JP4719877B2 - マイクロ波プラズマトーチ及びマイクロ波プラズマ溶射装置 - Google Patents
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Description
また、アパタイトの一種である燐酸カルシウム粉末を用いた実験では、Ar流量15L/min、マイクロ波電力1kW以下の実験条件で約4分間の溶射で200μmの膜が得られた。この結果、1kW以下の低電力で金属及びセラミックスの溶射にマイクロ波プラズマを溶射に用いることができることが示された。
102: 中空アンテナ
103: マイクロ波入射ポート
104: 導波管
105: プラズマ噴出口
106: プラズマ形成ガス
107: 溶射粒子
108: プラズマ制御ガス
109: ガラス管
110: プラズマ
111: マイクロ波
112: 基材
Claims (4)
- プラズマ形成ガスと溶射粒子を空洞共振器の中心に据えられた中空アンテナを通じてその先端に供給し、空洞共振器に投入したマイクロ波でアンテナ先端に強電場を生成させることによりプラズマを発生させ、その熱でもって溶射粒子を溶融し、下流に置かれた基材に吹き付けることにより溶射膜を形成する製造方法。
- 中空アンテナ内から作動ガスとともにエアロゾル化した溶射粒子を供給することを特徴とする請求項1に記載の溶射法。
- 外導体である空洞共振器と、この空洞共振器の中心に据えられた耐熱性および熱伝導性に優れた金属で構成された内導体である中空アンテナとを備え、前記中空アンテナを通じてその先端にプラズマ形成ガスを供給するとともに、前記空洞共振器に投入したマイクロ波で前記中空アンテナ先端に強電場を発生させることによりプラズマを発生させることを特徴とするマイクロ波プラズマトーチ。
- さらに、前記中空アンテナを囲むようにガラス管を設置してなることを特徴とする請求項3に記載のマイクロ波プラズマトーチ。
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