CN105182702B - 对位标记搜寻方法、显示基板和显示装置 - Google Patents

对位标记搜寻方法、显示基板和显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明是关于一种对位标记搜寻方法、显示基板和显示装置，属于显示技术领域。用于搜寻衬底基板上的对位标记，衬底基板的虚拟区上形成有定位线段，定位线段所在直线贯穿对位标记，该方法包括：获取理论坐标；以理论坐标为目标移动检出系视野至目标位置；以垂直于定位线段的方向从目标位置移动检出系视野至定位线段出现在检出系视野中；以定位线段的长度方向从定位线段处移动检出系视野至对位标记出现在检出系视野中。本发明通过在衬底基板的虚拟区寻找定位线段，并沿定位线段的长度方向来寻找对位标记。解决了相关技术中查找对位标记的过程较为复杂，查找时间较长的问题；达到了能够简便快速的找到对位标记的效果。

Description

对位标记搜寻方法、显示基板和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种对位标记搜寻方法、显示基板和显示装置。
背景技术
在进行构图工艺时，通常需要使用曝光机对光刻胶进行曝光，而进行曝光时，需要通过位于衬底基板上虚拟(dummy)区的对位标记(Glass Mark)将掩膜版与衬底基板进行对位，以确保曝光时的精确度，其中对位标记可以为矩形或者圆形。
相关技术中有一种对位标记搜寻方法，在该方法中，首先获取对位标记的理论坐标，之后根据理论坐标移动检出系视野(曝光机搜寻对位标记的视窗，该视窗能够观测到整个对位标记，对位标记出现在该视窗中时说明曝光机找到对位标记)，由于曝光机的机械误差，检出系视野移动后在基板上的实际坐标与理论坐标存在误差，因而需要向检出系视野的实际坐标周围各个方向移动检出系视野以搜寻对位标记。
发明人在实现本发明的过程中，发现上述方式至少存在如下缺陷：上述方式需要向实际坐标的各个方向移动检出系视野才能找到对位标记，查找过程较为复杂，查找时间较长。
发明内容
为了解决相关技术中需要向实际坐标的各个方向移动检出系视野才能找到对位标记，查找过程较为复杂，查找时间较长的问题，本发明实施例提供了一种对位标记搜寻方法、显示基板和显示装置。所述技术方案如下：
根据本发明实施例的第一方面，提供一种对位标记搜寻方法，用于搜寻衬底基板上的对位标记，所述衬底基板的虚拟区上形成有定位线段，所述定位线段所在直线贯穿所述对位标记，所述方法包括：
获取理论坐标；
以所述理论坐标为目标移动检出系视野至目标位置；
以垂直于所述定位线段的方向从所述目标位置移动所述检出系视野至所述定位线段出现在所述检出系视野中；
以所述定位线段的长度方向从所述定位线段处移动所述检出系视野至所述对位标记出现在所述检出系视野中。
可选的，所述定位线段所在直线贯穿所述对位标记的中心，所述以垂直于所述定位线段的方向从所述目标位置移动所述检出系视野至所述定位线段出现在所述检出系视野中之后，所述方法还包括：
移动所述检出系视野，使所述检出系视野的中心位于所述定位线段上。
可选的，所述定位线段与所述对位标记在所述定位线段的长度方向上的距离小于所述检出系视野在所述定位线段的长度方向上的宽度。
可选的，所述定位线段有两条，两条所述定位线段所在的直线重合且两条所述定位线段位于所述对位标记的两侧。
可选的，所述检出系视野为矩形，
两条所述定位线段之间的距离大于或等于所述检出系视野在任一所述定位线段的长度方向上的长度。
可选的，所述定位线段与所述对位标记是在一次构图工艺中形成的。
可选的，所述衬底基板包括：阵列基板中的衬底基板或彩膜基板中的衬底基板。
可选的，所述方法用于构图工艺中。
根据本发明的第二方面，提供一种显示基板，所述显示基板包括衬底基板，所述衬底基板的虚拟区上形成有定位线段，所述定位线段所在直线贯穿对位标记。
可选的，所述定位线段所在直线贯穿所述对位标记的中心。
可选的，所述定位线段与所述对位标记在所述定位线段的长度方向上的距离小于所述检出系视野在所述定位线段的长度方向上的宽度。
可选的，所述对位标记的定位线段有两条，两条所述定位线段所在的直线重合且两条所述定位线段位于所述对位标记的两侧。
可选的，两条所述定位线段之间的距离大于或等于所述检出系视野在任一所述定位线段的长度方向上的长度。
可选的，所述定位线段与所述对位标记是在一次构图工艺中形成的。
可选的，所述显示基板包括：
阵列基板或彩膜基板。
根据本发明的第三方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括第三方面所述的显示基板。
本发明实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：
通过在衬底基板的虚拟区寻找定位线段，并沿定位线段的长度方向来寻找对位标记，其中定位线段所在的直线贯穿对位标记，解决了相关技术中需要向各个方向移动检出系视野才能找到对位标记，查找过程较为复杂，查找时间较长的问题；达到了能够简便快速的找到对位标记的效果。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。
图1是本发明实施例示出的一种对位标记搜寻方法的流程图；
图2-1是本发明实施例示出的另一种对位标记搜寻方法的流程图；
图2-2至图2-6是图2-1所示实施例中显示基板中衬底基板的虚拟区的示意图；
图3-1是本发明实施例示出的一种显示基板中衬底基板的虚拟区的示意图；
图3-2是本发明实施例示出的另一种显示基板中衬底基板的虚拟区的示意图；
图3-3是本发明实施例示出的另一种显示基板中衬底基板的虚拟区的示意图。
通过上述附图，已示出本发明明确的实施例，后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本发明构思的范围，而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本发明的概念。
具体实施方式
这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本发明相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本发明的一些方面相一致的装置和方法的例子。
图1是本发明实施例示出的一种对位标记搜寻方法的流程图，本实施例以该对位标记搜寻方法应用于寻找衬底基板上的对位标记来举例说明，其中衬底基板的虚拟区上形成有定位线段。该对位标记搜寻方法可以包括如下几个步骤：
在步骤101中，获取理论坐标。
在步骤102中，以理论坐标为目标移动检出系视野至目标位置。
在步骤103中，以垂直于定位线段的方向从目标位置移动检出系视野至定位线段出现在检出系视野中。
在步骤104中，以定位线段的长度方向从定位线段处移动检出系视野至对位标记出现在检出系视野中。
综上所述，本发明实施例提供的对位标记搜寻方法，通过在衬底基板的虚拟区寻找定位线段，并沿定位线段的长度方向来寻找对位标记，其中定位线段所在的直线贯穿对位标记，解决了相关技术中需要向实际坐标的各个方向移动检出系视野才能找到对位标记，查找过程较为复杂，查找时间较长的问题；达到了能够简便快速的找到对位标记的效果。
图2-1是本发明实施例示出的另一种对位标记搜寻方法的流程图，本实施例以该对位标记搜寻方法应用于寻找显示基板上衬底基板上的对位标记来举例说明，其中衬底基板的虚拟区上形成有定位线段。该对位标记搜寻方法可以包括如下几个步骤：
在步骤201中，获取理论坐标。
在通过本发明实施例提供的对位标记搜寻方法时，可以首先获取理论坐标，该理论坐标为对位标记在衬底基板上的坐标，该理论坐标可以预先得知。
在步骤202中，以理论坐标为目标移动检出系视野至目标位置。
在得知了对位标记在衬底基板上的理论坐标后，可以以该理论坐标为目标移动曝光机的检出系视野至目标位置，在检出系视野移动至目标位置后，会由于机械误差等原因，使检出系视野的位置与对位标记的位置存在一定的误差，即对位标记可能并未出现在检出系视野中。示例性的，如图2-2所示，对位标记32的理论坐标为(10，10)，检出系视野33初始位于坐标(0，0)，以(10，10)为目标移动检出系视野33时，可以首先将检出系视野上移10个单位长度，再右移10个单位长度，但由于机械误差等因素，检出系视野右移和上移的实际移动距离可能并不是10个单位长度，比如，检出系视野33移动后的目标位置的实际坐标可能为(12，11)，检出系视野并33未发现对位标记32。图2-2中的31为定位线段。相关技术中在这种情况下，由于不清楚检出系视野处于对位标记的什么位置，因而在搜寻对位标记时需要向各个方向移动检出系视野，搜寻的过程较为复杂，且耗时较长。
可选的，检出系视野为矩形，且该矩形大于对位标记，对位标记能够整个出现在检出系视野中。需要说明的是，本发明实施例涉及的显示基板可以包括：阵列基板或彩膜基板，本发明实施例提供的对位标记搜寻方法通常应用于彩膜基板中。
需要说明的是，本发明实施例中所涉及的检出系视野的坐标可以是指检出系视野上一点的坐标，如检出系视野为矩形时，可以将该矩形的一个顶点的坐标作为检出系视野的坐标，或者可以将该矩形的中心的坐标作为检出系视野的坐标，对位标记的坐标与检出系视野的坐标类似，本发明实施例不作出限制。
在步骤203中，以垂直于定位线段的方向从目标位置移动检出系视野至定位线段出现在检出系视野中。
在将检出系视野移动至目标位置后，可以以垂直于定位线段的方向从目标位置移动检出系视野至定位线段出现在检出系视野中。由于本发明实施例中的衬底基板上设置有定位线段，因此在将检出系视野移动至目标位置后，只要沿垂直于定位线段的方向移动检出系视野就能够搜寻到定位线段，如图2-3所示，沿垂直于定位线段的方向a移动检出系视野33就可以搜寻到定位线段31，最多只需要向两个方向移动检出系视野33就可以找到定位线段31，搜寻过程简单快捷。而在以垂直于定位线段的方向a移动检出系视野33时，可以考虑检出系视野33的目标位置与对位标记32在方向a上的最大误差，示例性的，该最大误差为3个单位长度，则可以先从目标位置以垂直于定位线段的一个方向移动检出系视野3个单位长度，若未找到定位线段，再从目标位置以垂直于定位线段的另一个方向移动检出系视野搜寻定位线段。
此外，定位线段与对位标记可以是在一次构图工艺中形成的。
可选的，定位线段有两条，两条定位线段所在的直线重合且两条定位线段位于对位标记的两侧。这样可以确保检出系视野移动到目标位置后，不论偏向对位标记的左侧还是右侧，均能够在以垂直于定位线段的方向移动时找到定位线段，提高了本发明实施例提供的对位标记搜寻方法的适用性。
需要说明的是，在对位标记的两边各有一条定位线段时，两条定位线段之间的距离大于或等于检出系视野在任一定位线段的长度方向上的长度。这是为了使检出系视野在以定位线段的长度方向移动寻找对位标记时，能够保证对位标记可以单独出现在检出系视野中，以防止定位线段对对位标记的识别产生干扰。
还需要说明的是，定位线段与对位标记在定位线段的长度方向上的距离可以小于检出系视野在定位线段的长度方向上的宽度。这样可以避免检出系视野在以定位线段的长度方向移动时，定位线段和对位标记同时从检出系视野中消失，对曝光机识别对位标记产生影响。
在步骤204中，移动检出系视野，使检出系视野的中心位于定位线段上。
在定位线段出现在检出系视野中后，可以移动检出系视野，使检出系视野的中心位于定位线段上。由于检出系视野想要搜寻并准确识别到对位标记，需要对位标记完整的出现在检出系视野中，而将检出系视野的中心位于定位线段上，能够方便之后检出系视野识别对位标记。同样的，定位线段在设置时，也可以设置为使定位线段的延长线贯穿对位标记的中心，以配合检出系视野的搜寻。
在步骤205中，以定位线段的长度方向从定位线段处移动检出系视野至对位标记出现在检出系视野中。
在使检出系视野的中心位于定位线段上之后，可以以定位线段的长度方向移动检出系视野至对位标记出现在检出系视野中。由于定位线段所在直线贯穿对位标记，检出系视野大于对位标记且中心位于定位线段上，因而检出系视野在以定位线段的长度方向移动时，可以找到对位标记。检出系视野可以通过图像分析等方法(如分析图像的对比度等)，在对位标记出现在检出系视野中时，识别出对位标记。示例性的，如图2-4所示，检出系视野33以定位线段31的长度方向b移动检出系视野33，对位标记32会出现在检出系视野33中。在移动检出系视野时，由于可能不确定对位标记与检出系视野的位置关系，因而可以在定位线段长度方向的两个方向移动检出系视野，在移动时，可以考虑检出系视野与对位标记之间位置在定位线段的长度方向上的最大偏差，示例性的，最大偏差为5个单位长度，则可以首先在定位线段的长度的一个方向由起始位置移动检出系视野5个单位长度，若未搜寻到对位标记，再由起始位置向定位线段的长度的另一个方向移动检出系视野来继续搜寻对位标记。
需要说明的是，如图2-5所示，若检出系视野33的中心未移动到定位线段31上，检出系视野33在以定位线段31的长度方向移动搜寻对位标记32时，对位标记32可能无法完全出现在检出系视野33中，这可能会对对位标记的识别造成一定的影响。
需要说明的是，虚拟区的对位标记可能有多个，示例性的，如图2-6所示，虚拟区中可能包含有等间距排列的三个对位标记32a、32b和32c，以检出系视野33从对位标记32a左侧向右移动寻找对位标记为例，检出系视野33在找到对位标记32a后，继续向右移动，即可陆续找到对位标记32b和32c。
需要说明的是，在检出系视野找到对位标记后，可以根据对位标记将掩膜版与衬底基板进行对位，并对衬底基板上的光刻胶进行曝光等工序，即本发明实施例提供的对位标记搜寻方法，可以应用于构图工艺中，并成为构图工艺的一部分。
需要说明的是，本发明实施例提供的对位标记搜寻方法，还可以应用于搜寻其它装置中的对位标记，而不限于搜寻显示面板中的对位标记。
需要补充说明的是，本发明实施例提供的对位标记搜寻方法，通过在检出系视野找到定位线段之后，将检出系视野的中心移动至定位线段上，达到了方便检出系视野识别对位标记的效果。
综上所述，本发明实施例提供的对位标记搜寻方法，通过在衬底基板的虚拟区寻找定位线段，并沿定位线段的长度方向来寻找对位标记，其中定位线段所在的直线贯穿对位标记，解决了相关技术中需要向实际坐标的各个方向移动检出系视野才能找到对位标记，查找过程较为复杂，查找时间较长的问题；达到了能够简便快速的找到对位标记的效果。
图3-1是本发明实施例示出的一种显示基板中衬底基板的虚拟区的示意图，该衬底基板的虚拟区可以包括：
定位线段31和对位标记32，定位线段31所在直线(图3-1中未示出)贯穿对位标记32。
可选的，定位线段31所在直线贯穿对位标记32的中心。
可选的，如图3-2所示，对位标记32的定位线段31有两条，两条定位线段31所在的直线重合且两条定位线段31位于对位标记32的两侧。需要说明的是，两条定位线段31也可以是平行的关系。
可选的，两条定位线段31之间的距离x大于或等于检出系视野33在任一定位线段的长度方向a上的长度y。这是为了使检出系视野33在以定位线段的31长度方向a移动寻找对位标记32时，能够保证对位标记32可以单独出现在检出系视野33中，以防止定位线段31与对位标记32同时出现在检出系视野33中，对曝光机识别对位标记32产生干扰。
可选的，如图3-3所示，其为本发明实施例提供的另一种显示基板中衬底基板的虚拟区的示意图，在该图中，任一定位线段31与对位标记32在定位线段31的长度方向上的距离l小于检出系视野33在定位线段31的长度方向上的宽度y。这样可以避免检出系视野在以定位线段31的长度方向移动时，定位线段31和对位标记32同时从检出系视野33中消失，对曝光机识别对位标记32产生影响。
可选的，对位标记32两侧的定位线段31与对位标记32的距离相等，均为l，且l+d＝y，其中d为对位标记32在定位线段31长度方向上的长度，y为检出系视野33在定位线段31长度方向上的长度。检出系视野33在定位线段31上移动时，定位线段31和对位标记32不会均从检出系视野33中消失。这样可以避免定位线段与对位标记间的距离过远而增加对位标记的搜寻难度，且能够在定位线段从检出系视野中消失时，对位标记同时会完整的出现在检出系视野中，增加了对位标记的搜寻速度。
可选的，定位线段31与对位标记32是在一次构图工艺中形成的。一次构图工艺形成定位线段31和对位标记32能够在不增加构图工艺次数的基础上，在虚拟区添加定位线段31。
可选的，本发明实施例涉及的显示基板包括：阵列基板或彩膜基板。
需要说明的是，本发明实施例提供的显示基板是以衬底基板的虚拟区域中对位标记为矩形为例，对位标记还可以是圆形等其它形状，本发明实施例不作出限制。
需要说明的是，图3-1所示的衬底基板还可以是其它装置中设置有对位标记的基板，本发明实施例不作限制。
需要补充说明的是，本发明实施例提供的显示基板，通过使定位线段与对位标记间的距离小于检出系视野的宽度，达到了避免定位线段和对位标记同时从检出系视野中消失，影响曝光机识别对位标记的效果。
需要补充说明的是，本发明实施例提供的显示基板，通过将两条定位线段之间的距离设置为大于或等于检出系视野在任一定位线段的长度方向上的长度，达到了避免定位线段干扰曝光机识别对位标记的效果。
综上所述，本发明实施例提供的显示基板，通过在衬底基板的虚拟区设置定位线段，该定位线段所在直线贯穿对位标记，使得可以通过定位标记来寻找对位标记，解决了相关技术中的显示基板的衬底基板的对位标记难以寻找的问题；达到了能够简便快速的找到衬底基板上的对位标记的效果。
此外，本发明实施例还提供一种显示装置，该显示装置可以包括图3-1所示的显示基板、图3-2所示的显示基板或图3-3所示的显示基板。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (16)

1.一种对位标记搜寻方法，其特征在于，用于搜寻衬底基板上的对位标记，所述衬底基板的虚拟区上形成有定位线段，所述定位线段所在直线贯穿所述对位标记，所述方法包括：
获取理论坐标，所述理论坐标为所述对位标记在所述衬底基板上的坐标；
以所述理论坐标为目标移动检出系视野至目标位置；
以垂直于所述定位线段的方向从所述目标位置移动所述检出系视野至所述定位线段出现在所述检出系视野中；
以所述定位线段的长度方向从所述定位线段处移动所述检出系视野至所述对位标记出现在所述检出系视野中。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述定位线段所在直线贯穿所述对位标记的中心，所述以垂直于所述定位线段的方向从所述目标位置移动所述检出系视野至所述定位线段出现在所述检出系视野中之后，所述方法还包括：
移动所述检出系视野，使所述检出系视野的中心位于所述定位线段上。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，
所述定位线段与所述对位标记在所述定位线段的长度方向上的距离小于所述检出系视野在所述定位线段的长度方向上的宽度。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，
所述定位线段有两条，两条所述定位线段所在的直线重合且两条所述定位线段位于所述对位标记的两侧。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述检出系视野为矩形，
两条所述定位线段之间的距离大于或等于所述检出系视野在任一所述定位线段的长度方向上的长度。
6.根据权利要求1至5任一所述的方法，其特征在于，
所述定位线段与所述对位标记是在一次构图工艺中形成的。
7.根据权利要求1至5任一所述的方法，其特征在于，所述衬底基板包括：
阵列基板中的衬底基板或彩膜基板中的衬底基板。
8.根据权利要求1至5任一所述的方法，其特征在于，所述方法用于构图工艺中。
9.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括衬底基板，所述衬底基板的虚拟区上形成有定位线段，所述定位线段所在直线贯穿对位标记，通过在衬底基板的虚拟区寻找所述定位线段，并沿所述定位线段的长度方向能够寻找到所述对位标记。
10.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，所述定位线段所在直线贯穿所述对位标记的中心。
11.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，
所述定位线段与所述对位标记在所述定位线段的长度方向上的距离小于检出系视野在所述定位线段的长度方向上的宽度，所述检出系视野为曝光机搜寻所述对位标记的视窗。
12.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，
所述对位标记的定位线段有两条，两条所述定位线段所在的直线重合且两条所述定位线段位于所述对位标记的两侧。
13.根据权利要求12所述的显示基板，其特征在于，
两条所述定位线段之间的距离大于或等于检出系视野在任一所述定位线段的长度方向上的长度，所述检出系视野为曝光机搜寻所述对位标记的视窗。
14.根据权利要求9至13任一所述的显示基板，其特征在于，
所述定位线段与所述对位标记是在一次构图工艺中形成的。
15.根据权利要求9至13任一所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：
阵列基板或彩膜基板。
16.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求9至15任一所述的显示基板。
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