TWM623150U - 曝光裝置 - Google Patents

Abstract

一種曝光裝置包括光源和液晶面板。液晶面板適於以第一彎折線為中心朝著彎折方向彎折，且具有沿著垂直於第一彎折線的第一方向排列的第一曝光區和一第二曝光區。光源發出的多道曝光光束在通過這些曝光區後照射在感光材料層上並形成多個曝光圖案。液晶面板包括第一基板、第二基板、液晶層以及多個第一分隔壁。液晶層和這些第一分隔壁設置在第一基板與第二基板之間。這些第一分隔壁位於第一曝光區的第一部分沿著第一方向以第一距離排列。這些第一分隔壁位於第二曝光區的第二部分沿著第一方向以第二距離排列。第一距離不同於第二距離。

Description

曝光裝置

本新型創作提供一種曝光裝置，且特別是有關於一種具有液晶面板的曝光裝置。

在半導體製程技術與3D列印技術的發展過程中，光罩的使用是必要的。然而，隨著半導體結構或列印物件的複雜度增加，一個完整製程所使用的光罩數量也勢必增加，導致整體的製程時間因光罩的抽換次數增加而拉長。此外，在某些特殊的製程中，例如：對彎曲的感光材料層進行曝光，採平面設計的傳統光罩會讓感光材料層接收到的曝光量分布與預期值產生偏差，造成曝光不均的問題。也因此，這類彎曲表面上所形成的曝光圖案並無法反映出這類光罩上的圖案精細度。也就是說，傳統的平面式光罩對於彎曲材料層的圖案化解析力較差。

本新型創作提供一種曝光裝置，其光罩圖案的切換極為便利，且在彎曲表面上所產生的曝光圖案具有較佳的精細度。

本新型創作的曝光裝置適於在感光材料層上形成多個曝光圖案。曝光裝置包括光源和液晶面板。光源用以提供波長可調變的曝光光束。液晶面板設置在光源與感光材料層之間。液晶面板適於以第一彎折線為中心朝著彎折方向彎折，且具有沿著垂直於第一彎折線的第一方向排列的第一曝光區和一第二曝光區。曝光光束在通過第一曝光區和第二曝光區後照射在感光材料層上並形成這些曝光圖案。液晶面板包括第一基板、第二基板、液晶層、畫素驅動層、兩偏光片以及多個第一分隔壁。第一基板與第二基板相對設置。液晶層和這些第一分隔壁設置在第一基板與第二基板之間。畫素驅動層設置在第一基板上，且用於驅使液晶層的多個液晶分子轉動。這些第一分隔壁具有位於第一曝光區的第一部分和位於第二曝光區的第二部分。第一部分沿著第一方向以第一距離排列於第一基板上。第二部分沿著第一方向以第二距離排列於第一基板上。第一距離不同於第二距離。兩偏光片分別設置在液晶層的相對兩側。

在本新型創作的一實施例中，上述的曝光裝置的感光材料層具有以第二彎折線為中心並朝著彎折方向彎折的受光面。第二彎折線平行於第一彎折線。曝光光束在通過液晶面板後照射受光面。

在本新型創作的一實施例中，上述的曝光裝置的液晶面板的多個第一分隔壁於第一基板和第二基板間切分出多個彼此互不連通的腔室，且液晶層設置在這些腔室內。

在本新型創作的一實施例中，上述的曝光裝置的液晶面板更包括多條第一訊號線。這些第一訊號線沿著第一方向以第一線距排列於第一基板上。第一距離與第一線距的比值以及第二距離與第一線距的比值為不同的正整數。

在本新型創作的一實施例中，上述的曝光裝置的液晶面板的多個第一分隔壁於第一基板的正投影完全重疊於多條第一訊號線於第一基板的正投影。

在本新型創作的一實施例中，上述的曝光裝置的液晶面板還具有第二彎折線，且液晶面板還適於以第二彎折線為中心朝著彎折方向彎折。

在本新型創作的一實施例中，上述的曝光裝置的液晶面板還具有沿著垂直於第二彎折線的第二方向排列的第三曝光區和第四曝光區。第二方向與第一方向相交。液晶面板更包括多個第二分隔壁。這些第二分隔壁設置在第一基板與第二基板之間，且重疊於部分第二訊號線。這些第二分隔壁具有位於第三曝光區的第三部分和位於第四曝光區的第四部分。第三部分沿著第二方向並且依第三距離排列於第一基板上。第四部分沿著第二方向並且依第四距離排列於第一基板上。第三距離不同於第四距離。

在本新型創作的一實施例中，上述的曝光裝置的感光材料層具有以第三彎折線和第四彎折線為中心朝著彎折方向彎折的受光面。第三彎折線和第四彎折線分別平行於第一彎折線和第二彎折線。曝光光束在通過液晶面板後照射受光面。

在本新型創作的一實施例中，上述的曝光裝置的液晶面板更包括多條第二訊號線。這些第二訊號線沿著第二方向以第二線距排列於第一基板上。第三距離與第二線距的比值以及第四距離與第二線距的比值為不同的正整數。

在本新型創作的一實施例中，上述的曝光裝置的液晶面板的多個第一分隔壁和多個第二分隔壁於第一基板的正投影完全重疊於多條第一訊號線和多條第二訊號線於該第一基板的正投影。

在本新型創作的一實施例中，上述的曝光裝置的液晶面板的多個第一分隔壁和多個第二分隔壁於第一基板和第二基板間切分出多個彼此互不連通的腔室，且液晶層設置在這些腔室內。

基於上述，在本新型創作一實施例的曝光裝置中，作為光罩使用的液晶面板因具有透光圖案的可調變性，使其在不同膜層或不同產品的曝光製程中的共用性增加。換言之，可大幅降低整體製程的光罩抽換次數或不同(測試)產品的光罩製作費用，從而降低產品開發與生產的成本。另一方面，本實施例的液晶面板因具有可彎折的特性而能改善曝光裝置對於彎曲材料層的曝光均勻性和圖案化的解析力。透過在不同曝光區的兩基板間設置不同分布密度的分隔壁，可提升液晶面板彎折時液晶層在不同曝光區的膜厚均勻性，從而確保液晶面板彎折時的曝光品質。

1、2:曝光裝置

10、20:液晶面板

50:光源

101:第一基板

102:第二基板

110:畫素驅動層

130:液晶層

210:板材

220、220A:感光材料層

220r、220Ar:受光面

BL1、BL2、BL1”、BL2”:彎折線

C:腔室

D1、D2、D3、D4:距離

EA1、EA2、EA3、EA4:曝光區

DW、DW1、DW2:分隔壁

DWp1、DWp2、DW1p1、DW1p2、DW2p1、DW2p2:部分

EB:曝光光束

LC:液晶分子

LS1:第一線距

LS2:第二線距

PA:畫素區

PE:畫素電極

PX:畫素結構

POL1、POL2:偏光片

SL1:第一訊號線

SL2:第二訊號線

X、Y、Z:方向

圖1是依照本新型創作的第一實施例的曝光裝置的剖視示意圖。

圖2是圖1的液晶面板的俯視示意圖。

圖3A及圖3B是依照本新型創作的第二實施例的曝光裝置的剖視示意圖。

圖4是圖3A及圖3B的液晶面板的俯視示意圖。

有關本新型創作之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式之一較佳實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。以下實施例中所提到的方向用語，例如：上、下、左、右、前或後等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用來說明並非用來限制本新型創作。

圖1是依照本新型創作的第一實施例的曝光裝置1的剖視示意圖。圖2是圖1的液晶面板的俯視示意圖。為清楚呈現起見，圖2僅繪示出圖1的第一基板101、畫素驅動層110和多個分隔壁DW。

請參照圖1及圖2，曝光裝置1包括液晶面板10和光源50。光源50用於提供波長可調變的曝光光束EB。曝光光束EB的波長可根據不同的製程需求進行調整。曝光光束EB在通過液晶面板10後照射感光材料層220的受光面220r並形成多個曝光圖案。 也就是說，液晶面板10設置在感光材料層220與光源50之間。在本實施例中，感光材料層220可設置在板材210上，且此板材210和感光材料層220以彎折線BL1”為中心朝著方向Z(即彎折方向)彎折。然而，本新型創作不限於此，在其他實施例中，感光材料層220也可設置在具有彎曲輪廓的基材(例如3D列印物件)表面上。

在本實施例中，光源50例如是紫外光源、黃光光源、或其他合適的曝光光源。該感光材料層220的材料可包括正型光阻材料、負型光阻材料、感光樹脂材料、或其他合適的感光材料。也就是說，本實施例的曝光裝置1適用於一般液晶面板各膜層的光阻圖案的曝光製程或3D列印用的感光材料的曝光製程，但不以此為限。

在本實施例中，液晶面板10包括第一基板101、第二基板102、畫素驅動層110和液晶層130。第一基板101與第二基板102相對設置。液晶層130設置在第一基板101和第二基板102之間。畫素驅動層110設置在第一基板101上，且位於液晶層130與第一基板101之間。第一基板101和第二基板102的材料可包括玻璃、高分子聚合物(例如聚醯亞胺、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯)、或其他合適的可撓性基材。

為了調整曝光光束EB通過液晶面板10後的光強度，液晶面板10更包括偏光片POL1與偏光片POL2。這兩偏光片分別設置在液晶層130的相對兩側，且分別貼附於第一基板101與第 二基板102背離彼此的兩表面上，但不以此為限。

光源50發出的曝光光束EB在通過偏光片POL1後具有特定的第一偏振態(例如線偏振態、圓偏振態或橢圓偏振態)。此曝光光束EB在通過液晶層130後的偏振態會根據液晶分子LC的排列狀態而改變，且其通過偏光片POL2後的光強度會取決於曝光光束EB通過液晶層130後的電場偏振方向與偏光片POL2的吸收軸向間的夾角。當夾角越大時，通過偏光片POL2的曝光光束EB的光強度就越大。相反地，當夾角越小時，通過偏光片POL2的曝光光束EB的光強度就越小。

進一步而言，畫素驅動層110可包括多條第一訊號線SL1、多條第二訊號線SL2和多個畫素結構PX。這些第一訊號線SL1相交於這些第二訊號線SL2，並定義出液晶面板10的多個畫素區PA。舉例來說，這些第一訊號線SL1可沿著方向X排列並朝著方向Y延伸，而這些第二訊號線SL2可沿著方向Y排列並朝著方向X延伸。這些畫素結構PX分別設置在這些畫素區PA內，且各自電性連接對應的一條第一訊號線SL1和對應的一條第二訊號線SL2。在本實施例中，第一訊號線SL1和第二訊號線SL2分別是資料線(data line)和掃描線(scan line)，但不以此為限。

在本實施例中，畫素結構PX包括彼此電性連接的主動元件(未繪示)和畫素電極PE。在本實施例中，液晶面板10為穿透式液晶面板。因此，畫素電極PE為光穿透式電極，其材質包括金屬氧化物，例如：銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁錫氧化物、鋁 鋅氧化物、或其它合適的氧化物、或者是上述至少兩者之堆疊層。

當主動元件接收來自第二訊號線SL2的致能信號(例如閘極信號)而被致能時，畫素電極PE可經由主動元件接收來自資料線(即第一訊號線SL1)的驅動信號而具有特定電位。此時畫素電極PE所產生的電場可驅使液晶層130的多個液晶分子LC轉動。這些液晶分子LC在不同大小電場的驅動下可形成不同的光軸分布(或排列狀態)，而曝光光束EB的偏振態(或光強度)即可藉由這些不同的光軸分布來調變。因此，液晶面板10可經由這些第一訊號線SL1、這些第二訊號線SL2、多個主動元件和這些畫素結構PX來個別地控制曝光光束EB通過這些畫素區PA後的光強度來產生不同的透光圖案或遮光圖案(即光罩圖案)。

特別一提的是，由於液晶面板10具有光罩圖案的可調變性，使其在不同膜層或不同產品的曝光製程中的共用性因此增加。換句話說，以液晶面板10作為光罩，可大幅降低整體製程的光罩抽換次數或不同(測試)產品的光罩製作費用，從而降低產品開發與生產的成本。

由於本實施例的感光材料層220具有以彎折線BL1”為中心並朝著方向Z彎折的受光面220r，為了增加曝光裝置1對於這類非平面的感光材料層220的曝光均勻性和圖案化的解析力，在曝光製程中作為光罩使用的液晶面板10也是以相似的方式設置在感光材料層220與光源50之間。舉例來說，液晶面板10是以彎折線BL1為中心朝著方向Z(即彎折方向)彎折，且此彎折線BL1 平行於板材210和感光材料層220的彎折線BL1”。在本實施例中，此彎折線BL1可以是液晶面板10的對稱中心軸，但不以此為限。在其他實施例中，液晶面板10的彎折線BL1的位置可根據感光材料層的彎曲狀態而改設置在液晶面板10的非對稱處。

為了抑制液晶層130在液晶面板10彎折時的流動現象造成其膜厚均勻性的降低，液晶面板10更包括設置在第一基板101和第二基板102之間的多個分隔壁DW。這些分隔壁DW在第一基板101與第二基板102間切分出多個彼此互不連通的腔室C，且液晶層130設置在這些腔室C內。另一方面，液晶面板10具有沿著垂直於彎折線BL1的方向(例如方向X)排列的第一曝光區EA1和兩個第二曝光區EA2。其中，第一曝光區EA1沿著第一基板101表面的法線方向(例如方向Z)重疊於液晶面板10的彎折線BL1，而這兩個第二曝光區EA2分別設置在第一曝光區EA1的相對兩側。特別注意的是，分隔壁DW在第一曝光區EA1的設置密度不同於在第二曝光區EA2的設置密度。

舉例來說，這些分隔壁DW可區分為第一部分DWp1和第二部分DWp2。第一部分DWp1位於第一曝光區EA1內，並且沿著方向X以第一距離D1排列於第一基板101上。第二部分DWp2位於兩個第二曝光區EA2內，並且沿著方向X以第二距離D2排列於第一基板101上。其中，第一距離D1不同於第二距離D2。在本實施例中，第一距離D1可選擇性地小於第二距離D2，但不以此為限。在其他實施例中，分隔壁DW在不同曝光區的排 列間距的大小關係可根據液晶面板的實際彎折程度進行調整。

當液晶面板10以彎折線BL1為對稱中心朝著方向Z彎折時，由於分隔壁DW在第一曝光區EA1和第二曝光區EA2內的設置密度不同，因此可改善液晶層130在這些曝光區內膜厚不均的問題，有助於進一步提升液晶面板10彎折時的曝光品質。

特別注意的是，這些分隔壁DW於第一基板101的正投影完全重疊於多條第一訊號線SL1於第一基板101的正投影。亦即，這些分隔壁DW沿著方向Z不重疊於多個畫素區PA。因此，可避免畫素的透光區因分隔壁DW的設置而縮減，從而確保液晶面板10整體的透光率。具體而言，本實施例的多條第一訊號線SL1是沿著方向X以第一線距LS1間隔排列，而前述的第一距離D1與第一線距LS1的比值以及前述的第二距離D2與第一線距LS1的比值為彼此不同的正整數。在本實施例中，第一距離D1與第一線距LS1的比值為1，而第二距離D2與第一線距LS1的比值為2，但不以此為限。

以下將列舉另一實施例以詳細說明本揭露，其中相同的構件將標示相同的符號，並且省略相同技術內容的說明，省略部分請參考前述實施例，以下不再贅述。

圖3A和圖3B是依照本新型創作的第二實施例的曝光裝置的剖視示意圖。圖4是圖3A及圖3B的液晶面板的俯視示意圖。為清楚呈現起見，圖4僅繪示出圖3A和圖3B的第一基板101、畫素驅動層110、多個第一分隔壁DW1和多個第二分隔壁DW2 的繪示。

請參照圖3A、圖3B及圖4，相較於圖1的液晶面板10僅能以單一彎折線為中心進行彎折，本實施例的液晶面板20適於以多個彎折線為中心進行彎折，例如：以彎折線BL1為對稱中心進行彎折以及以彎折線BL2為對稱中心進行彎折。更具體地說，曝光裝置2適用於以多個彎折線為中心彎折的感光材料層220A的曝光製程中。舉例來說，在本實施例中，感光材料層220A具有以彎折線BL1”和彎折線BL2”為中心朝著方向Z(即彎折方向)彎折的受光面220Ar。

因此，在感光材料層220A的曝光製程中，作為光罩使用的液晶面板20也是以相似的方式設置在感光材料層220A與光源50之間。據此，以增加曝光裝置2對於這類非平面的感光材料層220A的曝光均勻性和圖案化的解析力。舉例來說，液晶面板20是以彎折線BL1和彎折線BL2為中心朝著方向Z彎折，且此彎折線BL1和彎折線BL2分別平行於板材210和感光材料層220A的彎折線BL1”和彎折線BL2”。在本實施例中，此彎折線BL1和彎折線BL2可以是液晶面板20分別在方向X和方向Y上的對稱中心軸，且彎折線BL1和彎折線BL2可分別垂直於方向X和方向Y，但不以此為限。在其他實施例中，液晶面板20的多個彎折線的位置可根據感光材料層的彎曲狀態而改設置在液晶面板10的非對稱處。

為了抑制液晶層130在液晶面板20以不同彎折線(例如 彎折線BL1及/或彎折線BL2)進行彎折時的流動現象造成其膜厚均勻性的降低，液晶面板20的多個分隔壁可包括多個第一分隔壁DW1和多個第二分隔壁DW2。這些第一分隔壁DW1與這些第二分隔壁DW2相交並且在第一基板101和第二基板102間切分出多個彼此互不連通的腔室C，且液晶層130設置在這些腔室C內。

在本實施例中，根據第一分隔壁DW1的設置密度的不同，曝光裝置2的液晶面板20的曝光區可沿著方向X區分為第一曝光區EA1和兩個第二曝光區EA2。其中，第一曝光區EA1沿著第一基板101表面的法線方向(例如方向Z)重疊於液晶面板20的彎折線BL1，而這兩個第二曝光區EA2分別設置在第一曝光區EA1的相對兩側。多個第一分隔壁DW1可區分為第一部分DW1p1和第二部分DW1p2。第一部分DW1p1位於第一曝光區EA1內，並且沿著方向X以第一距離D1排列於第一基板101上。第二部分DW1p2位於兩個第二曝光區EA2內，並且沿著方向X以第二距離D2排列於第一基板101上，其中第一距離D1不同於第二距離D2。

相似地，根據第二分隔壁DW2的設置密度的不同，曝光裝置2的液晶面板20的曝光區可沿著方向Y區分為第三曝光區EA3和兩個第四曝光區EA4。其中，第三曝光區EA3沿著第一基板101表面的法線方向(例如方向Z)重疊於液晶面板20的彎折線BL2，而這兩個第四曝光區EA4分別設置在第三曝光區EA3的相對兩側。多個第二分隔壁DW2可區分為第三部分DW2p1和第 四部分DW2p2。第三部分DW2p1位於第三曝光區EA3內，並且沿著方向Y以第三距離D3排列於第一基板101上。第四部分DW2p2位於兩個第四曝光區EA4內，並且沿著方向Y以第四距離D4排列於第一基板101上，其中第三距離D3不同於第四距離D4。

當液晶面板20以彎折線BL1及/或彎折線BL2朝著方向Z彎折時，由於分隔壁DW1、DW2在不同曝光區內的設置密度不同，因此可改善液晶層130在這些曝光區內膜厚不均的問題，有助於進一步提升液晶面板20彎折時的曝光品質。

特別注意的是，這些第二分隔壁DW2於第一基板101的正投影完全重疊於多條第二訊號線SL2於第一基板101的正投影。亦即，這些第二分隔壁DW2沿著方向Z不重疊於多個畫素區PA。因此，可避免畫素的透光區因第二分隔壁DW2的設置而縮減，從而確保液晶面板20整體的透光率。具體而言，本實施例的多條第二訊號線SL2是沿著方向Y以第二線距LS2間隔排列，而前述的第三距離D3與第二線距LS2的比值以及前述的第四距離D4與第二線距LS2的比值為彼此不同的正整數。在本實施例中，第三距離D3與第二線距LS2的比值為1，而第四距離D4與第二線距LS2的比值為2，但不以此為限。由於本實施例的多個第一分隔壁DW1與多條第一訊號線SL1的配置關係相似於圖2的液晶面板10，因此，詳細的說明請參見前述實施例的相關段落，於此便不再贅述。

綜上所述，在本新型創作一實施例的曝光裝置中，作為光罩 使用的液晶面板因具有透光圖案的可調變性，使其在不同膜層或不同產品的曝光製程中的共用性增加。換言之，可大幅降低整體製程的光罩抽換次數或不同(測試)產品的光罩製作費用，從而降低產品開發與生產的成本。另一方面，本實施例的液晶面板因具有可彎折的特性而能改善曝光裝置對於彎曲材料層的曝光均勻性和圖案化的解析力。透過在不同曝光區的兩基板間設置不同分布密度的分隔壁，可提升液晶面板彎折時液晶層在不同曝光區的膜厚均勻性，從而確保液晶面板彎折時的曝光品質。

1:曝光裝置

10:液晶面板

50:光源

101:第一基板

102:第二基板

110:畫素驅動層

130:液晶層

210:板材

220:感光材料層

220r:受光面

BL1、BL1”:彎折線

C:腔室

DW:分隔壁

DWp1、DWp2:部分

EA1、EA2:曝光區

EB:曝光光束

LC:液晶分子

PE:畫素電極

POL1、POL2:偏光片

PX:畫素結構

SL1:第一訊號線

X、Y、Z:方向

Claims (11)

1. 一種曝光裝置，適於在一感光材料層上形成多個曝光圖案，該曝光裝置包括: 一光源，用以提供波長可調變的一曝光光束；以及 一液晶面板，設置在該光源與該感光材料層之間，該液晶面板適於以一第一彎折線為中心朝著一彎折方向彎折，且具有沿著垂直於該第一彎折線的一第一方向排列的一第一曝光區和一第二曝光區，該曝光光束在通過該第一曝光區和該第二曝光區後照射在該感光材料層上並形成該些曝光圖案，該液晶面板包括： 一第一基板； 一第二基板，與該第一基板相對設置； 一液晶層，設置在該第一基板與該第二基板之間； 一畫素驅動層，設置在該第一基板上，且用於驅使該液晶層的多個液晶分子轉動；以及 多個第一分隔壁，設置在該第一基板和該第二基板之間，且具有位於該第一曝光區的一第一部分和位於該第二曝光區的一第二部分，該第一部分沿著該第一方向以一第一距離排列於該第一基板上，該第二部分沿著該第一方向以一第二距離排列於該第一基板上，其中該第一距離不同於該第二距離；以及 兩偏光片，分別設置在該液晶層的相對兩側。
2. 如請求項1所述的曝光裝置，其中該液晶面板更包括： 多條第一訊號線，沿著該第一方向以一第一線距排列於該第一基板上，其中該第一距離與該第一線距的比值以及該第二距離與該第一線距的比值為不同的正整數。
3. 如請求項2所述的曝光裝置，其中該液晶面板還具有一第二彎折線，且該液晶面板還適於以該第二彎折線為中心朝著該彎折方向彎折。
4. 如請求項3所述的曝光裝置，其中該液晶面板還具有沿著垂直於該第二彎折線的一第二方向排列的一第三曝光區和一第四曝光區，該第二方向與該第一方向相交，該液晶面板更包括： 多個第二分隔壁，設置在該第一基板與該第二基板之間，該些第二分隔壁具有位於該第三曝光區的一第三部分和位於該第四曝光區的一第四部分，該第三部分沿著該第二方向以一第三距離排列於該第一基板上，該第四部分沿著該第二方向以一第四距離排列於該第一基板上，其中該第三距離不同於該第四距離。
5. 如請求項4所述的曝光裝置，其中該感光材料層具有以一第三彎折線和一第四彎折線為中心朝著該彎折方向彎折的一受光面，該第三彎折線和該第四彎折線分別平行於該第一彎折線和該第二彎折線，且該曝光光束在通過該液晶面板後照射該受光面。
6. 如請求項4或請求項5所述的曝光裝置，其中該液晶面板更包括： 多條第二訊號線，沿著該第二方向以一第二線距排列於該第一基板上，其中該第三距離與該第二線距的比值以及該第四距離與該第二線距的比值為不同的正整數。
7. 如請求項6所述的曝光裝置，其中該液晶面板的該些第一分隔壁和該些第二分隔壁於該第一基板的正投影完全重疊於該些第一訊號線和該些第二訊號線於該第一基板的正投影。
8. 如請求項4所述的曝光裝置，其中該些第一分隔壁和該些第二分隔壁於該第一基板和該第二基板間切分出多個彼此互不連通的腔室，且該液晶層設置在該些腔室內。
9. 如請求項2所述的曝光裝置，其中該液晶面板的該些第一分隔壁於該第一基板的正投影完全重疊於該些第一訊號線於該第一基板的正投影。
10. 如請求項1或請求項9所述的曝光裝置，其中該感光材料層具有以一第二彎折線為中心朝著該彎折方向彎折的一受光面，該第二彎折線平行於該第一彎折線，且該曝光光束在通過該液晶面板後照射該受光面。
11. 如請求項1或請求項9所述的曝光裝置，其中該液晶面板的該些第一分隔壁於該第一基板和該第二基板間切分出多個彼此互不連通的腔室，且該液晶層設置在該些腔室內。

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