CN104141105B - 掩膜组件 - Google Patents

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Abstract

一种掩膜组件，包括：掩膜框架，具有形成在该掩膜框架上的框架开口；和被固定到所述掩膜框架的多个单元掩膜。各个单元掩膜沿第一方向延伸，而且所述多个单元掩膜中的至少一个单元掩膜，包括在该至少一个单元掩膜的两端部处沿与所述第一方向相交的第二方向伸出到其一侧的一侧向伸出部和伸出到其另一侧的另一侧向伸出部中的至少一个。

Description

掩膜组件
技术领域
本公开涉及一种掩膜组件。
背景技术
作为平板显示器，液晶显示器（LCD）和有机发光显示器（OLED）已经被广泛使用。平板显示器包括特定图案的金属层，并且在有机发光显示器的情况下，特定图案的有机发光层针对每个像素形成。作为用于形成金属层和有机发光层的方法，可应用使用掩膜组件的沉积方法。
掩膜组件可包括具有对应于金属层或有机发光层的图案的开口的掩膜，和支撑掩膜的掩膜框架。例如，在分割掩膜方法中，掩膜被分成带状的多个单元掩膜，并且各个单元掩膜在单元掩膜沿长度方向被延伸的状态下通过焊接而被固定到掩膜框架。分割掩膜方法具有的优点例如为能够选择性地使用良好的产品并且能够容易地对其进行维修。
发明内容
单元掩膜可沿长度方向延伸并且可被固定到掩膜框架。然而，在此情况下，沿与延伸方向正交的方向（也就是沿宽度方向）可能发生收缩现象，并且这可导致在整个掩膜上发生波形。发生在掩膜上的波形随着单元掩膜的宽度变得更大而变得更严重。
进一步，单元掩膜的两侧的端部被固定到夹具并且被延伸，并且由于单元掩膜自身由薄金属板材料形成，单元掩膜可能不能耐受夹具的拉力，因此围绕固定到夹具的端部可发生波形。发生在单元掩膜的端部上的波形可能甚至到达单元掩膜的形成开口的中心部分，从而导致沉积劣化。
另一方面，单元掩膜通过焊接被固定到掩膜框架，并且此时，部分地拉动单元掩膜的力围绕焊接点发生，因此波形可能围绕焊接点发生在单元掩膜上。围绕单元掩膜的焊接点发生的波形扩展到单元掩膜的中心部分，从而导致沉积劣化。
本发明示例性实施例提供一种掩膜组件，其能够通过抑制在单元掩膜上的波形的发生而提高薄膜的沉积质量。
本发明示例性实施例提供一种制造掩膜组件的方法，其能够通过抑制在单元掩膜上的波形的发生而提高薄膜的沉积质量。
根据本发明示例性实施例，提供一种掩膜组件包括：掩膜框架，具有形成在该掩膜框架上的框架开口；和被固定到所述掩膜框架的多个单元掩膜。各个单元掩膜沿第一方向延伸，所述多个单元掩膜中的至少一个单元掩膜包括在所述单元掩膜的两端部处沿与所述第一方向相交的第二方向伸出到其一侧的一侧向伸出部和伸出到其另一侧的另一侧向伸出部中的至少一个。
根据本发明示例性实施例，提供一种掩膜组件包括：掩膜框架，具有形成在该掩膜框架上的框架开口；和被固定到所述掩膜框架的多个单元掩膜。各个单元掩膜沿第一方向延伸，所述单元掩膜沿所述第一方向的最外部分的宽度大于所述单元掩膜的中心部分的宽度。
根据本发明示例性实施例，提供一种用于制造掩膜组件的方法，其包括：准备掩膜框架，其中多个延伸单元和多个单元掩膜被安装在该掩膜框架上，多个单元掩膜包括沿第一方向从其两端部伸出的夹紧部分和沿与第一方向相交的第二方向从其两端部伸出的伸出部；使所述掩膜框架上的所述多个单元掩膜中的任何一个的所述夹紧部分沿所述第一方向延伸；将所述单元掩膜的沿所述第一方向延伸的伸出部固定到所述延伸单元的移动构件；使所述单元掩膜的所述伸出部通过所述移动构件沿所述第二方向的移动而沿所述第二方向延伸；将所述单元掩膜的沿所述第二方向延伸的两端部固定到掩膜框架；和将单元掩膜的两端部固定的夹紧部分分离。
根据本发明示例性实施例，提供一种掩膜组件。该掩膜组件包括：掩膜框架，限定所述掩膜组件的外框架并且包括在位于在其中的开口和在其一侧的凹形槽；和固定到所述掩膜框架的多个单元掩膜。各个单元掩膜沿第一方向延伸，并且所述多个单元掩膜中的至少一个单元掩膜包括在所述单元掩膜的两端部处沿与所述第一方向相交的第二方向伸出到其第一侧的一侧向伸出部和伸出到其另一侧的另一侧向伸出部中的至少一个。
所述掩膜组件进一步包括布置在所述掩膜框架的所述凹形槽内位于两个相邻的单元掩膜之间的延伸单元。所述延伸单元包括布置为在所述凹形槽的底部上沿所述第二方向成一条线的引导轨、联接到所述引导轨的移动构件和布置在所述移动构件的侧壁上并且被配置为控制所述移动构件的移动的移动控制部分。所述移动构件被联接到所述引导轨并且被配置为在所述凹形槽中沿所述第二方向滑动，并且所述移动控制部分包括具有齿条的齿条联接部分和具有配置为与所述齿条接合的小齿轮的驱动轴，引导联接部分布置在所述凹形槽的侧壁上并且被配置为通过沿所述第二方向与所述齿条联接部分进入表面接触而引导所述齿条联接部分的移动。
另外，所述掩膜组件进一步包括焊接部分，该焊接部分包括被配置为通过焊接将所述伸出部与所述延伸单元彼此固定的第一焊接部分和被配置为通过焊接将各个单元掩膜的两端部与所述掩膜框架彼此固定的第二焊接部分。
根据本发明实施例，至少实现下面的优点。
由于根据本发明实施例的掩膜组件沿第一方向延伸，其上发生波形的多个单元掩膜沿第二方向延伸从而有效地去除波形。因此，由于波形导致的多个单元掩膜的图案的开口的变形被抑制，因此薄膜的沉积质量提高。
进一步，由于根据本发明实施例的掩膜组件将从多个单元掩膜中的至少一个的两端部沿第二方向伸出的伸出部固定到延伸单元，因此即使在掩膜组件的形成完成之后，单元掩膜仍能够稳定地维持沿第二方向的延伸状态。
附图说明
结合附图从下面的详细说明能够更详细地理解本发明的示例性实施例，附图中：
图1为根据本发明实施例的掩膜组件的俯视图；
图2为被提供为形成图1的掩膜组件的掩膜框架和多个单元掩膜的透视图；
图3为图1的部分“A”的放大透视图；
图4为图1的部分“B”的放大透视图；
图5为图1中例示的延伸单元的剖视图；
图6为图1中例示的延伸单元的局部透视图；
图7和图8为根据本发明实施例的掩膜框架的俯视图；
图9为例示出用于制造图1的掩膜组件的方法的流程图；
图10为例示出图9的伸出部固定的局部透视图；
图11为例示出图9的伸出部延伸的局部透视图；
图12为例示出图9的两端部固定的局部透视图；
图13为例示出图9的分离的局部透视图；
图14为根据本发明实施例的掩膜组件的俯视图；和
图15为根据本发明另一实施例的掩膜组件的俯视图。
具体实施方式
然而，本发明示例性实施例可被实施为很多不同的形式，并且不应被解释为限于本文提出的示例性实施例。
还将理解的是，当层被提及为在另一层或基板“上”时，其能够直接在另一层或基板上，或者还可存在中间层。相同的附图标记在整个说明书中指代相同的部件。
如这里所使用的那样，用语“和/或”包括一个或多个相关列出项中的任意一个和所有组合。而且，如这里所使用的那样，单数形式的“一”、“一个”和“所述”旨在还包括复数形式，除非上下文另外清楚指出之外。
下文中，将参照附图详细描述本发明的示例性实施例。
图1为根据本发明实施例的掩膜组件的俯视图，图2为被提供为形成图1的掩膜组件的掩膜框架和多个单元掩膜的透视图。图3为图1的部分“A”的放大透视图，图4为图1的部分“B”的放大透视图。图5为图1中例示的延伸单元的剖视图，图6为图1中例示的延伸单元的局部透视图。
参照图1，根据本发明实施例的掩膜组件100例如包括掩膜框架110、多个单元掩膜120、多个延伸单元130和多个焊接部分140。
掩膜框架110形成掩膜组件100的外框架，并且可具有例如其中心形成有框架开口111的矩形带状。掩膜框架110支撑多个单元掩膜120，并且可通过例如焊接被联接到多个单元掩膜120。进一步，参照图2，掩膜框架110可例如包括多个凹形槽112，其形成在多个单元掩膜120被焊接的侧部上。凹形槽112提供了延伸单元130安装的空间。这里，在掩膜框架110的未形成凹形槽112的表面113上，多个单元掩膜120通过例如焊接被固定。掩膜框架110可由具有高强度的金属材料形成，例如不锈钢、铝（Al）、电镀锌钢板（SECC）等。
多个单元掩膜120例如为具有预定长度和宽度的带状。在说明中，多个单元掩膜120的长度方向被定义为例如第一方向X，多个单元掩膜120的宽度方向被定义为第二方向Y。第一方向X和第二方向Y之间的角度可为例如直角。多个单元掩膜120被配置为例如沿第一方向X延伸。多个单元掩膜120中的每一个在张力沿第一方向X和第二方向Y施加到单元掩膜120的两个端部的状态下通过例如焊接被固定到掩膜框架110以便被掩膜框架110支撑。也就是，多个单元掩膜120例如不仅沿第一方向X延伸而且沿第二方向Y延伸。因此，可由第一方向X上的张力导致的波形可被第二方向Y上的延伸防止或减轻。多个单元掩膜120可被设置为例如在掩膜框架110上沿第二方向Y成一条线。
多个单元掩膜120中的每一个包括例如多个图案开口OP。多个图案开口OP被定位为例如成一条线以沿第一方向X彼此分开。多个图案开口OP可被设置为例如在框架开口111中。每个图案开口OP包括例如多个微小开口，并且多个微小开口可被配置为对应于待沉积在被设置于多个单元掩膜120上的基板（未示出）上的薄膜的形状。因此，在沉积过程中，沉积材料例如通过图案开口OP被沉积在基板上，具有期望形状的薄膜（例如有机发光层或金属层）可被形成。
一个图案开口OP可对应于例如一个平板显示器（例如有机发光显示器）。在此情况下，与多个平板显示器对应的图案可例如通过使用一个掩膜组件100的单个过程被同时沉积。也就是，掩膜组件100对应于一个母基板，并且对应于多个平板显示器的图案被同时形成在母基板上。注意到，本发明示例性实施例不限于通过使用一个掩膜组件100的单个过程来同时沉积图案。
多个单元掩膜120可包括例如第一单元掩膜121、第二单元掩膜122、第三单元掩膜123、第四单元掩膜124、第五单元掩膜125和第六单元掩膜126。在该实施例中，以6个单元掩膜120作为示例。然而，单元掩膜120的数量不限于此，因此在示例性实施例中，可以使用多于6个单元掩膜120或小于6个单元掩膜120。
例如，在掩膜框架110被安装之前，如图2中例示的那样沿第一方向X伸出以便被联接到沿第一方向X施加扩张力的夹具（未例示）的夹紧部分C可形成在单元掩膜121至126的两端部处。注意到，本发明的示例性实施例不限于这里描述的夹紧部分C，而是也可使用适于执行夹紧部分C的上面提到的功能的其他元件。在单元掩膜121至126被安装在掩膜框架110上之后，夹紧部分C例如可被切除和去除。
进一步，在被安装在掩膜框架110上之前，单元掩膜121至126可包括例如从其两端部沿第二方向Y伸出到一侧和另一侧的伸出部P。例如，从各个单元掩膜121至126的两端部沿第二方向Y伸出到一侧的伸出部被定义为一侧向伸出部P，并且伸出到另一侧的伸出部被定义为另一侧向伸出部P。在被安装到掩膜框架110之后，多个单元掩膜120中的至少一个可包括例如提供在单元掩膜120的两端部处的一侧向伸出部P和另一侧向伸出部P中的至少一个。伸出部P被固定到延伸单元130，因此即使在掩膜组件100的形成完成之后，单元掩膜120仍能够在第二方向Y上被稳定地保持在延伸状态。
各个单元掩膜121至126的伸出部P的部分可在单元掩膜121至126安装在掩膜框架110上之后被去除。例如，当彼此相邻的第三单元掩膜123和第四单元掩膜124安装在掩膜框架110上时，从第三单元掩膜123的两端部沿第二方向Y（第四单元掩膜方向）伸出到另一侧的伸出部P可例如重叠从第四单元掩膜124的两端部沿第二方向Y（第三单元掩膜方向）伸出到所述一侧的伸出部P。由于它们共同使用一个延伸单元130延伸，相邻的单元掩膜之间的至少一个伸出部P可在被延伸单元130延伸之后被切除。图1示例性地例示出第一至第五单元掩膜121至125的一侧向伸出部P保留但其另一侧向伸出部P被去除的情况。例如，如果第三单元掩膜123包括在其一个端部处的一侧向伸出部P，第四单元掩膜124可不包括在其一个端部处的另一侧向伸出部P。进一步，如果第三单元掩膜123包括在其一个端部处的另一侧向伸出部P，第四单元掩膜124可例如不包括在其一个端部处的一侧向伸出部P。另一方面，定位在最外侧的第一单元掩膜121（称为第一最外单元掩膜）和第六单元掩膜126（称为第二最外单元掩膜）中的至少一个可包括例如在其一个端部处的一侧向伸出部P和另一侧向伸出部P两者。例如，由于第六单元掩膜126的另一侧向伸出部P不重叠另一单元掩膜的伸出部，即使在第六单元掩膜126被安装在掩膜框架110上之后，第六单元掩膜126的不仅一侧向伸出部P而且另一侧向伸出部P仍可保留。伸出部的伸出距离可例如不大于相邻的单元掩膜的分开距离。
可替代地，在示例性实施例中，所有的一侧向伸出部P和另一侧向伸出部P在制造过程中可被切除并且与多个单元掩膜分开，因此完成的掩膜组件不包括任何伸出部。
多个延伸单元130例如安装在掩膜框架110的其中多个单元掩膜120的两端部被固定的两侧上，并且被定位为沿第二方向Y彼此相距一距离。多个延伸单元130例如沿第二方向Y在预定空间中移动，并且沿第二方向Y延伸多个单元掩膜120的两端部，具体地为，图2中例示的多个单元掩膜120的各个伸出部P。因此，由多个单元掩膜沿第一方向X分别延伸导致的波形可被减轻。多个延伸单元130例如可通过焊接被分别固定到多个单元掩膜120。
参照图3和图4，多个延伸单元130可分别包括例如沿第二方向Y在预定空间内移动的移动构件131。移动构件131例如被基本固定到多个单元掩膜120的各个伸出部P，并且延伸多个单元掩膜120的伸出部P以便去除多个单元掩膜120上发生的波形。在沿第二方向Y延伸之后，伸出部P的部分可从多个单元掩膜120去除。将在稍后描述的用于制造掩膜组件100的方法中详细描述使用伸出部P和多个延伸单元130从多个单元掩膜120去除波形的过程。
多个延伸单元130被定位在例如多个单元掩膜120的两侧（左侧和右侧）。在此情况下，由于两个相邻的单元掩膜（例如121和122）能够被相继固定到一个延伸单元130，该一个延伸单元130被定位在两个相邻的单元掩膜（例如121和122）之间。
因此，多个延伸单元130被定位为例如对应于多个单元掩膜120与最外单元掩膜121和126的外空间之间的空间。也就是，例如，如果假设多个单元掩膜120的数量为n，（n+1）个延伸单元130被提供在掩膜框架110的一侧。由于一个延伸单元130被定位在两个相邻的单元掩膜（例如121和122）之间，能够使不必要的空间扩展最小化，并且能够减小多个单元掩膜120之间的间隙。因此，能够形成在一个母基板上的图案的数量能够通过增加提供在一个掩膜组件100中的图案开口的数量而被增加。
参照图5和图6，多个延伸单元130中的每一个可包括例如形成在凹形槽112中的引导轨132、联接到引导轨132的移动构件131和控制移动构件131的移动的移动控制部分133。
引导轨132被形成为例如位于凹形槽112的底部上沿第二方向Y成一条线，并且被提供为槽或突起的形式。图5示例性地例示出为槽形式的两个引导轨132形成在凹形槽112的底部上，但引导轨132的数量和形状不限于示例性例示出的那些。
移动构件131例如被联接到引导轨132并且在凹形槽112中沿第二方向Y滑动。移动构件131可与引导轨132具有例如突起-槽联接结构。移动构件131的宽度被设定为例如小于凹形槽112的宽度，因此移动构件131在凹形槽112中向左和向右移动。移动构件131的表面例如具有与掩膜框架110的表面113相同的高度。
移动控制部分133例如被联接到移动构件131，并且控制移动构件131沿第二方向Y的移动。例如，移动控制部分133被安装在移动构件131的侧壁上，并且可包括具有齿条134a的齿条联接部分134和具有与齿条134a接合的小齿轮135a的驱动轴135。驱动轴135例如被定位在凹形槽112的一个侧壁和移动构件131之间，并且可与外部电源（未示出）接合以便在驱动轴135被掩膜框架110支撑的状态下旋转。
如果驱动轴135基于图5顺时针旋转，齿条联接部分134例如被推出凹形槽112的侧壁，因此移动构件131移动到右侧。相反，如果驱动轴135逆时针旋转，齿条联接部分134例如被拉向凹形槽112的侧壁，因此移动构件131移动到左侧。移动构件131的移动量例如与驱动轴135的旋转量成比例。根据驱动轴135的旋转方向和旋转量，移动构件131的移动方向和移动量能够被精确控制。
移动控制部分133可进一步包括例如安装在凹形槽112的侧壁上的引导联接部分136。引导联接部分136通过沿第二方向Y与齿条联接部分134表面接触而引导齿条联接部分134的移动。例如，齿条联接部分134可包括朝向驱动轴135伸出的至少一个第一水平部分134b，并且引导联接部分136可包括沿第二方向Y与第一水平部分134b表面接触的至少一个第二水平部分136a。
第一水平部分134b和第二水平部分136a可被提供为例如成对。在此情况下，齿条134a可被形成为例如在一对第一水平部分134b的任何一个的内部。进一步，一对第二水平部分136a中的任何一个可从第一水平部分134b的外部与第一水平部分134b表面接触，并且第二水平部分136a中的另一个可从第一水平部分134b的内部与第一水平部分134b表面接触。
移动控制部分133的配置不限于上面描述的示例，并且能够应用任何配置，只要其能够使移动构件131沿第二方向Y在凹形槽112中滑动即可。
多个焊接部分140中的每一个可包括例如第一焊接部分141和第二焊接部分142，并且可通过点焊或激光焊接形成。例如，第一焊接部分141将多个单元掩膜120的相应的伸出部P与多个延伸单元130的相应的移动构件131彼此固定，并且第二焊接部分142将多个单元掩膜120的两端部与掩膜框架110的表面113彼此固定。
下文中，将更详细地描述具有各种设置形式并且应用到上述掩膜组件100的多个单元掩膜。
图7和图8为根据本发明实施例的掩膜框架的俯视图。
图7示例性地例示出多个单元掩膜220的至少部分具有一形式，并且不包括一侧向伸出部P和另一侧向伸出部P的单元掩膜和包括一侧向伸出部P和另一侧向伸出部P的单元掩膜被交替设置。例如，多个单元掩膜220可包括第一单元掩膜221、第二单元掩膜222、第三单元掩膜223、第四单元掩膜224、第五单元掩膜225和第六单元掩膜226。在此情况下，第二单元掩膜222和第四单元掩膜224可为例如不包括一侧向伸出部P和另一侧向伸出部P的单元掩膜，第三单元掩膜223和第五单元掩膜225可为例如包括一侧向伸出部P和另一侧向伸出部P的单元掩膜。这种设置可通过例如将第一单元掩膜221、第二单元掩膜222、第三单元掩膜223、第四单元掩膜224、第五单元掩膜225和第六单元掩膜226以预定顺序而不是规律的顺序被联接到掩膜框架110而被形成。图7中例示出的多个单元掩膜220可例如以第二单元掩膜222、第四单元掩膜224、第一单元掩膜221、第六单元掩膜226、第三单元掩膜223和第五单元掩膜225的顺序被联接到掩膜框架110。另一方面，应用到第二单元掩膜222和第四单元掩膜224（其在图7中为不包括一侧向伸出部P和另一侧向伸出部P的单元掩膜）的焊接部分140可仅包括例如第二焊接部分142。
图8示例性地例示出多个单元掩膜320具有一形式，不包括一侧向伸出部P和另一侧向伸出部P的单元掩膜、包括一侧向伸出部P但不包括另一侧向伸出部P的单元掩膜以及包括一侧向伸出部P和另一侧向伸出部P的单元掩膜中的至少两个被随意设置。例如，多个单元掩膜320可包括第一单元掩膜321、第二单元掩膜322、第三单元掩膜323、第四单元掩膜324、第五单元掩膜325和第六单元掩膜326。在此情况下，第三单元掩膜323和第四单元掩膜324可为例如不包括一侧向伸出部P和另一侧向伸出部P的单元掩膜。另外，第一单元掩膜321、第二单元掩膜322和第五单元掩膜325可为例如包括一侧向伸出部P但不包括另一侧向伸出部P的单元掩膜，第六单元掩膜326可为例如包括一侧向伸出部P和另一侧向伸出部P的单元掩膜。这种设置可通过例如将第一单元掩膜321、第二单元掩膜322、第三单元掩膜323、第四单元掩膜324、第五单元掩膜325和第六单元掩膜326以预定顺序而不是规律的顺序被联接到掩膜框架110而被形成。图8中例示出的多个单元掩膜320可例如以第三单元掩膜323、第四单元掩膜324、第一单元掩膜321、第二单元掩膜322、第五单元掩膜325和第六单元掩膜326的顺序被联接到掩膜框架110。另一方面，应用到第三单元掩膜323和第四单元掩膜324（其在图8中为不包括一侧向伸出部P和另一侧向伸出部P的单元掩膜）的焊接部分140可仅包括例如第二焊接部分142。
如上述根据本发明实施例的掩膜组件100可通过沿第二方向Y延伸由于沿第一方向的延伸而发生波形的多个单元掩膜120而有效地去除波形。因此，由于波形导致的多个单元掩膜120的相应图案开口的变形能够被抑制，因此薄膜的沉积质量能够被增加。
进一步，根据本发明实施例的掩膜组件100将例如沿第二方向Y从多个单元掩膜120中的至少一个的两端部伸出的伸出部P固定到延伸单元130，因此即使在掩膜组件100的形成完成之后，仍能够稳定地保持单元掩膜120在第二方向Y上的延伸状态。
接下来，将描述根据本发明实施例的用于制造掩膜组件100的方法。
图9为例示出用于制造图1的掩膜组件的方法的流程图。图10为例示出图9的伸出部固定的局部透视图，图11为例示出图9的伸出部延伸的局部透视图，图12为例示出图9的两端部固定的局部透视图，图13为例示出图9的分离的局部透视图。
参照图9，根据本发明实施例的用于制造掩膜组件100的方法可例如包括准备掩膜框架和多个单元掩膜（S10）、延伸夹紧部分（S20）、固定伸出部（S30）、延伸伸出部（S40）、固定两端部（S50）和分离（S60）。
准备掩膜框架和多个单元掩膜（S10）为准备掩膜框架（图2中的110）和多个单元掩膜（图2中的120）。例如，其上形成框架开口（图2中的111）的掩膜框架110和多个延伸单元（图2中的130）被分别安装在多个凹形槽（图2中的112）中，并且准备包括从其两端部沿第一方向X伸出的夹紧部分（图2中的C）、沿第二方向Y伸出的伸出部（图2中的P）和形成在两端部之间的多个开口（图2中的OP）的多个单元掩膜120。
延伸夹紧部分（S20）为例如使多个单元掩膜120中的任何一个的夹紧部分（图2中的C）延伸。例如，多个单元掩膜120中的任何一个（例如121）的夹紧部分C被沿多个单元掩膜120的第一方向X施加扩展力的夹具（未示出）延伸。
参照图9和图10，固定伸出部（S30）例如为通过焊接将沿第一方向X被延伸的多个单元掩膜120中的任何一个（例如121）的伸出部P固定到延伸单元130，具体地为移动构件131。此时，伸出部P通过例如焊接被固定到移动构件131，因此第一焊接部分141被形成。进一步，移动构件131例如被定位为在凹形槽112中最靠近多个单元掩膜120中的任何一个（例如121）。也就是，移动控制部分（图5中的133）可确定移动构件131的位置，从而凹形槽112的朝向多个单元掩膜120中的任何一个（例如121）的一个侧壁与移动构件131之间的距离最小化。
参照图9和图11，延伸伸出部（S40）例如为通过沿第二方向Y移动移动构件131而使多个单元掩膜120中的任何一个（例如121）的伸出部P沿第二方向Y延伸。因此，在延伸夹紧部分（S20）时可能在多个单元掩膜120中的任何一个（例如121）上发生的波形能够在延伸伸出部（S40）时去除。
基于图5中例示的移动控制部分133的配置，定位在基于图11的单元掩膜121的右侧的移动构件131通过顺时针旋转驱动轴135而被移动到右侧。相反，定位在单元掩膜121的左侧的移动构件131通过逆时针旋转驱动轴135而被移动到左侧。
如上所述，通过使定位在单元掩膜121的左侧和右侧的两个移动构件131滑动远离彼此，单元掩膜121的端部沿第二方向Y延伸。由于移动构件131的移动方向和移动量能够被精确调节，用于去除波形的单元掩膜121的扩展力能够被精密地控制。
参照图9和图12，固定两端部（S50）例如为通过焊接将沿第二方向Y延伸的多个单元掩膜120中的任何一个（例如121）的两端部固定到掩膜框架110的表面113。在此情况下，两端部通过例如焊接被固定到掩膜框架110的表面113，因此第二焊接部分142被形成。
参照图9和图13，分离（S60）例如为将两端部固定的多个单元掩膜中的任何一个（例如121）的夹紧部分C去除。夹紧部分C的去除可例如通过使用刀具的切割过程执行。注意到，本发明示例性实施例不限于使用刀具的切割过程来去除夹紧部分C，而是还可使用用于去除夹紧部分C的任何合适的方法。进一步，例如，在分离（S60）中，多个单元掩膜120中的任何一个（例如121）的至少一个伸出部P可被去除。伸出部P的去除可例如通过使用刀具的切割过程执行。另一方面，伸出部P的去除可根据掩膜组件100的多个单元掩膜120的伸出部P的样式而执行或省略。例如，如果单元掩膜在完成的掩膜组件100中没有伸出部或者具有一个伸出部，则可执行去除伸出部P的过程，如果单元掩膜具有两个伸出部，可以省略去除伸出部P的过程。之后，除了固定到掩膜框架110的单元掩膜121之外，另一单元掩膜（例如122）可被提供。另一单元掩膜（例如122）可通过重复上述的延伸夹紧部分（S20）、固定伸出部（S30）、延伸伸出部（S40）、固定两端部（S50）和分离（S60）的过程而被固定到掩膜框架110。这里，用于沿第二方向Y延伸单元掩膜121的伸出部P的移动构件131例如还被用于沿第二方向Y延伸单元掩膜122的伸出部P。
如上所述，在一个单元掩膜通过上述的延伸夹紧部分（S20）、固定伸出部（S30）、延伸伸出部（S40）、固定两端部（S50）和分离（S60）的过程被固定到掩膜框架之后，另一单元掩膜通过在该另一单元掩膜上重复过程步骤（S20）、（S30）、（S40）、（S50）和（S60）被固定到掩膜框架，以便形成掩膜组件100。也就是，由于针对每个单元掩膜重复过程步骤（S20）、（S30）、（S40）、（S50）和（S60），多个单元掩膜被固定到掩膜框架从而形成掩膜组件100。
接下来，将描述根据本发明实施例的掩膜组件400。
图14为根据本发明实施例的掩膜组件的俯视图。
参照图14，除了多个单元掩膜420具有不同的形状之外，根据本发明实施例的掩膜组件400具有与图1的掩膜组件100相同的配置。因此，将围绕多个单元掩膜420描述根据本发明本实施例的掩膜组件400。
多个单元掩膜420例如可包括第一单元掩膜421、第二单元掩膜422、第三单元掩膜423、第四单元掩膜424、第五单元掩膜425和第六单元掩膜426，并且类似于图1中的多个单元掩膜120。然而，在每个单元掩膜420中，第一方向X中的最外部分的宽度W1例如大于中心部分的宽度W2。这可对应于多个单元掩膜420的夹紧部分（参见图2中的C）被夹具（未示出）强有力地延伸的情况。进一步，在每个单元掩膜420中，第一方向X中的侧部可例如为抛物线形式。进一步，每个单元掩膜420例如可为在第二方向Y上的凹形形式。
进一步，在每个单元掩膜420中，不仅夹紧部分（参见图2中的C）而且伸出部（参见图2中的P）例如在制造过程中均被切割并与多个单元掩膜420分离，因此完成的掩膜组件400不具有伸出部。
如上所述，根据本发明本实施例的掩膜组件400，通过使其上由于沿第一方向X的延伸而发生波形的多个单元掩膜420在第二方向Y上延伸，而能够有效地去除波形。因此，由于波形导致的多个单元掩膜420的图案开口OP的变形被抑制，因此能够增加薄膜的沉积质量。
在根据本实施例的用于制造掩膜组件400的方法中，应用根据本发明实施例的用于制造掩膜组件100的方法中的步骤基本相同的步骤。
然而，根据本发明本实施例的用于制造掩膜组件400的方法，多个单元掩膜420的各个夹紧部分（参见图2中的C）在延伸夹紧部分时被夹具（未示出）强有力地延伸。进一步，不仅夹紧部分（参见图2中的C）而且多个单元掩膜420的伸出部（参见图2中的P）例如在分离过程中均分别被切割并与多个单元掩膜420分离。
接下来，将描述根据本发明实施例的掩膜组件500。
图15为根据本发明实施例的掩膜组件的俯视图。
参照图15，除了多个单元掩膜520具有不同的形状之外，根据本发明本实施例的掩膜组件500具有与图1的掩膜组件100相同的配置。因此，将围绕多个单元掩膜520描述本发明本实施例的掩膜组件500。
多个单元掩膜520例如包括第一单元掩膜521、第二单元掩膜522、第三单元掩膜523、第四单元掩膜524、第五单元掩膜525和第六单元掩膜526，并且类似于图1的多个单元掩膜120，多个单元掩膜520中的至少一个可例如包括从两端部沿第二方向Y伸出的至少一个伸出部P。然而，在多个单元掩膜520中，沿第一方向X的最外部分的宽度例如大于中心部分的宽度。这可对应于多个单元掩膜520的夹紧部分（参见图2中的C）被夹具（未示出）强有力地延伸的情况。进一步，在每个单元掩膜520中，沿第一方向X的侧部例如可为抛物线形式。进一步，每个单元掩膜520例如可为在第二方向Y上的凹形形式。
如上所述，根据本发明本实施例的掩膜组件500，通过使其上由于沿第一方向X的延伸而发生波形的多个单元掩膜520在第二方向Y上延伸，而能够有效地去除波形。因此，由于波形导致的多个单元掩膜520的图案开口OP的变形能被抑制，因此能够提高薄膜的沉积质量。
进一步，根据本发明实施例的掩膜组件500，由于沿第二方向Y从多个单元掩膜520中的至少一个的两端部伸出的伸出部P通过延伸单元130被固定，因此即使在掩膜组件500的形成完成之后，仍能够稳定地保持单元掩膜520在第二方向Y上的延伸状态。
另一方面，图15例示出根据本发明本实施例的掩膜组件500的伸出部P的设置图案与图1的掩膜组件100的伸出部P的设置图案相同。然而，可替代地，掩膜组件500的伸出部P的设置图案可与图7和图8中的伸出部P的设置图案相同。
在根据本实施例的用于制造掩膜组件500的方法中，具有与用于制造掩膜组件100的方法的步骤基本相同的步骤。
然而，根据本发明本实施例的用于制造掩膜组件500的方法，多个单元掩膜520的各个夹紧部分（参见图2中的C）在延伸夹紧部分时被夹具（未示出）强有力地延伸。
已经描述了本发明的示例性实施例，进一步注意的是，对于本领域普通技术人员明显的是在不脱离本发明的由所附权利要求的界限所限定的精神和范围的情况下可以进行各种修改。

Claims (10)

1.一种掩膜组件，包括：
掩膜框架，具有形成在该掩膜框架上的框架开口；和
被固定到所述掩膜框架的多个单元掩膜；
其中各个单元掩膜沿第一方向延伸，
其中所述多个单元掩膜中的至少一个单元掩膜，包括在所述至少一个单元掩膜的两端部处沿与所述第一方向相交的第二方向伸出到其一侧的一侧向伸出部和伸出到其另一侧的另一侧向伸出部中的至少一个，
其中各个单元掩膜沿所述第二方向彼此分开，并且
其中所述伸出部的伸出长度不大于相邻的单元掩膜之间的分开距离。
2.如权利要求1所述的掩膜组件，其中所述多个单元掩膜包括第一单元掩膜和被布置为与所述第一单元掩膜相邻的第二单元掩膜。
3.如权利要求2所述的掩膜组件，其中所述第一单元掩膜包括在其一个端部处的所述一侧向伸出部，并且所述第二单元掩膜在其该一个端部处不包括所述另一侧向伸出部。
4.如权利要求2所述的掩膜组件，其中所述第二单元掩膜包括在其一个端部处的所述另一侧向伸出部，并且所述第一单元掩膜在其该一个端部处不包括所述一侧向伸出部。
5.如权利要求1所述的掩膜组件，其中所述多个单元掩膜包括布置在所述掩膜框架的两个最外侧上的第一最外单元掩膜和第二最外单元掩膜，并且
其中所述第一最外单元掩膜和所述第二最外单元掩膜中的至少一个包括在其一个端部处的所述一侧向伸出部和所述另一侧向伸出部二者。
6.如权利要求1所述的掩膜组件，其中所述多个单元掩膜中的每一个沿所述第一方向的最外部分的宽度大于其中心部分的宽度。
7.如权利要求6所述的掩膜组件，其中所述多个单元掩膜中的每一个沿所述第一方向的侧部为抛物线形式。
8.如权利要求6所述的掩膜组件，其中所述多个单元掩膜中的每一个沿所述第二方向具有凹形形式。
9.一种掩膜组件，包括：
掩膜框架，具有形成在该掩膜框架上的框架开口；和
被固定到所述掩膜框架的多个单元掩膜；
其中各个单元掩膜沿第一方向延伸，而且
其中所述多个单元掩膜中的至少一个单元掩膜，包括在所述至少一个单元掩膜的两端部处沿与所述第一方向相交的第二方向伸出到其一侧的一侧向伸出部和伸出到其另一侧的另一侧向伸出部中的至少一个，
所述掩膜组件进一步包括多个延伸单元，该多个延伸单元布置在所述掩膜框架上并且被配置为通过沿所述第二方向在所述多个单元掩膜中的两个相邻的单元掩膜之间的移动而使所述多个单元掩膜的两端部沿所述第二方向延伸。
10.如权利要求9所述的掩膜组件，进一步包括焊接部分，该焊接部分包括被配置为通过焊接将所述伸出部与所述延伸单元彼此固定的第一焊接部分和被配置为通过焊接将各个单元掩膜的两端部与所述掩膜框架彼此固定的第二焊接部分。
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