CN104102090B - 压印装置、物品的制造方法以及对准装置 - Google Patents

压印装置、物品的制造方法以及对准装置 Download PDF

Info

Publication number
CN104102090B
CN104102090B CN201410127464.9A CN201410127464A CN104102090B CN 104102090 B CN104102090 B CN 104102090B CN 201410127464 A CN201410127464 A CN 201410127464A CN 104102090 B CN104102090 B CN 104102090B
Authority
CN
China
Prior art keywords
detector
mark
shooting area
substrate
mould
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201410127464.9A
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Other versions
CN104102090A (zh
Inventor
佐藤浩司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Publication of CN104102090A publication Critical patent/CN104102090A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104102090B publication Critical patent/CN104102090B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
CN201410127464.9A 2013-04-03 2014-04-01 压印装置、物品的制造方法以及对准装置 Expired - Fee Related CN104102090B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013-078093 2013-04-03
JP2013078093A JP6188382B2 (ja) 2013-04-03 2013-04-03 インプリント装置および物品の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104102090A CN104102090A (zh) 2014-10-15
CN104102090B true CN104102090B (zh) 2017-12-29

Family

ID=51653885

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410127464.9A Expired - Fee Related CN104102090B (zh) 2013-04-03 2014-04-01 压印装置、物品的制造方法以及对准装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9946156B2 (enExample)
JP (1) JP6188382B2 (enExample)
KR (1) KR101788362B1 (enExample)
CN (1) CN104102090B (enExample)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6138189B2 (ja) * 2015-04-08 2017-05-31 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品の製造方法
CN105182702B (zh) * 2015-10-30 2017-08-11 京东方科技集团股份有限公司 对位标记搜寻方法、显示基板和显示装置
JP6671160B2 (ja) 2015-11-30 2020-03-25 キヤノン株式会社 インプリント装置、物品製造方法および位置合わせ方法
CN105425478B (zh) 2016-01-04 2019-09-17 京东方科技集团股份有限公司 一种对盒装置
JP7038562B2 (ja) 2018-02-13 2022-03-18 キヤノン株式会社 検出装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法
JP7116605B2 (ja) * 2018-06-28 2022-08-10 キヤノン株式会社 インプリント材のパターンを形成するための方法、インプリント装置、インプリント装置の調整方法、および、物品製造方法
KR102722244B1 (ko) * 2018-10-22 2024-10-25 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 표시 장치의 제조 방법
JP7337670B2 (ja) * 2019-11-15 2023-09-04 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および、物品の製造方法
CN111016149B (zh) * 2019-12-27 2022-10-04 江苏源美竹木业有限责任公司 同步对花压印系统及压印方法
JP7603395B2 (ja) 2020-08-26 2024-12-20 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品の製造方法
CN119065213A (zh) * 2024-11-01 2024-12-03 粤芯半导体技术股份有限公司 一种晶圆级标记的曝光方法及装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006267191A (ja) * 2005-03-22 2006-10-05 Pentax Industrial Instruments Co Ltd 露光装置
TW201019388A (en) * 2008-11-04 2010-05-16 Molecular Imprints Inc Alignment for edge field nano-imprinting
CN101833238A (zh) * 2009-03-13 2010-09-15 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 压印模具
CN102096348A (zh) * 2010-12-09 2011-06-15 西安交通大学 提高压印对准过程中莫尔条纹图像质量的数字莫尔条纹方法
JP2012084732A (ja) * 2010-10-13 2012-04-26 Canon Inc インプリント方法及び装置

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005167030A (ja) 2003-12-03 2005-06-23 Sony Corp マスクおよび露光方法
US7292326B2 (en) * 2004-11-30 2007-11-06 Molecular Imprints, Inc. Interferometric analysis for the manufacture of nano-scale devices
JP4185941B2 (ja) 2006-04-04 2008-11-26 キヤノン株式会社 ナノインプリント方法及びナノインプリント装置
JP4848832B2 (ja) 2006-05-09 2011-12-28 凸版印刷株式会社 ナノインプリント装置及びナノインプリント方法
JP5096965B2 (ja) 2008-02-29 2012-12-12 キヤノン株式会社 位置合わせ方法、位置合わせ装置、露光方法及びデバイス製造方法
NL2005259A (en) * 2009-09-29 2011-03-30 Asml Netherlands Bv Imprint lithography.
US8691124B2 (en) * 2009-11-24 2014-04-08 Asml Netherlands B.V. Alignment and imprint lithography
JP5697345B2 (ja) * 2010-02-17 2015-04-08 キヤノン株式会社 インプリント装置、及び物品の製造方法
NL2005975A (en) * 2010-03-03 2011-09-06 Asml Netherlands Bv Imprint lithography.
JP5539011B2 (ja) * 2010-05-14 2014-07-02 キヤノン株式会社 インプリント装置、検出装置、位置合わせ装置、及び物品の製造方法
JP5597031B2 (ja) 2010-05-31 2014-10-01 キヤノン株式会社 リソグラフィ装置及び物品の製造方法
JP5637931B2 (ja) 2011-05-17 2014-12-10 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法およびデバイス製造方法
JP5938218B2 (ja) * 2012-01-16 2016-06-22 キヤノン株式会社 インプリント装置、物品の製造方法およびインプリント方法
JP6066565B2 (ja) * 2012-01-31 2017-01-25 キヤノン株式会社 インプリント装置、および、物品の製造方法
JP6333039B2 (ja) * 2013-05-16 2018-05-30 キヤノン株式会社 インプリント装置、デバイス製造方法およびインプリント方法
JP6242099B2 (ja) * 2013-07-23 2017-12-06 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置およびデバイス製造方法
JP6097704B2 (ja) * 2014-01-06 2017-03-15 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
JP2015170815A (ja) * 2014-03-10 2015-09-28 キヤノン株式会社 インプリント装置、アライメント方法及び物品の製造方法
US10331027B2 (en) * 2014-09-12 2019-06-25 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus, imprint system, and method of manufacturing article
JP2016100366A (ja) * 2014-11-18 2016-05-30 キヤノン株式会社 リソグラフィ装置、及び物品の製造方法
JP6570914B2 (ja) * 2015-08-03 2019-09-04 東芝メモリ株式会社 インプリント方法
JP6799397B2 (ja) * 2015-08-10 2020-12-16 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品の製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006267191A (ja) * 2005-03-22 2006-10-05 Pentax Industrial Instruments Co Ltd 露光装置
TW201019388A (en) * 2008-11-04 2010-05-16 Molecular Imprints Inc Alignment for edge field nano-imprinting
CN101833238A (zh) * 2009-03-13 2010-09-15 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 压印模具
JP2012084732A (ja) * 2010-10-13 2012-04-26 Canon Inc インプリント方法及び装置
CN102096348A (zh) * 2010-12-09 2011-06-15 西安交通大学 提高压印对准过程中莫尔条纹图像质量的数字莫尔条纹方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP6188382B2 (ja) 2017-08-30
KR101788362B1 (ko) 2017-10-19
JP2014203935A (ja) 2014-10-27
US9946156B2 (en) 2018-04-17
KR20140120844A (ko) 2014-10-14
CN104102090A (zh) 2014-10-15
US20140300016A1 (en) 2014-10-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104102090B (zh) 压印装置、物品的制造方法以及对准装置
JP6120678B2 (ja) インプリント方法、インプリント装置及びデバイス製造方法
KR101850163B1 (ko) 패턴 정렬을 수행하기 위한 방법 및 장치
KR100743289B1 (ko) 몰드, 패턴형성방법 및 패턴형성장치
US20120091611A1 (en) Imprint method and apparatus
JP6039222B2 (ja) 検出装置、検出方法、インプリント装置及びデバイス製造方法
CN104122746B (zh) 压印方法、压印装置和制造物品的方法
US8432548B2 (en) Alignment for edge field nano-imprinting
JP6552329B2 (ja) インプリント装置、インプリントシステム及び物品の製造方法
US20140070455A1 (en) Mold, imprint method, and method of manufacturing article
US10011057B2 (en) Imprint apparatus, and method of manufacturing article
TWI671182B (zh) 壓印方法、壓印設備及物件製造方法
KR20110069730A (ko) 임프린트 장치 및 패턴 전사 방법
JP4848832B2 (ja) ナノインプリント装置及びナノインプリント方法
JP2016134441A (ja) インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
US9927701B2 (en) Detection apparatus, imprint apparatus, and method of manufacturing article
JP6381721B2 (ja) インプリント方法、インプリント装置及びデバイス製造方法
JP5900589B2 (ja) インプリント用モールド、アライメント方法、インプリント方法、およびインプリント装置
JP2012129314A (ja) インプリント装置、そのモールド及び物品の製造方法
US20080090160A1 (en) Alignment for contact lithography
JP6197900B2 (ja) インプリント用モールド、アライメント方法、インプリント方法、およびインプリント装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20171229

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee