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Abstract

本发明提供一种阵列基板，包括显示区和非显示区，在显示区周围设有用于涂布框胶的框胶区和上下共通电极导通区，所述的框胶区域和上下共通电极导通区重叠；在对应上下共通电极导通区的阵列基板依次具有玻璃基板、共通电极、绝缘层、导电电极以及连接共通电极和导电电极的接触孔；并去除掉所述框胶区与上下共通电极导通区的重叠区域所对应的阵列基板上的共通电极。通过对阵列基板上的上下共通电极导通区的部分共通电极的去除，有效的提升紫外线的光通量，解决了紫外光照射量不足，框胶硬化不充分时，在上下共通电极导通区附近的显示区出现画面显示不良的问题。

Description

一种阵列基板
技术领域
本发明涉及液晶面板领域，特别涉及一种阵列基版。
背景技术
随着液晶显示技术的不断发展，窄边框液晶显示器已成为液晶屏领域的一大趋势。如图1所示，对于液晶面板100，其边框尺寸指的是显示区AA区距离玻璃边的距离。在显示区边界与玻璃边之间存在用于粘结彩膜基板20与阵列基板20的框胶区101，用于涂布框胶。框胶首先涂布在一侧基板上，阵列基板或彩膜基板上。将彩膜基板对立与阵列基板贴合，使用紫外光对框胶预固化，再将贴合后的玻璃基板移动至烘烤炉中，对框胶进行本固化。在对框胶使用紫外光预固化时，分为两种固化方式。一种是在彩膜侧照射紫外光，此时需要在显示区外侧框胶涂布区域留有黑色矩阵的空白，目的是让紫外光能够照射到封框胶材料上。另外一种方式，是在阵列侧照射紫外光，此时需要在框胶通过的区域留有金属空白或者金属镂空，目的与彩膜侧一致。但是使用阵列侧照射紫外光预固化封框胶的方式，其边框比使用彩膜基板侧照射紫外光预固化的边框更窄。主要原因是在彩膜基板侧设置封框胶黑色矩阵开口时，开口距离显示区需要一定的安全距离，以防止此开口区漏光。而使用阵列基板预固化封框胶的方式，不存在通过封框胶漏光的情况，所以其距离显示区可以设置得更近。
液晶模式一般分为TN模式、VA模式、和IPS模式，TN模式和VA模式液晶面板都具有彩膜侧共通电极。而共通电极的电信号是通过阵列侧的周边的上下共通电极导通区的导电层，导通封框胶中的金球，然后与彩膜侧共通电极连接。如图2-图3所示，位于彩膜基板20依次有玻璃基板21、遮光层22和导电层23(共通电极)；阵列基板10包括显示区AA和非显示区，非显示区即为显示区边界到基板边缘的区域。在显示区AA周围设有用于涂布封框胶的框胶区域101和上下共通电极导通区102，框胶区域101和上下共通电极导通区102重叠。阵列基板10上依次有玻璃基板11、共通电极12、绝缘层13和导电层14；位于导电层23和14之间的框胶40中的金球粒子41将导电层23和14导通，在通过上下共通电极导通区102的共通电极的接触孔15将导电层14和共通电极12相电性连接，即将彩膜基板的共通电极23和阵列基板的共通电极12相电性连接。在阵列基板10的边缘拼接有G-COF、S-COF以及与S-COF相连接的PCB板用于驱动液晶面板。
由于使用阵列侧照射紫外光预固化封框胶，所以框胶区域下方阵列基板上的共通电极11需要设置成网状镂空图形，由此可以让紫外光照射到框胶。一般用开口率来定义共通电极金属镂空规格，开口率是指空白区域占共通电极金属单元的比例。开口率与框胶性能有关，一般要求开口率大于等于50％，才能保证框胶完全硬化。
当假设用100量的紫外光照射框胶区域时，不考虑玻璃，绝缘层等光吸收，因共通电极金属开口率为50％，在上下共通电极导通区102的区域大致会有50量的光到达导电层12，又因导电层通常为ITO层，ITO对于紫外光的透过率低于15％，最终到达框胶的紫外光只有7.5的量。当照射量不足，或者窄边框化时，框胶中离子型物质容易析出液晶，出现接触孔区域的画面mura，所以硬化不充分时很容易在上下共通电极导通区102附近的显示区出现画面显示不良。
发明内容
为了解决现有技术的问题，本发明提供一种阵列基板，包括显示区和非显示区，在显示区周围设有用于涂布框胶的框胶区和上下共通电极导通区，所述的框胶区域和上下共通电极导通区重叠；在对应上下共通电极导通区的阵列基板依次具有玻璃基板、共通电极、绝缘层、导电电极以及连接共通电极和导电电极的接触孔；并去除掉所述框胶区与上下共通电极导通区的重叠区域所对应的阵列基板上的共通电极。
进一步，所述的共通电极为镂空的金属图形，镂空的开口率大于等于50％；
进一步，所述的导电电极为ITO电极。
本发明还给出了另一种阵列基板，包括显示区和非显示区，在显示区周围设有用于涂布框胶的框胶区和上下共通电极导通区，所述的框胶区域和上下共通电极导通区重叠；在对应上下共通电极导通区的阵列基板依次具有玻璃基板、共通电极、绝缘层；在所述框胶区与上下共通电极导通区重叠的区域所对应的阵列基板上的绝缘层上设有接触孔，使其该接触孔下方的共通电极暴露。
进一步，所述框胶区与上下共通电极导通区重叠的区域所对应的阵列基板上的共通电极的镂空的开口率小于等于框胶区与上下共通电极导通区重叠的区域对应的阵列基板上的共通电极的镂空的开口率；
进一步，所述框胶区与上下共通电极导通区重叠的区域所对应的阵列基板上的共通电极的镂空的开口率小于等于50％；
进一步，在所述的接触孔的区域对应的阵列基板上设有双层共通电极。
有益效果：本发明通过对阵列基板上的上下共通电极导通区的部分共通电极的去除，或导通电极的去除，当彩膜基板和阵列基板进行组立时，从阵列基板进行照射紫外光对框胶进行硬化。因出去掉框胶区域所对应的共通电极或导通电极，没有共通电极或导通电极对光的吸收。有效的提升紫外线的光通量，解决了当紫外光照射量不足，或者窄边框化时，框胶中离子型物质容易析出液晶，出现接上下共通电极导通区域的画面mura，所以硬化不充分时，在上下共通电极导通区附近的显示区出现画面显示不良的问题。
附图说明
图1为现有技术的液晶面板的示意图：
图2所示为图1中阵列基板的上下共通电极导通区B-B方向的截面图；
图3所示为图1中阵列基板的上下共通电极导通区俯视截面图；
图4所示为本发明的阵列基板的上下共通电极导通区的截面图；
图5所示为本发明的阵列基板的上下共通电极导通区的俯视截面图；
图6所示为本发明第二实施例的阵列基板的上下共通电极导通区的截面图；
图7所示为本发明第二实施例的阵列基板的上下共通电极导通区的俯视截面图；
图8所示为本发明第二实施例的阵列基板的上下共通电极导通区的截面图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例，进一步阐明本发明，应理解这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围，在阅读了本发明之后，本领域技术人员对本发明的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。
为了解决现有技术的问题，本发明对现有技术的阵列基板进行了改善，提出一种新的液晶面板500，如图4-5所示，该液晶面板包括一阵列基板200和彩膜基板300，如图4所示本发明的彩膜基板300上依次具有玻璃基板301、位于玻璃基板上的遮光层302以及导电层303(共通电极层)。阵列基板200包括显示区和非显示区，非显示区即为显示区边界到基板边缘的区域。在显示区周围设有用于涂布封框胶的框胶区域和上下共通电极导通区，框胶区域和上下共通电极导通区重叠。在对应上下共通电极导通区的阵列基板依次具有玻璃基板211、共通电极212、绝缘层213和导电电极214、以及连接共通电极212和导电电极214的接触孔215，如图5所示；其中，共通电极212为镂空的金属图形，镂空的开口率大于等于50％；导电电极21为ITO电极。为了解决上下共通电极导通区附近的液晶面板显示区出现画面显示不良的问题，本发明将框胶区与上下共通电极导通区的重叠区域对应的阵列基板上的共通电极层去掉。在框胶区对应的阵列基板依次具有玻璃基板211、绝缘层213和导电电极214，彩膜基板和阵列基板进行组立时，彩膜基板上的共通电极303通过金球41、阵列基板上的导电电极214以及接触孔215和阵列基板上的共通电极212相连接。
当彩膜基板和阵列基板进行组立时，我们从阵列基板进行照射紫外光对框胶进行硬化。假设100量的UV光照射框胶区域，不考虑玻璃基板，绝缘层等光吸收，因出去掉框胶区域所对应的共通电极，没有共通电极对光的吸收。在上下共通电极导通区的区域大致会有100量的光到达导电电极214，又因导电电极为ITO电极，ITO对于紫外光的透过率低于15％，最终到达框胶的紫外光有15的量。相比现有技术提升一倍的光通量。有效的解决了当紫外光照射量不足，或者窄边框化时，框胶中离子型物质容易析出液晶，出现在上下共通电极导通区的画面mura，所以硬化不充分时，在上下共通电极导通区附近的显示区出现画面显示不良的问题。
本发明还给出了第二实施例，本实施例与第一实施例的区别在阵列侧的上下共通电极导通区，其他部分完全相同，故不详细叙述。
如图6-7所示，在对应上下共通电极导通区的阵列基板依次具有玻璃基板211、共通电极212和绝缘层213。为了使彩膜基板上的共通电极303与阵列基板上的共通电极212相连接。在对应胶框区的阵列基板依次具有玻璃基板211、共通电极216、绝缘层213和在绝缘层上的接触孔217，通过接触孔217可使彩膜基板上的导电层303通过金球41与阵列基板上的共通电极216导通，共通电极216再与上下共通电极导通区外的共通电极212相电性连接。为了保证金球的充分和共通电极216充分接触，胶框区对应的阵列基板上的共通电极216的镂空的开口率小于等于50％，而共通电极212的镂空的开口率大于等于50％；即胶框区对应的阵列基板上的共通电极的镂空的开口率小于等于非胶框区对应的阵列基板上的共通电极的镂空的开口率。
因绝缘层上的接触孔217带来的段差会影响金球和共通电极的充分接触，也在接触孔区域设置双层共通电极216，如图8所示。
通过对阵列基板上的上下共通电极导通区的部分共通电极的去除，或导通电极的去除，有效的提升紫外线的光通量，解决了当紫外光照射量不足，或者窄边框化时，框胶中离子型物质容易析出液晶，出现上下共通电极导通区的画面mura，所以硬化不充分时，在上下共通电极导通区附近的显示区出现画面显示不良的问题。

Claims (4)

1.一种阵列基板，包括显示区和非显示区，在显示区周围设有用于涂布框胶的框胶区和上下共通电极导通区，所述的框胶区域和上下共通电极导通区重叠；在对应上下共通电极导通区的阵列基板依次具有玻璃基板、共通电极、绝缘层；其特征在于：在所述框胶区与上下共通电极导通区重叠的区域所对应的阵列基板上的绝缘层上设有接触孔，使其该接触孔下方的共通电极暴露。
2.根据权利要求1所述的一种阵列基板，其特征在于：所述框胶区与上下共通电极导通区重叠的区域所对应的阵列基板上的共通电极的镂空的开口率小于等于非框胶区与上下共通电极导通区重叠的区域对应的阵列基板上的共通电极的镂空的开口率。
3.根据权利要求1或2所述的一种阵列基板，其特征在于：所述框胶区与上下共通电极导通区重叠的区域所对应的阵列基板上的共通电极的镂空的开口率小于等于50％。
4.根据权利要求1或2所述的一种阵列基板，其特征在于：在所述的接触孔的区域对应的阵列基板上设有双层共通电极。
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