CN104460100B - 显示基板和显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及显示技术领域，公开了一种显示基板和显示面板及其制作方法、显示装置。所述显示基板包括光栅，其中，光栅分两个步骤形成：首先通过性质稳定(包括抗腐蚀，不易脱落等)的中介层形成间隔分布的条纹图案，然后利用中介层或衬底基板吸附不透光材料形成遮光条纹。并在两个步骤之间形成所需的各显示膜层。由于所述中介层不需要具有足够低的透光率，厚度较薄，使得形成显示膜层时可以牢固吸附衬底基板，而且稳定的特性使得中介层不会污染形成显示膜层的工艺腔室，提高了三维显示装置和双视场显示装置的良率，降低了工艺难度。

Description

显示基板和显示面板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示基板和显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
光栅制作是三维显示和双视场显示中的重要技术。其中，光栅由一组遮光条纹和间隔其中的透光条纹组成。
现有技术中，光栅可以使用对黑色光刻胶进行光刻的方法制作，具体过程为：
在透明基板上涂敷黑色光刻胶；
对黑色光刻胶进行高温烘烤，使其变硬；
利用掩膜板对光刻胶进行曝光；
将基板连同曝光后的光刻胶一起放置在显影液中，进行显影，曝光的光刻胶就会被保留,未曝光的光刻胶就会被清洗掉，从而形成遮光条纹和间隔其中的透光条纹。
在液晶显示器件中，为了满足轻薄需求，将光栅制作在液晶显示面板的外表面。其中，液晶显示面板包括对盒的彩膜基板和阵列基板，光栅可以制作在彩膜基板上，也可以制作在阵列基板上。以光栅制作在彩膜基板上为例，如果先在衬底基板上形成光栅，然后再将该衬底基板翻转，进行后续的彩膜制作和成盒工艺，那么，一方面因为光栅包含黑色颜料，很可能会污染后续工艺的腔室。另一方面为了在光栅的遮光区获得足够低的透过率，则黑色条纹的厚度往往为1-3微米，这样会在后续真空吸附时出现吸不住衬底基板的情况。而如果先完成彩膜制作和对盒工艺，然后在彩膜基板的外表面进行光栅制作，又存在液晶盒需要经过高温烘烤和在显影液中浸泡可能造成的腐蚀、液晶在紫外光照射下可能变性等问题。
发明内容
本发明提供一种显示基板和显示面板及其制作方法，用以解决在显示面板的外表面制作光栅时，会对显示基板和显示面板及其制作工艺产生影响的问题。
本发明还提供一种显示装置，包括上述的显示面板，用以提高显示装置的良率。
为解决上述技术问题，本发明实施例中提供一种显示基板的制作方法，包括形成光栅的步骤，其中，形成光栅的步骤包括：
在衬底基板的表面形成性质稳定的中介层，所述中介层具有间隔分布的条纹图案，所述中介层和衬底基板中的其中一个具有吸附某种不透光材料的特性，另一个不具有吸附所述不透光材料的特性；
在衬底基板上形成所述中介层之后，在衬底基板上形成所述包括不透光材料的膜层之前，所述制作方法还包括：
在所述衬底基板与所述中介层相对的表面形成所需的各显示膜层；
在形成有所述中介层的所述衬底基板表面形成包括不透光材料的膜层，所述中介层或衬底基板吸附所述不透光材料，形成遮光条纹，并在所述遮光条纹之间形成透光条纹。
如上所述的制作方法，优选的是，通过对中介层或衬底基板进行处理使其带电，来使其具有吸附所述不透光材料的特性。
如上所述的制作方法，优选的是，所述中介层为透明材料。
如上所述的制作方法，优选的是，所述中介层为有机材料；
对所述衬底基板形成有中介层的表面进行摩擦起电，使得所述衬底基板具有吸附所述不透光材料的特性。
如上所述的制作方法，优选的是，所述中介层为导电材料；
通过对所述中介层施加电压，使得所述中介层具有吸附所述不透光材料的特性。
如上所述的制作方法，优选的是，在衬底基板的表面形成性质稳定的中介层的步骤具体包括：
在所述衬底基板上形成导电膜层；
对所述导电膜层进行光刻工艺，形成间隔分布的条纹图案。
如上所述的制作方法，优选的是，所述不透光材料为碳粉。
如上所述的制作方法，优选的是，在所述衬底基板上形成包括不透光材料的膜层，所述中介层或衬底基板吸附所述不透光材料，形成遮光条纹，并在所述遮光条纹之间形成透光条纹的步骤具体为：
将碳粉撒在所述衬底基板和中介层上，碳粉被所述中介层或衬底基板吸附，形成遮光条纹，去除未吸附的碳粉，形成位于所述遮光条纹之间的透光条纹。
如上所述的制作方法，优选的是，形成光栅的步骤还包括：
在所述遮光条纹和透光条纹上形成保护层。
如上所述的制作方法，优选的是，所述中介层具有抗腐蚀性，并与衬底基板粘接牢固。
本发明实施例中还提供一种显示基板，包括光栅，所述光栅包括：
设置在衬底基板表面的中介层，所述中介层性质稳定，具有间隔分布的条纹图案；
覆盖在所述中介层条纹上的不透光材料，形成遮光条纹，所述遮光条纹之间形成透光条纹，或，
覆盖在所述中介层条纹之间的衬底基板上的不透光材料，形成遮光条纹，所述遮光条纹之间形成透光条纹。
如上所述的显示基板，优选的是，所述光栅还包括：
覆盖在所述遮光条纹和透光条纹上的保护层。
如上所述的显示基板，优选的是，所述中介层为导电材料。
如上所述的显示基板，优选的是，所述中介层为有机材料。
如上所述的显示基板，优选的是，所述不透光材料为碳粉。
本发明实施例中还提供一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括对盒的第一显示基板和第二显示基板，所述制作方法包括：
采用如上所述的制作方法形成所述第一显示基板。
如上所述的制作方法，优选的是，在形成中介层后对盒所述第一显示基板和第二显示基板。
本发明实施例中还提供一种显示面板，包括如上所述的显示基板。
如上所述的显示面板，优选的是，所述显示面板为液晶显示面板，包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板；
所述显示基板为彩膜基板或阵列基板，所述显示面板的光栅位于彩膜基板的外表面或阵列基板的外表面。
本发明实施例中还提供一种显示装置，包括如上所述的显示面板。
本发明的上述技术方案的有益效果如下：
上述技术方案中，首先通过性质稳定的中介层在显示基板的一个表面形成光栅的条纹图案。然后在显示基板相对的另一个表面形成所需的各显示膜层。最后在衬底基板形成有中介层的表面形成包括所述不透光材料的膜层，所述中介层或衬底基板吸附所述不透光材料，形成光栅的遮光条纹，并在所述遮光条纹之间形成光栅的透光条纹，从而完成显示基板及其上光栅的制作。由于所述中介层不需要具有足够低的透光率，厚度较薄，使得形成显示膜层时可以牢固吸附衬底基板。而且稳定的特性使得中介层不会污染工艺腔室。因此，在显示基板上制作光栅的工艺不会对显示基板及其制作工艺产生影响。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1-图4表示本发明实施例中液晶显示面板的制作过程示意图一；
图5表示本发明实施例中对盒彩膜基板和阵列基板后的结构示意图一；
图6表示本发明实施例中液晶显示面板的结构示意图一；
图7-图10表示本发明实施例中液晶显示面板的制作过程示意图二；
图11表示本发明实施例中对盒彩膜基板和阵列基板后的结构示意图二；
图12表示本发明实施例中液晶显示面板的结构示意图二；
具体实施方式
现有技术中，当显示基板与光栅为一体结构时，由于光栅的遮光条纹由黑色光刻胶制成，为了满足足够低的透光率，其厚度较厚，往往为几微米，造成后续形成显示膜层时衬底基板吸附不牢固的问题。而如果先形成显示膜层，则光栅的制作工艺会对显示膜层产生影响。
针对上述技术问题，本发明提供一种显示基板的制作方法，所述制作方法首先通过性质稳定的中介层在衬底基板的一个表面形成光栅的条纹图案，其中，中介层和衬底基板中的其中一个具有吸附某种不透光材料的特性，另一个不具有吸附所述不透光材料的特性。然后在显示基板相对的另一个表面形成所需的各显示膜层。最后在衬底基板形成有中介层的表面形成包括所述不透光材料的膜层，所述中介层或衬底基板吸附所述不透光材料，形成光栅的遮光条纹，并在所述遮光条纹之间形成光栅的透光条纹，从而完成显示基板及其上光栅的制作。由于所述中介层不需要具有足够低的透光率，厚度较薄，只有几百纳米，使得形成显示膜层时可以牢固吸附衬底基板。而且稳定的特性使得中介层不会污染工艺腔室。因此，制作光栅的工艺不会对显示膜层的制作工艺产生影响，降低了工艺难度。
其中，所述中介层的性质稳定是指：所述中介层具有抗腐蚀性，不会被后续工艺碰到的物质腐蚀。而且所述中介层与衬底基板粘接牢固，在后续制作工艺中不易脱落，不会污染工作腔室。
下面将结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
本发明实施例中提供一种显示基板的制作方法，包括形成光栅的步骤。其中，形成光栅的步骤包括：
在衬底基板的表面形成性质稳定的中介层，所述中介层具有间隔分布的条纹图案，所述中介层和衬底基板中的其中一个具有吸附某种不透光材料的特性，另一个不具有吸附所述不透光材料的特性；
在衬底基板上形成所述中介层之后，在衬底基板上形成所述包括不透光材料的膜层之前，所述制作方法还包括：
在所述衬底基板与所述中介层相对的表面形成所需的各显示膜层；
在形成有所述中介层的所述衬底基板表面形成包括不透光材料的膜层，所述中介层或衬底基板吸附所述不透光材料，形成遮光条纹，并在所述遮光条纹之间形成透光条纹。
上述步骤中，显示基板上的光栅分两个步骤形成：首先通过性质稳定的中介层形成间隔分布的条纹图案，然后利用中介层或衬底基板吸附不透光材料形成遮光条纹。并在两个步骤之间形成所需的各显示膜层，从而可以克服制作光栅的工艺对显示膜层的制作工艺产生影响。同时，由于所述中介层抗腐蚀，在显示膜层的制作工艺中也不会被腐蚀。而且中介层与衬底基板粘接牢固，不会脱落，污染工艺腔室，其厚度也只有几百纳米，保证后续工艺中衬底基板可以被牢固吸附。
相应地，本发明还提供一种显示基板，包括光栅，所述光栅包括：
设置在衬底基板表面的中介层，所述中介层性质稳定，具有间隔分布的条纹图案；
覆盖在所述中介层条纹上的不透光材料，形成遮光条纹，所述遮光条纹之间形成透光条纹，或，
覆盖在所述中介层条纹之间的衬底基板上的不透光材料，形成遮光条纹，所述遮光条纹之间形成透光条纹，具体的，所述中介层条纹形成透光条纹。
对于液晶显示装置，所述显示基板可以为阵列基板，其上的显示膜层包括栅电极、有源层、源电极和漏电极等。所述显示基板也可以为彩膜基板，其上的显示膜层包括黑矩阵、色阻层等。对于有机发光二极管显示装置，所述显示基板上的显示膜层包括阴极、空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层、阳极等。
其中，显示基板的衬底基板为透明基板，如：玻璃基板、石英基板、有机树脂基板，具有足够高的透光率。
当所述中介层为透明材料时，所述中介层的条纹图案可以为光栅的遮光条纹图案，也可以为光栅的透光条纹图案。当所述中介层的条纹图案为光栅的遮光条纹图案时，所述中介层具有吸附某种不透光材料的特性，所述衬底基板不具有吸附所述不透光材料的特性。当所述中介层的条纹图案为光栅的透光条纹图案时，所述衬底基板具有吸附某种不透光材料的特性，所述中介层不具有吸附所述不透光材料的特性。
当所述中介层为不透明材料时，所述中介层的条纹图案为光栅的遮光条纹图案。所述中介层具有吸附某种不透光材料的特性，所述衬底基板不具有吸附所述不透光材料的特性。
具体的，可以通过对中介层或衬底基板进行处理使其带电，来使其具有吸附所述不透光材料的特性。例如：当所述中介层为导电材料时，通过对所述中介层施加电压，使得所述中介层具有吸附所述不透光材料的特性。当所述中介层为透明有机材料时，对所述衬底基板形成有中介层的表面进行摩擦起电，使得所述衬底基板具有吸附所述不透光材料的特性。
进一步地，所述不透光材料可以为碳粉。则在所述衬底基板上形成包括不透光材料的膜层，所述中介层或衬底基板吸附所述不透光材料，形成遮光条纹，并在所述遮光条纹之间形成透光条纹的步骤具体为：
将碳粉撒在所述衬底基板和中介层上，碳粉被所述中介层或衬底基板吸附，形成遮光条纹，去除未吸附的碳粉，形成位于所述遮光条纹之间的透光条纹。
优选地，所述中介层为透明导电材料，如：氧化铟锡、氧化铟锌。在衬底基板的表面形成性质稳定的中介层的步骤包括：
在所述衬底基板上形成透明导电膜层；
对所述透明导电膜层进行光刻工艺，形成间隔分布的条纹图案。
在一个具体的实施例中，通过上述步骤形成的透明导电层具有遮光条纹图案。然后在衬底基板与透明导电层相对的表面形成所需的各显示膜层，最后对透明导电层直接施加电压，将碳粉撒在衬底基板和透明导电层上，透明导电层吸附碳粉，形成遮光条纹，而衬底基板不吸附碳粉，去除未吸附的碳粉，形成位于所述遮光条纹之间的透光条纹。
当然，所述中介层也可以为不透明的导电材料，如：Al、Cu等金属或金属合金。则所述中介层具有遮光条纹图案，通过对其施加电压来吸附碳粉，形成遮光条纹，以使得光栅的遮光条纹具有足够低的透光率。
本发明的技术方案还可以通过其他形式来使得中介层或衬底基板具有吸附所述不透光材料的特性，其也属于本发明的保护范围。
为了保护光栅，使其结构稳定，本发明实施例中形成光栅的步骤还包括：
在光栅的遮光条纹和透光条纹上形成保护层。
本发明实施例中还提供一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括对盒的第一显示基板和第二显示基板，其中，所述第一显示基板采用上述的制作方法形成，即所述第一显示基板包括光栅，而且光栅的制作工艺不会对显示膜层的制作工艺产生影响。
相应地，通过上述制作方法形成的显示面板，也不会受到光栅制作工艺的影响。
当所述显示面板为液晶显示面板时，其包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板。所述第一显示基板为彩膜基板或阵列基板，所述显示面板的光栅位于彩膜基板的外表面或阵列基板的外表面。
图1-图4表示为本发明实施例中液晶显示面板的一个制作过程示意图。
结合图1-图4所示，下面以液晶显示面板的光栅位于彩膜基板的外表面为例来具体说明本发明实施例中显示面板的制作过程：
其中，形成光栅的中介层为导电材料，具有遮光条纹图案。
步骤S10、结合图1所示，提供一透明衬底基板100，如：玻璃基板、石英基板、有机树脂基板。在衬底基板100上形成导电层3，导电层3具有光栅的遮光条纹图案11，相邻的遮光条纹图案11之间为光栅的透光条纹10；
具体的，首先在衬底基板100上采用磁控溅射、热蒸发或其它成膜方法沉积厚度为几百纳米的导电薄膜，如：ITO或IZO等透明导电薄膜，Al或Cu等不透明导电薄膜。
之后，在所述导电薄膜上涂覆光刻胶，采用掩膜板对光刻胶进行曝光，形成光刻胶保留区域和光刻胶不保留区域，其中，光刻胶保留区域对应遮光条纹图案11所在的区域，光刻胶不保留区域对应透光条纹10所在的区域；
然后，刻蚀掉光刻胶不保留区域的导电薄膜；
最后，剥离剩余的光刻胶，形成导电层3。
步骤S11、如图2所示，在衬底基板100与透明导电层3相对的表面形成所需的各显示膜层；
所述显示膜层包括：
黑矩阵5，用于限定子像素区；
透射特定颜色的色阻层6，位于子像素区；
覆盖黑矩阵5和色阻层6的平坦层101。
其中，黑矩阵5、色阻层6和平坦层101的材料及其制作工艺参见现有技术，在此不再赘述。
同时，由于导电层3抗腐蚀，在显示膜层的制作工艺中不会被腐蚀。而且导电层3的厚度只有几百纳米，保证衬底基板100可以被牢固吸附。导电层3相对于现有技术中的黑色光刻胶，与衬底基板100粘接牢固，不易脱落，不会对工艺腔室造成污染。
步骤S12、对导电层3施加电压，将碳粉4撒在衬底基板100和导电层3上，导电层3吸附碳粉4，形成遮光条纹11，去除未吸附的碳粉，在遮光条纹11之间的衬底基板100形成透光条纹10，如图3所示；
至此完成彩膜基板2的制作；
步骤S13、结合图4所示，完成阵列基板1的制作；
阵列基板1可以为薄膜晶体管阵列基板，具体的制作工艺参见现有技术，在此不再赘述。
步骤S14、对盒阵列基板1和彩膜基板2，滴注液晶7，并通过封框胶8进行密封，如图4所示。
其中，光栅位于彩膜基板2的外表面。
由于在对盒工艺和滴注液晶7后不需要再进行光刻工艺，克服了液晶面板由于高温、在显影液中浸泡等原因可能造成的腐蚀，以及液晶在紫外光下照射可能变性等问题。
至此完成液晶显示面板的制作。
上述制作过程中，也可以先完成阵列基板1的制作，再进行彩膜基板2的制作。也可以在步骤S11形成彩膜基板2的显示膜层之后，先完成步骤S14中阵列基板1和彩膜基板2的对盒密封，如图5所示，然后再进行步骤12形成光栅的遮光条纹，完成光栅的制作。
当然，上述制作过程中的光栅也可以形成在阵列基板1的外表面上，如图6所示，其具体形成过程与上述类似，在此不再详述。
图7-图10表示为本发明实施例中液晶显示面板的另一制作过程示意图。
结合图7-图10所示，液晶显示面板的光栅位于彩膜基板的外表面，形成光栅的中介层为透明有机材料，具有光栅的透光条纹图案。所述液晶显示面板的制作过程为：
步骤S20、结合图7所示，提供一透明衬底基板100，如：玻璃基板、石英基板、有机树脂基板。在衬底基板100上形成透明有机层3，透明有机层3具有光栅的透光条纹10，相邻的透光条纹图案10之间为光栅的遮光条纹图案11；
步骤S21、如图8所示，在衬底基板100与透明有机层3相对的表面上形成所需的各显示膜层；
步骤S22、对衬底基板100形成有透明有机层3的表面进行摩擦起电，将碳粉4撒在衬底基板100和透明有机层3上，衬底基板100吸附碳粉4，形成遮光条纹11，去除未吸附的碳粉，透明有机层3形成透光条纹10，如图9所示；
至此完成彩膜基板2的制作；
步骤S23、结合图10所示，完成阵列基板1的制作；
步骤S24、对盒阵列基板1和彩膜基板2，滴注液晶7，并通过封框胶8进行密封，如图10所示。
至此完成液晶显示面板的制作。
其中，光栅位于彩膜基板2的外表面。
上述制作过程中，也可以先完成阵列基板1的制作，再进行彩膜基板2的制作。也可以在步骤S21形成彩膜基板2的显示膜层之后，先完成步骤S24中阵列基板1和彩膜基板2的对盒密封，如图11所示，然后再进行步骤22形成光栅的遮光条纹，完成光栅的制作。
当然，上述制作过程中的光栅也可以形成在阵列基板1的外表面上，如图12所示，其具体形成过程与上述类似，在此不再详述。
本发明的技术方案也适用于有机发光二极管显示面板，其中，光栅的制作过程与液晶显示面板中光栅的制作过程相同，不同的仅是，显示膜层包括阴极、空穴注入层、空穴传输层、电子注入层、电子传输层、阳极等，具体的制作工艺与现有技术相同。
本发明实施例中还提供一种显示装置，其包括上述的显示面板，用以提高三维显示装置和双视场显示装置的良率。
本发明的技术方案，首先通过性质稳定的中介层在显示基板的一个表面上形成光栅的条纹图案。然后在显示基板相对的另一个表面上形成所需的各显示膜层。最后在衬底基板形成有中介层的表面上形成包括所述不透光材料的膜层，所述中介层或衬底基板吸附所述不透光材料，形成光栅的遮光条纹，并在所述遮光条纹之间形成光栅的透光条纹，从而完成显示基板及其上光栅的制作。由于所述中介层不需要具有足够低的透光率，厚度较薄，形成显示膜层时可以牢固吸附衬底基板，而且稳定的特性使得中介层不会污染工艺腔室，因此，制作光栅的工艺不会对显示膜层的制作工艺产生影响。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明技术原理的前提下，还可以做出若干改进和替换，这些改进和替换也应视为本发明的保护范围。

Claims (20)

1.一种显示基板的制作方法，包括形成光栅的步骤，其特征在于，形成光栅的步骤包括：
在衬底基板的表面形成性质稳定的中介层，所述中介层具有间隔分布的条纹图案，所述中介层和衬底基板中的其中一个具有吸附不透光材料的特性，另一个不具有吸附所述不透光材料的特性；
在衬底基板上形成所述中介层之后，在衬底基板上形成包括所述不透光材料的膜层之前，所述制作方法还包括：
在所述衬底基板与所述中介层相对的表面形成所需的各显示膜层；
在形成有所述中介层的所述衬底基板表面形成包括不透光材料的膜层，所述中介层或衬底基板吸附所述不透光材料，形成遮光条纹，并在所述遮光条纹之间形成透光条纹。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，通过对中介层或衬底基板进行处理使其带电，来使其具有吸附所述不透光材料的特性。
3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述中介层为透明材料。
4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述中介层为有机材料；
对所述衬底基板形成有中介层的表面进行摩擦起电，使得所述衬底基板具有吸附所述不透光材料的特性。
5.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述中介层为导电材料；
通过对所述中介层施加电压，使得所述中介层具有吸附所述不透光材料的特性。
6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，在衬底基板的表面形成性质稳定的中介层的步骤具体包括：
在所述衬底基板上形成导电膜层；
对所述导电膜层进行光刻工艺，形成间隔分布的条纹图案。
7.根据权利要求1-6任一项所述的制作方法，其特征在于，所述不透光材料为碳粉。
8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，在所述衬底基板上形成包括不透光材料的膜层，所述中介层或衬底基板吸附所述不透光材料，形成遮光条纹，并在所述遮光条纹之间形成透光条纹的步骤具体为：
将碳粉撒在所述衬底基板和中介层上，碳粉被所述中介层或衬底基板吸附，形成遮光条纹，去除未吸附的碳粉，形成位于所述遮光条纹之间的透光条纹。
9.根据权利要求1-6任一项所述的制作方法，其特征在于，形成光栅的步骤还包括：
在所述遮光条纹和透光条纹上形成保护层。
10.根据权利要求1-6任一项所述的制作方法，其特征在于，所述中介层具有抗腐蚀性，并与衬底基板粘接牢固。
11.一种显示基板，包括光栅，其特征在于，采用如权利要求1-10中任一项所述的制作方法制作得到，所述光栅包括：
设置在衬底基板表面的中介层，所述中介层性质稳定，具有间隔分布的条纹图案，相邻的所述中介层条纹之间露出衬底基板；
所述中介层具有吸附不透光材料的特性，所述中介层吸附覆盖在所述中介层条纹上的不透光材料，形成遮光条纹，所述遮光条纹之间形成透光条纹，或，
所述衬底基板具有吸附不透光材料的特性，所述衬底基板吸附覆盖在所述中介层条纹之间的衬底基板上的不透光材料，形成遮光条纹，所述遮光条纹之间形成透光条纹。
12.根据权利要求11所述的显示基板，其特征在于，所述光栅还包括：
覆盖在所述遮光条纹和透光条纹上的保护层。
13.根据权利要求11所述的显示基板，其特征在于，在所述中介层具有吸附不透光材料的特性时，所述中介层为导电材料。
14.根据权利要求11所述的显示基板，其特征在于，在所述衬底基板具有吸附不透光材料的特性时，所述中介层为有机材料。
15.根据权利要求11-14任一项所述的显示基板，其特征在于，所述不透光材料为碳粉。
16.一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括对盒的第一显示基板和第二显示基板，其特征在于，所述制作方法包括：
采用权利要求1-10任一项所述的制作方法形成所述第一显示基板。
17.根据权利要求16显示面板的制作方法，在形成中介层后对盒所述第一显示基板和第二显示基板。
18.一种显示面板，包括权利要求11-15任一项所述的显示基板。
19.根据权利要求18所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板为液晶显示面板，包括对盒设置的彩膜基板和阵列基板；
所述显示基板为彩膜基板或阵列基板，所述显示面板的光栅位于彩膜基板的外表面或阵列基板的外表面。
20.一种显示装置，包括权利要求18或19所述的显示面板。
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