CN104233409B - 一种电镀工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种电镀方法,所述方法采用的电镀液包括:焦磷酸铜60~140g/L、六水合硫酸铜30~80g/L、硫酸锆10~15g/L、焦硫酸钾100~200g/L、氢氧化镁10~15g/L;所述电镀液的pH值为4~5。本发明通过采用上述电镀液,并配合电镀条件,得到的镀层的亮度高,耐腐性强,镀层的出白锈时间和出红锈时间均大幅度延长,其耐腐蚀明显提高,可以满足苛刻环境的使用要求。

Description

一种电镀工艺
技术领域
本发明涉及一种电镀工艺。
背景技术
电镀铜是一种传统的装饰工艺,可以模拟出金饰的装饰效果,但是铜的价格昂贵,电镀铜的成本通常较高,因此需要有一种可以使用少量铜,但是同样可以达到装饰效果的方法来美化我们的生活。
CN103484906A公开了一种铜合金的电镀方法,包括下列步骤:第一步、前处理。第二步、铜合金的电镀方法。六水合硫酸铜、氯化铜、硫酸锆、锆石粉末、硼酸和氢氧化镁,将前处理后的工件放入镀液中。通以直流电,阴极电流密度为2-7A/dm2,镀液温度为15-35℃,时间为23min,在工件表面得到铜和锆的复合镀层,亮度高于同条件的铜镀层。第三步、将上述工件用流动自来水冲洗,烘干。在镀液中加入锆盐和微量锆石粉末,可以利用锆的光泽来增强铜镀层的光泽。本方法步骤少,降低成本,得到的复合镀层光亮。但是该复合镀层的耐腐性能较差,无法满足苛刻环境的使用要求。
发明内容
针对已有技术的问题,本发明的目的在于提供一种电镀方法,所述方法采用的电镀液包括:
所述焦硫酸铜的含量例如为64g/L、68g/L、72g/L、76g/L、80g/L、84g/L、88g/L、90g/L、94g/L、98g/L、102g/L、106g/L、110g/L、114g/L、118g/L、122g/L、126g/L、130g/L、134g/L或138g/L。
所述六水合硫酸铜的含量例如为33g/L、36g/L、39g/L、42g/L、45g/L、48g/L、51g/L、54g/L、57g/L、60g/L、63g/L、66g/L、69g/L、72g/L、75g/L或78g/L。
所述硫酸锆的含量例如为10.3g/L、10.6g/L、10.9g/L、11.2g/L、11.5g/L、11.8g/L、12.1g/L、12.4g/L、12.7g/L、13g/L、13.3g/L、13.6g/L、13.9g/L、14.2g/L、14.5g/L或14.8g/L。
所述焦硫酸钾的含量例如为105g/L、110g/L、115g/L、120g/L、125g/L、130g/L、135g/L、140g/L、145g/L、150g/L、155g/L、160g/L、165g/L、170g/L、175g/L、180g/L、185g/L、190g/L或195g/L。
所述氢氧化镁的含量例如为10.3g/L、10.6g/L、10.9g/L、11.2g/L、11.5g/L、11.8g/L、12.1g/L、12.4g/L、12.7g/L、13g/L、13.3g/L、13.6g/L、13.9g/L、14.2g/L、14.5g/L或14.8g/L。
所述电镀液的pH值例如为4.1、4.2、4.3、4.4、4.5、4.6、4.7、4.8或4.9。
优选地,所述电镀液包括:
优选地,所述电镀液包括:
优选地,所述方法在以下条件进行:
电镀液温度:15~35℃;
阴极电流密度:8~20A/dm2
电镀时间:10~20min。
所述电镀液温度例如为16℃、17℃、18℃、19℃、20℃、21℃、22℃、23℃、24℃、25℃、26℃、27℃、28℃、29℃、30℃、31℃、32℃、33℃或34℃。
所述阴极电流密度例如为9A/dm2、10A/dm2、11A/dm2、12A/dm2、13A/dm2、14A/dm2、15A/dm2、16A/dm2、17A/dm2、18A/dm2或19A/dm2
所述电镀时间例如为11min、12min、13min、14min、15min、16min、17min、18min或19min。
优选地,所述方法在以下条件进行:
电镀液温度:15~30℃;
阴极电流密度:10~20A/dm2
电镀时间:12~20min。
优选地,所述方法在以下条件进行:
电镀液温度:20~30℃;
阴极电流密度:12~20A/dm2
电镀时间:14~20min。
与已有技术相比,本发明通过采用上述电镀液,并配合电镀条件,得到的镀层的亮度高,耐腐性强,镀层的出白锈时间和出红锈时间均大幅度延长,出白锈时间可以达到60小时以上,出红锈时间可以达到420小时以上,其耐腐蚀明显提高,可以满足苛刻环境的使用要求。
具体实施方式
下面通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
实施例1
一种电镀方法,所述方法采用的电镀液包括:
所述方法在以下条件进行:
电镀液温度:15℃;
阴极电流密度:8A/dm2
电镀时间:10min。
实施例2
一种电镀方法,所述方法采用的电镀液包括:
所述方法在以下条件进行:
电镀液温度:35℃;
阴极电流密度:20A/dm2
电镀时间:20min。
实施例3
一种电镀方法,所述方法采用的电镀液包括:
所述方法在以下条件进行:
电镀液温度:25℃;
阴极电流密度:12A/dm2
电镀时间:15min。
实施例4
一种电镀方法,所述方法采用的电镀液包括:
所述方法在以下条件进行:
电镀液温度:24℃;
阴极电流密度:14A/dm2
电镀时间:16min。
对比例1
其余同实施例1,除焦磷酸铜的含量为50g/L外。
对比例2
其余同实施例1,除六水合硫酸铜的含量为150g/L外。
对比例3
对比例3为CN103484906A公开的其中一个实施例。
对采用实施例1~4和对比例1~3的方法对被镀物进行电镀后的镀层进行性能测试,结果如下表所示:
实施例 镀层厚度μm 出白锈时间h 出红锈时间h
实施例1 5 70 420
实施例2 5 80 450
实施例3 5 60 500
实施例4 5 70 520
对比例1 5 12 200
对比例2 5 15 220
对比例3 5 20 250
申请人声明,本发明通过上述实施例来说明本发明的详细方法,但本发明并不局限于上述详细方法,即不意味着本发明必须依赖上述详细方法才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了,对本发明的任何改进,对本发明产品各原料的等效替换及辅助成分的添加、具体方式的选择等,均落在本发明的保护范围和公开范围之内。

Claims (6)

1.一种电镀方法,其特征在于,所述方法采用的电镀液包括:
所述电镀液的pH值为4~5。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述电镀液包括:
所述电镀液的pH值为4~5。
3.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述电镀液包括:
所述电镀液的pH值为4~5。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法在以下条件进行:电镀液温度:15~35℃;
阴极电流密度:8~20A/dm2
电镀时间:10~20min。
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,所述方法在以下条件进行:
电镀液温度:15~30℃;
阴极电流密度:10~20A/dm2
电镀时间:12~20min。
6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述方法在以下条件进行:
电镀液温度:20~30℃;
阴极电流密度:12~20A/dm2
电镀时间:14~20min。
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