CN102967966A - 液晶显示面板及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种液晶显示面板，包括第一基板，该第一基板包括显示区及位于该显示区四周的框胶涂布区，第一基板在显示区与框胶涂布区之间设置有挡光层。本发明的挡光层可以吸收或阻挡紫外光，紫外光对液晶层的影响而产生显示缺陷。并且，在本实施例中，挡光层与像素电极为同一步骤中完成，即在形成像素电极的同时形成该挡光层，挡光层的厚度与像素电极的厚度相同，挡光层与像素电极采用相同的厚度使挡光层与像素电极可以在同一制程步骤中完成，使其制作工序和所需的设备简化。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，特别涉及一种液晶显示面板及其制作方法、挡光层的制作方法。
背景技术
随着电子技术和信息化社会的发展，人们对显示设备的需求逐渐提高。其中，液晶显示面板以重量低、体积小、能耗低等优势，正在逐步取代传统的冷阴极显示设备，成为显示设备的主流。
液晶显示面板包括两片基板以及被封于基板之间的液晶层。在液晶显示面板的制程中，液晶是被填充在基板之间并由框胶将其密封在基板之间，然后固化两基板之间的框胶，以形成液晶显示面板。
一般框胶的固化是通过紫外光(UV light)固化设备来进行，此紫外光固化设备具有多个紫外光灯管，其设置于液晶显示面板的上方，以发出紫外光来固化液晶显示面板的框胶。
在聚合物稳定垂直配向型(Polymer Stabilized Vertical Alignment, PSVA)液晶显示器中，两基板之间的液晶层中掺有反应型单体(reactive monomer)，每一基板的表面涂布有聚酰亚胺(polyimide，PI)，其作为配向基材。当施加电压并用紫外光照射于两基板时，反应型单体与液晶分子发生相分离(phase separation)现象，而在基板的配向基材上形成聚合物。由于聚合物跟液晶分子之间的相互作用，液晶分子会沿着聚合分子的方向来排列，因此，基板之间的液晶分子可具有预倾角(pre-tilt angle)。
由于PSVA型液晶显示器的液晶中所掺杂的反应型单体被紫外光照射后会发生反应，因此，当固化PSVA型液晶显示面板的框胶时，需通过一光掩膜来遮挡液晶显示面板中的液晶区域，但是在光掩膜的边缘由于折射等原因，会存在部分紫外光的绕射，这些绕射的紫外光会照射到液晶区域，使反应型单体迅速发生反应，从而造成液晶显示面板的显示问题。
发明内容
本发明的主要目的是提出一种液晶显示面板及其制作方法，旨在在固化液晶显示面板时，缓解和改善反应型单体预先被紫外线照射发生光照反应，解决因此而导致的液晶显示面板的显示问题。
本发明提出一种液晶显示面板，包括第一基板，该第一基板包括显示区及位于该显示区四周的框胶涂布区，第一基板在所述显示区与框胶涂布区之间设置有挡光层。
优选地，所述第一基板还包括像素电极，所述挡光层的厚度与所述像素电极的厚度相同。
优选地，所述挡光层的外边缘与第一基板的框胶涂布区的内侧边缘重合，所述挡光层的内边缘与第一基板的像素电极贴近但不接触。
优选地，所述挡光层无电信号。
优选地，所述液晶显示面板还包括一第二基板，该第二基板具有公共电极，所述挡光层与所述公共电极电性连接。
优选地，所述挡光层的内侧在转弯处开设有扇形缺口。
优选地，所述挡光层开设有开口。
本发明进一步提出一种液晶显示面板的制作方法，包括：
提供一第一基板，该第一基板具有显示区及位于该显示区四周的框胶涂布区，
在所述显示区与框胶涂布区之间形成挡光层。
优选地，在所述显示区与框胶涂布区之间形成挡光层具体为：在第一基板上沉积金属层，蚀刻金属层，在第一基板的显示区形成像素电极，并在像素电极的四周形成所述挡光层。
优选地，在所述显示区与框胶涂布区之间形成挡光层之前还包括：在第一基板的显示区形成像素电极。
本发明的挡光层可以吸收或阻挡紫外光，紫外光对液晶层的影响而产生显示缺陷。并且，在本实施例中，挡光层与像素电极为同一步骤中完成，即在形成像素电极的同时形成该挡光层，挡光层的厚度与像素电极的厚度相同，挡光层与像素电极采用相同的厚度使挡光层与像素电极可以在同一制程步骤中完成，使其制作工序和所需的设备简化。
附图说明
图1为本发明液晶显示面板的第一基板的第一实施例的结构示意图；
图2为具有图1所示的第一基板的液晶显示面板的剖面结构示意图；
图3为在紫外光固化中本发明液晶显示面板的挡光层的挡光示意图；
图4为本发明液晶显示面板的第一基板的第二实施例的结构示意图；
图5为本发明液晶显示面板的挡光层的制作方法的流程示意图；
图6为本发明液晶显示面板的制作方法的流程示意图。
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
下面结合附图及具体实施例就本发明的技术方案做进一步的说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
本发明提出一种液晶显示面板。
参照图1和图2，图1为本发明液晶显示面板的第一基板的一实施例的结构示意图；图2为本发明液晶显示面板的剖面结构示意图。
在本发明的实施例中，液晶显示面板包括第一基板10、液晶层20及第二基板70。第一基板10与第二基板70相对设置，液晶层20设置在第一基板10与第二基板70之间，该液晶层20包括液晶分子及掺杂在液晶分子中的反应型单体。第一基板10具有显示区，该第一基板10的显示区覆盖有像素电极50，第二基板70也具有显示区，该第二基板70的显示区覆盖有公共电极60。第一基板10的像素电极50和第二基板70的公共电极60四周均具有框胶涂布区101。第一基板10及第二基板70的框胶涂布区101都设有框胶30，该框胶30用于将液晶层20密封在两透明基板10之间。第一基板10的像素电极50与框胶涂布区101之间设有挡光层40。该挡光层40可以在用紫外光固化框胶30时，保护液晶层20中所掺入的反应型单体不会被紫外光照射而预先发生光照反应。
参照图3，图3为在紫外光固化中本发明液晶显示面板的挡光层的挡光示意图。在紫外光固化框胶30工艺中，在液晶显示面板的上方设置一光罩80，该光罩80具有透光区81及遮光区82，该透光区81对应液晶显示面板具有框胶30的区域，该遮光区82对应液晶显示面板的液晶层20。通过紫外光源（图未示）发出紫外光（图中箭头所示），紫外光通过光罩80的透光区81照射到框胶30上使其固化，遮光区82阻挡紫外光照射到液晶层20上。而部分由于遮光区82的边缘折射等原因照射到液晶显示面板上的紫外光，则由挡光层40吸收或阻挡，从而避免这部分紫外光照射到液晶层20上，因此，避免了反应型单体在液晶显示面板配向之前受紫外光照预先发生反应而导致液晶显示面板产生显示缺陷的问题。
在上述实施例中，挡光层40优选采用氧化铟锡材料（ITO）制成。采用氧化铟锡材料制成的挡光层40对于紫外光具有较高的吸收作用，避免了紫外光发生多次反射、折射等光学现象后，照射至液晶层20上，更进一步的保证了液晶层20中的反应型单体不会预先发生光化学反应。
在上述实施例中，挡光层40与像素电极50为同一制程步骤中完成，即在形成像素电极50的同时形成该挡光层40，挡光层40的厚度与像素电极50的厚度相同。挡光层40与像素电极50采用相同的厚度使挡光层40与像素电极50可以在同一制程步骤中完成，使其制作工序和所需的设备简化。在其他实施例中，挡光层40可在形成像素电极50后制作，挡光层40的厚度也可以与像素电极50的厚度不同。
在上述实施例中，挡光层40与液晶显示面板的各元件均不连接，即挡光层40处于电学漂浮状态，挡光层40无电信号。当然，在其他实施例中，挡光层40也可以与公共电极60电性连接。
在上述实施例中，挡光层40的外边缘与第一基板10的框胶涂布区101的内侧边缘重合，挡光层40的内边缘与第一基板10的像素电极50贴近但不接触，即挡光层40与像素电极50尽量靠近，以电学上不发生明显串扰为准。控制挡光层40与像素电极50之间的距离在电学上不发生明显串扰的前提下最小，以保证挡光层40的面积最大，使挡光层40可以尽可能多地阻挡和吸收照射到液晶显示面板上的紫外光，从而避免固化框胶30的过程中紫外光对液晶层20的影响而产生显示缺陷。
在上述实施例中，挡光层40的外边缘的转弯处呈圆角状设置，且该挡光层40的内侧在转弯处开设有扇形缺口。
参照图4，图4为本发明液晶显示面板的第一基板的第二实施例的结构示意图。本实施例的第一基板10与第一实施例的第一基板10的区别在于，挡光层40上开设有若干开口41，该开口41用于供液晶显示面板的各个导电线路走线，简化液晶显示面板的布线，提高液晶显示面板的生产效率。
本发明进一步提出一种上述液晶显示面板的挡光层的制作方法。
参照图5，图5为本发明液晶显示面板的挡光层的制作方法的流程示意图。
在本发明的实施例中，液晶显示面板的挡光层的制作方法包括：
步骤S10，在第一基板上沉积金属层；
步骤S20，蚀刻所述金属层，在所述第一基板的显示区像素电极50，并同时在所述像素电极50四周的挡光层40。
所述挡光层40与液晶显示面板的各元件均不连接，即挡光层40处于电学漂浮状态，挡光层40无电信号。当然，在其他实施例中，挡光层40也可以与公共电极60电性连接。
挡光层40的外边缘与第一基板10的框胶涂布区101的内侧边缘重合，挡光层40的内边缘与第一基板10的像素电极50贴近但不接触，即挡光层40与像素电极50尽量靠近，以电学上不发生明显串扰为准。控制挡光层40与像素电极50之间的距离在电学上不发生明显串扰的前提下最小，以保证挡光层40的面积最大，使挡光层40可以尽可能多地阻挡和吸收照射到液晶显示面板上的紫外光，从而避免固化框胶30的过程中紫外光对液晶层20的影响而产生显示缺陷。
挡光层40的外边缘的转弯处呈圆角状设置，且该挡光层40的内侧在转弯处开设有扇形缺口。
在其他实施方式中，也可挡光层40上开设有若干开口41，该开口41用于供液晶显示面板的各个导电线路走线，简化液晶显示面板的布线，提高液晶显示面板的生产效率。
本实施例技术方案的挡光层可以吸收或阻挡紫外光，紫外光对液晶层的影响而产生显示缺陷。并且，在本实施例中，挡光层与像素电极为同一步骤中完成，即在形成像素电极的同时形成该挡光层，挡光层的厚度与像素电极的厚度相同，挡光层与像素电极采用相同的厚度使挡光层与像素电极可以在同一制程步骤中完成，使其制作工序和所需的设备简化。
当然，在其他实施例中，也可以首先形成像素电极，然后在形成所述挡光层，所述像素电极与挡光层在不同的制作过程中形成，从而可以根据不同的需求，形成对应厚度的挡光层，使挡光层的制作更加灵活。
本发明进一步提出一种液晶显示面板的制作方法。
参照图6，图6为本发明液晶显示面板的制作方法的流程示意图。在本发明的实施例中，液晶显示面板的制作方法包括：
步骤S100，形成挡光层。
在本步骤中，提供第一基板，在第一基板上沉积金属层，并蚀刻所述金属层，在所述第一基板的显示区形成像素电极50，并同时在所述像素电极50四周的挡光层40；在第二基板上形成公共电极60。
当然，在本步骤中，也可以首先形成像素电极，然后在形成所述挡光层，所述像素电极与挡光层在不同的制作过程中形成，从而可以根据不同的需求，形成对应厚度的挡光层，使挡光层的制作更加灵活。
步骤S200，滴注液晶，并涂布框胶。
在本步骤中，在第一基板10的显示区上滴注液晶或在框胶涂布区101上涂布框胶，相应地，在第二基板70的框胶涂布区101上涂布框胶或在第二基板70的显示区滴注液晶；
步骤S300，固化框胶。
在本步骤中，贴合第一基板10及第二基板70，紫外光经过光罩80后照射框胶，使框胶固化，并将液晶层密封在第一基板10与第二基板70之间。
在步骤S100中，所述挡光层40与液晶显示面板的各元件均不连接，即挡光层40处于电学漂浮状态，挡光层40无电信号。当然，在其他实施例中，挡光层40也可以与公共电极60电性连接。
挡光层40的外边缘与第一基板10的框胶涂布区101的内侧边缘重合，挡光层40的内边缘与第一基板10的像素电极50贴近但不接触，即挡光层40与像素电极50尽量靠近，以电学上不发生明显串扰为准。控制挡光层40与像素电极50之间的距离在电学上不发生明显串扰的前提下最小，以保证挡光层40的面积最大，使挡光层40可以尽可能多地阻挡和吸收照射到液晶显示面板上的紫外光，从而避免固化框胶30的过程中紫外光对液晶层20的影响而产生显示缺陷。
挡光层40的外边缘的转弯处呈圆角状设置，且该挡光层40的内侧在转弯处开设有扇形缺口。
在其他实施方式中，也可挡光层40上开设有若干开口41，该开口41用于供液晶显示面板的各个导电线路走线，简化液晶显示面板的布线，提高液晶显示面板的生产效率。
本实施例技术方案的液晶显示面板在第一基板的像素电极四周形成挡光层，该挡光层可以吸收或阻挡紫外光照射到液晶层上。解决了因反应型单体受光照预先发生反应而导致液晶显示面板产生显示缺陷的问题。
以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种液晶显示面板，包括第一基板，该第一基板包括显示区及位于该显示区四周的框胶涂布区，其特征在于，第一基板在所述显示区与框胶涂布区之间设置有挡光层。
2.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一基板还包括像素电极，所述挡光层的厚度与所述像素电极的厚度相同。
3.如权利要求2所述的液晶显示面板，其特征在于，所述挡光层的外边缘与第一基板的框胶涂布区的内侧边缘重合，所述挡光层的内边缘与第一基板的像素电极贴近但不接触。
4.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述挡光层无电信号。
5.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述液晶显示面板还包括一第二基板，该第二基板具有公共电极，所述挡光层与所述公共电极电性连接。
6.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述挡光层的内侧在转弯处开设有扇形缺口。
7.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述挡光层开设有开口。
8.一种液晶显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一第一基板，该第一基板具有显示区及位于该显示区四周的框胶涂布区，
在所述显示区与框胶涂布区之间形成挡光层。
9.如权利要求8所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，在所述显示区与框胶涂布区之间形成挡光层具体为：在第一基板上沉积金属层，蚀刻金属层，在第一基板的显示区形成像素电极，并在像素电极的四周形成所述挡光层。
10.如权利要求8所述的液晶显示面板的制作方法，其特征在于，在所述显示区与框胶涂布区之间形成挡光层之前还包括：在第一基板的显示区形成像素电极。
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