CN103827346A - 使用特殊粉末涂料材料的涂布方法以及这种涂料材料的用途 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及含有颗粒的粉末涂料材料在涂布方法中的用途,所述涂布方法选自冷气喷涂、火焰喷涂、高速火焰喷涂、热等离子体喷涂和非热等离子体喷涂,其中颗粒具有至多0.1的相对可变形性因子Vm,且所述相对可变形性因子根据式(I)定义。其中d代表颗粒的平均最小厚度,垂直于颗粒的纵向轴线并在颗粒的纵向轴线的中半位测得,D50为体积平均的粒度分布的平均直径。本发明还涉及用于涂布的方法。
Description
本发明涉及特殊粉末涂料材料。此外,本发明包括这种粉末涂料材料的用途。此外,本发明包括使用这种粉末涂料材料用于基材涂布的方法。
已知许多用于不同基材的涂布方法。例如,将金属或其前体从气相沉积在基材表面上,参见例如PVD或CVD方法。此外,能够例如从溶液通过电化学方法来沉积相应的物质。另外,能够例如以清漆的形式将涂料施用至表面上。然而,所有的方法都具有特定的优点和缺点。例如,在以清漆的形式沉积的情况下,需要大量的水和/或有机溶剂,需要干燥时间,待施用的涂料材料必须与基础清漆相容,基础清漆的残余物同样保持在基材上。例如,通过PVD法施用需要大量能量以将非挥发性物质带入气相。
鉴于上述限制,已经开发了大量涂布方法以提供用于各自预期用途所需的性质。已知的方法使用例如动能、热能、或它们的混合以产生涂层,其中热能可源自例如常规燃烧火焰或等离子体火焰。后者进一步分为热和非热等离子体,这是指气体被部分或完全地分离成自由电荷载子如离子或电子。
在冷气喷涂的情况下,涂层是通过施加粉末至基材表面形成的,其中粉末颗粒被大大加速。为此,通过在德-拉伐尔喷嘴中膨胀将经加热的工艺气体加速至超音速,然后将粉末喷射。作为高动能的结果,当颗粒撞击基材表面时它们形成致密层。
例如,WO2010/003396A1公开了采用冷气喷涂作为涂布方法来施加耐磨保护涂层。此外,例如在EP1363811A1、EP0911425B1和US7,740,905B2中发现冷气喷涂方法的公开。
火焰喷涂属于热涂布方法组。这里,将粉末涂料材料引入燃料气体/氧气混合物的火焰。这里,可达到最高约3200℃的温度,例如使用氧乙炔火焰。该方法的细节可自公开如EP830464B1和US5,207,382A学到。
在热等离子体喷涂的情况下,将粉末涂料材料注入热等离子体。在通常使用的热等离子体中,达到最高约20,000K的温度,从而使注入的粉末熔融并沉积在基材上作为涂层。
热等离子体喷涂的方法及其具体实施方案以及方法参数是本领域技术人员已知的。例如,参考WO2004/016821,其描述了使用热等离子体喷涂以施加非晶涂层。此外,EP0344781例如公开了使用火焰喷涂和热等离子体喷涂作为使用碳化钨粉末混合物的涂布方法。在文献中多次描述了在等离子体喷涂法中使用的特定设备,例如在EP0342428A2、US7,678,428B2、US7,928,338B2和EP1287898A2中。
在高速火焰喷涂的情况下,燃料在高压下燃烧,其中燃料气体、液体燃料和它们的混合物都可以用作燃料。将粉末涂料材料注入高度加速的火焰。已知这种方法特征在于相对致密的喷涂涂层。高速火焰喷涂也是本领域技术人员公知的,并且已经在许多出版物中进行了描述。例如,EP0825272A2公开了使用高速火焰喷涂的用铜合金涂布的基材。此外,例如WO2010/037548A1和EP0492384A1公开了高速火焰喷涂的方法以及在其中使用的设备。
非热等离子体喷涂很大程度上类似于热等离子体喷涂和火焰喷涂进行。粉末涂料材料被注入非热等离子体,并与其一起沉积在基材表面上。如可例如从EP1675971B1得知的,该方法的特征在于经涂布的基材的特别低的热负荷。该方法中,特定的实施方案和相应的方法参数也是本领域技术人员从不同的出版物中已知的。例如EP2104750A2描述了该方法的使用和实施该方法的设备。例如,DE10320379A1描述了使用该方法的可电加热的元件的制造。关于该方法或用于非热等离子体喷涂的设备的进一步公开可见于例如EP1675971B1、DE102006061435A1、WO03/064061A1、WO2005/031026A1、DE19807086A1、DE10116502A1、WO01/32949A1、EP0254424B1、EP1024222A2、DE19532412A1、DE19955880A1和DE19856307C1中。
然而,使用粉末涂料材料的涂布方法的普遍问题是在相对温和的涂布条件下仅仅能达到不足的涂层质量。特别是,当存在粉末涂料材料的颗粒的不完全熔融时,会形成空穴,其可以例如影响光学、触觉或电性质,屏障效应和/或涂层的热导率。
本发明的一个目的是提供适合用于涂布方法中的粉末涂料材料,其中改进已知涂层的生产,或可以生产新涂层。
本发明的另一目的是,提供通过其能够在最温和的可能涂布条件(温度,撞击的粒子的速度)下生产高质量和均匀的涂层的方法。
本发明的另一目的是,提供粉末涂料材料,当在基材的涂层中使用时,所述粉末涂料材料与已知粉末涂料材料相比提供优点。
本发明涉及含有颗粒的粉末涂料材料在涂布方法中的用途,所述涂布方法选自冷气喷涂、火焰喷涂、高速火焰喷涂、热等离子体喷涂和非热等离子体喷涂,其中颗粒具有至多0.1的相对可变形性因子Vm,且所述相对可变形性因子根据式(I)定义:
这里,Vm代表相对可变形性因子。此外,d代表颗粒的平均最小厚度,垂直于颗粒的纵向轴线并在颗粒的纵向轴线的中半位测得。为了测定该厚度,测量至少50个随机选择的颗粒并由此形成平均值。术语D50指50%的体积平均的粒度分布位于该指定尺寸之下的平均粒度。D50优选通过激光粒度测定法测定,其中使用例如得自Sympatec GmbH,Clausthal-Zellerfeld,Germany的HELOS型粒度分析仪。这里,干粉末的分散可使用Rodos T4.1型分散单元在例如4巴的初始压力下进行。可选地,颗粒的粒度分布曲线可例如使用得自Quantachrome的装置(装置:Cilas1064)根据生产商的说明书测量。为此,1.5g粉末涂料材料悬浮在约100ml异丙醇中,在超声浴(装置:Sonorex IK52,Bandelin)中处理300秒,然后通过Pasteur吸管将其引入测量装置的样品制备池中并测量多次。所得平均值由各个测量结果形成。散射光信号根据Fraunhofer法评价。
在上述提到的用途的特定实施方案中,考虑到相对于银的莫氏硬度的颗粒的莫氏硬度,相对可变形性因子根据式(II)定义为:
其中HX是颗粒的莫氏硬度,HAg是银的莫氏硬度。银的莫氏硬度待用于具有小于银的莫氏硬度(HAg)的莫氏硬度(HX)的物质X。
在上述用途的特定实施方案中,粉末涂料材料的相对可变形性因子为至多0.01。
在上述用途的特定实施方案中,粉末涂料材料的颗粒的技术上的弹性极限为大于45N/mm2。
在上述用途的特定实施方案中,涂料材料的以[K]测得的熔点为以[K]测得的涉及该基材的涂布方法中所用介质的温度的至多60%,所述介质例如气体料流、燃烧火焰、或等离子体火焰。
在上述用途的特定实施方案中,粉末涂料材料的颗粒包含金属颗粒或者为金属颗粒,并且所述金属选自银、金、铂、钯、钒、铬、锰、钴、锗、锑、铝、锌、锡、铁、铜、镍、钛、硅、它们的合金和混合物。
在上述用途的特定实施方案中,涂布方法选自火焰喷涂和非热等离子体喷涂。在上述实施方案中特别的一些中,涂布方法优选为非热等离子体喷涂。
在上述用途的特定实施方案中,粉末涂料材料的粒度分布为D50值在1.5至84μm的范围内。
在上述用途的特定实施方案中,粉末涂料材料的粒度分布为D10值在3.7至26μm的范围内,D50值在6至49μm的范围内,D90值在12至86μm的范围内。
在上述用途的特定实施方案中,粉末涂料材料的跨度为至多2.9,其中所述跨度根据式(III)定义:
在上述用途的特定实施方案中,粉末涂料材料的颗粒是至少部分地经涂布的。在上述实施方案中特别的一些中,粉末涂料材料的颗粒是经涂布的。
本发明还涉及用于涂布基材的方法,所述涂布方法选自冷气喷涂、火焰喷涂、高速火焰喷涂、热等离子体喷涂和非热等离子体喷涂,其中所述方法包括将含有颗粒的粉末涂料材料引入定向至基材上的介质的步骤,其中所述颗粒具有至多0.1的相对可变形性因子Vm,且所述相对可变形性因子根据式(I)定义:
其中d代表颗粒的平均最小厚度,垂直于颗粒的纵向轴线并在颗粒的纵向轴线的中半位测得,D50为体积平均的粒度分布的平均直径。
在上述方法的特定实施方案中,所述方法选自火焰喷涂和非热等离子体喷涂。该涂布方法优选为非热等离子体喷涂,特别是上述实施方案的那些。
在上述方法的特定实施方案中,粉末涂料材料作为气溶胶传输。
在上述方法的特定实施方案中,定向至基材上的介质是空气或已经从空气产生。上述空气可得自周围气氛。在其中例如需要特别高纯度的涂层的特定实施方案中,在使用之前净化空气,其中例如灰尘和/或水蒸汽被分离除去。同样可以优选的是,氮和氧以外的空气的气体组分也很大程度上完全被分离出(总量<0.01体积%,优选<0.001体积%)。
在本发明的含义范围内,术语“粉末涂料材料”涉及被施用至基材作为涂层的颗粒混合物。这里,粉末涂料材料的根据本发明的颗粒并不必须具有均匀的厚度。不被理解为限制本发明,本发明人认为,粉末涂料材料的根据本发明的颗粒可特别容易地被力学变形,并且由此可以更容易地填充基材的不平整和已施用的涂层的孔,而不必须通过大量的热能熔融颗粒或大大加速颗粒以为变形提供足够的动能。例如,不仅在均匀细颗粒中,还在不规则厚度的颗粒中,观察到这点,因为从本发明人的观点,这里最薄的点为特别容易变形的薄弱的点,而颗粒在这些薄弱的点上变形导致能够对底面特别容易的适形。
本发明人惊讶的是,发现,通过使用根据本发明的粉末涂料材料,也可在非常温和的条件下得到具有更少数目和更小尺寸的空穴的更均匀的涂层,或甚至完全无空穴的更均匀的涂层。这通过具有特别高的相对可变形性的粉末涂料材料的生产和使用来实现。该高的相对可变形性受到相对于所有颗粒的平均尺寸为非常薄的点或区域的影响。不被理解为限制本发明,本发明人认为,这些薄的点或区域具有薄弱点,在该薄弱点上颗粒的变形可特别容易地发生。其结果是,即使在非常温和的条件下,产生对例如基材的表面结构的特别好的适应。
此外,令人惊奇地观察到,在涂料的施用过程中,根据本发明的粉末涂料材料在较小程度上从基材的表面喷溅。不被理解为限制本发明,本发明人认为,根据本发明的颗粒的较高的力学可变形性导致动能更容易的转化为颗粒的变形,由此朝着导致颗粒从待涂布的基材喷溅的弹性碰撞的趋势降低,例如当使用昂贵的或难以回收的涂料材料时,这是特别有利的。对于使用高气体速度的方法,特别是例如冷气喷涂和高速火焰喷涂,这种效应是特别重要的。
粉末涂料材料的根据本发明的颗粒因而特征在于相对可变形性因子的上述上限。所述相对可变形性因子根据式I定义:
这里,Vm代表相对可变形性因子。此外,d代表颗粒的平均最小厚度,垂直于颗粒的纵向轴线并在颗粒的纵向轴线的中半位测得。为了测定该平均厚度,通过SEM测量至少50个随机选择的颗粒并由此形成平均值。术语D50指50%的体积平均的粒度分布位于该指定尺寸之下的平均粒度。D50优选通过激光粒度测定法测定,其中使用例如得自Sympatec GmbH,Clausthal-Zellerfeld,Germany的HELOS型粒度分析仪。
然而,颗粒的力学可变形性也在一定程度上取决于所使用的材料的硬度。在特定实施方案中,因此可以优选引入基于该材料的莫氏硬度的校正因子,前提是该莫氏硬度大于银的莫氏硬度。然而,对于具有的莫氏硬度低于银的莫氏硬度的物质,这种校正只是微不足道的,这就是对于这种物质使用银的莫氏硬度的原因。这里,经校正的相对可变形性因子通过式II计算:
这里,HAg为银的莫氏硬度(2.7),HX为粉末涂料材料的颗粒的材料的莫氏硬度。
在其中粉末涂料材料的颗粒具有涂层的情况中,其莫氏硬度大于底层材料的莫氏硬度,粉末涂料材料的相关莫氏硬度根据式IV通过总和各层的材料的莫氏硬度来计算,通过相关层对总厚度的相比较例来校正:
HX=r1*H1+r2*H2+....(IV)
这里,rx表示层X的厚度对所有颗粒的平均比例。层的平均厚度优选使用SEM通过测量50个随机选择的颗粒测定。
在特定实施方案中,特别优选根据本发明的粉末涂料材料的根据式(I)或(II)(任选考虑到式(IV))的相对可变形性因子为至多0.1,优选至多0.07,更优选至多0.05,还更优选至多0.03。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选的是粉末涂料材料的相对可变形性因子为至多0.01,优选至多0.007,更优选至多0.005,还更优选至多0.003。
可用于构建涂层的根据本发明的方法为冷气喷涂、热等离子体喷涂,非热等离子体喷涂,火焰喷涂和高速火焰喷涂。根据本发明的粉末涂料材料的使用在方法中具有特别显著的效果,在所述方法中,没有特别高的动能被转移至颗粒,因为即使在很低得多的速度下也达到颗粒的足够的变形。在特定实施方案中,因此优选所述方法选自热等离子体喷涂、非热等离子体喷涂和火焰喷涂。
在热等离子体喷涂过程中,许多粉末涂料材料完全熔融于热等离子体中,结果是仅仅液体撞击基材的表面,且与提供根据本发明的粉末涂料材料相关的额外开支是不经济的。在特定实施方案中,该方法因而选自冷气喷涂、非热等离子体喷涂、火焰喷涂和高速火焰喷涂,优选选自非热等离子体喷涂和火焰喷涂。
等离子体的使用提供了即使非可燃气体也可以用作等离子气体的优点,从而对设备和特别是对必要的安全防范措施负担的支出减少。因此,在大多数情况下,可使用容易处理的无害气体,且对于特定方法的变体少量其他气体可留作预备。在特定实施方案中,因此优选所述方法选自热等离子体喷涂和非热等离子体喷涂。在上述实施方案中特别的一些中,非常特别地优选非热等离子体喷涂用作涂布方法。
更令人惊讶地发现,通过根据本发明的粉末涂料材料,也可以在温和的涂布条件下从具有高屈服应力的物质生产特别均匀的涂层。屈服应力是一个相对的极限值,它描述了施加于材料的应力与由此产生的塑性变形之间的关系。0.2%屈服应力,也称为技术上的弹性极限,在这里是特别重要的。在特定实施方案中,优选所使用的涂料材料的技术上的弹性极限大于45N/mm2,优选大于70N/mm2,更优选大于85N/mm2,还更优选大于100N/mm2。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选根据本发明的涂料材料的技术上的弹性极限大于130N/mm2,优选大于160N/mm2,更优选大于190N/mm2,甚至更优选大于210N/mm2。这里,技术上的弹性极限根据DIN EN ISO6892测定。不被理解为限制本发明,本发明人认为,目前使用的粉末涂料材料,当使用温和的涂布条件时,在撞击表面时不充分地可变形,因此不能足够适应表面结构或已经施用涂层和引入空穴的结构。然而,在根据本发明的粉末涂料材料的情况下,不再所有颗粒必须变形,而仅仅是根据本发明的薄的点或区域需要变形以能够适应存在的表面结构。因此,需要更小的力以变形具有高的技术上的弹性极限的物质,并可对根据本发明的涂层使用更温和的涂布条件。
此外,令人惊讶地发现,根据本发明,即使是具有明显的非均匀厚度的易得的颗粒也可使用。不被理解为限制本发明,本发明人认为,颗粒的最小厚度的上述点决定性地影响可变形性,存在的更厚点或区域不严重影响颗粒适应例如基材的表面。因此,可以优选的是,使用这种非均匀的颗粒以例如节省提供特别均匀地成型的颗粒的额外开支。因此,在特定实施方案中,优选垂直于颗粒的纵向轴线并在颗粒的纵向轴线的中半位测得的最大厚度与最小厚度的平均比值为至少1.3,优选至少1.4,更优选至少1.5,还更优选至少1.6。因此,在特定实施方案中,特别优选垂直于颗粒的纵向轴线并在颗粒的纵向轴线的中半位测得的最厚点与最薄点的平均比值为至少1.8,优选至少2.0,更优选至少2.2,还更优选至少2.4。平均最大厚度类似于上述平均最小厚度的测定而测定。最大厚度与最小厚度的平均比值使用至少50个随机选择的颗粒的比例的平均值来计算。
此外,本发明人已经惊奇地发现,通过使用根据本发明的容易力学变形的粉末涂料材料,也能使用具有出乎意料的高熔点的涂料材料。不被理解为限制本发明,本发明人认为,作为在涂布法中使用的动能的结果,粉末涂料材料的根据本发明所选择的颗粒已经具有向它们提供的至少很大程度上足够的能量的量,以使得颗粒适应基材表面或已经施用的颗粒之间的孔。如果实际需要热元件,则需要更小量的热能,以使得伴随着均匀的层的形成能够牢固地结合施加的粒子。
例如,在特定实施方案中,如果涂料材料的颗粒的以[K]测得的熔点为以[K]测得的用于涂布方法中的介质的温度的至多60%,优选至多70%,更优选至多80%,还更优选至多85%,则根据本发明的粉末涂料材料也可用于制备均匀层,所述用于涂布方法中的介质例如气体料流、燃烧火焰和/或等离子体火焰。此外,在上述实施方案中特别的一些中,如果涂料材料的颗粒的以[K]测得的熔点为以[K]测得的用于涂布方法中的介质的温度的至多90%,优选至多95%,更优选至多100%,还更优选至多105%,则根据本发明的待使用的含有颗粒的粉末涂料材料也可用于制备均匀层,所述用于涂布方法中的介质例如气体料流、燃烧火焰和/或等离子体火焰。上述百分数涉及以[K]计的涂料材料的熔融温度与冷气喷涂中气体料流的温度、火焰喷涂和高速火焰喷涂中燃烧火焰的温度、或非热或热等离子体喷涂中等离子体火焰的温度的比值。这特别应用于冷气喷涂和高速火焰喷涂的使用中。这样获得的涂层仅具有少数自由颗粒或粒子结构,优选没有。根据本发明的“均匀层”特征在于所产生的层具有小于10%,优选小于5%,更优选小于3%,还更优选小于1%,最优选小于0.1%的空穴。特别地,优选根本不能识别出空穴。在本发明的含义范围内,上述术语“空穴”描述了相对于包含于二维表面中的涂层,在经涂布的基材的横截面的二维表面上并入涂层中的孔的比例。这种比例的测定在涂层上通过SEM在30个随机选择的位点上进行,其中例如检测基材涂层的100μm长度。
此外,令人惊讶地发现,根据本发明的涂层具有很大改善的热导率。不被理解为限制本发明,本发明人认为,根据本发明制备的涂层具有(例如,作为其高得多的均匀性的结果)接近相应的涂料材料的均匀块的热导率的热导率。这是尤其归因于不含空气夹杂的事实,空气夹杂会妨碍热传导。
更令人惊讶地表明,根据本发明的涂层的屏障效应显著增大。不被理解为限制本发明,本发明人认为,根据本发明生产的涂层具有更致密的结构,更光滑的表面和更均匀的形状。因为即使是涂层中孤立的孔代表例如对基材的腐蚀的攻击点,具有更致密结构和更均匀形状的根据本发明生产的涂层提供更可靠的保护,即使是在薄涂层的情况下,而更光滑的表面提供更少的攻击点,在所述攻击点发生对涂层的损坏,例如通过机械影响。此外,通过根据本发明制备的涂料,也可以实现涂料的定义和可靠的渗透性,因为,出于上述原因,例如不存在无限期可渗透间隙,涂层的均匀形成在经涂布的基材整个长度上提供均匀的屏障效应,力学影响不容易导致涂层的损坏。
颗粒的粒度分布优选通过激光粒度测定法测定。在该方法中,以粉末形式测定颗粒。照射的激光的散射在不同的空间方向检测并根据Fraunhofer衍射理论评价。将颗粒作为球体进行计算机处理。因此,所测得的直径总是涉及在所有空间方向上测得的等效的球体直径,而与颗粒的实际形状无关。该粒度分布以相对于等效的球体直径的体积平均的形式测定、计算。该体积平均粒度分布可表示为累积频率分布。累积频率分布特征在于通过不同特征值例如D10、D50或D90值的简化方式。
测量可例如使用得自Sympatec GmbH,Clausthal-Zellerfeld,Germany的粒度分析仪HELOS进行。
在本发明的特定实施方案中,优选的是粉末涂料材料具有下述粒度分布:D50值为至多84μm,优选至多79μm,更优选至多75μm,还更优选至多71μm。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选的是粉末涂料材料具有下述粒度分布:D50值为至多64μm,优选至多61μm,更优选至多59μm,还更优选至多57μm。
在本发明的含义范围内,术语“D50”指50%的通过激光粒度测定法体积平均的所述粒度分布在该指定值之下的粒度。测量可例如根据上述测量方法使用得自Sympatec GmbH,Clausthal-Zellerfeld,Germany的粒度分析仪HELOS进行。
在本发明的特定实施方案中,更优选的是粉末涂料材料具有下述粒度分布:D50值为至少1.5μm,优选至少2μm,更优选至少4μm,还更优选至少6μm。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选的是粉末涂料材料具有下述粒度分布:D50值为至少7μm,优选至少9μm,更优选至少11μm,还更优选至少13μm。
在特定实施方案中,特别优选的是粉末具有下述粒度分布:D50值在1.5至84μm范围内,优选在2至79μm范围内,更优选在4至75μm范围内,还更优选在6至71μm范围内。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选的是粉末具有下述粒度分布:D50值在7至64μm范围内,优选在9至61μm范围内,更优选在11至59μm范围内,还更优选在13至57μm范围内。
在其他实施方案中,例如优选的是粉末具有下述粒度分布:D50值在1.5至53μm范围内,优选在2至51μm范围内,更优选在2.5至50μm范围内,还更优选在3至49μm范围内。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选的是粉末具有下述粒度分布:D50值在3.5至48μm范围内,优选在4至47μm范围内,更优选在4.5至46μm范围内,还更优选在5至45μm范围内。
在其他实施方案中,与之相反,例如优选的是粉末具有下述粒度分布:D50值在9至84μm范围内,优选在12至79μm范围内,更优选在15至75μm范围内,还更优选在17至71μm范围内。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选的是粉末具有下述粒度分布:D50值在19至64μm范围内,优选在21至61μm范围内,更优选在23至59μm范围内,还更优选在25至57μm范围内。
在本发明的其他特定实施方案中,优选的是粉末涂料材料具有下述粒度分布:D50值为至多132μm,优选至多122μm,更优选至多115μm,还更优选至多109μm。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选的是粉末涂料材料具有下述粒度分布:D90值为至多97μm,优选至多95μm,更优选至多91μm,还更优选至多89μm。
在本发明的含义范围内,术语“D90”指90%的通过激光粒度测定法体积平均的所述粒度分布在该指定值之下的粒度。测量可例如根据上述测量方法使用得自Sympatec GmbH,Clausthal-Zellerfeld,Germany的粒度分析仪HELOS进行。
在特定实施方案中,因此优选的是粉末涂料材料具有下述粒度分布:D90值为至少9μm,优选至少11μm,更优选至少13μm,还更优选至少15μm。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选的是粉末涂料材料具有下述粒度分布:D90值为至少17μm,优选至少19μm,更优选至少21μm,还更优选至少22μm。
根据特别优选的实施方案,粉末涂料材料具有下述粒度分布:D90值在42至132μm范围内,优选在45至122μm范围内,更优选在48至115μm范围内,还更优选在50至109μm范围内。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选的是粉末涂料材料的D90值在52至97μm的范围内,优选在54至95μm的范围内,更优选在56至91μm的范围内,还更优选在57至89μm的范围内。
在本发明的其他特定实施方案中,优选的是粉末涂料材料具有下述粒度分布:D10值为至多9μm,优选至多8μm,更优选至多7.5μm,还更优选至多7μm。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选的是粉末涂料材料具有下述粒度分布:D10值为至多6.5μm,优选至多6μm,更优选至多5.7μm,还更优选至多5.4μm。
在本发明的含义范围内,术语“D10”指10%的通过激光粒度测定法体积平均的所述粒度分布在该指定值之下的粒度。测量可例如根据上述测量方法使用得自Sympatec GmbH,Clausthal-Zellerfeld,Germany的粒度分析仪HELOS进行。
另一方面,具有高细粒比例的粉末涂料材料也仍然有强烈的形成微细粉尘的倾向,这使得处理相应的粉末更为困难。在特定实施方案中,因此优选的是粉末涂料材料具有下述粒度分布:D10值为至少0.2μm,优选至少0.4μm,更优选至少0.5μm,还更优选至少0.6μm。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选的是粉末涂料材料具有下述粒度分布:D10值为至少0.7μm,优选至少0.8μm,更优选至少0.9μm,还更优选至少1.0μm。
在特别优选的实施方案中,粉末涂料材料的特征在于具有下述粒度分布:D10值在0.2至9μm范围内,优选在0.4至8μm范围内,更优选在0.5至7.5μm范围内,还更优选在0.6至7μm范围内。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选粉末涂料材料具有下述粒度分布:D10值在0.7至6.5μm范围内,优选在0.8至6μm范围内,更优选在0.9至5.7μm范围内,还更优选在1.0至5.4μm范围内。
例如,在特定实施方案中,特别优选粉末涂料材料具有下述粒度分布:D10值为3.7至26μm,D50值为6至49μm,D90值为12至86μm。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选粉末涂料材料具有下述粒度分布:D10值为5.8至26μm,D50值为11至46μm,D90值为16至83μm。在上述实施方案中特别的一些中,还更优选的是粉末涂料材料具有下述粒度分布:D10值为9至19μm,D50值为16至35μm,D90值为23至72μm。
在其他特定实施方案中,例如优选的是粉末涂料材料具有下述粒度分布:D10值为0.8至60μm,D50值为1.5至84μm,D90值为2.5至132μm。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选粉末涂料材料具有下述粒度分布:D10值为2.2至56μm,D50值为4至79μm,D90值为4至122μm。在上述实施方案中特别的一些中,还更优选的是粉末涂料材料具有下述粒度分布:D10值为2.8至49μm,D50值为6至71μm,D90值为9至109μm。
在其他特定实施方案中,例如优选的是粉末涂料材料具有下述粒度分布:D10值为4.8至44μm,D50值为9至64μm,D90值为13至97μm。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选粉末涂料材料具有下述粒度分布:D10值为12至41μm,D50值为23至59μm,D90值为35至91μm。在上述实施方案中特别的一些中,还更优选的是粉末涂料材料具有下述粒度分布:D10值为15至39μm,D50值为28至57μm,D90值为41至89μm。
此外,观察到粉末涂料材料的可传输性取决于粒度分布的宽度。此宽度可通过指定所谓的跨度值计算,其根据式(III)定义:
本发明人已经发现,在特定实施方案中,例如,粉末涂料材料的还更均匀的可传输性是通过使用具有较小跨度的粉末涂料材料实现的,其进一步简化了更均匀和更高质量的层的形成。因此,在特定实施方案中,优选的是粉末涂料材料的跨度为至多2.9,优选至多2.6,更优选至多2.4,还更优选至多2.1。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选的是粉末涂料材料的跨度为至多1.9,优选至多1.8,更优选至多1.7,还更优选至多1.6。
另一方面,本发明人已发现,不必须要求很窄的跨度以提供所需的可传输性,这使得更容易生产粉末涂料材料。因此,在特定实施方案中,优选的是粉末涂料材料的跨度值为至少0.4,优选至少0.5,更优选至少0.6,还更优选至少0.7。在特定实施方案中,优选的是粉末涂料材料的跨度值为至少0.8,优选至少0.9,更优选至少1.0,还更优选至少1.1。
在本文所公开的教导的基础上,本领域技术人员可以选择任何组合,特别是上述跨度值的极限值,以提供性能的所需组合。在特定实施方案中,例如优选的是粉末涂料材料的跨度值在0.4至2.9的范围内,优选在0.5至2.6的范围内,更优选在0.6至2.4的范围内,还更优选在0.7至2.1的范围内。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选的是粉末涂料材料的跨度值在0.8至1.9的范围内,优选在0.9至1.8的范围内,更优选在1.0至1.7的范围内,还更优选在1.1至1.6的范围内。
在本文所公开的教导的基础上,本领域技术人员了解,取决于所需优点的组合,跨度极限值或值的范围与上述优选的D50值的范围的特定组合是优选的。例如,在特别优选的实施方案中,粉末涂料材料具有下述粒度分布:跨度在0.4至2.9的范围内,以及D50值在1.5至53μm范围内,优选在2至51μm范围内,更优选在4至50μm范围内,还更优选在6至49μm范围内,最优选在7至48μm范围内。在上述实施方案中特别的一些中,粉末涂料材料具有下述粒度分布:跨度在0.5至2.6的范围内,以及D50值在1.5至53μm范围内,优选在2至51μm范围内,更优选在4至50μm范围内,还更优选在6至49μm范围内,最优选在7至48μm范围内。特别在还优选的实施方案中,粉末涂料材料具有下述粒度分布:跨度在0.6至2.4的范围内,以及D50值在1.5至53μm范围内,优选在2至51μm范围内,更优选在4至50μm范围内,还更优选在6至49μm范围内,最优选在7至48μm范围内。特别在还更优选的实施方案中,粉末涂料材料具有下述粒度分布:跨度在0.7至2.1的范围内,以及D50值在1.5至53μm范围内,优选在2至51μm范围内,更优选在4至50μm范围内,还更优选在6至49μm范围内,最优选在7至48μm范围内。
此外,发现粉末涂料材料的密度可影响该粉末以气溶胶形式的传输。不被理解为限制本发明,本发明人认为,相同大小但具有不同密度的颗粒固有的差异导致具有相同粒度分布的粉末涂料材料的气溶胶料流的不同行为。因此可以证明难以将已经对特定的D50优化的传输方法转化为其它密度的粉末涂料材料的传输方法。因此,在特定实施方案中,优选取决于所使用的粉末涂料材料的密度根据式V校正跨度值的上限。
这里,跨度UC为经校正的上限跨度值,跨度U为上限跨度值,ρAlu为铝的密度(2.7g/cm3),ρX为所使用的粉末涂料材料的密度。然而,进一步发现,在粉末涂料材料具有比铝低的密度的情况下,差别只是轻微的,在这方面对粉末涂料材料的优化选择不会导致可传输性明显改善。因而,对具有比铝的密度低的密度的粉末涂料材料,使用具有未校正的上限跨度值的粉末涂料材料。
可根据本发明使用的涂布方法是本领域技术人员以名称冷气喷涂、热等离子体喷涂、非热等离子体喷涂、火焰喷涂和高速火焰喷涂公知的。
冷气喷涂特征在于待施用的粉末不熔融于气体射流中,但颗粒被大大加速,并且作为其动能的结果在基材的表面上形成涂层。这里可使用多种本领域技术人员已知的气体作为载气,如氮气、氦气、氩气、空气、氪、氖、氙、二氧化碳、氧气或它们的混合物。在特定变体中,特别优选空气、氦气或它们的混合物用作气体。
通过上述气体在相应的喷嘴中的受控膨胀获得至多3000m/s的气体速度。这里可将颗粒加速到至多2000m/s。然而,在冷气喷涂的特定变体中优选的是,所述颗粒达到例如300m/s和1600m/s之间,优选1000m/s和1600m/s之间,更优选1250m/s和1600m/s之间的速度。
缺点是例如,由所使用的气体料流的高速度引起的强的噪音产生。
在火焰喷涂中,例如,通过火焰将粉末转化成液态或塑性态然后施用至基材上作为涂层。这里,例如,燃烧氧气与可燃性气体如乙炔或氢气的混合物。在火焰喷涂的特定变体中,一些氧气用于将粉末涂料材料传输入燃烧火焰。在该方法的常规变体中,颗粒达到24m/s和31m/s之间的速度。
与火焰喷涂类似,在高速火焰喷涂中,例如,也通过火焰将粉末转化成液态或塑性态。然而,与上述方法相比,颗粒被加速至显著更高的速度。在上述方法的具体例子中,例如,指定气体料流的速度为1220至1525m/s,颗粒的速度为约550至795m/s。然而,在该方法的其他变体中,也达到超过2000m/s的气体速度。通常,在前述方法的常规变体中,优选火焰的速度在1000m/s和2500m/s之间。此外,在常规变体中,优选火焰温度在2200℃和3000℃之间。火焰的温度因而与火焰喷涂的温度相当。这通过在压力为约515至621kPa下使得气体燃烧,然后燃烧气体在喷嘴中膨胀而达到。通常,观点是这里生产的涂层与例如由火焰喷涂法获得的涂层相比具有更高密度。
爆震/爆炸火焰喷涂可以看作是高速火焰喷涂的一种亚型。这里,粉末涂料材料是通过气体混合物如乙炔/氧气的重复爆震强力加速的,其中,例如达到约730m/s的颗粒速度。该方法的爆震频率例如在约4和10Hz之间。然而,在变体如所谓的高频气体爆震喷涂中,也选择爆震频率为大约100Hz。
所得的层通常应该具有特别高的硬度、强度、密度和至基材表面的良好结合。上述方法的缺点是增加的安全成本,以及例如由高气体速度引起的高噪声负荷。
在热等离子体喷涂中,例如,使得主要气体如氩气以40l/min的速度,第二气体如氢气以2.5l/min的速度通过直流电弧炉,其中产生热等离子体。然后,例如,在载气料流的辅助下将40g/min的粉末涂料材料进料,将所述载气料流以4l/min的速度送入等离子体火焰。在热等离子体喷涂的通常的变体中,粉末涂料材料的传输速率在5g/min和60g/min之间,更优选在10g/min和40g/min之间。
在该方法的特定变体中,优选使用氩气、氦气或它们的混合物作为可电离的气体。在特定变体中,整个气体料流进一步优选30至150SLPM(标准升/分钟)。不计作为冷却的结果而消散的热能,可选择用于电离气体料流的电功率为例如在5至100kW之间,优选在40至80kW之间。这里,可达到在4000K至数万K之间的等离子体温度。
在非热等离子体喷涂中,非热等离子体用于活化粉末涂料材料。这里使用的等离子体使用例如频率为50Hz至1MHz的阻挡放电或电晕放电产生。在非热等离子体喷涂的特定变体中,优选的是,在10kHz至100kHz的频率下工作。这里,等离子体的温度优选小于3000K,优选小于2500K,还更优选小于2000K。这最大限度地减少了工艺开支,并保持至待施用的涂料材料中的能量输入尽可能的低,从而允许基材的温和涂布。等离子体火焰的温度的量级因此优选与火焰喷涂或高速火焰喷涂的温度的量级相当。在核心区域中核心温度低于1173K或甚至低于773K的非热等离子体也可通过定向选择参数而生成。这里,在核心区域中的温度例如使用NiCr/Ni热电偶和在离喷嘴出口10mm的距离为3mm的喷涂直径在形成等离子体射流的核心中在环境压力下测量。这样的非热等离子体特别适合于非常温度敏感的基材的涂布。
为生产具有清晰的边界的涂层而无需以有针对性的方式覆盖区域,已证明有利的是设计特别是等离子体火焰的出口以使得所产生的涂层的径迹宽度在0.2mm至10mm之间。这使得能够制备非常精密、柔韧、节能的涂层,而同时尽可能利用所使用的涂层材料。例如,选择1mm的距离作为喷涂枪至基材的距离。这使得涂层能具有尽可能大的柔韧性,并同时保证高品质的涂层。喷涂枪至基材之间的距离有利地在1mm至35mm之间。
在非热等离子体喷涂法中,本领域技术人员已知的多种气体及其混合物可用作可电离的气体。这些气体的例子是氦气、氩气、氙气、氮气、氧气、氢气或空气,优选氩气或空气。特别优选的可电离的气体是空气。
例如为降低噪声负荷,这里也可优选等离子体料流的速度低于200m/s。例如可选择0.01m/s至100m/s之间,优选0.2m/s至10m/s之间的值作为流速。在特定实施方案中,特别优选例如载气的体积流量在10至25l/min之间,更优选在15至19l/min之间。
根据优选的实施方案,粉末涂料材料的颗粒优选为金属颗粒或含有金属的颗粒。特别优选的是金属颗粒或含有金属的颗粒的金属含量为至少95重量%,优选至少99重量%,还更优选至少99.9重量%。在特别优选的实施方案中,该一种或多种金属选自银、金、铂、钯、钒、铬、锰、钴、锗、锑、铝、锌、锡、铁、铜、镍、钛、硅、它们的合金和混合物。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选该一种或多种金属选自银、金、铝、锌、锡、铁、铜、镍、钛、硅、它们的合金和混合物,优选选自银、金、铝、锌、锡、铁、镍、钛、硅、它们的合金和混合物。
根据本发明的方法进一步优选的实施方案,粉末涂料材料的颗粒的一种或多种金属选自银、铝、锌、锡、铜、它们的合金和混合物。特别地,已证明其中所述一种或多种金属选自银、铝和锡的金属颗粒或含有金属的颗粒为在具体实施方案中特别合适的颗粒。
在本发明的其他实施方案中,粉末涂料材料由无机颗粒组成,所述无机颗粒优选选自碳酸盐、氧化物、氢氧化物、碳化物、卤化物、氮化物和它们的混合物。矿物和/或金属氧化物颗粒是特别合适的。
在其他实施方案中,无机颗粒可选地或另外地选自碳质颗粒或石墨颗粒。
另一种可能性是使用金属颗粒和上述无机颗粒的混合物,上述无机颗粒如矿物和/或金属氧化物颗粒,和/或选自碳酸盐、氧化物、氢氧化物、碳化物、卤化物、氮化物和它们的混合物的颗粒。
此外,粉末涂料材料可包含玻璃颗粒或由玻璃颗粒组成。在特定实施方案中,特别优选的是粉末涂料材料包含涂布的玻璃颗粒或由涂布的玻璃颗粒组成。
此外,在特定实施方案中,粉末涂料材料包含有机和/或无机盐,或由有机和/或无机盐组成。
在其他本发明的实施方案中,粉末涂料材料包含塑料颗粒或由塑料颗粒组成。上述塑料颗粒例如由纯的或混合的均聚物、共聚物、嵌段聚合物或预聚物或它们的混合物形成。这里,塑料颗粒可为纯晶体或为混合的晶体或具有非晶相。塑料颗粒可例如通过塑料的机械粉碎得到。
在根据本发明的方法的特定实施方案中,粉末涂料材料包含不同材料的颗粒的混合物或由不同材料的颗粒的混合物组成。在特别优选的实施方案中,粉末涂料材料特别地由至少两种(优选三种)不同材料的不同颗粒组成。
颗粒可通过不同的方法生产。例如,金属颗粒可以通过喷雾或雾化熔融的金属而得到。玻璃颗粒可以通过玻璃的机械粉碎制备或从熔体制备。在后一种情况下,玻璃熔体可类似地被雾化或喷雾。可选地,也可在旋转元件例如转鼓上粉碎熔融的玻璃。
选自氧化物、氢氧化物、碳酸盐、碳化物、氮化物、卤化物、和它们的混合物的矿物颗粒、金属氧化物颗粒和无机颗粒,可通过粉碎天然存在的矿物、石头等等然后按大小将其筛分得到。
按大小筛分可通过例如旋风分离器、空气分离器、筛等进行。
在本发明的特定实施方案中,为了例如在粉末涂料材料的储存过程中提供改进的氧化稳定性,粉末涂料材料的根据本发明的容易变形的颗粒已具有涂层。
在本发明的特别优选的实施方案中,上述涂层可包含金属或由金属组成。这种颗粒的涂层可形成为封闭的或颗粒状的,其中优选具有封闭结构的涂层。这种金属涂层的层厚度优选低于1μm,更优选低于0.8μm,还更优选低于0.5μm。在特定实施方案中,这种涂层具有至少0.05μm,更优选至少0.1μm的厚度。在特定实施方案中特别优选用于上述涂层之一中(优选作为主要组分)的金属选自铜、钛、金、银、锡、锌、铁、硅、镍和铝,优选选自金、银、锡和锌,更优选选自银、锡和锌。在上述涂层的含义范围内,术语“主要组分”是指,有关金属或上述金属的混合物占涂层的金属含量的至少90重量%,优选95重量%,更优选99重量%。必须理解的是,在部分氧化的情况下,不考虑相应的氧化物层中的氧的比例。这样的金属涂层可以例如通过气相合成法或湿化学方法来制备。
在其他特定实施方案中,粉末涂料材料的根据本发明的颗粒额外地或可选择地涂有金属氧化物层。优选地,该金属氧化物层基本上由氧化硅、氧化铝、氧化硼、氧化锆、氧化铈、氧化铁、氧化钛、氧化铬、氧化锡、氧化钼、其氧化物水合物、其氢氧化物以及它们的混合物组成。在特别优选的实施方案中,金属氧化物层基本上由氧化硅组成。在本发明的含义范围内,上述术语“基本上由…组成”是指至少90%,优选至少95%,更优选至少98%,还更优选至少99%,最优选至少99.9%的金属氧化物层由上述金属氧化物组成,在每种情况下相对于金属氧化物层的颗粒数,其中所包含的任何水不予考虑。金属氧化物层的组成可通过本领域技术人员已知的方法,例如溅射法与XPS或TOF-SIMS的组合来测定。在上述实施方案中特别的一些中,特别优选金属氧化物层并不代表位于它下面的金属芯的氧化产物。可例如使用溶胶-凝胶法施用这种金属氧化物层。
在特别优选的实施方案中,基材选自塑料基材、无机基材、含纤维素的基材和它们的混合物。
塑料基材可以是例如塑料薄膜或由塑料制成的成型体。该成型体可以有几何上简单或复杂的形状。该塑料成型体可以是例如来自汽车工业或建筑工业的部件。
含纤维素的基材可为硬纸板、纸、木材、含木材的基材等。
无机基材可以是例如金属基材,如金属片或金属成型体或陶瓷或矿物基材或成型体。无机基材还可以是太阳能电池或硅片,向其施用例如导电涂层或触点。
由玻璃制得的基材,例如玻璃板,也可用作无机基材。使用根据本发明的方法,可使得玻璃(尤其是玻璃板)带有例如电致变色的涂层。
采用根据本发明的方法涂布的基材适用于多种不同用途。
在特定实施方案中,涂层具有光学和/或电磁效应。这里,涂层可带来反射或吸收。此外,涂层可为导电的、半导电的或非导电的。
导电层可以以例如带状导体的形式应用至部件。这可用于例如在汽车部件中提供的车载电源的框架内使载流成为可能。然而此外,这样的带状导体也可以形成为例如天线、屏蔽、电触点等。这例如对RFID应用(射频识别)是特别有利的。此外,根据本发明的涂层可用于例如用于加热目的或用于特定部件或更大的组件的特定部分的目标加热。
在其他特定实施方案中,所生产的涂层用作滑动层、气体和液体的扩散屏障、磨损和/或腐蚀保护层。此外,所生产的涂层可影响液体的表面张力或具有粘合促进性能。
根据本发明制备的涂层可以进一步用作传感器表面,例如,作为人机界面(HMI),例如,以触摸屏的形式。该涂层同样可以用来屏蔽电磁干扰(EMI)或防止静电放电(ESD)。该涂层也可用于带来电磁兼容性(EMC)。
此外,通过使用根据本发明的颗粒,可施用层,施用所述层以例如增加相应部件的修复后的稳定性。一个例子是在航空领域的维修,其中,例如处理步骤引起的材料的损失必须得到补偿,或应用涂层例如用于稳定化。对例如铝组分而言,这被证明是困难的,铝组分通常需要后处理步骤如烧结。与之相反,通过根据本发明的方法,可在很温和的条件下施用牢固地粘附的涂层,甚至无需后处理步骤如烧结。
在其它实施方案中,该涂层作为电触点,并允许不同的材料之间的电连接。
本领域技术人员认识到,针对粉末涂料材料以及其中含有的颗粒的关于本发明的方法的上述说明,也相应地适用于粉末涂料材料以及其中含有的颗粒的用途,反之亦然。
附图说明
图1至4示出首先由太阳能接触糊剂涂布然后由非热等离子体喷涂涂布的晶片,其中使用根据本发明的粉末铜涂料材料。
实施例
所使用的材料和方法。
所用的粉末涂料材料的颗粒的粒度分布通过HELOS装置(Sympatec,Germany)测定。对于该测量,在测量之前,将3克的粉末涂料材料引入到该测量装置中并用超声处理30秒钟。对于分散体,使用Rodos T4.1分散单元,其中初始压力为4巴。评价使用装置的标准软件进行。
现参照下述实施例更详细地解释根据本发明的方法,而不限于这些实施例。
实施例1:铜颗粒的火焰喷涂
使用得自CASTOLIN的火焰喷涂系统,通过氧乙炔火焰将D50值为54μm(比较例1.1)的相对可变形性为约0.6的球形铜颗粒以及相对可变形性因子为0.03且D50值为55μm(根据本发明的实施例1.2)的铜颗粒施用到金属片材。所得金属片材通过SEM检测。
其表明,即使在根据本发明的待施用的粉末涂料材料的喷涂过程中,也很少有材料从金属片材喷溅。就其光学以及其触觉而言,根据本发明涂布的金属片材是远更均匀的。表面的SEM照片表明涂层的较大均匀区域的形成,而比较例的表面特征在于大量的孤立的颗粒。此外,该横截面示出了根据本发明的金属片材的涂层中含有的空穴显著更小。
实施例2:铜颗粒的非热等离子体喷涂
粉末涂料材料通过得自Inocon,Attnang-Puchheim,Austria的Plasmatron系统施用。氩气用作可电离的气体。这里使用标准工艺参数。
这里,使用具有0.6的相对可变形性因子和25μm的D50的不根据本发明的粉末涂料材料,以及具有0.009的相对可变形性因子和为35μm的D50的根据本发明的粉末涂料材料。涂有太阳能接触糊剂的晶片用作基材。这里观察到,本领域技术人员通常选择的用于施加粉末涂料材料的更高的能量可以导致晶片损坏。与之相反,在温和的条件下,使用具有0.6的相对可变形性因子的粉末涂料材料无法获得令人满意的涂层,因为例如涂层的粘附力不再令人满意。
与之相反,根据本发明的粉末涂料材料能够甚至在非常温和的条件下施用。例如,可选择非常低的施用速度和/或非常低的温度。图1至4示出根据本发明的施用的粉末涂料材料的不同部分。所施加的涂层很好地适应了太阳能接触糊剂的不均匀表面结构,甚至部分地穿透它而不损害太阳能接触糊剂的结构或甚至损坏晶片。
Claims (15)
1.含有颗粒的粉末涂料材料在涂布方法中的用途,所述涂布方法选自冷气喷涂、火焰喷涂、高速火焰喷涂、热等离子体喷涂和非热等离子体喷涂,其中颗粒具有至多0.1的相对可变形性因子Vm,且所述相对可变形性因子根据式(I)定义:
其中d代表颗粒的平均最小厚度,垂直于颗粒的纵向轴线并在颗粒的纵向轴线的中半位测得,D50为体积平均的粒度分布的平均直径。
2.根据权利要求1所述的用途,其中考虑到相对于银的莫氏硬度的颗粒的莫氏硬度,相对可变形性因子根据式(II)定义为:
其中HX是颗粒的莫氏硬度,HAg是银的莫氏硬度。
3.根据权利要求1或2所述的用途,其中粉末涂料材料的相对可变形性因子为至多0.01。
4.根据权利要求1至3任一项所述的用途,其中粉末涂料材料的颗粒具有大于45N/mm2的技术上的弹性极限。
5.根据权利要求1至4任一项所述的用途,其中涂料材料的颗粒的以[K]测得的熔点为以[K]测得的涉及所述基材的涂布方法中所用介质的温度的至多60%。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的用途,其中所述颗粒包含金属颗粒或者为金属颗粒,并且所述金属选自银、金、铂、钯、钒、铬、锰、钴、锗、锑、铝、锌、锡、铁、铜、镍、钛、硅、它们的合金和混合物。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的用途,其中所述涂布方法选自火焰喷涂和非热等离子体喷涂,并优选为非热等离子体喷涂。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的用途,其中粉末涂料材料的粒度分布为D50值在1.5至84μm的范围内。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的用途,其中粉末涂料材料的粒度分布为D10值在3.7至26μm的范围内,D50值在6至49μm的范围内,D90值在12至86μm的范围内。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的用途,其中粉末涂料材料的颗粒是至少部分地经涂布的。
12.一种用于涂布基材的方法,所述方法选自冷气喷涂、火焰喷涂、高速火焰喷涂、热等离子体喷涂和非热等离子体喷涂,
其特征在于:
所述方法包括以下步骤:
将含有颗粒的粉末涂料材料引入定向至待涂布基材上的介质的步骤,其中所述颗粒具有至多0.1的相对可变形性因子Vm,且所述相对可变形性因子根据式(I)定义:
其中d代表颗粒的平均最小厚度,垂直于颗粒的纵向轴线并在颗粒的纵向轴线的中半位测得,D50为体积平均的粒度分布的平均直径。
13.根据权利要求12所述的方法,其中所述方法选自火焰喷涂和非热等离子体喷涂,并优选为非热等离子体喷涂。
14.根据权利要求12或13所述的方法,其中粉末涂料材料作为气溶胶传输。
15.根据权利要求12至14中任一项所述的方法,其中定向至基材上的介质是空气或已经从空气产生。
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---|---|
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112218739A (zh) * | 2018-05-28 | 2021-01-12 | 法商圣高拜欧洲实验及研究中心 | 喷丸粉末 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU2011279561B2 (en) * | 2010-07-15 | 2014-02-13 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Surface treatment |
US9335296B2 (en) | 2012-10-10 | 2016-05-10 | Westinghouse Electric Company Llc | Systems and methods for steam generator tube analysis for detection of tube degradation |
DE102013103693A1 (de) | 2013-04-12 | 2014-10-16 | Reinhausen Plasma Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Aufbau einer Struktur auf einem Substrat |
WO2015065817A1 (en) | 2013-10-30 | 2015-05-07 | Merck Sharp & Dohme Corp. | Pseudopolymorphs of an hcv ns5a inhibitor and uses thereof |
EP3327165A1 (en) * | 2016-11-24 | 2018-05-30 | Valeo Iluminacion | Method for creating a conductive track |
EP3514254A1 (en) * | 2018-01-18 | 2019-07-24 | Valeo Iluminacion | Method for manufacturing an electronic assembly, electronic assembly and lighting device |
JP7169077B2 (ja) * | 2018-03-26 | 2022-11-10 | 三菱重工業株式会社 | 遮熱コーティング、タービン部材、ガスタービン及び遮熱コーティングの製造方法 |
US11935662B2 (en) | 2019-07-02 | 2024-03-19 | Westinghouse Electric Company Llc | Elongate SiC fuel elements |
KR102523509B1 (ko) | 2019-09-19 | 2023-04-18 | 웨스팅하우스 일렉트릭 컴퍼니 엘엘씨 | 콜드 스프레이 침착물의 현장 접착 테스트를 수행하기 위한 장치 및 사용 방법 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10000979C1 (de) * | 1999-10-01 | 2001-05-10 | Daimler Chrysler Ag | Beschichtungspulver auf der Basis von Titansuboxiden |
US20030191009A1 (en) * | 2002-04-08 | 2003-10-09 | Yu Sung H. | Chromia spray powders |
CN101173345A (zh) * | 2006-10-31 | 2008-05-07 | 福吉米株式会社 | 热喷涂粉末、形成热喷涂涂层的方法以及抗等离子体构件 |
WO2009062769A1 (de) * | 2007-11-14 | 2009-05-22 | H.C. Starck Gmbh | Metallpulver |
CN101945835A (zh) * | 2008-02-13 | 2011-01-12 | 法商圣高拜欧洲实验及研究中心 | Bsas粉体 |
Family Cites Families (50)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4513020A (en) * | 1981-07-22 | 1985-04-23 | Allied Corporation | Platelet metal powder for coating a substrate |
JPS6052119B2 (ja) * | 1982-04-01 | 1985-11-18 | タテホ化学工業株式会社 | 窒化珪素ウイスカ−の製造方法 |
JPS59153877A (ja) * | 1983-02-22 | 1984-09-01 | Tateho Kagaku Kogyo Kk | セラミツク系針状繊維を含有する溶射材料 |
JPS60174862A (ja) * | 1984-02-20 | 1985-09-09 | Tateho Kagaku Kogyo Kk | セラミツクウイスカ−を含有する複合溶射材料 |
JPS61190060A (ja) * | 1985-02-20 | 1986-08-23 | Toshiba Corp | 溶射材料とその製造方法 |
CA1327769C (en) | 1986-06-20 | 1994-03-15 | Shoji Ikeda | Powder treating method and apparatus used therefor |
DE3816585A1 (de) | 1988-05-16 | 1989-11-23 | Thyssen Guss Ag | Vorrichtung zum plasmaspritzen |
US4872904A (en) | 1988-06-02 | 1989-10-10 | The Perkin-Elmer Corporation | Tungsten carbide powder and method of making for flame spraying |
JPH02187177A (ja) * | 1989-01-17 | 1990-07-23 | Natl Res Inst For Metals | セラミックホーンを用いた超音波発振装置 |
DE8908954U1 (zh) | 1989-06-03 | 1990-09-27 | Castolin S.A., Lausanne-St. Sulpice, Waadt/Vaud, Ch | |
DE3941853C1 (zh) | 1989-12-19 | 1991-04-11 | Mtu Muenchen Gmbh | |
DE4041623A1 (de) | 1990-12-22 | 1992-06-25 | Osu Maschinenbau Gmbh | Duese fuer eine vorrichtung und ein verfahren zum hochgeschwindigkeitsflammenspritzen |
DE19532412C2 (de) | 1995-09-01 | 1999-09-30 | Agrodyn Hochspannungstechnik G | Vorrichtung zur Oberflächen-Vorbehandlung von Werkstücken |
US5716422A (en) | 1996-03-25 | 1998-02-10 | Wilson Greatbatch Ltd. | Thermal spray deposited electrode component and method of manufacture |
JPH1060617A (ja) | 1996-08-22 | 1998-03-03 | Suruzaa Meteko Japan Kk | 高速フレーム溶射方法 |
DE19747386A1 (de) | 1997-10-27 | 1999-04-29 | Linde Ag | Verfahren zum thermischen Beschichten von Substratwerkstoffen |
JPH11209833A (ja) * | 1998-01-28 | 1999-08-03 | Aisin Seiki Co Ltd | 粒子積層体とその製造方法 |
DE19807086A1 (de) | 1998-02-20 | 1999-08-26 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zum Beschichten von Oberflächen eines Substrates, Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens, Schichtsystem sowie beschichtetes Substrat |
DE19856307C1 (de) | 1998-12-07 | 2000-01-13 | Bosch Gmbh Robert | Vorrichtung zur Erzeugung eines freien kalten Plasmastrahles |
EP1024222A3 (de) | 1999-01-27 | 2000-09-13 | eybl International AG | Verfahren zur Ausrüstung von textilen Substraten |
DE29919142U1 (de) | 1999-10-30 | 2001-03-08 | Agrodyn Hochspannungstechnik G | Plasmadüse |
DE19955880A1 (de) | 1999-11-20 | 2001-05-23 | Henkel Kgaa | Plasmabeschichtung von Metallen bei Atmosphärendruck |
DE10109087A1 (de) | 2001-02-24 | 2002-10-24 | Leoni Bordnetz Sys Gmbh & Co | Verfahren zum Herstellen eines Formbauteils mit einer integrierten Leiterbahn |
DE10116502B4 (de) | 2001-04-03 | 2004-02-19 | Viöl, Wolfgang, Prof. Dr. | Verfahren und Vorrichtung zur Ausbildung eines Plasmastrahls |
JP3543149B2 (ja) | 2001-09-03 | 2004-07-14 | 島津工業有限会社 | プラズマ溶射用のトーチヘッド |
KR20040083489A (ko) | 2002-01-29 | 2004-10-02 | 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. | 강한 접착성 피복물의 제조방법 |
EP1464721A3 (de) | 2002-04-10 | 2004-11-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Wärmedämmschichtsystem |
DE50310830D1 (de) | 2002-04-12 | 2009-01-08 | Sulzer Metco Ag | Plasmaspritzverfahren |
US7476422B2 (en) * | 2002-05-23 | 2009-01-13 | Delphi Technologies, Inc. | Copper circuit formed by kinetic spray |
US7179526B2 (en) | 2002-08-02 | 2007-02-20 | 3M Innovative Properties Company | Plasma spraying |
DE10320379A1 (de) | 2003-05-06 | 2004-12-02 | Leoni Ag | Elektrisch beheizbares Element und Verfahren zum Herstellen eines elektrisch beheizbaren Elements |
CH696811A5 (de) | 2003-09-26 | 2007-12-14 | Michael Dvorak Dr Ing Dipl Phy | Verfahren zur Beschichtung einer Substratoberfläche unter Verwendung eines Plasmastrahles. |
JP2006111929A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Fujimi Inc | 溶射用粉末、溶射方法及び溶射皮膜 |
JP4885445B2 (ja) * | 2004-12-21 | 2012-02-29 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 溶射用粉末 |
WO2006117144A1 (en) * | 2005-05-05 | 2006-11-09 | H.C. Starck Gmbh | Method for coating a substrate surface and coated product |
JP4719877B2 (ja) * | 2005-06-21 | 2011-07-06 | 国立大学法人豊橋技術科学大学 | マイクロ波プラズマトーチ及びマイクロ波プラズマ溶射装置 |
CN101296743B (zh) * | 2005-08-24 | 2013-04-10 | 加利福尼亚大学董事会 | 用于纳米级物质快速传输的膜 |
EP1806183A1 (de) | 2006-01-10 | 2007-07-11 | Siemens Aktiengesellschaft | Düsenanordnung und Verfahren zum Kaltgasspritzen |
DE102006061435A1 (de) | 2006-12-23 | 2008-06-26 | Leoni Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Aufspritzen insbesondere einer Leiterbahn, elektrisches Bauteil mit einer Leiterbahn sowie Dosiervorrichtung |
US7928338B2 (en) | 2007-02-02 | 2011-04-19 | Plasma Surgical Investments Ltd. | Plasma spraying device and method |
DE102007006820A1 (de) * | 2007-02-07 | 2008-08-14 | Eckart Gmbh & Co.Kg | Chemikalienbeständige Metalleffektpigmente, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung derselben |
JP5129532B2 (ja) | 2007-09-07 | 2013-01-30 | 綜合警備保障株式会社 | 錠前装置および施解錠方法 |
JP2009074972A (ja) * | 2007-09-21 | 2009-04-09 | Toshiba Corp | 成膜プロセスの解析装置、その解析方法および記憶媒体 |
EP2065165B1 (de) * | 2007-11-30 | 2009-11-04 | Eckart GmbH | Verwendung einer Mischung mit sphärischen Metallpartikeln und Metallflakes als Lasermarkierungs- oder Laserschweissbarkeitsmittel sowie lasermarkierbarer und/oder laserschweissbarer Kunststoff |
DE102008031843A1 (de) | 2008-07-05 | 2010-01-07 | Mtu Aero Engines Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Kaltgasspritzen |
DE102008050184B4 (de) | 2008-10-01 | 2011-04-21 | Technische Universität Chemnitz | Verfahren und Vorrichtung zum Hochgeschwindigkeitsflammspritzen |
CN103415644B (zh) * | 2011-03-16 | 2016-11-09 | 埃卡特有限公司 | 涂层以及用于涂层的方法和装置 |
CN108950459A (zh) * | 2011-07-25 | 2018-12-07 | 埃卡特有限公司 | 用于基材涂布的方法以及含有添加剂的粉末涂料材料在该方法中的用途 |
DE102011052118A1 (de) * | 2011-07-25 | 2013-01-31 | Eckart Gmbh | Verfahren zum Aufbringen einer Beschichtung auf einem Substrat, Beschichtung und Verwendung von Partikeln |
DE102011052120A1 (de) * | 2011-07-25 | 2013-01-31 | Eckart Gmbh | Verwendung speziell belegter, pulverförmiger Beschichtungsmaterialien und Beschichtungsverfahren unter Einsatz derartiger Beschichtungsmaterialien |
-
2011
- 2011-07-25 DE DE102011052121A patent/DE102011052121A1/de not_active Withdrawn
-
2012
- 2012-07-25 KR KR1020147004896A patent/KR20140061423A/ko not_active Application Discontinuation
- 2012-07-25 EP EP12741314.4A patent/EP2737101B1/de not_active Not-in-force
- 2012-07-25 US US14/234,872 patent/US9580787B2/en not_active Expired - Fee Related
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- 2012-07-25 WO PCT/EP2012/064639 patent/WO2013014214A2/de active Application Filing
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10000979C1 (de) * | 1999-10-01 | 2001-05-10 | Daimler Chrysler Ag | Beschichtungspulver auf der Basis von Titansuboxiden |
US20030191009A1 (en) * | 2002-04-08 | 2003-10-09 | Yu Sung H. | Chromia spray powders |
CN101173345A (zh) * | 2006-10-31 | 2008-05-07 | 福吉米株式会社 | 热喷涂粉末、形成热喷涂涂层的方法以及抗等离子体构件 |
WO2009062769A1 (de) * | 2007-11-14 | 2009-05-22 | H.C. Starck Gmbh | Metallpulver |
CN101945835A (zh) * | 2008-02-13 | 2011-01-12 | 法商圣高拜欧洲实验及研究中心 | Bsas粉体 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112218739A (zh) * | 2018-05-28 | 2021-01-12 | 法商圣高拜欧洲实验及研究中心 | 喷丸粉末 |
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