CN103553362B - 固化框胶用遮光罩的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种固化框胶用遮光罩的制作方法，包括以下步骤：步骤1、提供一透明基板（20）；步骤2、在透明基板（20）上依次形成金属层（22）及光阻层（24）；步骤3、在光阻层（24）的边缘位置进行曝光，以形成检测标记（242）；步骤4、采用边曝光方式，按照预定路径对光阻层（24）进行曝光，所述预定路径对应液晶显示面板的框胶预设路径；步骤5、去除被曝光的光阻层（24），以露出金属层（22）；步骤6、对露出的金属层（22）进行蚀刻，并去除未曝光的光阻层（24）；步骤7、在金属层（22）与透明基板（20）上形成透明保护层（26）。本发明通过边曝光方式实现对光阻层的曝光，不需要特定的掩模板，有效减少掩模板的预备量，降低生产材料成本。

Description

固化框胶用遮光罩的制作方法
技术领域
本发明涉及显示领域，尤其涉及一种固化框胶用遮光罩的制作方法。
背景技术
框胶是应用于液晶显示面板的一种接着剂，其用途是将薄膜晶体管基板和彩色滤光片基板两片玻璃基板结合在一起，避免注入两片玻璃基板之间的液晶材料流出。请参阅图1，为现有的液晶显示面板的结构示意图，其中，密封胶框100就是由框胶经由固化形成的。
过去的制程是先在配向膜上面形成间隔物（Spacer），再将玻璃基板用框胶粘合在一起，做成空的液晶盒。后来随着面板的尺寸朝大型化发展，采用液晶滴下法（One Drop Filling，ODF）的比例逐渐扩大，制造程序上做了一些改变，于是框胶的性质也在变化之中。
框胶可以分为热硬化型和激光（UV）硬化型两大类，目前的ODF制程基本采用UV硬化型的框胶，在新生产线均采用ODF制程的情况下，UV硬化型的框胶将成为主流。UV硬化型的框胶内含光起始剂、紫外线接着剂等成份。UV光被光起始剂吸收，造成光起始剂引发产生自由基或阳离子反应基，这些具有高度反应性的自由基或阳离子基，与组成内的压克力单体或环氧基单体以及相对应的寡聚物进行链延长反应。由于自由基反应或阳离子基反应的反应性非常快，在几秒至几分钟内反应物就完成反应，形成具有物性的高分子聚合物。UV紫外线接着剂特性是借由UV光源照射起动化学连锁反应，固化框胶。在数秒内即可固化粘合材质。
对液晶显示面板进行整体UV照射，会造成面板构成中的某些材料成分发生质变，影响材料性能，最终影响液晶显示面板的品质和良率。所以，通常会有选择地针对框胶进行UV照射和UV硬化，而不需要进行UV照射的区域就要通过遮光的挡板遮挡起来，该功能由遮光罩实现。请参阅图2，遮光罩一般包括：图形部300及设于图形部300外围的遮光部500，在对液晶显示面板的框胶进行UV固化时，UV紫外线通过图形部300照射于框胶上，对框胶进行固化，遮光部用于遮挡UV紫外线，以免UV紫外线对液晶显示面板的其他材料照射，而导致该材料质变。
不同尺寸、不同型号的液晶显示面板，其框胶的设置位置不尽相同，这就使得，不同尺寸、不同型号的液晶显示面板需要相应的不同尺寸、不同型号的遮光罩与之对应。
请参阅图3至图6，现有的固化框胶用遮光罩的制作方法一般为：首先，在基板700上涂布金属层702、光阻层704；接着，通过掩模板750在光阻层704上曝光出预定图形；然后，进行显影、蚀刻及光阻剥离；最后，在形成的图形上涂布非金属保护层706。其中，在对光阻层704进行曝光时，所需要的掩模板750上的图形需要与预定图形的大小相同，这就使得，在制作不同尺寸、不同型号的固化框胶用遮光罩时，所需要不同的掩模板；即，每一种尺寸、每一种型号的固化框胶用遮光罩需要至少一对应的掩模板，生产成本较高，且不宜进行统一管理。
发明内容
本发明的目的在于提供一种固化框胶用遮光罩的制作方法，其制程简单，成本较低。
为实现上述目的，本发明提供一种固化框胶用遮光罩的制作方法，包括以下步骤：
步骤1、提供一透明基板；
步骤2、在透明基板上依次形成金属层及光阻层；
步骤3、在光阻层的边缘位置进行曝光，以形成检测标记；
步骤4、采用边曝光方式，按照预定路径对光阻层进行曝光，所述预定路径对应液晶显示面板的框胶预设路径；
步骤5、去除被曝光的光阻层，以露出金属层；
步骤6、对露出的金属层进行蚀刻，并去除未曝光的光阻层；
步骤7、在金属层与透明基板上形成透明保护层。
所述透明基板为玻璃基板。
所述金属层通过物理气相沉积方式形成于透明基板上。
所述光阻层通过涂布方式形成于金属层上。
所述步骤3包括：提供UV光源、掩模板及挡板，所述掩模板设有图形区及设于图形区外侧的标记区，所述挡板设于图形区下方，所述UV光源发出的UV光穿过所述图形区照射于挡板上，所述UV光源发出的UV光穿过所述标记区照射于所述透明基板上的光阻层上，对该光阻层进行曝光。
所述步骤4包括：提供边曝光设备，按照预定路径对应光阻层进行曝光。
所述边曝光设备为边曝光机。
所述蚀刻包括干蚀刻与湿蚀刻其中之一或其组合。
所述透明保护层由非金属材料形成。
所述透明保护层通过化学气相沉积方式形成。
本发明的有益效果：本发明的固化框胶用遮光罩的制作方法，通过边曝光方式按照预定路径实现对光阻层的图案化曝光，不需要特定的掩模板，有效减少掩模板的预备量，降低生产材料成本，同时，由于掩模板的预备量较少，易统一管理、存储，降低管理及存储成本。
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
附图中，
图1为现有的液晶显示面板的剖面示意图；
图2为现有的遮光罩的结构示意图；
图3至图6为现有的遮光罩生产制程示意图；
图7为本发明固化框胶用遮光罩的制作方法的流程图；
图8至图14为本发明固化框胶用遮光罩的制作方法的制程图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图7，本发明提供一种固化框胶用遮光罩的制作方法，包括以下步骤：
步骤1、提供一透明基板20。
所述透明基板20，可选用塑料基板或玻璃基板，在本实施例中，所述透明基板20为玻璃基板。
步骤2、在透明基板20上依次形成金属层22及光阻层24。
请参阅图8，所述金属层22通过物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）方式形成于透明基板20上。所述所述光阻层24通过涂布方式形成于金属层22上。
步骤3、在光阻层24的边缘位置进行曝光，以形成检测标记242。
具体地，请参阅图9，所述步骤3包括：提供UV光源40、掩模板42及挡板44，所述掩模板42设有图形区422及设于图形区422外侧的标记区424，所述挡板44设于图形区422下方，所述UV光源40发出的UV光穿过所述图形区422照射于挡板44上，所述UV光源40发出的UV光穿过所述标记区424照射于所述透明基板20上的光阻层24上，对该光阻层24进行曝光。
由于挡板44的遮挡，所述穿过图形区422的UV光不能照射到光阻层24上，所以掩模板42上的图形区422上的图形不能复制到光阻层24上，这就使得对光阻层24的曝光与掩模板42上的图形无关，那么，只要所选用的掩模板24的尺寸与所要制得的遮光罩的尺寸大小相对应即可实现生产，避免了现有的生产制程中必需配置相应图形区的掩模板才能实现生产的困扰，有效减少掩模板的预备数量，进而降低生产材料成本，同时，由于预备的掩模板的数量较少，易统一管理、存储，降低管理及存储成本。
步骤4、采用边曝光方式，按照预定路径对光阻层24进行曝光，所述预定路径对应液晶显示面板的框胶预设路径。
具体地，请参阅图10，所述步骤4包括：提供边曝光设备60，按照预定路径对应光阻层24进行曝光。在本实施例中，所述边曝光设备60为边曝光机。
边曝光机按照预定路径在光阻层24上曝光出预定图形，该过程相当于用边曝光机在光阻层24上按照预定路径画出预定图形。
步骤5、去除被曝光的光阻层24，以露出金属层22。
请参阅图11，去除被曝光的光阻层24，以露出金属层22。
步骤6、对露出的金属层22进行蚀刻，并去除未曝光的光阻层24。
请参阅图12及图13，所述蚀刻可为干蚀刻与湿蚀刻其中之一或其组合，具体操作时，可根据金属层22的材料不同选择相应的蚀刻方式。
步骤7、在金属层22与透明基板20上形成透明保护层26。
请参阅图14，所述透明保护层26由非金属材料形成，其通过化学气相沉积方式形成，用于保护金属层22，以避免金属层22被氧化或侵蚀，进而延长遮光罩的使用寿命。
综上所述，本发明的固化框胶用遮光罩的制作方法，通过边曝光方式按照预定路径实现对光阻层的图案化曝光，不需要特定的掩模板，有效减少掩模板的预备量，降低生产材料成本，同时，由于掩模板的预备量较少，易统一管理、存储，降低管理及存储成本。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (8)

1.一种固化框胶用遮光罩的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1、提供一透明基板(20)；
步骤2、在透明基板(20)上依次形成金属层(22)及光阻层(24)；
步骤3、在光阻层(24)的边缘位置进行曝光，以形成检测标记(242)；
步骤4、采用边曝光方式，按照预定路径对光阻层(24)进行曝光，所述预定路径对应液晶显示面板的框胶预设路径；
步骤5、去除被曝光的光阻层(24)，以露出金属层(22)；
步骤6、对露出的金属层(22)进行蚀刻，并去除未曝光的光阻层(24)；
步骤7、在金属层(22)与透明基板(20)上形成透明保护层(26)；
所述步骤4包括：提供边曝光设备(60)，按照预定路径对应光阻层(24)进行曝光；
所述边曝光设备(60)为边曝光机。
2.如权利要求1所述的固化框胶用遮光罩的制作方法，其特征在于，所述透明基板(20)为玻璃基板。
3.如权利要求1所述的固化框胶用遮光罩的制作方法，其特征在于，所述金属层(22)通过物理气相沉积方式形成于透明基板(20)上。
4.如权利要求1所述的固化框胶用遮光罩的制作方法，其特征在于，所述光阻层(24)通过涂布方式形成于金属层(22)上。
5.如权利要求1所述的固化框胶用遮光罩的制作方法，其特征在于，所述步骤3包括：提供UV光源(40)、掩模板(42)及挡板(44)，所述掩模板(42)设有图形区(422)及设于图形区(422)外侧的标记区(424)，所述挡板(44)设于图形区(422)下方，所述UV光源(40)发出的UV光穿过所述图形区(422)照射于挡板(44)上，所述UV光源(40)发出的UV光穿过所述标记区(424)照射于所述透明基板(20)上的光阻层(24)上，对该光阻层(24)进行曝光。
6.如权利要求1所述的固化框胶用遮光罩的制作方法，其特征在于，所述蚀刻包括干蚀刻与湿蚀刻其中之一或其组合。
7.如权利要求1所述的固化框胶用遮光罩的制作方法，其特征在于，所述透明保护层(26)由非金属材料形成。
8.如权利要求1所述的固化框胶用遮光罩的制作方法，其特征在于，所述透明保护层(26)通过化学气相沉积方式形成。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108873425A (zh) * 2018-06-13 2018-11-23 昆山龙腾光电有限公司 液晶显示面板及其制作方法

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9436792B2 (en) * 2014-08-22 2016-09-06 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of designing layout of integrated circuit and method of manufacturing integrated circuit
CN104701144A (zh) * 2015-03-27 2015-06-10 京东方科技集团股份有限公司 一种基板及其制作方法、显示面板的制作方法
CN105068324B (zh) * 2015-08-28 2019-02-22 武汉华星光电技术有限公司 液晶面板的制造方法和胶框固化掩膜板的制造方法
CN108054141B (zh) * 2017-12-12 2020-11-06 深圳市华星光电技术有限公司 显示面板的制备方法
CN111180333B (zh) * 2020-01-03 2022-10-21 云谷（固安）科技有限公司 显示面板制作方法和显示面板
CN112071875B (zh) 2020-09-15 2023-04-07 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示装置及其制作方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101986206A (zh) * 2010-07-30 2011-03-16 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 利用功能掩膜板制造封接胶固化用掩膜基板的方法
CN102520590A (zh) * 2011-11-29 2012-06-27 深圳市华星光电技术有限公司 一种遮光板的制作方法
CN102645807A (zh) * 2012-04-10 2012-08-22 深超光电（深圳）有限公司 液晶显示面板阵列基板及其制造方法
CN102692815A (zh) * 2012-05-23 2012-09-26 深圳市华星光电技术有限公司 光掩模及其制造方法
CN103124470A (zh) * 2011-11-18 2013-05-29 胡泉凌 塑料金属化立体线路制造方法
CN103246154A (zh) * 2013-04-11 2013-08-14 合肥京东方光电科技有限公司 一种用于封框胶固化遮挡的掩模板的制造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5559722A (en) * 1978-10-30 1980-05-06 Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai Producing method of electron beam drawing photomask
US7362407B2 (en) * 2002-02-01 2008-04-22 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Method of fabricating liquid crystal display device
JP2009141263A (ja) 2007-12-10 2009-06-25 Toshiba Corp 露光方法、フォトマスクおよびレチクルステージ
KR20120081652A (ko) 2010-12-06 2012-07-20 삼성모바일디스플레이주식회사 포토마스크 및 그를 이용한 액정표시장치의 제조방법
US8822105B2 (en) * 2012-05-23 2014-09-02 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. Ltd. Photomask and method for manufacturing the same
CN102736323B (zh) * 2012-06-25 2014-12-17 深圳市华星光电技术有限公司 框胶固化之光罩及液晶显示面板的制作方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101986206A (zh) * 2010-07-30 2011-03-16 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 利用功能掩膜板制造封接胶固化用掩膜基板的方法
CN103124470A (zh) * 2011-11-18 2013-05-29 胡泉凌 塑料金属化立体线路制造方法
CN102520590A (zh) * 2011-11-29 2012-06-27 深圳市华星光电技术有限公司 一种遮光板的制作方法
CN102645807A (zh) * 2012-04-10 2012-08-22 深超光电（深圳）有限公司 液晶显示面板阵列基板及其制造方法
CN102692815A (zh) * 2012-05-23 2012-09-26 深圳市华星光电技术有限公司 光掩模及其制造方法
CN103246154A (zh) * 2013-04-11 2013-08-14 合肥京东方光电科技有限公司 一种用于封框胶固化遮挡的掩模板的制造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108873425A (zh) * 2018-06-13 2018-11-23 昆山龙腾光电有限公司 液晶显示面板及其制作方法

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