KR101945068B1

KR101945068B1 - 패턴 위상차 필름의 제조 방법, 패턴 위상차 필름 및 화상 표시 장치

Info

Publication number: KR101945068B1
Application number: KR1020137033495A
Authority: KR
Inventors: 히로유키 니시무라; 요시히데 나카오; 도모야 가와시마; 가즈키 야마다; 게이지 가시마
Original assignee: 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
Priority date: 2011-08-31
Filing date: 2012-08-29
Publication date: 2019-02-01
Also published as: CN103748489B; WO2013031802A1; KR20140067979A; JPWO2013031802A1; TWI561860B; JP5827335B2; CN103748489A; TW201329533A; US20140199528A1; US9217925B2

Abstract

패시브 방식에 의한 3차원 화상 표시에 적용하는 패턴 위상차 필름에 관하여, 높은 정밀도에 의해 간이하게 또한 대량으로 제작할 수 있는 패턴 위상차 필름의 제조 방법을 제공한다. 노광 처리하는 영역 폭에 비해 슬릿을 협폭으로 하여, 노광 처리에 제공하는 마스크(16)를 제작한다.

Description

패턴 위상차 필름의 제조 방법, 패턴 위상차 필름 및 화상 표시 장치{METHOD FOR PRODUCING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM, PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM, AND IMAGE DISPLAY DEVICE}

본 발명은, 패시브 방식에 의한 3차원 화상 표시에 적용하는 패턴 위상차 필름의 제조 방법 등에 관한 것이다.

플랫 패널 디스플레이는, 종래, 2차원 표시의 것이 주류이었다. 그러나, 최근, 3차원 표시 가능한 플랫 패널 디스플레이가 주목을 끌고 있으며, 일부 시판도 되고 있다. 그리고 금후의 플랫 패널 디스플레이는 3차원 표시 가능한 것이 당연히 요구되는 경향이 있고, 3차원 표시 가능한 플랫 패널 디스플레이의 검토가 폭넓은 분야에 있어서 진행되고 있다.

플랫 패널 디스플레이에 있어서 3차원 표시를 하기 위해서는, 통상, 어떠한 방식으로 우안용의 영상과, 좌안용의 영상을, 각각 선택적으로 시청자의 우안 및 좌안에 제공하는 것이 필요하다. 우안용의 영상과 좌안용의 영상을 선택적으로 제공하는 방법으로서는, 예를 들면, 패시브 방식이 알려져 있다. 이 패시브 방식의 3차원 표시 방식에 대하여 도면을 참조하면서 설명한다. 도 14는 액정 표시 패널을 사용한 패시브 방식의 3차원 표시의 일례를 도시하는 개략도이다. 이 도 14의 예에서는, 수직 방향으로 연속하는 액정 표시 패널의 화소를, 순차적으로 교대로, 우안용 및 좌안용으로 할당하고, 각각 우안용 및 좌안용의 화상 데이터에 의해 구동하고, 이에 의해 우안용의 영상과 좌안용의 영상을 동시에 표시한다. 또한 액정 표시 패널의 패널면에 패턴 위상차 필름을 배치하고, 우안용 및 좌안용의 화소로부터의 직선 편광에 의한 출사광을, 우안용 및 좌안용에서 방향이 상이한 원편광으로 변환한다. 이에 의해 패시브 방식에서는, 대응하는 편광 필터를 구비하여 이루어지는 안경을 장착하여, 우안용의 영상과 좌안용의 영상을 각각 선택적으로 시청자의 우안 및 좌안에 제공한다.

이 패시브 방식은, 응답 속도가 낮은 액정 표시 장치에서도 적용할 수 있고, 또한 패턴 위상차 필름과 원편광 안경을 사용한 간이한 구성으로 3차원 표시할 수 있다. 이와 같은 것으로부터, 패시브 방식의 액정 표시 장치는 금후의 표시 장치의 중심적 존재로 되는 것으로서 매우 주목받고 있다.

그런데 패시브 방식에 관한 패턴 위상차 필름은, 화소의 할당에 대응하여 투과광에 위상차를 부여하는 패턴 형상의 위상차층이 필요하다. 이 패턴 위상차 필름은, 아직 넓게 연구, 개발이 행해지고 있지 않고, 표준적인 기술로서도 확립되어 있는 것이 없는 것이 현 상황이다.

이 패턴 위상차 필름에 관하여, 특허 문헌 1에는, 배향 규제력을 제어한 광 배향막을 유리 기판 상에 형성하고, 이 광 배향막에 의해 액정의 배열을 패터닝하는 제작 방법이 개시되어 있다. 그러나 이 특허 문헌 1에 개시된 방법은, 유리 기판을 사용하는 것이 필요하기 때문에, 패턴 위상차 필름이 고가로 되어, 대면적의 것을 대량 생산하기 어려운 문제가 있다.

또한 패턴 위상차 필름에 관하여, 특허 문헌 2에는, 레이저의 조사에 의해 롤판의 주위에 미세한 요철 형상을 형성하고, 이 요철 형상을 전사하여 패턴 형상으로 배향 규제력을 제어한 광 배향막을 제작하는 방법이 개시되어 있다. 이 특허 문헌 2에 개시된 방법에서는, 레이저의 주사에 의해 롤판의 전체 둘레에 빠짐없이 레이저를 조사하는 것이 필요하다. 따라서 롤판의 제작에 시간을 필요로 하는 문제가 있다. 또한 고가의 레이저 가공 장치를 사용해야 하는 문제도 있다.

일본 특허 공개 제2005-49865호 공보 일본 특허 공개 제2010-152296호 공보

본 발명은 이와 같은 상황을 감안하여 이루어진 것이며, 패시브 방식에 의한 3차원 화상 표시에 적용하는 패턴 위상차 필름에 관하여, 높은 정밀도에 의해 간이하게 또한 대량으로 제작할 수 있는 패턴 위상차 필름의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 연구를 거듭하여, 노광 처리하는 영역 폭에 비해 슬릿 폭을 협폭으로 하여, 노광 처리에 제공하는 마스크를 제작한다라는 착상에 이르러, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.

(1) 긴 길이를 갖는 투명 필름재를 반송하면서 순차적으로 처리하여 패턴 위상차 필름을 제작하는 패턴 위상차 필름의 제조 방법으로서,

상기 투명 필름재에, 광 배향 재료막을 제작하는 광 배향 재료막 제작 공정과,

마스크를 사용한 상기 광 배향 재료막의 노광 처리에 의해, 광 배향의 방법을 적용하여 배향막을 제작하는 노광 공정과,

상기 배향막 위에, 우안용 투과광에 대응하는 위상차를 부여하는 우안용 영역과, 좌안용 투과광에 대응하는 위상차를 부여하는 좌안용 영역에 의한 위상차층을 제작하는 위상차층 제작 공정을 구비하고,

상기 노광 공정은,

1회째의 노광 처리에 있어서, 상기 마스크를 사용하여 상기 광 배향 재료막을 선택적으로 노광 처리한 후, 2회째의 노광 처리에 있어서, 전체면에 광을 조사하여, 상기 1회째의 노광 처리에서 미노광의 영역을 노광 처리함으로써,

상기 우안용 영역 또는 좌안용 영역에 대응하는 부위의, 상기 광 배향 재료막을 배향시킨 후, 상기 좌안용 영역 또는 우안용 영역에 대응하는 부위의, 상기 광 배향 재료막을 배향시켜 상기 배향막을 제작하고,

상기 마스크는,

1회째의 노광 처리에 제공하는 영역 폭에 비해 대응하는 슬릿이 협폭으로 제작된 것을 특징으로 하는 패턴 위상차 필름의 제조 방법.

(1)에서는, 긴 투명 필름재의 연속한 처리에 의해 패턴 위상차 필름을 제작할 수 있고, 이에 의해 간이하게 또한 대량으로 패턴 위상차 필름을 제작할 수 있다. 그러나 이와 같이 하면, 마스크를 대상물에 밀착시켜 노광 처리하는 것이 곤란해져, 연속한 노광 처리에 있어서의 정밀도가 열화되게 되지만, 1회째의 노광 처리에 제공하는 영역 폭에 비해 대응하는 슬릿이 협폭인 것에 의해, 우안용 영역 폭과 좌안용 영역 폭이 크게 상이하지 않도록 하여, 정밀도가 높은 패턴 위상차 필름을 제작할 수 있다.

(2) 긴 길이를 갖는 투명 필름재를 반송하면서 순차적으로 처리하여 패턴 위상차 필름을 제작하는 패턴 위상차 필름의 제조 방법으로서,

상기 노광 공정은,

1회째의 노광 처리에 있어서, 상기 광 배향 재료막의 전체면을 노광 처리한 후, 2회째의 노광 처리에 있어서, 상기 마스크를 사용하여 상기 광 배향 재료막을 선택적으로 노광 처리함으로써,

상기 우안용 영역 및 좌안용 영역에 대응하는 부위의, 상기 광 배향 재료막을 배향시킨 후, 상기 우안용 영역 또는 좌안용 영역에 대응하는 부위의, 상기 광 배향 재료막을 다시 배향하여 상기 배향막을 제작하고,

상기 마스크는,

2회째의 노광 처리에 제공하는 영역 폭에 비해 대응하는 슬릿이 협폭으로 제작된 것을 특징으로 하는 패턴 위상차 필름의 제조 방법.

(2)에 의하면, 긴 투명 필름재의 연속한 처리에 의해 패턴 위상차 필름을 제작할 수 있고, 이에 의해 간이하게 또한 대량으로 패턴 위상차 필름을 제작할 수 있다. 그러나 이와 같이 하면, 마스크를 대상물에 밀착시켜 노광 처리하는 것이 곤란해져, 연속한 노광 처리에 있어서의 정밀도가 열화되게 되지만, 2회째의 노광 처리에 제공하는 영역 폭에 비해 대응하는 슬릿이 협폭인 것에 의해, 우안용 영역 폭과 좌안용 영역 폭이 크게 상이하지 않도록 하여, 정밀도가 높은 패턴 위상차 필름을 제작할 수 있다.

(3) 긴 길이를 갖는 투명 필름재를 반송하면서 순차적으로 처리하여 패턴 위상차 필름을 제작하는 패턴 위상차 필름의 제조 방법으로서,

상기 노광 공정은,

1회째의 노광 처리에 있어서, 마스크를 사용한 노광 처리에 의해, 상기 우안용 영역 또는 좌안용 영역에 대응하는 부위의, 상기 광 배향 재료막을 배향시킨 후,

2회째의 노광 처리에 있어서, 마스크를 사용한 노광 처리에 의해, 상기 좌안용 영역 또는 우안용 영역에 대응하는 부위의, 상기 광 배향 재료막을 배향시킴으로써,

상기 배향막을 제작하고,

상기 광 배향 재료막이, 일단 배향한 후에는, 노광 처리에 의해서는 배향이 변화하지 않는 광 배향 재료에 의해 제작되고,

상기 1회째의 노광 처리에 제공하는 마스크는,

노광 처리에 제공하는 영역 폭에 비해 대응하는 슬릿이 협폭으로 제작된 것을 특징으로 하는 패턴 위상차 필름의 제조 방법.

(3)에 의하면, 긴 투명 필름재의 연속한 처리에 의해 패턴 위상차 필름을 제작할 수 있고, 이에 의해 간이하게 또한 대량으로 패턴 위상차 필름을 제작할 수 있다. 그러나 이와 같이 하면, 마스크를 대상물에 밀착시켜 노광 처리하는 것이 곤란해져, 연속한 노광 처리에 있어서의 정밀도가 열화되게 되지만, 연속하는 노광 처리 중의, 1회째의 노광 처리에 제공하는 영역 폭에 비해 대응하는 슬릿이 협폭인 것에 의해, 우안용 영역 폭과 좌안용 영역 폭이 크게 상이하지 않도록 하여, 정밀도가 높은 패턴 위상차 필름을 제작할 수 있다.

(4) 긴 길이를 갖는 투명 필름재를 반송하면서 순차적으로 처리하여 패턴 위상차 필름을 제작하는 패턴 위상차 필름의 제조 방법으로서,

상기 노광 공정은,

상기 배향막을 제작하고,

상기 광 배향 재료막이, 반복의 노광 처리 시마다, 배향 방향이 변화되는 광 배향 재료에 의해 제작되고,

상기 2회째의 노광 처리에 제공하는 마스크는,

(4)에 의하면, 긴 투명 필름재의 연속한 처리에 의해 패턴 위상차 필름을 제작할 수 있고, 이에 의해 간이하게 또한 대량으로 패턴 위상차 필름을 제작할 수 있다. 그러나 이와 같이 하면, 마스크를 대상물에 밀착시켜 노광 처리하는 것이 곤란해져, 연속한 노광 처리에 있어서의 정밀도가 열화되게 되지만, 연속하는 노광 처리 중의, 2회째의 노광 처리에 제공하는 영역 폭에 비해 대응하는 슬릿은 협폭인 것에 의해, 우안용 영역 폭과 좌안용 영역 폭이 크게 상이하지 않도록 하여, 정밀도가 높은 패턴 위상차 필름을 제작할 수 있다.

(5) 투명 필름재에 의한 기재 위에 광 배향막, 위상차층이 순차적으로 형성되고, 상기 위상차층에 의해 투과광에 위상차를 부여하는 패턴 위상차 필름으로서,

상기 위상차층에, 투과광에 제1 및 제2 위상차를 각각 부여하는 제1 및 제2 영역이 순차적으로 교대로 형성되고,

상기 제1 및 제2 영역의 경계에 미배향 영역이 형성된 패턴 위상차 필름.

(5)에 의하면, 미배향 영역에 의해 다른 부위에 비해 밝기가 상이한 띠 형상 영역의 발생을 유효하게 피할 수 있다.

(6) (5)에 있어서,

상기 미배향 영역은 폭이 9㎛ 이상 25㎛ 이하이다.

(6)에 의하면, 실용상 충분히, 다른 부위에 비해 밝기가 상이한 띠 형상 영역의 발생을 방지할 수 있다.

(7) (5) 또는 (6)에 기재된 패턴 위상차 필름을 화상 표시 패널의 표측면에 배치하여 화상 표시 장치를 구성한다.

(7)에 의하면, 다른 부위에 비해 밝기가 상이한 띠 형상 영역의 발생을 유효하게 피하여 이루어지는, 패시브 방식에 의한 3차원 표시 가능한 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.

(8) (1) 또는 (2)에 있어서,

상기 노광 공정에 있어서, 상기 마스크와 상기 광 배향 재료막의 간격이 150㎛ 이상, 650㎛ 이하로 설정된다.

(8)에 의하면, (1) 또는 (2)의 제조 방법에 있어서, 상기 마스크와 상기 광 배향 재료막의 간격의 설정에 의해, 실용상 충분히 다른 부위에 비해 밝기가 상이한 띠 형상 영역의 발생을 방지 가능하게 패턴 위상차 필름을 제조할 수 있다.

(9) (3) 또는 (4)에 있어서,

상기 노광 공정에 있어서, 1회째 및 또는 제2회째의 노광 처리에 제공하는 마스크와 상기 광 배향 재료막의 간격이 150㎛ 이상, 650㎛ 이하로 설정된다.

(9)에 의하면, (3) 또는 (4)의 제조 방법에 있어서, 상기 마스크와 상기 광 배향 재료막의 간격의 설정에 의해, 실용상 충분히 다른 부위에 비해 밝기가 상이한 띠 형상 영역의 발생을 방지 가능하게 패턴 위상차 필름을 제조할 수 있다.

높은 정밀도에 의해 간이하게 또한 대량으로 패턴 위상차 필름을 제작할 수 있다.

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 패턴 위상차 필름을 도시하는 도면이다.
도 2는 도 1의 패턴 위상차 필름의 제조 공정을 도시하는 흐름도이다.
도 3은 도 2의 노광 공정의 설명에 제공하는 도면이다.
도 4는 도 2의 노광 공정에 사용하는 마스크를 도시하는 도면이다.
도 5는 마스크의 보정 결과의 설명에 제공하는 도면이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 노광 공정의 설명에 제공하는 도면이다.
도 7은 본 발명의 제3 실시 형태에 관한 노광 공정의 설명에 제공하는 도면이다.
도 8은 본 발명의 제5 실시 형태에 관한 노광 공정의 설명에 제공하는 도면이다.
도 9는 미배향 영역의 설명에 제공하는 도면이다.
도 10은 띠 형상 영역의 설명에 제공하는 도면이다.
도 11은 도 8의 패턴 위상차 필름에 관한 노광 공정의 설명에 제공하는 도면이다.
도 12는 본 발명의 제6 실시 형태에 관한 노광 공정의 설명에 제공하는 도면이다.
도 13은 본 발명의 제7 실시 형태에 관한 노광 공정의 설명에 제공하는 도면이다.
도 14는 패시브 방식에 의한 3차원 화상 표시의 설명에 제공하는 도면이다.

〔제1 실시 형태〕

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 패턴 위상차 필름을 도시하는 도면이다. 패턴 위상차 필름(1)은, 투명 필름재에 의한 기재(2)에 배향막(3), 위상차층(4)이 순차적으로 제작된다. 패턴 위상차 필름(1)은, 위상차층(4)이 액정 재료에 의해 형성되고, 이 액정 재료의 배향을 배향막(3)의 배향 규제력에 의해 패터닝한다. 또한 이 액정 분자의 배향을 도 1에서는 가늘고 긴 타원에 의해 나타낸다. 이 패터닝에 의해, 패턴 위상차 필름(1)은, 액정 표시 패널에 있어서의 화소의 할당에 대응하여, 일정한 폭에 의해, 우안용 영역 A와, 좌안용 영역 B가 순차적으로 교대로 띠 형상으로 형성되어, 우안용 및 좌안용의 화소로부터의 출사광에 각각 대응하는 위상차를 부여한다.

패턴 위상차 필름(1)은, 광 배향 재료에 의한 광 배향 재료막이 제작된 후, 소위 광 배향의 방법에 의해 이 광 배향 재료막에 직선 편광에 의한 자외선을 조사하여 배향막(3)이 형성된다. 여기에서 이 광 배향 재료막에 조사하는 자외선은, 그 편광의 방향이 우안용 영역 A와 좌안용 영역 B에서 90도 상이하도록 설정되고, 이에 의해 위상차층(4)에 설치되는 액정 재료에 관하여, 우안용 영역 A 및 좌안용 영역 B에서 대응하는 방향으로 액정 분자를 배향시켜, 투과광에 대응하는 위상차를 부여한다.

도 2는, 이 패턴 위상차 필름(1)의 제조 공정을 도시하는 흐름도이다. 패턴 위상차 필름(1)의 제조 공정은, 롤에 권취한 긴 필름에 의해 기재(2)가 제공되고, 이 기재(2)를 롤로부터 송출하여 광 배향 재료막이 순차적으로 제작된다(스텝 SP1-SP2). 여기서 광 배향 재료막은, 각종 제조 방법을 적용할 수 있지만, 이 실시 형태에서는, 광 배향 재료를 벤젠 등의 용매에 분산시킨 성막용 액체를 다이에 의해 도포한 후, 건조하여 제작된다. 또한 광 배향 재료는, 광 배향의 방법을 적용 가능한 각종 재료를 적용할 수 있지만, 이 실시 형태에서는, 일단 배향한 후에는, 자외선의 조사에 의해 배향이 변화하지 않는, 예를 들면 광2량화형 재료를 사용한다. 또한 이 광2량화형 재료에 대해서는, 「M. Schadt, K. Schmitt, V. Kozinkov and V. Chigrinov : Jpn. J. Appl. Phys., 31, 2155(1992)」, 「M. Schadt, H. Seiberle and A. Schuster : Nature, 381, 212(1996)」 등에 개시되어 있고, 예를 들면 「ROP-103」의 상품명에 의해 이미 시판되고 있다. 또한 기재(2)에는, 예를 들면 트리아세틸셀룰로오스가 적용된다.

계속해서 이 제조 공정은, 노광 공정에 의해 자외선을 조사하여 광 배향막이 제작된다(스텝 SP3). 계속해서 이 제조 공정은, 위상차층 제작 공정에 있어서, 다이 등에 의해 액정 재료를 도포한 후, 자외선의 조사에 의해 이 액정 재료를 경화시켜, 위상차층(4)이 제작된다(스텝 SP4). 계속해서 이 제조 공정은, 필요에 따라서 반사 방지막의 제작 처리 등을 실행한 후, 절단 공정에 있어서, 원하는 크기로 잘라내어 패턴 위상차 필름(1)이 제작된다(스텝 SP5-SP6).

도 3은 이 노광 공정의 상세를 도시하는 도면이다. 이 제조 공정은, 우안용 영역 A 또는 좌안용 영역 B에 대응하는 부위를 차광한 마스크(16)를 개재하여, 직선 편광에 의한 자외선(편광 자외선)을 조사함으로써, 차광되지 않은 측의, 좌안용 영역 B 또는 우안용 영역 A에 대하여, 광 배향 재료막을 원하는 방향으로 배향시킨다(도 3의 (A)). 이에 의해 이 제조 공정은, 1회째의 노광 처리를 실행한다. 계속해서 이 제조 공정은, 1회째의 노광 처리와는 편광 방향이 90도 상이한 직선 편광에 의해 자외선을 전체면에 조사하여, 1회째의 노광 처리에서 미노광의, 우안용 영역 A 또는 좌안용 영역 B에 대하여, 광 배향 재료막을 원하는 방향으로 배향시킨다(도 3의 (B)). 이것에 의해 이 제조 공정에서는, 2회의 노광 처리에 의해, 우안용 영역 A와 좌안용 영역 B를 순차적으로 노광 처리하여 배향막(3)을 제작한다.

도 4는 1회째의 노광 처리에 제공하는 마스크를 도시하는 평면도이다. 마스크(16)는, 긴 길이를 갖는 기재(2)의 폭에 의해 형성되고, 이 기재(2)의 반송 방향으로 연장되는 가늘고 긴 직사각형의 형상에 의한 슬릿이 일정한 간격으로 순차적으로 형성된다. 이에 의해 이 제조 공정에서는, 이 슬릿의 아래를 기재(2)가 반송되고 있는 기간 동안, 광원으로부터의 광을 기재(2)에 조사하여, 1회째의 노광 처리를 실행한다.

이와 같이 패턴 위상차 필름(1)에서는, 노광 공정에 의한 자외선의 조사에 의해 배향막(3)을 제작하고, 이 배향막(3)의 배향 규제력에 의해 위상차층(4)을 패터닝함으로써, 우안용 영역 A 및 좌안용 영역 B에 대응하도록, 고정밀도로 노광 처리하는 것이 필요하다. 패시브 방식에서는, 일반적으로, 액정 표시 패널에 형성된 수직 방향으로 연속하는 화소가 순차적으로 교대로 우안용 및 좌안용으로 할당됨으로써, 패턴 위상차 필름(1)에 있어서, 우안용 영역 A 및 좌안용 영역 B의 영역 폭은, 동등해지도록, 또한 실장이 예정되는 액정 표시 패널의 화소 피치로 되도록 설정된다.

그러나 연속한 긴 필름의 노광 처리에서는, 마스크(16)를 기재(2)에 밀착시켜 노광 처리하는 것이 곤란하고, 노광에 제공하는 광도 완전히 평행 광선으로 설정할 수 없다. 이에 의해 제조 공정에서는, 1회째의 노광 처리에 있어서, 노광 처리되는 영역 폭이, 마스크(16)에 형성된 슬릿 폭보다 커지는 것을 알 수 있었다. 이와 같이 1회째의 노광 처리에서 노광 처리되는 영역 폭이 광폭으로 되면, 예를 들면 우안용 영역 폭과 좌안용 영역 폭에 대응하는 슬릿 폭 WB, 슬릿 간의 차광 영역 폭 WA(도 4 참조)를 동등한 폭에 의해 제작하고 있는 경우에는, 패턴 위상차 필름(1)에 있어서, 우안용 영역 A와 좌안용 영역 B에서 영역 폭이 상이하게 된다.

또한 패턴 위상차 필름(1)의 제조 공정에서는, 광폭의 기재(2)를 노광 처리하는 것이 필요한 것에 대하여, 이 기재(2)의 폭에 대응하는 크기로는 출사광량이 충분히 균일한 광원을 확보하는 것은 어렵고, 이에 의해 우안용 영역 A와 좌안용 영역 B의 영역 폭이 폭 방향에서 변동한다. 그 결과, 우안용 영역 A와 좌안용 영역 B의 영역 폭의 차 (A-B)가, 패턴 위상차 필름(1)의 각 부에서 변화하여, 액정 표시 패널에 실장하였을 때에, 이 영역 폭의 차 (A-B)가 큰 부위에서, 이 영역 폭의 차 (A-B)가, 가로 줄무늬로서 인지되어, 화질이 열화되는 것을 알 수 있었다.

따라서 이 실시 형태에서는, 영역 폭의 차 (A-B)가 저하되도록, 노광 처리하는 영역 폭에 비해 슬릿 폭을 협폭으로 설정하여 1회째의 노광 처리에 제공하는 마스크(16)를 제작하고, 이에 의해 패턴 위상차 필름(1)의 정밀도를 향상시켜, 가로 줄무늬의 발생을 방지한다.

즉 이 제조 공정에서는, 1회째의 노광 처리에서 우안용 영역 A 또는 좌안용 영역 B를 선택적으로 노광 처리하고, 2회째의 노광 처리에서 이 1회째의 노광 처리에서 미노광의 영역을 노광 처리하고 있음으로써, 이 1회째의 노광 처리에서 노광한 각 영역과 미노광의 각 영역의 폭의 차가, 패턴 위상차 필름(1)에 있어서의 영역 폭의 차 (A-B)로 된다. 따라서 이 영역 폭의 차를 실측에 의해 계측하고, 이 계측값에 의해 마스크(16)에 있어서의 슬릿 폭을 보정하여 마스크(16)를 제작한다. 구체적으로, 이 실시 형태에서는, 계측용의 패턴 위상차 필름(1)을 제작하여 연속하는 각 영역 A 또는 B의 폭을 계측하고, 이 계측값을 평균값화하여 영역 A 또는 B의 폭을 계산한다. 또한 이 계산한 폭에 기초하여 노광 처리하는 영역 폭보다 슬릿 폭 WB를 좁게 하여 마스크(16)를 제작한다.

실측한 결과에 의하면, 1회째의 노광 처리에서 노광 처리되는 영역 폭은, 슬릿의 폭 WB보다 평균 7㎛만큼 크고, 이에 의해 패턴 위상차 필름(1)에서는, 평균 영역 폭의 차 (A-B)가 14㎛ 발생하고 있는 것을 알 수 있었다. 또한 이와 같은 연속한 영역의 폭의 평균값화 대신에, 예를 들면 소정 간격의 샘플링에 의한 측정값을 평균값화하여 계산해도 되고, 계측 방법에 있어서는, 실용상 충분한 계측 제도를 확보하는 것이 가능한 한, 다양한 방법을 적용할 수 있다. 이 계측 결과로부터, 이 실시 형태에서는, 슬릿의 폭 WB를, 목표로 하는 영역 A 또는 B의 폭보다 7㎛만큼 좁게 하여 마스크(16)를 제작하였다.

도 5는 이 결과를 도시하는 도면이다. 차광하는 부위와 차광하지 않는 부위의 폭을 동등하게 하여 마스크(16)를 제작한 경우, 도 5의 (A)에 도시한 바와 같이, 설계 목표(0㎜로 나타냄)에 대하여 1회째의 노광 처리에서 노광하는 영역 폭이 한 방향으로 치우치고, 이에 의해 영역 폭의 차가 커져 있는 것을 알 수 있다. 그러나 마스크(16)를 보정한 경우에는(도 5의 (B)), 1회째에서 노광 처리되는 영역 폭이, 설계 목표(0㎜로 나타냄)를 중심으로 하여 변동하고, 이에 의해 전혀 보정하지 않은 경우에 비해, 영역 폭의 차가 전체적으로 저하되어, 현저하게 패턴 위상차 필름(1)의 정밀도가 향상되어 있는 것을 알 수 있다.

이 실시 형태에 의하면, 마스크를 사용하여 노광 처리한 후, 전체면을 노광하여 배향막을 제작하는 경우에, 마스크에 있어서의 슬릿의 폭을, 노광하는 영역의 폭보다 협폭으로 함으로써, 높은 정밀도로 패턴 위상차 필름을 제작할 수 있다. 또한 이 경우 연속한 긴 투명 필름의 처리에 의해, 간이하게 대량 생산할 수 있다.

〔제2 실시 형태〕

도 6은 도 3과의 대비에 의해 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 노광 공정의 설명에 제공하는 도면이다. 이 실시 형태에 관한 패턴 위상차 필름의 제조 공정은, 이 노광 공정에 관한 구성이 상이한 점을 제외하고, 제1 실시 형태와 동일하게 구성된다.

여기에서 이 노광 공정에서는, 1회째의 노광 처리에 있어서, 직선 편광에 의한 자외선을 전체면에 조사한다(도 6의 (A)). 계속되는 2회째의 노광 처리에 있어서, 마스크(16)를 사용하여 직선 편광의 자외선을 조사하여, 우안용 영역 또는 좌안용 영역에 대응하는 부위를, 재차 다시 노광한다. 또한 이에 의해 이 실시 형태에서는, 제1 실시 형태와는 달리, 반복 노광 처리에 의해 배향 방향이 그때마다 변화하는 재료가 광 배향 재료에 적용된다. 이와 같은 재료로서는, 예를 들면 광 이성화 반응형 광 배향 재료를 사용할 수 있다. 또한 광 이성화에 관해서는, 「W. M. Gibbons, P. J. Shannon, S. T. Sun and B. J. Swetlin : Nature, 351, 49(1991)」에서 보고되어 있다.

이에 의해 이 실시 형태에서는, 2회째의 노광 처리에서 제작되는 영역이, 마스크(16)의 슬릿 폭에 비해 광폭으로 제작되게 된다. 따라서 이 실시 형태에서는, 사전의 계측 결과에 기초하여, 이 마스크(16)의 슬릿이, 목적으로 하는 영역 폭에 비해 협폭으로 제작된다.

이 실시 형태에서는, 2회째의 노광 처리에서 마스크에 의해 패터닝하는 경우라도, 마스크의 슬릿을 협폭으로 함으로써, 제1 실시 형태와 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.

〔제3 실시 형태〕

도 7은 도 3 및 도 6과의 대비에 의해 본 발명의 제3 실시 형태에 관한 노광 공정의 설명에 제공하는 도면이다. 이 실시 형태에 관한 패턴 위상차 필름의 제조 공정은, 이 노광 공정에 관한 구성이 상이한 점을 제외하고, 제1 실시 형태와 동일하게 구성된다.

여기에서 이 노광 공정에서는, 일단 배향한 후에는, 자외선의 조사에 의해 배향이 변화하지 않는 재료가 광 배향 재료에 적용된다. 이것에 대응하여 노광 공정은, 1회째의 노광 처리에 있어서, 마스크(16A)를 사용하여, 우안용 영역 또는 좌안용 영역에 대응하는 부위를 선택적으로 노광한 후(도 7의 (A)), 2회째의 노광 처리에 있어서, 마스크(16B)를 사용하여, 나머지 영역에 대응하는 부위를 노광한다. 이에 의해 이 실시 형태에서는, 제1 노광 처리에 사용하는 마스크(16A)에 있어서, 슬릿 폭에 비해 광폭의 영역이 노광 처리되게 된다. 또한 2회째의 노광 처리에서는, 1회째의 노광 처리에 있어서, 미노광이며, 또한 마스크(16B)에 의해 차광되지 않는 부위가 노광 처리되게 된다. 따라서 1회째의 노광 처리에 있어서의 정밀도를 확보함으로써, 패턴 위상차 필름의 정밀도를 향상시킬 수 있고, 제2 노광 처리에 있어서의 마스크(16B)에 있어서는, 위치 결정 오차 등을 고려하여 완화된 치수 정밀도로 제작하게 된다.

따라서 이 실시 형태에서는, 사전의 계측 결과에 기초하여, 이 1회째의 노광 처리에 제공하는 마스크(16A)의 슬릿이, 목적으로 하는 영역 폭보다 협폭으로 제작된다.

이 실시 형태에서는, 각각 마스크를 사용하여 노광 처리를 반복하는 경우라도, 1회째의 노광 처리에 제공하는 마스크에 있어서, 목적으로 하는 영역 폭에 비해 슬릿 폭을 협폭으로 함으로써, 제1 실시 형태, 제2 실시 형태와 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.

〔제4 실시 형태〕

이 실시 형태에서는, 제2 실시 형태에 대하여 상술한 것과 마찬가지로, 반복 노광 처리에 의해 그때마다 배향 방향이 변화하는 재료가 광 배향 재료에 적용된다. 이 실시 형태에서는, 이 광 배향 재료를 적용하여, 제3 실시 형태와 마찬가지로, 반복하여 마스크(16A, 16B)를 사용하여 노광 처리하여, 배향막이 제작된다. 또한 이 실시 형태에서는, 도 7을 유용하여 구성을 설명한다.

따라서 이 실시 형태에서는, 1회째의 노광 처리에 제공하는 마스크(16A)는, 그다지, 정밀도를 필요로 하지 않는 것에 반해, 2회째의 노광 처리에 제공하는 마스크(16B)는 정밀도를 필요로 하게 된다. 따라서 이 실시 형태에서는, 이 2회째의 노광 처리에 제공하는 마스크(16B)에 있어서, 사전의 계측 결과에 기초하여, 목적으로 하는 영역 폭에 비해 슬릿 폭을 협폭으로 제작한다.

이 실시 형태에서는, 반복 노광 처리에 의해 그때마다 배향 방향이 변화하는 재료를 광 배향 재료에 적용하여, 마스크를 사용한 노광 처리를 반복하는 경우라도, 2회째의 노광 처리에 제공하는 마스크에 있어서, 목적으로 하는 영역 폭에 비해 슬릿 폭을 협폭으로 함으로써, 제1 실시 형태, 제2 실시 형태, 제3 실시 형태와 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.

〔제5 실시 형태〕

도 8은 도 1과의 대비에 의해 본 발명의 제5 실시 형태에 관한 패턴 위상차 필름을 도시하는 도면이다. 또한 이 도 8에 있어서, 도 1에 대하여 상술한 패턴 위상차 필름(1)과 동일한 구성은, 대응하는 부호를 붙여서 나타내고, 중복된 설명은 생략한다.

여기에서 이 실시 형태에 관한 화상 표시 장치는, 수직 방향(도 8에 있어서는 좌우 방향이 대응하는 방향임)으로 연속하는 액정 표시 패널의 화소가, 순차적으로 교대로, 우안용의 화상을 표시하는 우안용 화소, 좌안용의 화상을 표시하는 좌안용 화소로 분류되고, 각각 우안용 및 좌안용의 화상 데이터에 의해 구동된다. 이에 의해 화상 표시 장치는, 우안용의 화상을 표시하는 띠 형상의 영역과, 좌안용의 화상을 표시하는 띠 형상의 영역에 표시 화면이 교대로 구분되어, 우안용의 화상과 좌안용의 화상을 동시에 표시한다. 이 화상 표시 장치는, 이 액정 표시 패널의 패널면에, 이 도 8에 도시한 패턴 위상차 필름(21)이 배치되고, 이 패턴 위상차 필름(21)에 의해 우안용 및 좌안용의 화소로부터의 출사광에 각각 대응하는 위상차를 부여한다. 이에 의해 이 화상 표시 장치는, 패시브 방식에 의해 원하는 입체 화상을 표시한다.

패턴 위상차 필름(21)은, 우안용 및 좌안용에 대응하는 투과광에 각각 대응하는 제1 및 제2 위상차를 부여하는 제1 및 제2 영역 A 및 B가 순차적으로 교대로 형성되고, 이 제1 및 제2 영역 A 및 B의 경계에, 미배향 영역 C가 형성된다. 여기서 미배향 영역은, 위상차층(4)에 있어서의 지상축 방향이 없는 영역, 또는 지상축 방향이 랜덤인 영역이고, 그 광학 특성이 제1 및 제2 영역 중 어느 것에도 속하지 않는 영역이다.

여기서 도 9는 이 미배향 영역 C에 관한 광학 특성의 설명에 제공하는 특성 곡선도이다. 이 도 9는, 경계를 가로지르는 방향으로 패턴 위상차 필름(21)의 배향각(또는 광축)을 측정한 것이며, 횡축의 pixel은, 측정에 제공한 촬상 장치의 화소를 단위로 한 좌표를 나타내는 것이다. 패턴 위상차 필름(21)의 각 부에 있어서의 광축의 방향을 관찰하면, 영역 A 및 B에서는 배향각이 영역 A 또는 B의 연장 방향에 대하여 경사 45도의 각도를 이루는 것에 반해, 경계에서는, 영역 A로부터 영역 B를 향함에 따라서 급격하게 배향각이 변화하고 있는 것이 확인되었다.

이 미배향 영역 C에 의해 패턴 위상차 필름(21)에서는, 다른 부위에 비해 밝기가 상이한 띠 형상 영역 OB의 발생을 방지할 수 있다.

즉 패턴 위상차 필름을 화상 표시 패널에 배치하여 백색 화면을 표시한 바, 도 10에 도시한 바와 같이, 마치 무아레 줄무늬와 같이, 다른 부위에 비해 밝기가 상이한 띠 형상 영역 OB가 발생하여, 현저하게 화질이 손상되는 경우가 있었다.

이 띠 형상 영역 OB는, 보는 방향을 변화시키면 그 형상이 변화하는 것이었다. 여기서 화상 표시 패널에서는, 매트릭스 형상으로 화소가 배치되고, 화소간에는 소위 블랙 매트릭스에 의한 차광부가 형성된다. 이에 대하여 패턴 위상차 필름에 있어서는, 위상차층에 우안용 영역과 좌안용 영역이 교대로 형성되고, 이 우안용 및 좌안용 영역 간의 경계가, 화상 표시 패널의 차광부와 중첩되도록 배치된다. 그러나 패턴 위상차 필름에서는, 우안용 영역 및 좌안용 영역의 반복 피치가, 차광부의 반복 피치와 미묘하게 상이한 경우 등에 있어서, 영역 간의 경계가 차광부에 완전히 중첩되지 않는 부위도 발생하는 경우가 있다. 이에 의해 우안용 영역 및 좌안용 영역의 제작 주기와, 화상 표시 패널에 있어서의 차광부의 제작 주기의 규칙성에 의해 띠 형상 영역 OB가 관찰된다고 생각된다.

이에 대하여 미배향 영역 C는, 이 실시 형태에 있어서, 마스크를 사용한 1회째의 노광 처리에 있어서, 불충분한 광량에 의해 노광 처리된 후, 2회째의 노광 처리에 제공된 영역이며, 그 결과, 경계의 연장 방향에 대하여 사행하도록 제작된다. 패턴 위상차 필름(21)은, 이에 의해 제1 및 제2 영역의 경계가 사행하도록 형성되고, 그 결과, 우안용 영역 및 좌안용 영역의 제작 주기와, 화상 표시 패널에 있어서의 차광부의 제작 주기의 규칙성에 기인하는 띠 형상 영역 OB의 발생을 방지할 수 있다고 생각된다.

또한 이 미배향 영역 C는, 지나치게 광폭인 경우, 우안용 화상과 좌안용 화상 사이에서 소위 크로스 토크를 발생시켜, 화질을 현저하게 열화시킨다. 그러나 이 영역 폭이 극단적으로 작으면, 우안용 영역 A 및 좌안용 영역 B 간의 경계를 충분히 사행시키는 것이 곤란해지고, 이에 의해 간섭 줄무늬의 발생을 유효하게 피하는 것이 곤란해진다. 이에 의해 미배향 영역 C는, 폭이 9㎛ 이상, 25㎛ 이하에 의해 제작하여, 실용상 충분히 간섭 줄무늬의 발생을 방지할 수 있다. 덧붙여서, 미배향 영역 C를 폭 9㎛ 이상, 25㎛ 이하에 의해 제작하는 경우, 미배향 영역의 폭 방향의 중심에 의해 계측되는 사행은, 진폭이 1㎛ 이상, 50㎛ 이하이었다.

또한 이 미배향 영역 C의 폭은, 직교 니콜 배치에 의한 편광 필터 간에 패턴 위상차 필름(21)을 배치하여 투과광의 광량을 계측하여 측정할 수 있다. 이 직교 니콜 배치에 관한 편광 필터의 투과축에 대하여, 영역 A 및 B의 연장 방향이 경사 45도로 되도록 패턴 위상차 필름(21)을 비스듬히 배치하면, 우안용 영역 A 및 좌안용 영역 B에서는, 거의 투과광을 검출할 수 없게 된다. 이에 대하여 미배향 영역 C에서는, 투과광이 검출된다. 이에 의해 경계를 가로지르는 방향으로 투과광량을 계측하면, 미배향 영역 C의 부위에서 투과광량이 상승되게 된다. 이에 의해 미배향 영역 C는, 이 투과광량이 상승되는 부위의 계측에 의해, 보다 구체적으로는, 경계를 가로지르는 방향으로 주사하여 투과광량의 피크값을 계측하고, 이 피크값의 예를 들면 5％ 내지 10％를 판정 기준값으로 설정하여 판정 기준값 이상으로 투과광량이 상승되는 부위의 폭을 계측함으로써, 영역 폭을 계측할 수 있다.

도 11은, 도 3과의 대비에 의해, 이 실시 형태에 관한 미배향 영역 C의 설정의 설명에 제공하는 도면이다. 이 실시 형태에서는, 제1 실시 형태에 대하여 상술한 것과 마찬가지로, 마스크(16)를 사용하여 제1회째의 노광 처리를 실행한 후(도 11의 (a)), 제2회째의 노광 처리에서 전체면을 노광하여 광 배향막(3)을 제작한다(도 11의 (b)). 또한 이 제1회째의 노광 처리에 제공하는 마스크(18)와 광 배향 재료막의 간격 D의 설정에 의해, 미배향 영역 C를 상술한 폭에 의해 제작한다. 또한 여기에서 이 간격 D는, 마스크(16)에 있어서, 실제로 투과광의 제어에 관련되는 부위로부터의 광 배향 재료막측까지의 거리이다. 따라서 예를 들면 마스크(16)가, 투명 부재에 크롬 등의 차광 부재를 패터닝하여 제작되어 있는 것이며, 이 투명 부재가 광 배향 재료막측으로 되도록 배치되어 있는 경우, 이 차광 부재의 광 배향 재료막측으로부터의 거리(광학적 광로 길이)이다.

여기에서 이와 같이 일정한 거리 D만큼 이격하여 마스크(16)를 배치한 상태에서 1회째의 노광 처리를 실행하는 경우, 마스크(16)의 개구를 투과한 광이 발산함으로써, 제1 실시 형태에 대하여 상술한 바와 같이 마스크의 슬릿 폭에 비해 대응하는 영역 A 또는 B의 폭이 확대되게 된다. 따라서 목적으로 하는 영역 폭에 비해 슬릿 폭을 협폭으로 함으로써, 원하는 영역 폭에 의해 패턴 위상차 필름(21)을 제작할 수 있다.

그러나 이와 같이 확대한 영역의 외측의 부위에 있어서는, 영역 폭의 확대에는 제공하지 않은 것까지도, 1회째의 노광 처리에 있어서, 노광에 제공하는 광이 조사되는 부위가 발생한다. 이와 같은 부위에 있어서는, 위상차층에 대하여 충분한 배향 규제력을 발휘할 수 없지만, 2회째의 노광 처리에 의해서도, 이 2회째의 노광 처리에 대응하는 영역 B 또는 A에 관한 배향 규제력을 발휘할 수 없고, 이에 의해 이와 같은 부위에 의해 미배향 영역 C가 형성되는 것으로 판단된다.

다양하게 간격 D를 조정하여 검토한 경우, 이 간격 D를 150㎛로 설정하면, 미배향 영역 C를 폭 9㎛로 설정할 수 있고, 이 간격 D를 300㎛로 설정하면, 미배향 영역 C를 폭 15㎛로 설정할 수 있고, 또한 이 간격 D를 650㎛로 설정하면, 미배향 영역 C를 폭 25㎛로 설정할 수 있었다.

이 제5 실시 형태에 의하면, 위상차층에 있어서의 우안용 영역 및 좌안용 영역인 제1 및 제2 영역 A 및 B의 경계에, 광학 특성의 급격한 변화를 완화하는 미배향 영역 C를 형성함으로써, 슬릿 폭을 협폭으로 하여 노광 처리에 제공하는 마스크를 제작하는 구성을 유효하게 이용하여, 제1 및 제2 영역의 제작 주기와, 화상 표시 패널에 형성된 차광부의 제작 주기의 규칙성에 의한 다른 부위에 비해 밝기가 상이한 띠 형상 영역의 발생을 유효하게 피할 수 있다.

또한 이때 이 미배향 영역을 폭 9㎛ 이상, 25㎛ 이하에 의해 제작함으로써, 실용상 충분히, 다른 부위에 비해 밝기가 상이한 띠 형상 영역의 발생을 방지할 수 있다.

또한 마스크 노광 후, 전체면을 노광하여 광 배향막을 제작하도록 하여, 노광 공정에 있어서, 마스크와 광 배향 재료막의 간격을 150㎛ 이상, 650㎛ 이하로 설정함으로써, 패턴 위상차 필름의 생산에 사용되는 일반적인 노광 장치에 있어서, 실용상 충분히 다른 부위에 비해 밝기가 상이한 띠 형상 영역의 발생을 방지 가능하게 패턴 위상차 필름을 제조할 수 있다.

〔제6 실시 형태〕

도 12는 도 6과의 대비에 의해 본 발명의 제6 실시 형태에 관한 패턴 위상차 필름의 제조 공정의 설명에 제공하는 도면이다. 이 실시 형태에서는, 이 도 12에 관한 구성이 상이한 점을 제외하고, 상술한 제2, 제5 실시 형태와 동일하게 구성된다. 이 실시 형태에서는, 전체면을 노광 처리한 후(도 12의 (a)), 마스크(16)를 사용한 노광 처리에 의해 광 배향막(3)을 제작한다. 이 실시 형태에서는, 이 2회째의 노광 처리인, 마스크(16)를 사용한 노광 처리에 있어서, 마스크(16)로부터 광 배향 재료막과의 간격 D의 설정에 의해 상술한 것과 마찬가지로, 미배향 영역 C를 제작한다.

즉 이 경우, 전체면을 노광한 후, 마스크를 사용하여 다시 노광하도록 하여 광 배향막을 제작하는 것보다, 제2 실시 형태에 대하여 상술한 바와 같이, 2회째의 노광 처리에서 제작되는 영역이, 마스크(16)의 슬릿 폭에 비해 광폭으로 제작되게 된다. 따라서 마스크(16)의 슬릿 폭이, 목적으로 하는 영역 폭에 비해 협폭으로 제작된다. 이와 같이 전체면을 노광한 후, 마스크를 사용하여 다시 노광하는 경우라도, 미배향 영역 C를 제작할 수 있다.

또한 이 간격 D에 대해서도, 제5 실시 형태에 대하여 상술한 것과 마찬가지로, 150㎛ 이상, 650㎛ 이하로 설정함으로써, 미배향 영역을 폭 9㎛ 이상, 25㎛ 이하에 의해 제작한다.

이 실시 형태에 의하면, 전체면을 노광한 후, 마스크를 사용하여 다시 노광하도록 하여, 광 배향막을 제작하는 경우에서도, 미배향 영역을 형성함으로써, 제5 실시 형태와 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.

또한 이와 같이 전체면을 노광한 후, 마스크를 사용하여 다시 노광하도록 하여, 광 배향막을 제작하는 경우에서도, 노광 공정에 있어서, 마스크와 광 배향 재료막의 간격을 150㎛ 이상, 650㎛ 이하로 설정함으로써, 패턴 위상차 필름의 생산에 사용되는 일반적인 노광 장치에 있어서, 실용상 충분히 다른 부위에 비해 밝기가 상이한 띠 형상 영역의 발생을 방지 가능하게 패턴 위상차 필름을 제조할 수 있다.

〔제7 실시 형태〕

도 13은 도 7과의 대비에 의해 본 발명의 제7 실시 형태에 관한 패턴 위상차 필름의 제조 공정의 설명에 제공하는 도면이다. 이 실시 형태에서는, 이 도 13에 관한 구성이 상이한 점을 제외하고, 상술한 제3 내지 제5 실시 형태와 동일하게 구성된다. 이 실시 형태에서는, 제3 실시 형태, 또는 제4 실시 형태에 대하여 상술한 것과 마찬가지로, 마스크(16A)를 사용하여 1회째의 노광 처리를 실행한 후(도 13의 (a)), 마스크(16B)를 사용하여 2회째의 노광 처리를 실행하여(도 13의 (b)), 광 배향막(3)을 제작한다. 이 실시 형태에서는, 이 1회째의 노광 처리인, 마스크(16A)를 사용한 노광 처리, 2회째의 노광 처리인 마스크(16B)를 사용한 노광 처리 중 어느 한쪽, 또는 양쪽에 있어서, 마스크(16A) 및 또는 마스크(16B)로부터 광 배향 재료막과의 간격 D1, D2의 설정에 의해 상술한 것과 마찬가지로, 미배향 영역 C를 제작한다.

또한 이 간격 D1 및 또는 D2에 대해서도, 제5 실시 형태에 대하여 상술한 것과 마찬가지로, 150㎛ 이상, 650㎛ 이하로 설정함으로써, 미배향 영역을 폭 9㎛ 이상, 25㎛ 이하에 의해 제작한다.

이 실시 형태에 의하면, 마스크를 사용한 노광 처리의 반복에 의해 광 배향막을 제작하는 경우에서도, 미배향 영역을 형성함으로써, 제5 실시 형태와 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.

또한 이와 같이 마스크를 사용한 노광 처리의 반복에 의해 광 배향막을 제작하는 경우에서도, 마스크와 광 배향 재료막의 간격을 150㎛ 이상, 650㎛ 이하로 설정함으로써, 패턴 위상차 필름의 생산에 사용되는 일반적인 노광 장치에 있어서, 실용상 충분히 다른 부위에 비해 밝기가 상이한 띠 형상 영역의 발생을 방지 가능하게 패턴 위상차 필름을 제조할 수 있다.

〔다른 실시 형태〕

이상, 본 발명의 실시에 적합한 구체적인 구성을 상세하게 설명하였지만, 본 발명은, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서, 상술한 실시 형태를 다양하게 조합할 수 있어, 상술한 실시 형태의 구성을 다양하게 변경할 수 있다.

즉 상술한 실시 형태에서는, 광원으로부터의 노광에 제공하는 광을 완전하게는 평행 광선으로 설정할 수 없는 것을 전제로, 광 배향 재료막과 마스크를 일정한 간격만큼 이격하는 경우에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 광원으로부터의 광이 평행 광선인 경우에도 널리 적용할 수 있다.

또한 상술한 실시 형태에서는, 광 배향 재료막으로부터 마스크를 일정한 간격만큼 이격하여 노광 처리하는 경우에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 마스크를 밀착시켜 노광하는 경우에도 널리 적용할 수 있다. 또한 이 경우, 예를 들면 투명 수지 등에 의한 투명 기재의 표면에 크롬 등에 의해 차광부를 제작하여 마스크를 제작하고, 이 투명 기재를 광 배향 재료막측에 설정하여 광 배향 재료막에 밀착 노광하도록 하여, 이 투명 기재의 두께의 제어에 의해, 및 또는 이 투명 기재에 광 확산성을 부여하여 그 강도를 제어함으로써, 상술한 제5 내지 제7 실시 형태와 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.

또한 상술한 실시 형태에서는, 액정 표시 패널의 사용을 전제로 한 패턴 위상차 필름을 제작하는 경우에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 유기 EL 패널, 플라즈마 디스플레이 패널의 사용을 전제로, 편광 필터를 일체로 설치하는 경우에도 널리 적용할 수 있다.

1 : 패턴 위상차 필름
2 : 기재
3 : 배향막
4 : 위상차층
16, 16A, 16B : 마스크

Claims

긴 길이를 갖는 투명 필름재를 반송하면서 순차적으로 처리하여 패턴 위상차 필름을 제작하는 패턴 위상차 필름의 제조 방법으로서,
상기 투명 필름재에, 광 배향 재료막을 제작하는 광 배향 재료막 제작 공정과,
마스크를 사용한 상기 광 배향 재료막의 노광 처리에 의해, 상기 광 배향 재료막 측에서 광을 조사하는 광 배향의 방법을 적용하여 배향막을 제작하는 노광 공정과,
상기 배향막 위에, 우안용 투과광에 대응하는 위상차를 부여하는 우안용 영역과, 좌안용 투과광에 대응하는 위상차를 부여하는 좌안용 영역에 의한 위상차층을 제작하는 위상차층 제작 공정을 구비하고,
상기 노광 공정은,
1회째의 노광 처리에 있어서, 상기 마스크를 사용하여 상기 광 배향 재료막을 선택적으로 노광 처리한 후, 2회째의 노광 처리에 있어서, 전체면에 광을 조사하여, 상기 1회째의 노광 처리에서 미노광의 영역을 노광 처리함으로써,
상기 우안용 영역 또는 좌안용 영역에 대응하는 부위의, 상기 광 배향 재료막을 배향시킨 후, 상기 좌안용 영역 또는 우안용 영역에 대응하는 부위의, 상기 광 배향 재료막을 배향시켜 상기 배향막을 제작하고,
상기 마스크는,
1회째의 노광 처리에 제공하는 영역 폭에 비해 대응하는 슬릿이 협폭으로 제작된 것을 특징으로 하는 패턴 위상차 필름의 제조 방법.
긴 길이를 갖는 투명 필름재를 반송하면서 순차적으로 처리하여 패턴 위상차 필름을 제작하는 패턴 위상차 필름의 제조 방법으로서,
상기 투명 필름재에, 광 배향 재료막을 제작하는 광 배향 재료막 제작 공정과,
마스크를 사용한 상기 광 배향 재료막의 노광 처리에 의해, 상기 광 배향 재료막 측에서 광을 조사하는 광 배향의 방법을 적용하여 배향막을 제작하는 노광 공정과,
상기 배향막 위에, 우안용 투과광에 대응하는 위상차를 부여하는 우안용 영역과, 좌안용 투과광에 대응하는 위상차를 부여하는 좌안용 영역에 의한 위상차층을 제작하는 위상차층 제작 공정을 구비하고,
상기 노광 공정은,
1회째의 노광 처리에 있어서, 상기 광 배향 재료막의 전체면을 노광 처리한 후, 2회째의 노광 처리에 있어서, 상기 마스크를 사용하여 상기 광 배향 재료막을 선택적으로 노광 처리함으로써,
상기 우안용 영역 및 좌안용 영역에 대응하는 부위의, 상기 광 배향 재료막을 배향시킨 후, 상기 우안용 영역 또는 좌안용 영역에 대응하는 부위의, 상기 광 배향 재료막을 다시 배향하여 상기 배향막을 제작하고,
상기 마스크는,
2회째의 노광 처리에 제공하는 영역 폭에 비해 대응하는 슬릿이 협폭으로 제작된 것을 특징으로 하는 패턴 위상차 필름의 제조 방법.
긴 길이를 갖는 투명 필름재를 반송하면서 순차적으로 처리하여 패턴 위상차 필름을 제작하는 패턴 위상차 필름의 제조 방법으로서,
상기 투명 필름재에, 광 배향 재료막을 제작하는 광 배향 재료막 제작 공정과,
마스크를 사용한 상기 광 배향 재료막의 노광 처리에 의해, 상기 광 배향 재료막 측에서 광을 조사하는 광 배향의 방법을 적용하여 배향막을 제작하는 노광 공정과,
상기 배향막 위에, 우안용 투과광에 대응하는 위상차를 부여하는 우안용 영역과, 좌안용 투과광에 대응하는 위상차를 부여하는 좌안용 영역에 의한 위상차층을 제작하는 위상차층 제작 공정을 구비하고,
상기 노광 공정은,
1회째의 노광 처리에 있어서, 마스크를 사용한 노광 처리에 의해, 상기 우안용 영역 또는 좌안용 영역에 대응하는 부위의, 상기 광 배향 재료막을 배향시킨 후,
2회째의 노광 처리에 있어서, 마스크를 사용한 노광 처리에 의해, 상기 좌안용 영역 또는 우안용 영역에 대응하는 부위의, 상기 광 배향 재료막을 배향시킴으로써,
상기 배향막을 제작하고,
상기 광 배향 재료막이, 일단 배향한 후에는, 노광 처리에 의해서는 배향이 변화하지 않는 광 배향 재료에 의해 제작되고,
상기 1회째의 노광 처리에 제공하는 마스크는,
노광 처리에 제공하는 영역 폭에 비해 대응하는 슬릿이 슬릿 협폭으로 제작된 것을 특징으로 하는 패턴 위상차 필름의 제조 방법.
긴 길이를 갖는 투명 필름재를 반송하면서 순차적으로 처리하여 패턴 위상차 필름을 제작하는 패턴 위상차 필름의 제조 방법으로서,
상기 투명 필름재에, 광 배향 재료막을 제작하는 광 배향 재료막 제작 공정과,
마스크를 사용한 상기 광 배향 재료막의 노광 처리에 의해, 상기 광 배향 재료막 측에서 광을 조사하는 광 배향의 방법을 적용하여 배향막을 제작하는 노광 공정과,
상기 배향막 위에, 우안용 투과광에 대응하는 위상차를 부여하는 우안용 영역과, 좌안용 투과광에 대응하는 위상차를 부여하는 좌안용 영역에 의한 위상차층을 제작하는 위상차층 제작 공정을 구비하고,
상기 노광 공정은,
1회째의 노광 처리에 있어서, 마스크를 사용한 노광 처리에 의해, 상기 우안용 영역 또는 좌안용 영역에 대응하는 부위의, 상기 광 배향 재료막을 배향시킨 후,
2회째의 노광 처리에 있어서, 마스크를 사용한 노광 처리에 의해, 상기 좌안용 영역 또는 우안용 영역에 대응하는 부위의, 상기 광 배향 재료막을 배향시킴으로써,
상기 배향막을 제작하고,
상기 광 배향 재료막이, 반복의 노광 처리 시마다, 배향 방향이 변화하는 광 배향 재료에 의해 제작되고,
상기 2회째의 노광 처리에 제공하는 마스크는,
노광 처리에 제공하는 영역 폭에 비해 대응하는 슬릿이 협폭으로 제작된 것을 특징으로 하는 패턴 위상차 필름의 제조 방법.
삭제
삭제
삭제
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 노광 공정에 있어서, 상기 마스크와 상기 광 배향 재료막의 간격이 150㎛ 이상, 650㎛ 이하로 설정된 패턴 위상차 필름의 제조 방법.
제3항 또는 제4항에 있어서,
상기 노광 공정에 있어서, 1회째 및 또는 제2회째의 노광 처리에 제공하는 마스크와 상기 광 배향 재료막의 간격이 150㎛ 이상, 650㎛ 이하로 설정된 패턴 위상차 필름의 제조 방법.