CN112068360A - 阵列基板、阵列基板的制作方法和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及一种阵列基板、阵列基板的制作方法和显示装置，阵列基板包括第一基板、第一公共电极层、第二公共电极层、封框胶及导电胶；第一公共电极层呈网格状设置于第一基板的边缘；第二公共电极层设置于第一公共电极层的内侧，包括呈网格状设置的透光部，透光部上设置有栅绝缘层；封框胶设置于第一公共电极层上；导电胶设置于封框胶中并部分延伸至透光部对应的栅绝缘层上，导电胶用于与彩膜基板的公共电极电连接。本申请的阵列基板，通过在第二公共电极层中设置呈网格状的透光部，从而使得延伸至透光部对应的栅绝缘层上的导电胶能够接受光照而固化，固化效果好。

Description

阵列基板、阵列基板的制作方法和显示装置
技术领域
本申请涉及显示技术领域，特别涉及一种阵列基板、阵列基板的制作方法和显示装置。
背景技术
液晶显示器通过控制液晶分子的旋转方向和旋转角度来控制穿透液晶层的光亮，从而显示各种灰度的图像，其具有高画面质量、体积小、重量轻等优点，广泛应用于移动电话、笔记本电脑、电视机以及显示器等产品中。
液晶显示器包括通过封框胶组立的阵列基板和彩膜基板。封框胶通常通过设置在阵列基板与彩膜基板相背一侧的光源固化。封框胶中设置有电连接阵列基板与彩膜基板的导电胶，阵列基板与彩膜基板压合时，导电胶会扩散至网格状公共电极层以外的区域，由于该区域对应的公共电极层不透光，导电胶在此区域的固化效果差，导电性能受到影响。
发明内容
基于此，有必要针对导电胶扩散至公共电极层不透光区域，固化效果差而影响导电性能的问题，提供一种阵列基板、阵列基板的制作方法和显示装置。
一种阵列基板，包括：
第一基板；
第一公共电极层，呈网格状设置于所述第一基板的边缘；
第二公共电极层，设置于所述第一公共电极层的内侧，包括呈网格状设置的透光部，所述透光部上设置有栅绝缘层；
封框胶，设置于所述第一公共电极层上；及
导电胶，设置于所述封框胶中并部分延伸至所述透光部对应的栅绝缘层上，所述导电胶用于与彩膜基板的公共电极电连接。
在其中一个实施例中，所述透光部的面积大于或等于所述导电胶在所述栅绝缘层上的面积。
在其中一个实施例中，所述第一公共电极层及所述第二公共电极层沿所述第一基板的至少三边设置。
在其中一个实施例中，所述透光部与所述导电胶之间还包括钝化层；所述栅绝缘层形成于所述第二公共电极层上，所述钝化层形成于所述栅绝缘层上。
在其中一个实施例中，所述第一公共电极层与所述导电胶之间还形成有第一导电层，所述导电胶通过所述第一导电层与所述第一公共电极层电连接。
在其中一个实施例中，所述第一导电层为氧化铟锡层。
在其中一个实施例中，所述第一公共电极层的横截面为齿轮状，所述第一导电层与所述第一公共电极层接触的一侧的横截面设置成与所述第一公共电极层相配合的齿轮状。
在其中一个实施例中，所述第一公共电极层与所述封框胶之间包括栅绝缘层及钝化层；所述栅绝缘层形成于所述第一公共电极层上，所述钝化层形成于所述栅绝缘层上。
一种显示装置，包括彩膜基板，所述显示装置还包括上述的阵列基板。
一种阵列基板的制作方法，所述阵列基板包括第一基板，包括：
在所述第一基板上分别形成第一公共电极层及第二公共电极层，其中，所述第一公共电极层呈网格状，所述第二公共电极层包括呈网格状设置的透光部；
在所述第一公共电极层及所述第二公共电极层上形成栅绝缘层，所述第一公共电极层包括露出于所述栅绝缘层的接触部；
在所述栅绝缘层上形成钝化层及在所述接触部上形成第一导电层；
在所述第一公共电极层对应的钝化层区域涂布封框胶；
在所述接触部对应的封框胶区域注入导电胶，部分导电胶延伸至所述透光部对应的栅绝缘层上。
上述的阵列基板、阵列基板的制作方法和显示装置，通过在第二公共电极层中设置呈网格状的透光部，从而使得延伸至透光部对应的栅绝缘层上的导电胶能够接受光照而固化，固化效果好。
附图说明
图1为一个实施例中的阵列基板的结构示意图；
图2为图1所示的区域A的放大示意图；
图3为图2所示的区域A沿a1-a2的剖视图；
图4为图2所示的区域A沿b1-b2的剖视图；
图5为一个实施例中的阵列基板的制作方法的流程图。
具体实施方式
为了便于理解本申请，下面将参照相关附图对本申请进行更全面的描述。附图中给出了本申请的较佳实施方式。但是，本申请可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本申请的公开内容理解的更加透彻全面。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本申请。
请参阅图1及图3，其为本申请一实施例提供的一种阵列基板的结构示意图。所述阵列基板包括第一基板10、第一公共电极层20、第二公共电极层30、封框胶40及导电胶50。
所述第一基板10可以为透明基板，具体可以是采用玻璃或透明树脂等具有一定坚固性的透明材料制成的基板。
所述第一公共电极层20呈网格状设置于所述第一基板10的边缘。具体的，所述第一基板10包括显示区及围绕所述显示区的非显示区，所述显示区用于显示画面，所述非显示区为遮光区，防止背光模组的背光从所述非显示区透出，以保证液晶显示面板的显示效果。所述第一公共电极层20设置于所述第一基板10的非显示区。所述第一公共电极层20的制作材料可以采用钨、钛、钼、铝、钕、铝镍合金、钼钨合金、铬或铜等金属，也可采用上述几种材料组合。
所述第一公共电极层20用于将所述阵列基板接收的公共电极电压传输至彩膜基板的公共电极。
请参阅图2，所述第二公共电极层30设置于所述第一公共电极层20的内侧。所述第二公共电极层30包括呈网格状设置的透光部31，所述透光部31上设置有栅绝缘层60。所述第二公共电极层30的制作材料可以采用钨、钛、钼、铝、钕、铝镍合金、钼钨合金、铬或铜等金属，也可采用上述几种材料组合。所述第二公共电极层30用于将所述阵列基板从外部接收的公共电极电压传输至阵列基板的公共电极。
需要说明的是，所述第一公共电极层20呈网格状设置即所述第一公共电极层20设置有若干间隔均匀的第一通孔。所述透光部31呈网格状设置即所述透光部31设置有若干间隔均匀的第二通孔。光线能够透过所述第一通孔照射所述封框胶40，也能够透过所述第二通孔照射位于所述透光部31上的导电胶50。
所述透光部31的面积大于或等于所述导电胶50在所述栅绝缘层60上的面积。
请再参阅图1，所述封框胶40设置于所述第一公共电极层20上。所述封框胶40用于粘接阵列基板和彩膜基板。在本实施例中，所述封框胶40为紫外固化胶。
所述导电胶50设置于所述封框胶40中并部分延伸至所述透光部31对应的栅绝缘层60上，所述导电胶50用于与彩膜基板的公共电极电连接。所述第一公共电极层20通过所述导电胶50将所述阵列基板接收的公共电极电压传输至彩膜基板的公共电极。
所述导电胶50具有导电粒子且具有黏着力。所述导电胶50形成导电条或导电球。
在一实施例中，所述第一公共电极层20及所述第二公共电极层30沿所述第一基板10的至少三边设置，因此，使得光照能够透过所述第一公共电极层20固化所述封框胶40。
请再参阅图4，在一实施例中，所述透光部31与所述导电胶50之间还包括钝化层70。所述栅绝缘层60形成于所述第二公共电极层30上，所述钝化层70形成于所述栅绝缘层60上。在所述第二公共电极层30上依次形成栅绝缘层60及钝化层70能够有效将第二公共电极层30与导电胶50绝缘隔离。
请再参阅图3，在一实施例中，所述第一公共电极层20与所述导电胶50之间还形成有第一导电层80，所述导电胶50通过所述第一导电层80与所述第一公共电极层20电连接，从而实现将公共电极电压从第一公共电极层20经过第一导电层80传输至导电胶50。
在一实施例中，所述第一导电层80为氧化铟锡层。因阵列基板的制程需要氧化铟锡，采用氧化铟锡作为第一导电层80材料，使得第一导电层80的材料获取简便，成本低。
在一实施例中，所述第一公共电极层20的横截面为齿轮状，所述第一导电层80与所述第一公共电极层20接触的一侧的横截面设置成与所述第一公共电极层20相配合的齿轮状。将所述第一导电层80与所述第一公共电极层20接触的一侧的横截面设置成与所述第一公共电极层20相配合的齿轮状，可以增大第一导电层80与第一公共电极层20的接触面积，减小接触电阻。在其他实施方式中，所述第一导电层80与所述第一公共电极层20接触的一侧的横截面可以设置成平面或其他结构。当所述第一导电层80与所述第一公共电极层20接触的一侧的横截面设置成平面时，所述第一公共电极层20的网格中可以填充栅绝缘层60。
在一实施例中，所述第一公共电极层20与所述封框胶40之间包括栅绝缘层60及钝化层70。所述栅绝缘层60形成于所述第一公共电极层20上，所述钝化层70形成于所述栅绝缘层60上。在所述第一公共电极层20上依次形成所述栅绝缘层60及所述钝化层70，可以将所述第一公共电极层20与阵列基板的其他导电部分绝缘隔离，避免与与阵列基板的其他导电部分短接。
阵列基板上还形成有彼此交叉的栅线及数据线，该交叉处形成有薄膜晶体管，薄膜晶体管上连接有像素电极。
本申请的阵列基板，通过在第二公共电极层30中设置呈网格状的透光部31，从而使得延伸至透光部31对应的栅绝缘层60上的导电胶50能够接受光照而固化，固化效果好。
请参阅图5，本申请还提供一种阵列基板的制作方法。所述阵列基板包括第一基板10，第一基板10可以为透明基板，具体可以是采用玻璃或透明树脂等具有一定坚固性的透明材料制成的基板。该方法流程包括以下步骤：
步骤S1，在第一基板10上分别形成第一公共电极层20及第二公共电极层30，其中，所述第一公共电极层20呈网格状，所述第二公共电极层30包括呈网格状设置的透光部31。
第一公共电极层20及第二公共电极层30的制作材料可以采用钨、钛、钼、铝、钕、铝镍合金、钼钨合金、铬或铜等金属，也可采用上述几种材料组合。
具体地，可以采用涂覆、沉积、溅射等方法在第一基板10上形成第一公共电极层20及第二公共电极层30，之后采用具有特定图案的掩膜板对第一公共电极层20及第二公共电极层30进行曝光、显影、刻蚀及光刻胶剥离，使得所述第一公共电极层20呈网格状，所述第二公共电极层30包括呈网格状设置的透光部31。
步骤S2，在所述第一公共电极层20及所述第二公共电极层30上形成栅绝缘层60，所述第一公共电极层20包括露出于所述栅绝缘层60的接触部。
可以采用涂覆、沉积、溅射等方法在所述第一公共电极层20及所述第二公共电极层30表面形成栅绝缘层60，例如，在在所述第一公共电极层20及所述第二公共电极层30表面涂覆一层具有一定厚度的有机树脂材料，形成栅绝缘层60，然后再在形成栅绝缘层60的第一公共电极层20上制作出露出于所述栅绝缘层60的接触部。
其中，栅绝缘层60还可以选用氧化物、氮化物或氧氮化合物生成，对应的反应气体可以为SiH4、NH3、N2的混合气体或SiH2Cl2、NH3、N2的混合气体。
所述接触部的网格中可以填充栅绝缘层60，也可以不填充栅绝缘层60。
步骤S3，在所述栅绝缘层60上形成钝化层70及在所述接触部上形成第一导电层80。
可以采用涂覆、沉积、溅射等方法在栅绝缘层60上形成钝化层70，例如，在栅绝缘层60表面溅射一层具有一定厚度的硅化物，形成钝化层70。
其中，钝化层70可以选用氧化物、氮化物或氧氮化合物生成，对应的反应气体可以为SiH4、NH3、N2的混合气体或SiH2Cl2、NH3、N2的混合气体。
所述接触部与第一导电层80电连接。所述第一导电层80的制作材料可以是氧化铟锡。所述接触部的横截面为齿轮状，所述第一导电层80与所述第一公共电极层20接触的一侧的横截面设置成与所述第一公共电极层20相配合的齿轮状，从而增大第一导电层80与第一公共电极层20的接触面积，减小接触电阻。所述第一导电层80与所述第一公共电极层20接触的一侧的横截面还可以设置成平面或其他结构。当所述第一导电层80与所述接触部接触的一侧的横截面设置成平面时，所述接触部的网格中可以填充栅绝缘层60。
步骤S4，在所述第一公共电极层20对应的钝化层70区域涂布封框胶40。
步骤S5，在所述接触部对应的封框胶40区域注入导电胶50，部分导电胶50延伸至所述透光部31对应的栅绝缘层60上。
所述导电胶50具有导电粒子且具有黏着力。封框胶40中的导电胶50与所述第一导电层80接触，因此，导电胶50与所述第一导电层80电连接。所述导电胶50用于与彩膜基板的公共电极电连接。
综上所述，本申请实施例提供的阵列基板的制作方法，通过在第二公共电极层30中设置呈网格状的透光部31，从而使得延伸至透光部31对应的栅绝缘层60上的导电胶50能够接受光照而固化，固化效果好。
本申请实施例还提供一种显示装置，所述显示装置包括上述实施例的阵列基板。所述显示装置还包括彩膜基板及设置于阵列基板与彩膜基板之间的液晶层。所述彩膜基板包括公共电极，所述公共电极与所述阵列基板上的像素电极形成电场。所述显示装置可以为：液晶面板、电子纸、有机发光二极管面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：
第一基板；
第一公共电极层，呈网格状设置于所述第一基板的边缘；
第二公共电极层，设置于所述第一公共电极层的内侧，包括呈网格状设置的透光部，所述透光部上设置有栅绝缘层；
封框胶，设置于所述第一公共电极层上；及
导电胶，设置于所述封框胶中并部分延伸至所述透光部对应的栅绝缘层上，所述导电胶用于与彩膜基板的公共电极电连接。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述透光部的面积大于或等于所述导电胶在所述栅绝缘层上的面积。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一公共电极层及所述第二公共电极层沿所述第一基板的至少三边设置。
4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述透光部与所述导电胶之间还包括钝化层；所述栅绝缘层形成于所述第二公共电极层上，所述钝化层形成于所述栅绝缘层上。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一公共电极层与所述导电胶之间还形成有第一导电层，所述导电胶通过所述第一导电层与所述第一公共电极层电连接。
6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述第一导电层为氧化铟锡层。
7.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述第一公共电极层的横截面为齿轮状，所述第一导电层与所述第一公共电极层接触的一侧的横截面设置成与所述第一公共电极层相配合的齿轮状。
8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一公共电极层与所述封框胶之间包括栅绝缘层及钝化层；所述栅绝缘层形成于所述第一公共电极层上，所述钝化层形成于所述栅绝缘层上。
9.一种显示装置，包括彩膜基板，其特征在于，所述显示装置还包括权利要求1-8任意一项所述的阵列基板。
10.一种阵列基板的制作方法，所述阵列基板包括第一基板，其特征在于，包括：
在所述第一基板上分别形成第一公共电极层及第二公共电极层，其中，所述第一公共电极层呈网格状，所述第二公共电极层包括呈网格状设置的透光部；
在所述第一公共电极层及所述第二公共电极层上形成栅绝缘层，所述第一公共电极层包括露出于所述栅绝缘层的接触部；
在所述栅绝缘层上形成钝化层及在所述接触部上形成第一导电层；
在所述第一公共电极层对应的钝化层区域涂布封框胶；
在所述接触部对应的封框胶区域注入导电胶，部分导电胶延伸至所述透光部对应的栅绝缘层上。
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