬送方向自上游側向下游側配置。
第1罩幕438配置於第1偏光94的光路上。第1罩幕438具有第1罩幕基材456及第1罩幕部458。第2罩幕440配置於第2偏光96的光路上。第2罩幕440具有第2罩幕基材460、及第2罩幕部462。第3罩幕538配置於第3偏光594的光路上。第3罩幕538具有第3罩幕基材556、及第3罩幕部558。第4罩幕540配置於第4偏光596的光路上。第4罩幕540具有第4罩幕基材560、及第4罩幕部562。
圖16是說明罩幕439的底面圖。圖16的下半部分的圖是藉由罩幕439而配向的配向膜120以及長條狀樹脂基材90的圖。如圖16所示，在第1罩幕部458形成著第1三角開口部464、及2個半三角開口部466、半三角開口部468。第1三角開口部464的三角形狀的一例為底邊20mm、高度20mm的等腰三角形。此處提及的底邊是沿著寬度方向的邊。而且，高度是沿著搬送方向的長度。因此，第1三角開口部464的右半部分的區域沿著寬度方向的右方向連續地變短。另一方面，第1三角開口部464的左 半部分的區域沿著寬度方向的左方向連續地變短。半三角開口部466、半三角開口部468為將第1三角開口部464分割為一半而成的形狀。半三角開口部466、半三角開口部468的三角形狀的一例為底邊10mm、高度20mm的直角三角形。半三角開口部466、半三角開口部468的寬度方向的外側的一邊與搬送方向平行地形成。寬度方向的左側的半三角開口部466的外側的一邊形成於比搬送的長條狀樹脂基材90的一邊靠內側的位置。寬度方向的右側的半三角開口部468的外側的一邊形成於比搬送的長條狀樹脂基材90的另一邊靠內側的位置。
第2罩幕部462上形成著2個第2三角開口部470。第2三角開口部470的形狀與第1三角開口部464的形狀相同。因此，第2三角開口部470的右半部分的區域沿著寬度方向的右方向連續地變短。另一方面，第2三角開口部470的左半部分的區域沿著寬度方向的左方向連續地變短。在寬度方向上，第2三角開口部470配置於相對於第1三角開口部464向右側偏離底邊的一半的長度的位置。換言之，在與搬送方向平行的第2三角開口部470的中心線的延長線上，配置著第1三角開口部464或半三角開口部466、半三角開口部468的底邊的一個頂點。藉此，將配向膜120上其中沿著寬度方向的右方向連續地變短的第1三角開口部464的右半部分的區域與沿著寬度方向的右方向連續地變長的第2三角開口部470的左半部的區域相同的區域曝光。
在第3罩幕部558上形成著2個第3三角開口部564。 第3三角開口部564的形狀與第1三角開口部464的形狀相同。因此，第3三角開口部564的右半部分的區域沿著寬度方向的右方向連續地變短。另一方面，第3三角開口部564的左半部分的區域沿著寬度方向的左方向連續地變短。在寬度方向上，第3三角開口部564配置於相對於第2三角開口部470向右側偏離底邊的一半的長度的位置。換言之，在與搬送方向平行的第3三角開口部564的中心線的延長線上，配置著第2三角開口部470的底邊的一個頂點。藉此，將配向膜120上其中沿著寬度方向的右方向連續地變短的第2三角開口部470的右半部分的區域與沿著寬度方向的右方向連續地變長的第3三角開口部564的左半部分的區域相同的區域曝光。
在第4罩幕部562形成著2個第4三角開口部570。第4三角開口部570的形狀與第1三角開口部464的形狀相同。因此，第4三角開口部570的右半部分的區域沿著寬度方向的右方向連續地變短。另一方面，第4三角開口部570的左半部分的區域沿著寬度方向的左方向連續地變短。在寬度方向上，第4三角開口部570配置於相對於第3三角開口部564向右側偏離底邊的一半的長度的位置。換言之，在與搬送方向平行的第4三角開口部570的中心線的延長線上，配置著第3三角開口部564的底邊的一個頂點。藉此，將配向膜120上其中沿著寬度方向的右方向連續地變短的第3三角開口部564的右半部分的區域與沿著寬度方向的右方向連續地變長的第4三角開口部570的左半部分的區 域相同的區域曝光。
第1三角開口部464或半三角開口部466、半三角開口部468、第2三角開口部470、第3三角開口部564、第4三角開口部570在寬度方向上，以底邊的一半的長度為週期而週期性地配置。另外，亦可使第1三角開口部464、第2三角開口部470、第3三角開口部564、第4三角開口部570的個數增加，進而，以多個週期而形成。
在圖16的右端，由箭頭來表示第1偏光94、第2偏光96、第3偏光594、第4偏光596的偏光方向。第1偏光94的偏光方向與寬度方向平行。第2偏光96是自第1偏光94的偏光方向逆時針地旋轉45°而成的方向。第3偏光594是自第2偏光96的偏光方向逆時針地旋轉45°而成的方向，且與搬送方向平行。第4偏光596是自第3偏光594的偏光方向逆時針地旋轉45°而成的方向。換言之，第1偏光94、第2偏光96、第3偏光594、第4偏光596的偏光方向為等角度間隔。
如圖16所示，對位置Pf、位置Pg、位置Ph、位置Pj、位置Pk、位置Pm、位置Pn、位置Pp、位置Pq進行定義。位置Pf是長條狀樹脂基材90的右端的位置。位置Pq位於長條狀樹脂基材90的左端。位置Pf、位置Pg、位置Ph、位置Pj、位置Pk、位置Pm、位置Pn、位置Pp、位置Pq以第1三角開口部464的底邊的一半的間隔而配置。換言之，位置Pf、位置Pg、位置Ph、位置Pj、位置Pk、位置Pm、位置Pn、位置Pp、位置Pq在寬度方 向上，為與第1三角開口部464或半三角開口部466、半三角開口部468、第2三角開口部470、第3三角開口部564、第4三角開口部570中的任一個頂點相同的位置。
圖17是藉由圖16所示的罩幕439而配向的光學膜500的照片。光學膜500在配向膜120上形成著具有1/2波長板的相位差的液晶膜122。圖17的照片是將2塊偏光板以正交尼科耳稜鏡(cross nicol)的狀態配置於光學膜500的前後並攝影所得。圖16以及圖17所示的位置Pf、位置Pg、位置Ph、位置Pj、位置Pk、位置Pm、位置Pn、位置Pp、位置Pq分別相對應。在圖17的上部，由箭頭來表示位置Pf、位置Pg、位置Ph、位置Pj、位置Pk、位置Pm、位置Pn、位置Pp、位置Pq的配向方向。如圖17所示可知，光學膜500自寬度方向的右側沿著左側，配向方向逐漸且週期性地發生變化。藉此可知，藉由使第1三角開口部464或半三角開口部466、半三角開口部468，第2三角開口部470，第3三角開口部564，第4三角開口部570的各自的一邊傾斜，而可使配向方向逐漸且連續地變化。結果可知，藉由利用設置著罩幕439的曝光部418的曝光裝置而曝光的光學膜中，光學軸沿著寬度方向連續地變化。
而且，藉由偏光方向不同的4個第1偏光94、第2偏光96、第3偏光594、第4偏光596，來將配向膜120曝光。藉此，在寬度方向不同的區域，可使配向膜120相對於寬度方向以0°至180°配向。結果，若將具有圖16所示的配向膜120的光學膜應用 於調光窗對，則可連續地進行更細的調光。
圖18是說明罩幕1439底面圖。圖18的下半部分的圖是藉由罩幕1439而配向的配向膜120以及長條狀樹脂基材90的圖。罩幕1439可代替圖16的罩幕439而配置於曝光部418。如圖18所示，罩幕1439具有第1罩幕1438、第2罩幕1440、第3罩幕1538、以及第4罩幕1540。
第1罩幕1438具有第1罩幕基材1456、第1罩幕部1458。在第1罩幕部1458形成著第1開口部1464、2個半開口部1466、半開口部1468。第1開口部1464為底邊與寬度方向平行且剩餘的2邊為階梯狀的三角形狀。第1開口部1464的三角形狀的一例為底邊20mm、高度20mm的等腰三角形。此處提及的底邊是指沿著寬度方向的邊。而且，高度是沿著搬送方向的長度。因此，第1開口部1464的右半部分的區域沿著寬度方向的右方向階段性地變短。另一方面，第1開口部1464的左半部分的區域沿著寬度方向的左方向階段性地變短。半開口部1466、半開口部1468為將第1開口部1464分割為一半而成的形狀。半開口部1466、半開口部1468的寬度方向的外側的一邊與搬送方向平行地形成。寬度方向的左側的半開口部1466的外側的一邊形成於比搬送的長條狀樹脂基材90的一邊靠內側的位置。寬度方向的右側的半開口部1468的外側的一邊形成於比搬送的長條狀樹脂基材90的另一邊靠內側的位置。
第2罩幕1440具有第2罩幕基材1460、及第2罩幕部 1462。第2罩幕部1462上形成著2個第2開口部1470。第2開口部1470的形狀與第1開口部1464的形狀相同。因此，第2開口部1470的右半部分的區域沿著寬度方向的右方向階段性地變短。另一方面，第2開口部1470的左半部分的區域沿著寬度方向的左方向階段性地變短。在寬度方向上，第2開口部1470配置於相對於第1開口部1464向右側偏離底邊的五分之三的長度的位置。第2開口部1470的中央的最長的區域在寬度方向上，配置於與第1開口部1464或半開口部1466、半開口部1468不同的位置。藉此，將配向膜120上其中沿著寬度方向的右方向階段性地變短的第1開口部1464的右側的2段的區域與沿著寬度方向的右方向階段性地變長的第2開口部1470的左側的2段的區域相同的區域曝光。
第3罩幕1538具有第3罩幕基材1556、及第3罩幕部1558。第3罩幕部1558上形成著2個第3開口部1564。第3開口部1564的形狀與第1開口部1464的形狀相同。因此，第3開口部1564的右半部分的區域沿著寬度方向的右方向階段性地變短。另一方面，第3開口部1564的左半部分的區域沿著寬度方向的左方向階段性地變短。在寬度方向上，第3開口部1564配置於相對於第2開口部1470，向右側偏離底邊的五分之三的長度的位置。第3開口部1564的中央的最長的區域在寬度方向上，配置於與第2開口部1470不同的位置。藉此，將配向膜120上其中沿著寬度方向的右方向階段性地變短的第2開口部1470的右側的2段的區域與沿著寬度方向的右方向階段性地變長的第3開口部1564的左 側的2段的區域相同的區域曝光。
第4罩幕1540具有第4罩幕基材1560、及第4罩幕部1562。第4罩幕部1562上形成著2個第4開口部1570。第4開口部1570的形狀與第1開口部1464的形狀相同。因此，第4開口部1570的右半部分的區域沿著寬度方向的右方向階段性地變短。另一方面，第4開口部1570的左半部分的區域沿著寬度方向的左方向階段性地變短。在寬度方向上，第4開口部1570配置於相對於第3開口部1564，向右側偏離底邊的五分之三的長度的位置。第4開口部1570的中央的最長的區域在寬度方向上，配置於與第3開口部1564不同的位置。藉此，將配向膜120上其中沿著寬度方向的右方向階段性地變短的第3開口部1564的右側的2段的區域，將與沿著寬度方向的右方向階段性地變長的第4開口部1570的左側的2段的區域相同的區域曝光。
第1開口部1464或半開口部1466、半開口部1468、第2開口部1470、第3開口部1564、第4開口部1570在寬度方向上，以底邊的一半的長度底邊的五分之三的長度為週期而週期性地配置。另外，亦可使第1開口部1464、第2開口部1470、第3開口部1564、第4開口部1570的個數增加，進而以多個週期而形成。
在圖18的右端由箭頭來表示第1偏光94、第2偏光96、第3偏光594、第4偏光596的偏光方向。第1偏光94的偏光方向與寬度方向平行。第2偏光96為自第1偏光94的偏光方向順時針旋轉45°而成的方向。第3偏光594為自第2偏光96的偏光 方向順時針旋轉45°而成的方向，且與搬送方向平行。第4偏光596為自第3偏光594的偏光方向順時針旋轉45°而成的方向。換言之，第1偏光94、第2偏光96、第3偏光594、第4偏光596的偏光方向為等角度間隔。
如圖18所示可知，配向方向自寬度方向的右側沿著左側階段性且週期地變化。藉此，藉由使第1開口部1464或半開口部1466、半開口部1468、第2開口部1470、第3開口部1564、第4開口部1570的各自的一邊階段性地變化，而可使配向方向逐漸且階段性地變化。
而且，藉由偏光方向不同的4個第1偏光94、第2偏光96、第3偏光594、第4偏光596，來將配向膜120曝光。藉此，在寬度方向不同的區域，可使配向膜120相對於寬度方向以0°至180°階段性地配向。結果，藉由具有設置著罩幕1439的曝光部418的曝光裝置而曝光的光學膜中，光學軸沿著寬度方向階段性地變化。而且，若將具有圖18所示的配向膜120的光學膜應用於調光窗對，則可階段性地進行更細的調光。另外，亦可將第1開口部1464、第2開口部1470、第3開口部1564、第4開口部1570的各個分割而設為多個。該情況下，各自的開口形狀成為如下的條紋狀，即，在第1開口部1464、第2開口部1470、第3開口部1564、第4開口部1570的階差之間存在間隔的搬送方向上的長度，沿著寬度方向而階段性地變長或變短。
其次，對變更了曝光部的形態進行說明。
圖19是經變更的曝光部618的構成圖。另外，對於與上述構成相同的構成，附上相同的符號並省略說明。
如圖19所示，曝光部618具有1個光源630、及遮光部651。光源630向跨及第1偏光輸出部50與第2偏光輸出部52的區域輸出紫外線等光。
遮光部651配置於偏光輸出部750的下方，且第1罩幕38與第2罩幕40之間的上方。藉此，遮光部651遮蔽在第1罩幕38與第2罩幕40之間前進的偏光。
曝光部618可藉由將光源630設為1個而簡化構成。而且，遮光部651配置於第1偏光輸出部50與第2偏光輸出部52之間，因而可抑制第1偏光94與第2偏光96相互混合。
圖20是經變更的另一曝光部718的構成圖。另外，對於與上述構成相同的構成附上相同的符號並省略說明。
如圖20所示，曝光部718具有1個光源630、偏光輸出部750、λ/2相位差板752、及遮光部651。偏光輸出部750使來自光源630的光偏光而輸出。偏光輸出部750的一例為布魯斯特片。λ/2相位差板752配置於偏光輸出部750的下方，且第2罩幕40的上方。λ/2相位差板752使自偏光輸出部750輸出的偏光的偏光方向例如旋轉45°。另外，圖20所示的形態中，偏光輸出部750的上游側的區域相當於第1偏光輸出部，偏光輸出部750的下游側的區域與λ/2相位差板752相當於第2偏光輸出部。
圖21是經變更的另一曝光部818的構成圖。另外，對 於與上述構成相同的構成附上相同的符號並省略說明。如圖21所示的曝光部818般，亦可將圖20的λ/2相位差板752配置於第2罩幕40與長條狀樹脂基材90之間。
上述各實施形態的構成的形狀、配置、個數等數值、材料亦可適當變更。而且，亦可組合各實施形態。
例如，偏光調變部的偏光方向可適當變更。而且，曝光用的偏光的偏光方向可適當變更。
上述實施形態中，表示連續搬送長條狀基材的例，但亦可將上述實施形態應用於重複進行長條狀樹脂基材的搬送以及停止且在搬送過程中進行曝光的曝光裝置，或一邊搬送1塊樹脂基材而非長條狀的樹脂基材一邊進行曝光的曝光裝置。
上述實施形態中，分別形成第1罩幕部58、第2罩幕部62，但亦可在1塊罩幕基材上形成第1罩幕部58以及第2罩幕部62。當然，亦可在1塊罩幕基材形成3個以上的罩幕部。
上述實施形態中所列舉的偏光的偏光方向為一例。例如，在藉由2個偏光方向的偏光進行曝光的情況下，一個偏光的偏光方向與另一偏光的偏光方向不同，且小於90°，即不正交即可。其原因在於：藉由2個偏光方向不正交，而可設定藉由一個偏光配向後的藉由另一偏光而旋轉的配向的旋轉方向。
上述實施形態中，表示設置2個偏光輸出部或4個偏光輸出部的例，但偏光輸出部的個數並不限定於該些。圖22是說明偏光方向與配向膜的光學軸的關係的圖。如圖22所示，例如，將 偏光輸出部的個數設為n個，輸出偏光方向不同的n個偏光。n為3以上的自然數。同樣地將罩幕部的個數設為n個。
設為偏光方向P1、P2、...、Pn。偏光方向P1、P2、...、Pn的偏光在搬送方向上，不論曝光的順序均可。因此，亦可為偏光方向P1的偏光、偏光方向P3的偏光、偏光方向P2的偏光的順序。
此處，若將搬送方向設為0°，將自與配向膜面垂直的方向觀察配向膜面而逆時針旋轉設為正角度，將n個偏光輸出部各自輸出的偏光的偏光方向Pp自搬送方向算起的角度設為θp(p=1、2、...n)，則在角度θp滿足以下的關係時，可形成0°至180°的所有範圍內的光學軸。因此，較佳為n個偏光輸出部各自出射的偏光的偏光方向滿足以下的關係。
0°≦θ1<θ2<‥<θn<180°
θp+1-θp<90°
θn-θ1>90°
根據該關係，在偏光方向Pp的偏光與偏光方向Pp+1的偏光的曝光中，在θp以上且θp+1以下的方向之間，可自由地形成光學軸。即，可知在θ1以上且θn以下之間可自由地形成光學軸。
此處，在最小的角度θ1的偏光方向P1至最大的角度θn的偏光方向Pn之間的角度差(θn-θ1)為90°以下的情況下，僅在 θ1以上且θn以下的方向之間方可設定光學軸。換言之，在0°以上且小於θ1的方向之間，超過θn且小於180°的方向之間，無法設定光學軸。因此可知，根據θn-θ1>90°的條件，光學軸可在0°至180°所有範圍內形成。其中，此處，若設「0°≦θ<180°」，則某角度θ的偏光方向與角度(θ+180°)的偏光方向為同一個偏光方向。
另外，該情況下，n個偏光輸出部較佳為輸出以(180/n)°間隔旋轉而成的n個偏光方向的偏光。藉此，容易進行自偏光輸出部輸出的偏光的照度的設定、以及形成於罩幕部的開口在搬送方向上的長度的設計等。
而且，上述實施形態中，表示將光學膜100等應用於調光窗構件對300的例，但亦可將上述光學膜應用於其他光學零件等。例如，亦可將光學膜應用於攝像裝置等中所應用的低通濾波器。
圖23是作為應用於攝像裝置等的低通濾波器而發揮功能的光學膜2300的平面圖。圖24是沿著圖23的A-A線的光學膜2300的剖面圖。如圖23以及圖24所示，光學膜2300具有多組多個例如10個偏光調變部2102、偏光調變部2104、偏光調變部2106、偏光調變部2108、偏光調變部2110、偏光調變部2112、偏光調變部2114、偏光調變部2116、偏光調變部2118、偏光調變部2120。10個偏光調變部2102、偏光調變部2104、偏光調變部2106、偏光調變部2108、偏光調變部2110、偏光調變部2112、偏光調變部2114、偏光調變部2116、偏光調變部2118、偏光調變部2120 包含形成於基材2218上的配向膜2220以及液晶膜2222。
10個偏光調變部2102、偏光調變部2104、偏光調變部2106、偏光調變部2108、偏光調變部2110、偏光調變部2112、偏光調變部2114、偏光調變部2116、偏光調變部2118、偏光調變部2120依序沿著寬度方向週期性地排列。10個偏光調變部2102、偏光調變部2104、偏光調變部2106、偏光調變部2108、偏光調變部2110、偏光調變部2112、偏光調變部2114、偏光調變部2116、偏光調變部2118、偏光調變部2120形成為相同形狀。10個偏光調變部2102、偏光調變部2104、偏光調變部2106、偏光調變部2108、偏光調變部2110、偏光調變部2112、偏光調變部2114、偏光調變部2116、偏光調變部2118、偏光調變部2120分別具有不同的光學軸。10個偏光調變部2102、偏光調變部2104、偏光調變部2106、偏光調變部2108、偏光調變部2110、偏光調變部2112、偏光調變部2114、偏光調變部2116、偏光調變部2118、偏光調變部2120的光學軸隨著向寬度方向的右方而以m為自然數每隔(180/m)°，例如每隔18°順時針旋轉。10個偏光調變部2102、偏光調變部2104、偏光調變部2106、偏光調變部2108、偏光調變部2110、偏光調變部2112、偏光調變部2114、偏光調變部2116、偏光調變部2118、偏光調變部2120使與自己的遲相軸平行的光的振動成分的相位延遲。10個偏光調變部2102、偏光調變部2104、偏光調變部2106、偏光調變部2108、偏光調變部2110、偏光調變部2112、偏光調變部2114、偏光調變部2116、偏光調變部2118、偏光調變部 2120作為λ/2相位差板而發揮功能。
如此在光學軸以等間隔發生變化的情況下，若光2100入射，則光學膜2300出射繞射光大致1次。此處，一次繞射光的分離角度θ若將繞射光柵的間距設為p，入射的光的波長設為λ，則由下式來表示。
tanθ=λ/p
藉此，光學膜2300配置於攝像裝置的攝像元件的入射側，藉此可防止對具有比攝像元件的畫素間距高的空間頻率的光學像進行攝影時產生的莫耳干涉條紋(moire fringe)。另外，繞射光柵的間距p的一例為500μm。而且，鄰接的偏光調變部的光學軸與光學軸之間的角度變化越細則1次繞射率越大，從而防止波紋的效果越大。
上述實施形態中，使用樹脂基材118作為基材，但亦可使用玻璃基材作為基材。玻璃基材的厚度的一例為0.05mm至5mm。構成玻璃基材的材料的例可使用鹼玻璃、無鹼玻璃(例如，日本電氣硝子(股)公司製造OA-10)，石英玻璃等。
上述實施形態中，列舉自多個光源照射的光的照度相同的例，但亦可自多個光源出射不同照度的光。
以上，使用實施形態對本發明進行了說明，但本發明的技術範圍並不限定於上述實施形態記載的範圍。本領域技術人員 明白可對上述實施形態加以多種變更或改良。根據申請專利範圍的記載可知此種加以變更或改良的形態亦可包含於本發明的技術範圍。
應留意申請專利範圍、說明書、及圖式中所示的裝置、系統、程式及方法中的動作、順序、步驟及階段等各處理的執行順序，只要未特別明示為「更前」、「在~之前」等，而且只要之前的處理的輸出並非用於之後的處理中，則能夠按照任意的順序來實現。關於申請專利範圍、說明書、及圖式中的動作流程，即便為方便起見而使用「首先，」、「其次，」等進行說明，亦並非指必須以該順序實施。
38‧‧‧第1罩幕
39‧‧‧罩幕
40‧‧‧第2罩幕
58‧‧‧第1罩幕部
62‧‧‧第2罩幕部
64‧‧‧第1開口部
66‧‧‧第1開口長部位
68‧‧‧第1開口短部位
70‧‧‧第2開口部
72‧‧‧第2開口長部位
74‧‧‧第2開口短部位
La、Lb、Lc‧‧‧虛線

Claims (13)

  1. 一種曝光裝置，包括：搬送部，將形成著配向膜的基材沿著搬送方向搬送；第1偏光輸出部，朝向上述基材的上述配向膜，輸出具有第1偏光方向的第1偏光；第2偏光輸出部，朝向上述基材的上述配向膜，配置於上述搬送方向上比上述第1偏光輸出部靠下游側處，並輸出具有與上述第1偏光方向以小於90°的角度交叉的第2偏光方向的第2偏光；第1罩幕部，配置於上述基材與上述第1偏光輸出部之間，形成著第1開口部，該第1開口部透射將上述配向膜曝光的上述第1偏光，且上述第1罩幕部遮蔽上述第1偏光；以及第2罩幕部，配置於上述基材與上述第2偏光輸出部之間，形成著第2開口部，該第2開口部透射將上述配向膜曝光的上述第2偏光，且上述第2罩幕部遮蔽上述第2偏光，且上述第1開口部及上述第2開口部以將上述配向膜的某區域重複曝光的方式形成，上述第1開口部包括朝向上述區域透射上述第1偏光的第1開口區域，上述第2開口部包括朝向上述區域透射上述第2偏光的第2開口區域。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，其中在與上述搬 送方向正交的正交方向上的相同位置的至少一部分，上述搬送方向上的上述第1開口區域的長度與上述搬送方向上的上述第2開口區域的長度不同。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的曝光裝置，其中在上述至少一部分，上述搬送方向上的上述第1開口區域的長度小於上述搬送方向上的上述第2開口區域的長度。
  4. 如申請專利範圍第2項所述的曝光裝置，其中上述第1開口部為彼此分割而成的多個，上述第2開口部為彼此分割而成的多個，上述搬送方向上的多個第1開口部的長度不同，上述搬送方向上的多個第2開口部的長度不同。
  5. 如申請專利範圍第2項所述的曝光裝置，其中上述第1開口部包含一個區域，該區域是以上述搬送方向上的上述第1開口區域的長度沿著上述正交方向的第1方向階段性地變短的方式而形成，上述第2開口部包含一區域，該區域是以將上述搬送方向上的與上述一個區域相同的區域曝光的上述第2開口區域的長度沿著上述正交方向的上述第1方向，階段性地變長的方式形成。
  6. 如申請專利範圍第5項所述的曝光裝置，其中上述第1開口部進而包含另一區域，該區域是以上述搬送方向上的上述第1開口區域的長度沿著上述正交方向的第2方向階段性地變短的方式而形成， 上述第2開口部進而包含一區域，該區域是以將上述搬送方向上的與上述另一區域相同的區域曝光的上述第2開口區域的長度沿著上述正交方向的上述第2方向，階段性地變長的方式而形成。
  7. 如申請專利範圍第2項所述的曝光裝置，其中上述第1開口部包含一個區域，該區域是以上述搬送方向上的上述第1開口區域的長度沿著上述正交方向的第1方向連續地變短的方式而形成，上述第2開口部包含一區域，該區域是以將上述搬送方向上的與上述一個區域相同的區域曝光的上述第2開口區域的長度沿著上述正交方向的上述第1方向，連續地變長的方式而形成。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的曝光裝置，其中上述第1開口部進而包含另一區域，該區域是以上述搬送方向上的上述第1開口區域的長度沿著上述正交方向的第2方向連續地變短的方式而形成，上述第2開口部進而包含一區域，該區域是以將上述搬送方向上的與上述另一區域相同的區域曝光的上述第2開口區域的長度沿著上述正交方向的上述第2方向，連續地變長的方式而形成。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的曝光裝置，更包括：n個(n為3以上的自然數)偏光輸出部，包含上述第1偏光輸出部、及上述第2偏光輸出部；以及n個罩幕部，包含第1罩幕部、及第2罩幕部，且 若將搬送方向設為0°，將自與上述配向膜的面垂直的方向觀察上述配向膜的面而逆時針旋轉設為正角度，將n個上述偏光輸出部各自輸出的偏光的偏光方向自搬送方向算起的角度設為θp(p=1、2、...n)，則0≦θ1<θ2<...<θn<180°，θp+1-θp<90°，且θn-θ1>90°。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的曝光裝置，其中n個偏光輸出部輸出彼此以(180/n)°間隔旋轉而成的偏光方向的偏光。
  11. 一種罩幕，配置於向形成著配向膜的基材輸出的第1偏光、及與上述第1偏光以小於90°的角度交叉的第2偏光的光路上，且上述罩幕包括：第1罩幕部，配置於上述第1偏光的光路上，形成著第1開口部，該第1開口部透射上述第1偏光，且上述第1罩幕部遮蔽上述第1偏光；以及第2罩幕部，配置於上述第2偏光的光路上，形成著第2開口部，該第2開口部透射上述第2偏光，且上述第2罩幕部遮蔽上述第2偏光，且上述第1開口部及上述第2開口部以將上述配向膜的某區域重複曝光的方式而形成，上述第1開口部包含朝向上述區域透射上述第1偏光的第1開口區域， 上述第2開口部包含朝向上述區域透射上述第2偏光的第2開口區域。
  12. 一種光學膜，藉由利用申請專利範圍第1項至第10項中任一項所述的曝光裝置曝光而製造。
  13. 如申請專利範圍第12項所述的光學膜，其中在與上述搬送方向正交的上述正交方向上，光學軸連續地變化。
TW102137414A 2012-10-26 2013-10-17 曝光裝置、罩幕以及光學膜 TWI541574B (zh)

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