CN104076597A - 一种紫外线掩膜板及其制备方法和封框胶的固化方法 - Google Patents

一种紫外线掩膜板及其制备方法和封框胶的固化方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104076597A
CN104076597A CN201310098781.8A CN201310098781A CN104076597A CN 104076597 A CN104076597 A CN 104076597A CN 201310098781 A CN201310098781 A CN 201310098781A CN 104076597 A CN104076597 A CN 104076597A
Authority
CN
China
Prior art keywords
ultraviolet
plastic box
sealed plastic
shield bars
mask plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201310098781.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104076597B (zh
Inventor
李辉
毛利军
魏永辉
李乃升
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201310098781.8A priority Critical patent/CN104076597B/zh
Priority to PCT/CN2013/078463 priority patent/WO2014153889A1/zh
Publication of CN104076597A publication Critical patent/CN104076597A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104076597B publication Critical patent/CN104076597B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54Absorbers, e.g. of opaque materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/38Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/50Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本发明公开了一种紫外线掩膜板,包括:透明基板和透明基板上设置的金属掩膜层;所述金属掩膜层的图形边缘位置设有挡光条。本发明还同时公开了一种紫外线掩膜板的制备方法,本发明可提高封框胶的紫外固化速率,提高产能,且能防止紫外光照射到显示屏的有效区域,保证液晶面板的质量。

Description

一种紫外线掩膜板及其制备方法和封框胶的固化方法
技术领域
本发明涉及液晶面板成盒工艺中的封框胶的紫外固化技术领域,尤其涉及一种紫外线掩膜板及其制备方法和封框胶的固化方法。
背景技术
在液晶面板的对盒工艺中,为防止阵列基板和彩膜基板之间的液晶流出,需要在阵列基板和彩膜基板的四周边缘处涂覆封框胶,从而形成液晶盒,达到液晶导光和显示的目的。因此,封框胶是液晶面板成盒工艺中所必需的材料。
有一类封框胶为紫外固化的封框胶,所述封框胶的紫外固化是指在特殊配方的树脂材料,如:紫外线涂料、油墨、粘合剂等中加入光引发剂或光敏剂,所述光引发剂或光敏剂吸收紫外线光固化设备中的高强度紫外光后,产生活性自由基或离子基,从而引发聚合、交联和接枝反应,使树脂材料在数秒内由液态转化为固态。
现有技术中,通常采用如图1所示的方法对封框胶进行紫外固化,紫外线光固化设备中含有4个紫外线照射灯(图1未示出),所述紫外线照射灯各自以向左和向右各倾斜15度角度来回移动,以对显示屏基板1(包括阵列基板和彩膜基板)进行照射,以使封框胶2固化。为了防止紫外光3照射到显示屏的有效区域4,通常在紫外线掩膜板5对应显示屏的有效区域4的位置设置一层金属膜形成金属掩膜层6。
对于紫外线照射灯来说,随着使用时间的增长,紫外线照射灯发出的紫外光的光强会逐渐衰减,封框胶的紫外固化时间则会相应延长,如:在7000mj(兆焦耳)光强下,照射时间大致由使用初期的80s增加到100s左右。可见,现有封框胶的紫外固化时间较长,生产效率不高。
此外,由于紫外线掩膜板5的基板为透明材料,如玻璃,因此紫外线掩膜板5上未设置金属掩膜层6的位置可透过紫外光3,因此,从图1可以看出,紫外光3可能会照射到显示屏的有效区域4,显示屏基板1遭到破坏,从而影响液晶面板的质量。
发明内容
有鉴于此,本发明的主要目的在于提供一种紫外线掩膜板及其制备方法和封框胶的固化方法,可提高封框胶的紫外固化速率,且能防止紫外光照射到显示屏的有效区域。
为达到上述目的,本发明的技术方案是这样实现的:
本发明提供了一种紫外线掩膜板,包括:透明基板和透明基板上设置的金属掩膜层;所述金属掩膜层的图形边缘位置设有挡光条。
其中,所述挡光条选用反光材料。
其中,所述反光材料包括金属反光材料。
优选的,所述金属反光材料包括铝。
上述方案中,所述挡光条垂直设置于所述金属掩膜层的图形边缘位置。
上述方案中,所述挡光条的高度为b,所述b≥(a/2)/tg15度,所述a为封框胶的宽度。
本发明还提供了一种紫外线掩膜板的制备方法,包括:在透明基板上顺序沉积金属掩膜层和感光层;通过构图工艺形成金属掩膜层的图形;该方法还包括:通过构图工艺在所述金属掩膜层的图形边缘位置设置挡光条。
其中,所述挡光条选用反光材料。
本发明还提供了一种封框胶的固化方法,采用上文所述的紫外线掩膜板对封框胶进行固化,所述封框胶的内侧边缘与所述紫外线掩膜板上设置的挡光条的外侧边缘位于同一竖直面位置。
本发明提供的紫外线掩膜板及其制备方法和封框胶的固化方法,在紫外线掩膜板金属掩膜层图形的边缘位置设置挡光条,所述挡光条选用反光材料,优选为金属反光材料。本发明设置的挡光条的边缘与封框胶的边缘位于同一竖直位置,因此可将射向显示屏的有效区域的紫外光反射到封框胶上或显示屏的其他区域,达到了防止紫外光照射到显示屏的有效区域的目的,保证了液晶面板的质量。
此外,由于挡光条可将紫外光反射到封框胶上,与直接照射到封框胶上的紫外光共同作用,封框胶区域照射的紫外光更密集,因此可加快封框胶的紫外固化速率,进而提高紫外线照射灯的利用率,并可提高产能。
附图说明
图1为现有封框胶紫外固化方法实现结构示意图;
图2为本发明紫外线掩膜板的制备方法流程示意图;
图3为沉积金属掩膜层和感光层后的紫外线掩膜板截面示意图;
图4为对已沉积金属掩膜层和感光层的紫外线掩膜板进行曝光的结构示意图;
图5为形成金属掩膜层图形后的紫外线掩膜板截面示意图;
图6为本发明形成有挡光条的紫外线掩膜板截面示意图;
图7为本发明封框胶紫外固化方法实施例实现结构示意图。
附图标记说明:
1显示屏基板;2封框胶;3紫外光;4显示屏的有效区域;5紫外线掩膜板;6金属掩膜层;7透明基板;8感光层;9挡光板;10感光部分;11挡光条;12反射法线;a封框胶的宽度;b挡光条的高度;c挡光条的宽度。
具体实施方式
本发明的基本思想是:在紫外线掩膜板金属掩膜层图形的边缘位置设置挡光条,以阻挡紫外光照射到显示屏的有效区域,并能反射紫外光以照射到封框胶,提高封框胶的紫外固化速率。
其中,所述挡光条为反光材料;优选为金属反光材料,如;铝、钕、钼等,由于其中铝的反光率最高,所述挡光条的材料优选为铝。
下面结合附图及具体实施例对本发明作进一步详细说明。
图2为本发明紫外线掩膜板的制备方法流程示意图,如图2所示,包括如下流程:
步骤201:在透明基板上顺序沉积金属掩膜层和感光层;
具体为:通过镀膜工艺将一层金属掩膜层材料,如:将一层金属钼沉积在透明基板7,如玻璃基板上,之后在所述金属掩膜层6上沉积一层感光层材料形成感光层8,如图3所示。
步骤202:通过构图工艺形成金属掩膜层的图形;
具体为:利用挡光板9将有效部分遮挡起来,通过紫外光曝光工艺使未被遮挡区域感光,无效部分通过紫外光3照射后形成显影;再通过化学作用使感光部分10的光刻胶溶解,将没有感光的光刻胶固化,得到如图4所示的结构。之后,利用六氟化硫、或氯气等化学气体将无效部分的金属钼刻蚀掉,最终得到金属掩膜层图形,如图5所示。图5所示即为现有紫外线掩膜板的结构示意图。
上述两个步骤形成金属掩膜层图形的过程可采用现有技术实现。
步骤203:通过构图工艺在所述金属掩膜层的图形边缘位置设置挡光条;
具体为:在形成有金属掩膜层6的图形的透明基板7上沉积一层反光材料,优选金属反光材料,如;铝、钕、钼等,由于其中铝的反光率最高,这里可沉积一层金属铝,并通过曝光和刻蚀等构图工艺形成挡光条11的图形,如图6所示,所述挡光条11垂直设置于所述金属掩膜层6的图形边缘位置。
关于挡光条11的高度,需考虑紫外线掩膜板的使用方法进行确定。如图7所示,本发明所述紫外线掩膜板在使用过程中,紫外线照射灯(图7未示出)发出的紫外光3经挡光条11反射到封框胶2上、或直接照射到封框胶2上。所述紫外线照射灯距离反射法线12的距离通常设置为900mm左右,由于紫外线照射灯以向左和向右各倾斜15度角度来回移动进行照射,所以紫外光3照射最大角度为15度,设图7中的反射线即为紫外光3照射的最大角度对应的光线的反射线。
为了保证紫外光3不能照射到显示屏的有效区域4,且能全部或部分反射到封框胶2上,需要设置挡光条的最小高度,在挡光条11的设计上考虑使紫外光3的反射光线照射到封框胶2的中心位置。根据反射三角形(△ABC)与入射三角形(△DBE)相似的原理,以及∠BDE=∠α,∠BDE即为紫外光3照射的角度,α值随着紫外线照射角度∠BDE的变化而变化,∠BDE的最大角度为15度,因此α角的最大值为15度,已知封框胶2的宽度a,设所述封框胶2的内侧边缘(与显示屏的有效区域4相连的边缘)与挡光条11的外侧边缘位于同一竖直面位置,因此,tgα=tg15度=(a/2)/b,所述b为挡光条11的高度,α为经挡光条11反射的反射光与竖直方向的夹角,因此可得挡光条11的高度b=(a/2)/tgα,需要说明的是,如果α小于等于15度,那么挡光条11的高度大于等于封框胶2的宽度a的一半除以tg15度,即:b≥(a/2)/tg15度,即当α等于15度时,可以得到挡光条的最小高度。
这里需要说明的是,封框胶2的宽度a与显示屏的尺寸相关,根据上述关系,挡光条的最小高度与封框胶的宽度a有关。例如:如果封框胶2的宽度a为1.8mm,那么计算所得b=3.358mm。因此,挡光条11的最小理论高度为3.358mm。
利用本发明所述紫外线掩膜板对封框胶进行固化时,所述封框胶的内侧边缘与所述紫外线掩膜板上设置的挡光条的外侧边缘位于同一竖直面位置。由于考虑实际应用过程中的管控精度的存在,所述挡光条与显示屏之间有一定距离,并未紧贴,所述管控精度通常为0.2mm。
关于挡光条11的宽度c没有特殊要求,根据产线的实际工艺能力,宽度设为0.5mm即可。
本发明设置的挡光条的边缘与封框胶的边缘位于同一竖直位置,因此可将射向显示屏的有效区域的紫外光反射到封框胶上或显示屏的其他区域,达到了防止紫外光照射到显示屏的有效区域的目的,保证了液晶面板的质量。
此外,由于挡光条可将紫外光反射到封框胶上,与直接照射到封框胶上的紫外光共同作用,封框胶区域照射的紫外光更密集,因此可加快封框胶的紫外固化速率,进而提高紫外线照射灯的利用率,并可提高产能。
以上所述,仅为本发明的较佳实施例而已,并非用于限定本发明的保护范围。

Claims (9)

1.一种紫外线掩膜板,包括:透明基板和透明基板上设置的金属掩膜层;其特征在于,所述金属掩膜层的图形边缘位置设有挡光条。
2.根据权利要求1所述的紫外线掩膜板,其特征在于,所述挡光条选用反光材料。
3.根据权利要求2所述的紫外线掩膜板,其特征在于,所述反光材料包括金属反光材料。
4.根据权利要求3所述的紫外线掩膜板,其特征在于,所述金属反光材料包括铝。
5.根据权利要求1-4任一项所述的紫外线掩膜板,其特征在于,所述挡光条垂直设置于所述金属掩膜层的图形边缘位置。
6.根据权利要求1-4任一项所述的紫外线掩膜板,其特征在于,所述挡光条的高度为b,所述b≥(a/2)/tg15度,所述a为封框胶的宽度。
7.一种紫外线掩膜板的制备方法,包括:在透明基板上顺序沉积金属掩膜层和感光层;通过构图工艺形成金属掩膜层的图形;其特征在于,该方法还包括:通过构图工艺在所述金属掩膜层的图形边缘位置设置挡光条。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述挡光条选用反光材料。
9.一种封框胶的固化方法,其特征在于,采用权利要求1-6中任一项所述的紫外线掩膜板对封框胶进行固化,所述封框胶的内侧边缘与所述紫外线掩膜板上设置的挡光条的外侧边缘位于同一竖直面位置。
CN201310098781.8A 2013-03-26 2013-03-26 一种紫外线掩膜板及其制备方法和封框胶的固化方法 Active CN104076597B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310098781.8A CN104076597B (zh) 2013-03-26 2013-03-26 一种紫外线掩膜板及其制备方法和封框胶的固化方法
PCT/CN2013/078463 WO2014153889A1 (zh) 2013-03-26 2013-06-28 一种紫外线掩膜板及其制备方法和封框胶的固化方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310098781.8A CN104076597B (zh) 2013-03-26 2013-03-26 一种紫外线掩膜板及其制备方法和封框胶的固化方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104076597A true CN104076597A (zh) 2014-10-01
CN104076597B CN104076597B (zh) 2016-03-02

Family

ID=51597956

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310098781.8A Active CN104076597B (zh) 2013-03-26 2013-03-26 一种紫外线掩膜板及其制备方法和封框胶的固化方法

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN104076597B (zh)
WO (1) WO2014153889A1 (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104614946A (zh) * 2015-01-16 2015-05-13 上海凸版光掩模有限公司 基于滴定工装的ut装脚工艺
CN109581757A (zh) * 2018-12-25 2019-04-05 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 紫外光固化设备及框胶固化方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101196690A (zh) * 2006-12-05 2008-06-11 上海广电Nec液晶显示器有限公司 一种遮光掩膜板的制造方法及其应用
JP2009009058A (ja) * 2007-06-29 2009-01-15 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ基板、その製造に用いるフォトマスク、及び液晶表示装置
JP2009109843A (ja) * 2007-10-31 2009-05-21 Toppan Printing Co Ltd フォトマスク及びそれを用いたカラーフィルタ基板の製造方法
CN101900933A (zh) * 2009-06-01 2010-12-01 北京京东方光电科技有限公司 使用掩模板曝光工艺的基板及其对位方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020027803A (ko) * 2000-10-05 2002-04-15 윤종용 반도체 장치의 사진 공정에 사용되는 마스크
TW200736845A (en) * 2006-03-22 2007-10-01 Kuender & Co Ltd Mask and exposure method for producing high depth photoresist

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101196690A (zh) * 2006-12-05 2008-06-11 上海广电Nec液晶显示器有限公司 一种遮光掩膜板的制造方法及其应用
JP2009009058A (ja) * 2007-06-29 2009-01-15 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ基板、その製造に用いるフォトマスク、及び液晶表示装置
JP2009109843A (ja) * 2007-10-31 2009-05-21 Toppan Printing Co Ltd フォトマスク及びそれを用いたカラーフィルタ基板の製造方法
CN101900933A (zh) * 2009-06-01 2010-12-01 北京京东方光电科技有限公司 使用掩模板曝光工艺的基板及其对位方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104614946A (zh) * 2015-01-16 2015-05-13 上海凸版光掩模有限公司 基于滴定工装的ut装脚工艺
CN109581757A (zh) * 2018-12-25 2019-04-05 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 紫外光固化设备及框胶固化方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2014153889A1 (zh) 2014-10-02
CN104076597B (zh) 2016-03-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104880864B (zh) 封框胶固化装置及封装方法
US20120145928A1 (en) Ultraviolet curing device for liquid crystal panel and curing method therefor
CN103018968B (zh) 一种封框胶的固化方法
CN101986206B (zh) 利用功能掩膜板制造封接胶固化用掩膜基板的方法
CN106471563A (zh) 利用光学透明树脂的显示模块制造方法
CN104102094B (zh) 掩模挡板及其制造方法
CN103553362B (zh) 固化框胶用遮光罩的制作方法
CN104786508A (zh) 3d打印设备及其成像系统
CN103293743A (zh) 显示屏的制作方法
CN102830552B (zh) 液晶面板的框胶硬化方法及其装置
WO2017033771A1 (ja) 発光デバイス、表示装置、照明装置、電子機器
CN203982043U (zh) 紫外遮光板和封框胶紫外固化装置
CN106249487A (zh) 一种彩膜基板和显示装置
CN102967966A (zh) 液晶显示面板及其制作方法
CN104076597B (zh) 一种紫外线掩膜板及其制备方法和封框胶的固化方法
CN102950382B (zh) 用于刻蚀电控衍射光学器件的激光直写刻蚀系统及其方法
CN104199215A (zh) 一种偏振光调制装置及其制作方法
US11335891B2 (en) Irradiation assembly, packaging device and packaging method
CN110196508A (zh) 一种显示面板及其制备方法、显示装置
WO2019109452A1 (zh) 抗光屏幕及其制造方法
JPH0310498B2 (zh)
CN101799632B (zh) 光照射装置
CN105629590A (zh) 一种封框胶涂覆装置及涂覆方法
KR20080080862A (ko) 투과율 가변형 투명 기재 구조물 및 이의 제조 방법
CN1996115A (zh) Uv硬化方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant