CN103853380A - 电极构件及包括该电极构件的触屏 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种触屏。该触屏包括基板,以及以网格形状形成在基板上的电极部分。该电极部分包括包含第一和第二子图案的树脂层以及位于第一子图案上的透明电极。第一子图案的宽度与第二子图案的宽度的比例处于1:0.01至1:0.5的范围中。

Description

电极构件及包括该电极构件的触屏
技术领域
本发明涉及一种电极构件以及包括该电极构件的触屏。
背景技术
近来,触屏,即借助诸如手写笔或手指等输入器件通过对显示在显示器上的图像进行触摸来执行输入功能的触屏,已经被应用到各种电子器具中。
该触屏主要可以分为两类:电阻型触屏和电容型触屏。在电阻型触屏中,在输入器件的压力之下,玻璃与电极电短路,使得能够检测出触摸点。在电容型触屏中,在使用者手指触摸到电容型触屏上时,电极之间的电容变化被检测到,进而检测出触摸点。
在电阻型触屏中,重复多次的使用会降低自身性能,并造成剐蹭。因此,代表优良耐用性和长的使用寿命的电容型触屏受到了越来越多的关注。
同时,尽管在触屏的电极中铟锡氧化物(ITO)的使用最为广泛,但是ITO在对于大面积触屏所需的低电阻实施上存在限制。因此,最近,基于网格形金属薄膜的透明电极成为热点。
因而,研发工作开始致力于寻找ITO的替代品,近来,已经研发出了诸如碳纳米管(CNT)、银纳米线和石墨烯等多种材料。
常规的金属网格方案是通过使用金属油墨进行印刷来形成网格形金属图案。该金属网格方案被韩国未审查公布案No.10-2012-0018059公开。
但是,在通过常规印刷方案来形成金属网格的情况中,很难实施精细图案。换言之,根据该印刷方案,最小的线宽度会被限制在约3μm至约5μm的范围中。用上述方案所制造的金属网格的透过性(permeability)会降级,使得金属线被看到,因而会发生可见性的问题。
同时,在常规触屏中,已经通过光阻方案来形成透明电极图案。换言之,在将透明电极材料和金属材料沉积在基板上之后,执行曝光、显影和蚀刻工艺来形成导线电极图案和感测电极图案。
但是,当使用上述方案来形成导线电极图案和感测电极图案时,工艺步骤增多,且工艺变得复杂,使得工艺效率降低。
为了解决上述问题,近来,使用金属薄膜的透明电极成为热点。但是,即使透明电极图案是使用金属薄膜网格来形成,由于必须使用光阻方案来形成导线电极图案,制造工艺的效率会降低。
发明内容
实施例提供一种具有改善的可靠性的电极构件以及包括该电极构件的触屏。
根据该实施例,提供一种触屏。该触屏包括基板和该基板上的电极部分,该电极部分形成为网格形状。该电极部分包括包含第一子图案和第二子图案的树脂层以及在第一子图案上的透明电极。第一子图案的宽度与第二子图案的宽度之比处于1:0.01到1:0.5的范围中。
如上所述,根据该触屏以及该触屏的制造方法,为了实现具有约500nm至约3μm线宽度的透明电极,形成透明电极材料的第一子图案与在各个第一子图案之间形成的第二子图案在宽度和高度上的比例被限制为预定比例。
换言之,当通过将第一子图案与第二子图案在宽度和高度上的比例限制为预定比例来实现具有约3μm或更小的精细线宽度的透明电极时,该透明电极材料仅保留在第一子图案上,并且在第二子图案的上部上的该透明电极材料能够被完全去除。
因此,根据该实施例的触屏,能够实现具有3μm或更小的线宽度的透明电极,使得透光率可以改善,并且可以改善可见性。此外,根据该实施例的触屏的制造方法,可以制造出具有上述效果的触屏。
此外,在根据该实施例的电极构件中,在感测电极图案与导线电极图案之间形成多个图案同时其宽度窄于感测电极图案或导线电极图案的宽度。因此,在将相同的电极材料沉积在感测电极图案和导线电极图案上之后,一次执行蚀刻工艺,进而简化了导线电极和感测电极的形成工艺。
在相关技术中,在依序将感测电极材料和导线电极材料沉积在基板上之后,光阻工艺,详言之,即曝光、显影和蚀刻工艺被执行以分别形成导线电极图案区域和感测电极图案区域。因此,由于工序数目增多,工艺效率会降低。
因此,在根据该实施例的电极构件中,在通过压印工艺将第一至第四图案形成在基板上之后,将相同的电极材料沉积在第一和第三图案上,并且关于所得结构的蚀刻工艺被一次执行,使得能够形成感测电极图案和导线电极图案。
因此,在根据该实施例的电极构件中,即使在形成了导线电极的部分中也形成纳米图案,进而制造出包括相同电极材料的感测电极图案和导线电极图案。
此外,可以改善应用了该电极构件的触屏的制造工艺效率。
附图说明
图1是示意性示出根据该实施例的触屏的平面图。
图2是沿图1中的线A-A’截取的截面图。
图3是沿图1中的线A-A’截取的截面图。
图4是示出根据该实施例的触屏的制造方法的流程图。
图5至图12是示出根据该实施例的触屏的制造方法的截面图。
图13是示意性示出根据该实施例的电极构件的截面图。
图14是图13中的部分A的放大截面图。
图15是沿图13中的线B-B’截取的截面图。
图16是示出根据该实施例的触屏的感测电极图案和导线电极图案的截面图。
图17至图24是示出根据该实施例的电极构件的制造方法的截面图。
图25是示出应用了根据该实施例的电极构件的触屏的透视图。
具体实施方式
在对于实施例的描述中,应理解,当将一层(或膜)、区域、图案或结构称作位于另一基板、另一层(或膜)、另一区域、另一垫或另一图案上时,其可以“直接地”或“间接地”位于另一基板、层(或膜)、区域、垫或图案上,或者也可以存在一个或多个介入层。关于层的此类位置关系会参考附图来进行描述。
出于方便清晰的目的,在附图中示出的每一层(或膜)、每一区域、每一图案或每一结构的厚度及大小会夸大、省略或示意性地示出。此外,层(或膜)、区域、图案或结构的大小并非必然反映实际大小。
下文中将参看附图来详细描述该实施例。
下文中,将参考图1至图3来描述根据该实施例的触屏。图1是示意性示出根据该实施例的触屏的平面图。图2是沿图1中的线A-A’截取的截面图。图3是沿图1中的线A-A’截取的截面图。
参看图1至图3,根据该实施例的触屏包括基板100,在该基板中限定出有效区域AA和无效区域UA,在有效区域AA中输入器件(例如手指)的位置被感测,而无效区域UA围绕有效区域AA。
在这种情况下,电极部分210可以形成在有效区域AA中以感测输入器件。此外,导线500可以形成在无效区域UA中以电连接电极部分210。此外,导线连接部分550可以设置在导线500与电极部分210之间。另外,与导线500相连接的外部电路可以位于无效区域UA中。无效区域UA中可以设置有外部展示层(outer dummy layer)。标志(logo)可以形成在该外部展示层中。
如果诸如手指的输入器件触摸到上述触屏上,那么在该触屏上的输入器件的被触摸部分中发生电容变化。该触屏中发生电容变化的部分可以被检测为触摸点。
下文中将详细描述上述触屏。
基板100可以包括各种材料,来支撑形成在基板100上的电极部分210、导线500以及电路基板。例如,基板100可以包括玻璃基板或塑料基板。
该外部展示层形成在基板100的无效区域UA中。该外部展示层可以涂布有具有预定颜色的物质,使得导线500和将导线500与外部电路相连接的印刷电路图案无法被外部看到。该外部展示层可以具有适宜于所要外观的颜色。例如,该外部展示层可以包括用于呈现黑色的黑色染料。可以通过各种方案将所要的标志形成在该外部展示层中。可以通过沉积方案、印刷方案和湿涂布(wet coating)方案来形成该外部展示层。
电极部分210可以形成在基板100上。透明电极210可以感测诸如手指的输入器件的触摸。
参看图1,电极部分210包括第一电极212和第二电极214。
第一电极212包括:多个第一传感器部分212a,用于感测诸如手指的输入器件的触摸;以及第一连接电极部分212b,用于将该等第一传感器部分212a彼此连接。第一连接电极部分212b将该等第一传感器部分212a在第一方向(附图中的X轴方向)中彼此连接,使得第一电极212可以在第一方向中延伸。
相似地,第二电极214包括:多个第二传感器部分214a,用于感测诸如手指的输入器件的触摸;以及第二连接电极部分214b,用于将该等第二传感器部分214a彼此连接。第二连接电极部分214b将该等第二传感器部分214a在与第一方向相交的第二方向(附图中的Y轴方向)中彼此连接,使得第二电极214可以在第二方向中延伸。
绝缘层250可以插入在第一连接电极部分212b与第二连接电极部分214b之间以防止第一连接电极部分212b与第二连接电极部分214b短接。绝缘层250可以包括透明绝缘材料以将第一电极212与第二电极214绝缘。
同时,电极部分210设置为网格形状。详言之,电极部分210包括网格开口部分OA和网格线部分LA。在这种情况下,网格线部分LA的线宽度可以是约3μm或更小。优选地,当网格线部分LA的线宽度为3μm或更小时,电极部分210的图案可以不被看到。优选地,网格线图案LA的线宽度可以处于500nm至3μm的范围中。
此外,如图1所示,网格开口OA可以具有矩形形状,但是该实施例不限于此。换言之,网格开口部分OA可以具有各种形状,诸如菱形、诸如五边形或六边形的多边形,以及圆形。
电极部分210设置为网格形状,使得当观看有效区域AA时,电极部分210的图案不被看到。换言之,即使电极部分210由金属形成,电极部分210的图案也不会被看到。此外,即使电极部分210应用到大型触屏,该触屏的阻抗(resistance)也会减小。此外,当电极部分210通过压印工艺来形成时,印刷质量得以改善,使得可以确保高质量的触屏。
参看图2和图3,电极部分210包括树脂层300和电极材料215。
树脂层300中设置有第一子图案310和第二子图案320。第一子图案310和第二子图案320与树脂层300直接接触。第一子图案310设置在网格线部分LA中。因此,第一子图案310设置成网格形状。此外,第二子图案320设置在网格开口部分OA中。因此,第二子图案320可设置在各个第一子图案310之间。
第一子图案310的宽度和高度可以分别与第二子图案320的宽度和高度不同。第一子图案310的宽度和高度可以制成微米(μm)或纳米(nm)级。此外,第二子图案320的宽度和高度可以制成纳米(nm)级。例如,第一子图案310的宽度可以处于500nm至3μm的范围中,而第二子图案320的宽度可以处于100nm至500nm的范围中。
第一子图案310和第二子图案320可以分别在宽度和高度上形成为预定比例。
详言之,第一子图案310的宽度与第二子图案320的宽度的比例可以处于约1:0.01至约1:0.5的范围中。
此外,第一子图案310的宽度与第一子图案310的高度的比例可以处于约1:0.1至约1:1的范围中。另外,第一子图案310的宽度与第一子图案310的宽度的比例可以处于约0.1:1至约1:1的范围中。换言之,如图2和图3所示,第一子图案310的一个截面可以具有矩形或正方形。
此外,第一子图案310的高度与第二子图案320的高度的比例可以处于约1:0.1至约1:0.9的范围中。
第一子图案310和第二子图案320在宽度和高度上的上述比例将最优比纳入考量,以在第一子图案310上形成透明电极时形成具有精细线宽度的透明电极。换言之,第一子图案310与第二子图案320在宽度和高度上的比例设置在上述数值范围中,使得该透明电极可以形成为具有约3μm或更小的精细线宽度的网格形状。
换言之,该透明电极形成在树脂层300上,详言之,形成在树脂层300的第一子图案310的顶部表面上。在这种情况下,电极材料215形成在树脂层300中并接受蚀刻工艺。
在这种情况下,为了形成具有3μm或更小的精细线宽度的电极,第一子图案310与第二子图案320在宽度和高度上的比例是重要参数。换言之,如果第一子图案310与第二子图案320在宽度和高度上的比例超出所设置的比例范围,那么形成在第二子图案320上的电极材料215不会被完全蚀刻掉,或者形成在第一子图案310上的电极材料215可能会被蚀刻,使得无法实现约3μm或更小的线宽度。
因此,根据该实施例的触屏,形成在树脂层300中的第一子图案310与第二子图案320在宽度和高度上的比例被限制在预定范围中,使得可以形成约500nm至约3μm或低于3μm的精细线宽度。
第一子图案310和第二子图案320可以具有凹雕形状或凸雕形状。详言之,当树脂层300形成为平坦表面形状时,第一子图案310可以具有自树脂层300向上突起的凸雕形状,或具有从树脂层300向下凹陷的凹雕形状。
电极材料215可以具有可印刷的金属膏材料。详言之,电极材料215可以包括选自由铜(Cu)、铝(Al)、镍(Ni)、锡(Sn)、锌(Zn)、金(Au)、银(Ag)及其合金组成的组中的至少一种。因此,具有精细线宽度的网格由金属膏形成,使得可以用上述材料来替代铟锡氧化物(ITO)。因此,电极材料215在价格上具有优势。电极材料215可以通过简单的沉积工艺或简单的印刷工艺来形成。
以下将参考图4至图12来描述根据该实施例的触屏的制造方法。将通过参考以上关于触屏的描述来描述触屏的制造方法。换言之,关于触屏的制造方法的描述并入到关于触屏的以上描述中。
图4是示出根据该实施例的触屏的制造方法的流程图。图5至图12是示出根据该实施例的触屏的制造方法的截面图。
参看图4,根据该实施例的触屏的制造方法,包括制备基板100的步骤(ST10)、形成图案的步骤(ST20)、形成电极材料215的步骤(ST30),以及执行蚀刻工艺的步骤(ST40)。
在制备基板100的步骤(ST10)中,制备玻璃基板或塑料基板。基板100可以被划分成有效区域AA和无效区域UA。无效区域UA可以涂布有呈现例如黑色的材料,使得可以在无效区域UA上形成标志。
随后,在形成该图案的步骤(ST20)中,在基板100上形成树脂层300之后,第一子图案310和第二子图案320形成在树脂层300上。
如图5、图6、图9和图10所示,可以使用凸模41和凹模42来形成第一子图案310和第二子图案320。详言之,在基板100上形成树脂层300之后,使用凸模41或凹模42来对树脂层300进行压印,使得可以形成第一子图案310和第二子图案320。
换言之,当以凹雕形状形成第一子图案310时,使用与该凹雕形状相对应的凸模41将具有凹雕形状的第一子图案310形成在树脂层300上。当以凸雕形状形成第一子图案310时,可以使用与凸雕形状相对应的凹模来在树脂层300上形成具有凸雕形状的第一子图案310。在这种情况下,树脂层300可以包含UV树脂或热固性树脂。
在这种情况下,第一子图案310和第二子图案320的形状,以及第一子图案310与第二子图案320在宽度和高度上的比例,参见以上描述的触屏中的宽度与高度的比例中。
随后,在形成电极材料215的步骤(ST30)中,电极材料215形成在树脂层300上。换言之,电极材料215可以涂布并沉积在形成在树脂层上的第一子图案310和第二子图案320的顶部表面和/或侧面上。
电极材料215可以包含由铜(Cu)、铝(Al)、镍(Ni)、锡(Sn)、锌(Zn)、金(Au)、银(Ag)及其合金组成的组中的至少一种。
随后,在执行蚀刻工艺的步骤(ST40)中,在树脂层300上部分蚀刻电极材料215。
在蚀刻速率上会有所差异,这取决于形成在树脂层300上的第一子图案310和第二子图案320的结构以及与电极材料215的接触面积。换言之,因为在第一子图案310与电极材料215之间的接触面积宽于在第二子图案320与电极材料215之间的接触面积,所以对于形成在第一子图案310上的电极材料215进行的蚀刻会执行地较少。换言之,在以相同的蚀刻速率来执行蚀刻工艺的条件下,电极材料215仍存留于第一子图案310上,而第二子图案320的上部的电极材料215被蚀刻掉并去除。因此,参看图8和图12,透明电极会仅形成在第一子图案310上。该透明电极可以形成为与第一子图案310的形状相同的网格形状。
如上所述,根据该实施例的触屏及其制造方法,为了实现具有精细线宽度,详言之约500nm至约3μm的精细线宽度的透明电极,沉积上有透明电极材料的第一子图案与形成在各个第一子图案之间的第二子图案,在宽度和高度上的比例限制到预定范围中。
换言之,当第一子图案与第二子图案在宽度和高度上的比例被限制到一个预定范围中使得实现具有约3μm或低于3μm的精细线宽度的透明电极时,该透明电极材料可以仅存留于第一子图案上,并且在蚀刻工艺中第二子图案上的透明电极材料被完全去除。
因此,因为在根据该实施例的触屏中可以实现具有约3μm或低于3μm的精细线宽度的透明电极,所以可以改善透光率和可见性。此外,根据该实施例的触屏的制造方法,可以制造出具有上述效应的触屏。
同时,参看图13至图16,根据另一实施例的电极构件包括基板100、感测电极200以及导线电极500。
基板100可以包含塑料或玻璃。此外,基板100包括有效区域AA和无效区域UA,在有效区域AA中输入器件(例如手指)的位置被感测,无效区域UA围绕有效区域AA。
在这种情况下,可以在有效区域AA中形成感测电极200以感测输入器件。此外,可以在无效区域UA中形成导线电极500以电连接感测电极200。另外,与导线电极500相连接的外部电路可以位于无效区域UA中。此外,印刷层(未示出)可以形成在无效区域UA中,标志或命令图标图案部分可以形成在印刷层中。
如果在以上触屏上感触到诸如手指的输入器件,那么在触屏上的输入器件的被触摸部分中会发生电容变化。触屏中发生电容变化的部分可以检测为触摸点。
感测电极200形成在基板100的有效区域AA上。感测电极200可以感测诸如手指的输入器件的触摸。
参看图13,感测电极200包括第一感测电极210和第二感测电极220。
第一感测电极210包括多个第一传感器部分210a和第一连接电极部分210b,该多个第一传感器部分210a用于感测诸如手指的输入器件的触摸,第一连接电极部分210b用于将该等第一传感器部分210a彼此连接。第一连接电极部分210b将该等第一传感器部分210a在第一方向(附图中的X轴方向)上彼此连接,使得第一感测电极210可以在第一方向上延伸。
相似地,第二感测电极220包括多个第二传感器部分220a和第二连接电极部分220b,该多个第二传感器部分220a用于感测诸如手指的输入器件的触摸,第二连接电极部分220b将该等第二传感器部分220a彼此连接。第二连接电极部分220b将该等第二传感器部分220a在与第一方向相交的第二方向(附图中的Y轴方向)上连接,使得第二感测电极220可以在第二方向上延伸。
绝缘层230可以插入在第一连接电极部分210b与第二连接电极部分220b之间以防止在第一连接电极部分210b与第二连接电极部分220b之间发生电短路。绝缘层230可以包含透明绝缘材料以将第一感测电极210与第二感测电极220相绝缘。
同时,第一感测电极210设置成网格形状。详言之,第一感测电极210包括网格开口部分OA和网格线部分LA。在这种情况下,网格线部分LA的线宽度可以是约3μm或低于3μm。优选地,当网格线部分LA的线宽度为3μm或低于3μm时,感测电极200的图案不会被看到。优选地,网格线部分LA的线宽度可以处于500nm至3μm的范围中。
此外,如图13所示,网格开口部分OA可以具有矩形形状,但是该实施例不限于此。换言之,网格开口部分OA可以具有各种形状,诸如菱形、诸如五边形或六边形的多边形以及圆形。
感测电极200设置为网格形状,使得在观看有源区域AA时,感测电极200的图案不被看到。换言之,即使感测电极200由金属形成,感测电极的图案也不会看到。此外,即使感测电极200应用到大型触屏,该触屏的阻抗会减小。此外,当感测电极200是通过压印工艺形成时,印刷质量得到改善,使得可以确保高质量的触屏。
导线电极500形成在基板100的无效区域UA上。导线电极500与感测电极200电连接。同时,导线电极连接部分350可以进一步插入在导线电极500与感测电极200之间。导线电极500将由感测电极200感测出的触摸感测信号传输给柔性印刷电路板(FPCB)。换言之,导线电极500将由感测电极200感测出的触摸感测信号传输给安装在FPCB上的连接器(未图示)。
下文将参考图14至图16来详细描述感测电极200和导线电极500。
参看图14,导线电极构件的导线电极部分包括基板100、形成在基板100上的树脂层400、形成在树脂层400上的第一和第二图案410和420,以及形成在第一图案410上的导线电极500。
导线电极500形成在基板100的无效区域UA上。在无效区域UA上形成树脂层400之后,可以通过压印工艺来形成第一图案410和第二图案420。树脂层400可包括UV树脂或热固性树脂。
该导线电极材料可以涂布在第一图案410上以形成导线电极500。
第一图案410的宽度可以不同于第二图案420的宽度。详言之,第一图案410的宽度可以大于第二图案420的宽度。例如,第一图案410的宽度可以为几微米,而第二图案420的宽度可以为几微米。
第一图案410的宽度和高度与第二图案420的宽度和高度可以分别形成为预定比例。
详言之,第一图案410的宽度与第二图案420的宽度的比例可以处于约1:0.01至约1:0.5的范围中。
此外,第一图案410的宽度与第一图案410的高度的比例可以处于约1:0.1至约1:1的范围中。另外,第一图案410的宽度与第一图案410的宽度的比例可以处于约0.1:1至约1:1的范围中。换言之,如图14所示,第一图案410的一个截面可以具有矩形或正方形形状。
此外,第一图案410的高度与第二图案420的高度的比例可以处于约1:0.1至约1:0.9的范围中。
图15是示出图13中的感测电极部分的截面图。参看图15,导线电极构件的导线电极部分包括基板100、形成在基板100上的树脂层400、形成在树脂层400上的第三图案430和第四图案440,以及形成在第三图案430上的感测电极200。
感测电极200形成在基板100的无效区域UA上。在无效区域UA上形成树脂层400之后,第三图案410和第四图案420可以通过压印工艺来形成。树脂层400可以包括UV树脂或热固性树脂。
感测电极材料可以涂布在第三图案430上以形成感测电极200。
第三图案430的宽度可以不同于第四图案440的宽度。详言之,第三图案430的宽度可以宽于第四图案440的宽度。例如,第三图案430的宽度可以为几微米,第四图案440的宽度可以为几纳米。
第三图案430的宽度和高度与第四图案440的宽度和高度可以分别形成为预定比例。
详言之,第三图案430的宽度与第四图案440的宽度的比例可以处于约1:0.01至约1:0.5的范围中。
此外,第三图案430的宽度与第四图案440的高度的比例可以处于约1:0.1至约1:1的范围中。另外,第三图案430的宽度与第四图案440的高度的比例可以处于约0.1:1至约1:1的范围中。换言之,如图15所示,第三图案430的一个截面可以具有矩形或正方形形状。
此外,第三图案430的高度与第四图案440的高度的比例可以处于约1:0.1至约1:0.9的范围中。
图16是示出图13中的感测电极部分和导线电极部分的截面图。参看图16,感测电极200形成在基板100的有效区域AA中,导线电极500形成在基板100的无效区域UA中。
详言之,第一图案410和第二图案420形成在无效区域UA中,第三图案430和第四图案440形成在有效区域AA中。第二图案420形成在各个第一图案410之间。此外,第四图案440形成在各个第三图案430之间。
如上文所描述,其宽度可以大于第一图案410的宽度,第三图案430的宽度可以远大于第四图案440的宽度。此外,第一图案410和第三图案430的宽度可以为几微米。第二图案420和第四图案440的宽度可以为几纳米。
第二图案420和第四图案440可以同时形成。此外,第二图案420和第四图案440可以具有相同宽度。
电极材料可以沉积在第一图案410和第三图案430上。详言之,导线电极材料300’可以沉积在第一图案410上,感测电极材料210可以沉积在第三图案430上。该导线电极材料和该感测电极材料可以包括由铜(Cu)、铝(Al)、镍(Ni)、锡(Sn)、锌(Zn)、金(Au)、银(Ag)及其合金组成的组中的至少一种。详言之,该导线电极材料和该感测电极材料可以包含相同金属材料。
此外,在根据该实施例的电极构件中,多个图案形成在该感测电极图案与该导线电极图案之间,同时其宽度窄于感测电极图案或导线电极图案的宽度。因此,在感测电极图案和导线电极图案上沉积上相同的电极材料之后,一次执行蚀刻工艺,进而简化形成导线电极和感测电极的工艺。
根据相关技术,在依序将感测电极材料和导线电极材料沉积在基板上之后,进行光阻工艺,详言之,曝光、显影和蚀刻工艺以分别形成导线电极图案和感测电极图案。因此,由于工序数目增多,工艺效率会降低。
因此,在根据该实施例的电极构件中,在通过压印工艺在基板上形成第一至第四图案之后,将相同的电极材料沉积在第一和第三图案上并对于所得结构一次执行蚀刻工艺,使得可以形成感测电极图案和导线电极图案。
因此,在根据该实施例的电极构件中,即使在形成导线电极的部分中也能形成纳米图案,进而制造出包括相同电极材料的感测电极图案和导线电极图案。
下文将参考图17至图24来描述根据该实施例的触屏的制造方法。尽管在图17至图24中仅示出导线电极,但是感测电极的制造方法并入到导线电极的形成方法中。
图17至图20所示为使用凸模的情况,图21至图24所示为使用凹模的情况。
参看图17和图21,在基板100上形成树脂层400之后,制备凸模510或凹模520。
随后,参看图18和图22,可以使用凸模510或凹模520。详言之,在形成了树脂层400之后,通过使用凸模510或凹模520来压印树脂层400,由此可以形成第一图案410和第二图案420。
换言之,当以凹雕形状形成第一图案410和第二图案420时,通过使用与该凹雕形状相对应的凸模510将具有该凹雕形状的第一和第二图案410和420形成在树脂层400上。当以凸雕形状形成第一图案410和第二图案420时,可以通过使用与该凸雕形状相对应的凹模520来将具有该凸雕形状的第一和第二图案410和420形成在树脂层400上。在这种情况下,树脂层400可以包含UV树脂或热固性树脂。
随后,如图19和图23所示,将电极材料410涂布在形成在树脂层上的第一图案410和第二图案420的顶部表面和/或侧面上以沉积电极材料300’。电极材料300’可以包含由铜(Cu)、铝(Al)、镍(Ni)、锡(Sn)、锌(Zn)、金(Au)、银(Ag)及其合金组成的组中的至少一种。
随后,如图20和图24所示,形成在树脂层上的电极材料被部分地蚀刻掉。
在蚀刻速率上会有所差异,这取决于形成在树脂层400上的第一和第二图案410和420的结构以及与电极材料300’的接触面积。换言之,因为在第一图案410与电极材料300’之间的接触面积宽于在第二图案420与电极材料300’之间的接触面积,所以对形成在第一图案410上的电极材料300’的蚀刻可以进行地较少。换言之,在以相同蚀刻速率执行蚀刻工艺的条件下,电极材料300’仍存留于第一子图案410上,而第二图案420的上部的电极材料300’被蚀刻掉并去除。因此,参看图20和图24,导线电极500可以仅形成在第一图案410上。
上文所描述的根据该实施例的电极构件可以应用到图25所示的触屏中。尽管图25示出了触屏或移动终端,但是该实施例不限于此,根据该实施例的电极构件可以应用到各种家用电器的显示器中,诸如便携式电脑、电视机、洗衣机以及汽车上的显示器。
参看图25,根据该实施例的触屏700可以包括盖窗(cover window),、命令图标图案部分710、摄像头720和扬声器720,盖窗包括有效区域AA和无效区域UA。
根据第一实施例的触屏可以包括上文所描述的电极构件。详言之,根据该实施例的触屏包括盖窗以及形成在该盖窗上的电极构件。该电极构件包括一个包括有效区域和无效区域的基板、形成在无效区域上的第一和第二图案,以及形成在第一图案上的第一电极。第一图案的宽度可以大于第二图案的宽度。
此外,该电极构件另外包括形成在有效区域上的第三和第四图案,以及形成在第三图案上的第二电极。第三图案的宽度可以宽于第四图案的宽度。
在这种情况下,第一和第二电极可以包含相同的金属材料。
根据第二实施例的触屏包括一个包括有效区域和无效区域的盖窗、形成在无效区域上的导线电极图案以及形成在有效区域上的感测电极图案。导线电极图案包括第一和第二图案,感测电极图案包括第三和第四图案,第一图案的宽度可以大于第二图案的宽度。换言之,在根据该实施例的触屏中,感测电极图案和导线电极图案可以直接形成在盖窗上。
在这种情况下,感测电极图案和导线电极图案可以包含相同金属材料。
根据第一和第二实施例的触屏可以包括上文所描述的电极构件。因此,在形成感测电极和导线电极时,可以改善工艺效率并降低制造成本。
在本说明书中对于“一个实施例”、“实施例”、“实例实施例”等的任何引用表示结合本实施例所描述的具体特征、结构或特性被包括在本发明的至少一个实施例中。此类短语在文中各处的出现不一定表示指代同一实施例。另外,当结合任何实施例来描述具体的特征、结构或特性时,应认为本领域的技术人员可以结合本发明的其他实施例来实现此特征、结构或特性。
尽管已经参考本发明的多个说明性实施例描述了本发明,但是应理解,本领域的技术人员可以构思落入本发明原理的精神和范围内的众多其他修改和实施例。更具体来说,对本说明书、附图和所附权利要求书的范围内的主题组合布置的组成部分和/或布置可以做出各种变化和修改。除了对于这些组成部分和/或布置的变化和修改以外,替代使用对于本领域的技术人员也是显然的。

Claims (20)

1.一种触屏,包括:
基板;以及
在所述基板上的电极部分,
其中,所述电极部分包括:
包括第一和第二子图案的树脂层;以及
在所述第一子图案上的透明电极,以及
其中所述第一子图案的宽度不同于所述第二子图案的宽度。
2.根据权利要求1所述的触屏,其中所述电极部分设置成网格形状。
3.根据权利要求1所述的触屏,其中所述第一子图案的宽度与所述第二子图案的宽度的比例处于1:0.01至1:0.5的范围中。
4.根据权利要求1所述的触屏,其中所述第一子图案的宽度与所述第一子图案的高度的比例处于1:0.1至1:1的范围中。
5.根据权利要求1所述的触屏,其中所述第一子图案的宽度与所述第一子图案的高度的比例处于0.1:1至1:1的范围中。
6.根据权利要求1所述的触屏,其中所述第一子图案的高度与所述第二子图案的高度的比例处于1:0.1至1:0.9的范围中。
7.根据权利要求1所述的触屏,其中所述第一和第二子图案具有凸雕形状。
8.根据权利要求1所述的触屏,其中所述第一和第二子图案具有凹雕形状。
9.根据权利要求1所述的触屏,其中所述透明电极设置在所述第一子图案的顶部表面上。
10.根据权利要求1所述的触屏,其中所述透明电极包含金属。
11.根据权利要求1所述的触屏,其中所述第一子图案的宽度处于500nm至3μm的范围中。
12.根据权利要求1所述的触屏,其中所述第二子图案的宽度处于100nm至500nm的范围中。
13.一种电极构件,包括:
包括有效区域和无效区域的基板;
在所述无效区域上的第一和第二图案;以及
在所述第一图案上的第一电极,
其中所述第一图案的宽度不同于所述第二图案的宽度。
14.根据权利要求13所述的电极构件,另外包括在所述有效区域上的第三和第四图案;以及
在所述第三图案上的第二电极,
其中所述第三图案的宽度不同于所述第四图案的宽度。
15.根据权利要求14所述的电极构件,其中所述第一和第二电极包含相同金属材料。
16.根据权利要求13所述的电极构件,其中所述第二图案形成在第一图案之间,所述第四图案形成在第三图案之间。
17.根据权利要求13所述的电极构件,其中所述第一图案的宽度宽于所述第二图案的宽度,所述第三图案的宽度宽于所述第四图案的宽度。
18.一种触屏,包括:
盖窗;以及
在所述盖窗上的电极构件,
其中所述电极构件包括:
包括有效区域和无效区域的基板;
在所述无效区域上的第一和第二图案;以及
在所述第一图案上的第一电极,并且
其中所述第一图案的宽度宽于所述第二图案的宽度。
19.根据权利要求18所述的触屏,另外包括在所述有效区域上的第三和第四图案;以及
在所述第三图案上的第二电极,
其中所述第三图案的宽度宽于所述第四图案的宽度。
20.根据权利要求18所述的触屏,其中所述第一和第二电极包含相同的金属材料。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108139826A (zh) * 2015-12-25 2018-06-08 株式会社藤仓 配线体、配线基板以及触碰传感器
CN108845694A (zh) * 2018-06-06 2018-11-20 业成科技(成都)有限公司 金属网格触控模组
CN112037651A (zh) * 2020-08-20 2020-12-04 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板、制程方法及显示装置
WO2022047975A1 (en) * 2020-09-03 2022-03-10 Boe Technology Group Co., Ltd. Touch control structure, display panel, display apparatus, and method of fabricating touch control structure

Families Citing this family (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103345317B (zh) * 2013-03-25 2014-10-29 深圳欧菲光科技股份有限公司 触摸屏
US20140293149A1 (en) * 2013-03-27 2014-10-02 Shenzhen O-Film Tech Co., Ltd Capacitive touch screen and manufacturing method thereof
CN103412688B (zh) * 2013-03-27 2014-09-17 深圳欧菲光科技股份有限公司 电容触摸屏及其制备方法
US9639215B2 (en) * 2013-03-30 2017-05-02 Shenzhen O-Film Tech Co., Ltd. Touch screen
US9179557B2 (en) * 2013-03-30 2015-11-03 Shenzhen O-Film Tech Co., Ltd. Touch screen and method of producing the same
US9538654B2 (en) * 2013-03-30 2017-01-03 Shenzhen O-Film Tech Co., Ltd. Conductive film, method for manufacturing the same, and touch screen including the same
CN103425325B (zh) * 2013-03-30 2016-12-28 南昌欧菲光显示技术有限公司 偏光片模块及其制备方法和触摸显示屏
US9089061B2 (en) * 2013-03-30 2015-07-21 Shenzhen O-Film Tech Co., Ltd. Conductive film, method for making the same, and touch screen including the same
US20140293150A1 (en) * 2013-04-02 2014-10-02 Shenzhen O-Film Tech Co., Ltd Touch screen
US20140307178A1 (en) * 2013-04-12 2014-10-16 Shenzhen O-Film Tech Co., Ltd Touch screen sensing module, manufacturing method thereof and display device
CN103226414B (zh) * 2013-05-02 2015-04-08 深圳欧菲光科技股份有限公司 触摸屏及其制备方法
CN103793120A (zh) * 2014-01-28 2014-05-14 北京京东方光电科技有限公司 一种内嵌式触摸屏及显示装置
KR20150103977A (ko) * 2014-03-04 2015-09-14 엘지이노텍 주식회사 터치 윈도우 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
US9671886B2 (en) * 2014-03-13 2017-06-06 Lg Display Co., Ltd. Touch-sensitive display device
KR102329717B1 (ko) * 2014-11-25 2021-11-23 엘지이노텍 주식회사 터치 윈도우
US10191590B2 (en) * 2014-07-11 2019-01-29 Lg Innotek Co., Ltd. Touch window
KR102288796B1 (ko) * 2014-07-31 2021-08-11 엘지이노텍 주식회사 터치 윈도우
US9720551B2 (en) * 2014-07-30 2017-08-01 Lg Innotek Co., Ltd. Touch window
US10061447B2 (en) * 2014-07-31 2018-08-28 Samsung Display Co., Ltd. Flexible transparent conductive coating and method of making thereof
EP2983108A3 (en) 2014-08-05 2016-07-13 LG Innotek Co., Ltd. Fingerprint sensor and touch device including the same
US9927939B2 (en) * 2014-08-13 2018-03-27 Samsung Display Co., Ltd. Touch panel and display apparatus including the same
WO2016024760A1 (ko) 2014-08-14 2016-02-18 엘지이노텍 주식회사 터치윈도우
KR102256461B1 (ko) * 2014-10-10 2021-05-26 삼성디스플레이 주식회사 터치 센서 및 이를 포함하는 표시 장치
CN105573569A (zh) * 2014-11-07 2016-05-11 群创光电股份有限公司 光学膜片及使用此光学膜片的触控式显示装置
KR102299875B1 (ko) * 2014-11-07 2021-09-07 엘지디스플레이 주식회사 터치 패널, 이의 제조 방법 및 터치 패널 일체형 유기 발광 표시 장치
TWI552044B (zh) * 2014-11-07 2016-10-01 群創光電股份有限公司 光學膜片及使用此光學膜片的觸控式顯示裝置
US9891769B2 (en) 2014-11-25 2018-02-13 Lg Innotek Co., Ltd. Touch window
WO2016136967A1 (ja) 2015-02-27 2016-09-01 株式会社フジクラ 配線体、配線基板、及びタッチセンサ
CN107533411B (zh) * 2015-05-04 2021-03-16 Lg伊诺特有限公司 触摸面板
CN107533404A (zh) * 2015-06-22 2018-01-02 株式会社藤仓 布线体、布线基板以及触摸传感器
KR102415044B1 (ko) * 2015-12-11 2022-07-01 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널, 이의 제조 방법 및 터치 스크린 패널을 포함하는 터치 표시 장치
CN106547397B (zh) * 2016-10-19 2022-03-22 苏州维业达触控科技有限公司 一种透明导电膜的制作方法、透明导电膜和触控屏
CN106843625B (zh) * 2017-01-18 2020-01-14 业成科技(成都)有限公司 降低可视性之金属网格结构及其制造方法
JP6979365B2 (ja) * 2017-10-16 2021-12-15 日本航空電子工業株式会社 タッチパネル
CN108874214B (zh) * 2018-05-25 2021-05-04 业成科技(成都)有限公司 触控面板结构
CN108845693A (zh) * 2018-06-04 2018-11-20 业成科技(成都)有限公司 具有辅助线的触控电极
KR102546769B1 (ko) * 2018-06-08 2023-06-22 삼성디스플레이 주식회사 터치 센서 및 표시 장치
KR20210157944A (ko) * 2020-06-22 2021-12-30 삼성디스플레이 주식회사 전자 장치

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011108869A2 (ko) * 2010-03-03 2011-09-09 미래나노텍 주식회사 정전 용량 방식 터치 패널 및 그 제조방법
CN102193669A (zh) * 2010-03-16 2011-09-21 乐金显示有限公司 触摸板及其制造方法
CN102541368A (zh) * 2011-03-14 2012-07-04 烟台正海电子网板股份有限公司 一种电容式触控面板及其制造方法
WO2012098992A1 (ja) * 2011-01-18 2012-07-26 富士フイルム株式会社 透明電極シート、透明電極シートの製造方法、及びこれらの透明電極シートを用いた静電容量方式のタッチパネル

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61184626A (ja) 1985-02-12 1986-08-18 Ricoh Co Ltd 情報手書入力素子
US4707570A (en) 1985-02-12 1987-11-17 Ricoh Company, Ltd. Manual information input device
US7915058B2 (en) * 2005-01-28 2011-03-29 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Substrate having pattern and method for manufacturing the same, and semiconductor device and method for manufacturing the same
JP5196973B2 (ja) * 2007-11-27 2013-05-15 富士通コンポーネント株式会社 パネル型入力装置を備えた電子機器
ES2626637T3 (es) * 2008-01-18 2017-07-25 Lifescan Scotland Limited Método de fabricación de lotes de tiras de ensayo que tienen una característica de calibración predeterminada
JP5004855B2 (ja) * 2008-04-17 2012-08-22 グンゼ株式会社 タッチパネルおよびその製造方法
JP5425459B2 (ja) * 2008-05-19 2014-02-26 富士フイルム株式会社 導電性フイルム及び透明発熱体
JP2011085920A (ja) * 2009-09-15 2011-04-28 Ricoh Co Ltd 透明電極付き基板とその製造方法及び透明電極配線パターン付き基板
EP2527913A1 (en) * 2010-02-22 2012-11-28 Sharp Kabushiki Kaisha Display device
KR101728818B1 (ko) 2010-08-09 2017-04-21 미래나노텍(주) 정전용량 방식의 터치 패널 및 그 제조 방법
KR101093651B1 (ko) 2010-05-25 2011-12-15 전자부품연구원 금속박막을 이용한 터치패널 및 그 제조방법
KR101706232B1 (ko) * 2010-06-29 2017-02-15 엘지디스플레이 주식회사 터치 패널
CN102375587B (zh) * 2010-08-15 2015-03-11 宸鸿科技(厦门)有限公司 侦测多触摸点的真坐标的触控面板及侦测方法
KR20120018059A (ko) 2010-08-20 2012-02-29 미래나노텍(주) 터치 스크린 패널용 기판, 터치 스크린 패널 및 이들의 제조방법
JP5616723B2 (ja) 2010-09-01 2014-10-29 パナソニック株式会社 機器制御システム、コントローラ
JP5647864B2 (ja) 2010-11-05 2015-01-07 富士フイルム株式会社 タッチパネル
JP5725818B2 (ja) * 2010-12-01 2015-05-27 富士フイルム株式会社 透明導電シートの製造方法、透明導電シート及びプログラム
KR101427768B1 (ko) 2010-12-27 2014-08-13 전자부품연구원 금속박막을 이용한 터치패널 및 그 제조방법
JP5640854B2 (ja) 2011-03-25 2014-12-17 ソニー株式会社 導電性素子およびその製造方法、配線素子、情報入力装置、表示装置、電子機器、ならびに原盤
KR101908492B1 (ko) * 2011-04-12 2018-10-17 엘지디스플레이 주식회사 터치 패널 일체형 표시 장치
TW201243663A (en) * 2011-04-20 2012-11-01 Wintek Corp Touch display panel
JP5809846B2 (ja) 2011-05-13 2015-11-11 富士フイルム株式会社 導電シート及びタッチパネル
JP5839541B2 (ja) 2011-05-13 2016-01-06 富士フイルム株式会社 導電シート及びタッチパネル
KR101620463B1 (ko) 2011-10-21 2016-05-13 미래나노텍(주) 정전 용량 방식 터치 패널 및 그 제조방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011108869A2 (ko) * 2010-03-03 2011-09-09 미래나노텍 주식회사 정전 용량 방식 터치 패널 및 그 제조방법
CN102193669A (zh) * 2010-03-16 2011-09-21 乐金显示有限公司 触摸板及其制造方法
WO2012098992A1 (ja) * 2011-01-18 2012-07-26 富士フイルム株式会社 透明電極シート、透明電極シートの製造方法、及びこれらの透明電極シートを用いた静電容量方式のタッチパネル
CN102541368A (zh) * 2011-03-14 2012-07-04 烟台正海电子网板股份有限公司 一种电容式触控面板及其制造方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108139826A (zh) * 2015-12-25 2018-06-08 株式会社藤仓 配线体、配线基板以及触碰传感器
CN108845694A (zh) * 2018-06-06 2018-11-20 业成科技(成都)有限公司 金属网格触控模组
CN112037651A (zh) * 2020-08-20 2020-12-04 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板、制程方法及显示装置
CN112037651B (zh) * 2020-08-20 2022-07-26 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板、制程方法及显示装置
WO2022047975A1 (en) * 2020-09-03 2022-03-10 Boe Technology Group Co., Ltd. Touch control structure, display panel, display apparatus, and method of fabricating touch control structure
CN114730230A (zh) * 2020-09-03 2022-07-08 京东方科技集团股份有限公司 触控结构、显示面板、显示装置以及制造触控结构的方法
CN114730230B (zh) * 2020-09-03 2023-12-19 京东方科技集团股份有限公司 触控结构、显示面板、显示装置以及制造触控结构的方法

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