JPS6052119B2 - 窒化珪素ウイスカ−の製造方法 - Google Patents

窒化珪素ウイスカ−の製造方法

Info

Publication number
JPS6052119B2
JPS6052119B2 JP57055196A JP5519682A JPS6052119B2 JP S6052119 B2 JPS6052119 B2 JP S6052119B2 JP 57055196 A JP57055196 A JP 57055196A JP 5519682 A JP5519682 A JP 5519682A JP S6052119 B2 JPS6052119 B2 JP S6052119B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
raw material
whiskers
silicon nitride
powder
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP57055196A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS58172298A (ja
Inventor
稔 田中
正 河辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tateho Chemical Industries Co Ltd
Original Assignee
Tateho Chemical Industries Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tateho Chemical Industries Co Ltd filed Critical Tateho Chemical Industries Co Ltd
Priority to JP57055196A priority Critical patent/JPS6052119B2/ja
Priority to US06/476,200 priority patent/US4525335A/en
Publication of JPS58172298A publication Critical patent/JPS58172298A/ja
Publication of JPS6052119B2 publication Critical patent/JPS6052119B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B25/00Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
    • C30B25/005Growth of whiskers or needles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/38Nitrides

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は窒化珪素ウィスカ−を高収率で製造する方法
に関する。
近年、窒化珪素はニューセラミックのうちでも、もつ
とも注目されているが、これは熱衝撃抵 抗がきわめて
大きく耐食性、絶縁性、耐摩耗性にすぐれているためで
、セラミックエンジンをはじめ、航空、宇宙関係、電子
工業、鉄鋼、海洋開発の各分野て高温材料として応用研
究が進められている。
ところでウィスカ−はひけ状結晶とも呼ばれ、単結晶
でかつ転移および格子欠陥に起因する構造上の欠陥が少
ないので、同一素材の塊状結晶にくらべ、格段に機械的
強度が大きいので、他の物質に混入して機械的強度が高
い複合材料を得るための強化物質として注目されており
、現在では金属、金属酸化物、金属炭化物、金属ほう化
物などのウィスカ−が市場に供されているが、窒化珪素
の製造においても特にウィスカ−状結晶の製造が斯界の
要望にもかかわらず、これまでのところ、いずれも実験
室的な検討にすぎず、また、低収率でコスト的にもきわ
めて割高で、不純物を多く含むものしか得られないのが
現状である。
ここで、従来、公知の窒化珪素ウィスカ−の製・造方
法について説明すると、珪素を含有する原料を破砕また
は造粒して炉に装填し、これを加熱して珪素を含む蒸気
を発生させ、この蒸気に窒素ガスを反応させてウィスカ
−を成長させる気相法が主流をなしている。
この場合、加熱された原料粉または原料ペレットに直
接、窒素ガスを接触させると、原料粉末粒子間や原料ペ
レット表面に窒化珪素が生成し、粉末内部やペレット内
部からの珪素蒸気の蒸発を妨げる。
この問題点を解決すべく成された方法として特公昭41
−17967号にみられるように、加熱された原料内に
不活性のキャリヤーガスを通過させて珪素を含む蒸気を
搬出させ、原料から離れた空間で窒素ガスを反応させた
り、特公昭49−27755号にみられるように窒素ガ
スに塩素ガスや水素ガスを加えた混合ガスを原料内に通
過させて原料から離れた空間で搬出された珪素成分と混
合ガス中の窒素とを反応させる方法があるが、これらの
場合には炉の天井や側壁にウィスカーが成長生成する。
そして、このように炉内の原料から離れた位置にウィス
カーを生成させる場合、原料に用いた珪素成分が窒化珪
素ウィスカーに変換される効率は特公昭50−44(9
)号にみられるごとく、0.2〜11.3%というよう
にきわめて低い。特に、本発明と近接した先行技術とし
ては、米国特許第3855395号と、特開昭52−7
的号がある。
前者は籾殼に3wt%の鉄分を混合し、これに水を加え
てスラリーとし、乾燥してから、これを耐火性ルツボに
入れ空気遮断して1200℃で仮焼したのち、これを有
機、バインダーで造粒したものを、N2ガスの流通下、
1300〜1400℃で加熱する方法てあり、後者は籾
殼炭化物を窒素雰囲気中て単に1300℃〜1600℃
で(好ましくは原料を粉末化あるいは造粒してサイズ調
整して)加熱する方法である。しかしながら、これらの
方法も収率が低く、また、純度が低いので、高純度の窒
化珪素ウィスカーを高収率で得る工業的製造方法として
は望まLい方法とは云えない。本発明は、上述の点にか
んがみ、発見されたものであつて、窒化珪素ウィスカー
を高純度で、かつ高収率て製造する方法を提供しようと
するものてある。
以下、本発明の構成について説明する。
すなわち、本発明は次の基本的構成から成る。
珪素を含有し、薄肉でかつウィスカーの成長に十分な空
隙を保有する形状の原料をガス流通性を保有できる状態
にしてトレーに装填し、これを非酸化性雰囲気の炉内で
、上記原料の空隙に窒素ガスを流通させつつ、400−
1300℃に至る段階的に昇温する複数の温度域を高温
部方向へ問欠的に移動させながら不純物成分を飛散除去
せしめたのち、1350℃〜1450℃の温度域で窒化
せしめることからなり、好ましくはトレーに装填する前
の原料にβ一Si3N4粉末を付着せしめておくことか
らなつている。次に具体的に各事項を詳述すると、上記
の構成において、珪素を含有し、薄肉で、かつウィスカ
ーの成長に,十分な空隙を保有する形状の原料とは、そ
のまますぐに原料に供しうる天然の好適材として籾殼が
あるが、このほか、合成して原料として、珪素原料と炭
素原料を微粉末の状態でつなぎ剤としてメチルセルロー
ス液を少量加えて混練して小寸法の中空短管状・撚れた
フレーク状・波板状あるいはもつれ合つた糸状に成形さ
れたもの(この場合、特に、中空短管状のものが籾殻の
ごとくそれ自体に内部空隙を保有しているので最適であ
る)あるいはろ紙のような高純度のセルロース質に珪酸
あるいはシリコン樹脂を含浸し乾燥させたものをたとえ
ば、波板形状に成形して相互間に十分な空隙ができるよ
うにしたものを意味しており、少なくともこれから選択
された1以上のものである。
上記の原料のうち、特に、籾殻は稲作農業で多量に副生
するにもかかわらず、目立つた用途に供されていないが
、有機物以外にSiO2を13〜坐幇%、MgOを0.
02〜0.05Wt%、CaOを0.10〜0.15W
t%、K2Oを0.3〜0.4Wt%、P2O,を0.
05〜0.10wt%含有しており、空気を遮断して仮
焼すると、その重量の60Wt%が飛散し、炭素分と珪
素分との比率は7:3〜5:5となる。このうちの炭素
分は窒化工程中、籾殻がその形状を維持するのに貢献し
、ウィスカーの生成に使われる。残余の不純物のうち、
、K2O及びP2O,は仮焼及び窒化工程中に飛散し、
MgO及びCaOは後処理によつて除去する。又、窒化
珪素の主成分である珪素は上述の籾殼以外に、たとえば
次のようなかたちで原料として供給できる。
珪素分については無水珪酸の形のものが安価に入手でき
、代表的な無水珪酸原料である珪石、珪砂の他、シラス
と呼ばれる北九州地方に広く分布している火山噴出物(
その埋蔵量は90晴トンといわれ現在、目立つような用
途に供されていない。その化学組成を第1表に示す)や
板ガラス研摩廃粉(これはガラス工業において板ガラス
研摩工程で多量に副生するが、超微粉であること、及び
鉄分が多くてガラス原料としての再使用が困難なことか
ら利用されないまま、放置しているのが現状である。そ
の化学組成は第2表に示す。)も使用できる。特にシラ
ス及び板ガラス研摩廃粉は各々を単独で用いるよりも混
合して用いることが望ましい。
これはシラスがかなり低い温度でガラス化して表面積が
激減し、珪素含有蒸気を発生しにくくなるため、融点が
高い板ガラス研摩廃粉に支持させることにより、所要温
度て長時間にわたり、珪素含有蒸気を発生し易くするた
めである。また、板ガラス研摩廃粉に不純物として含ま
れている酸化鉄はウィスカーの成長を促進する効果を有
しているので、この混合原料は、この効果を利用するこ
ともできる。又、原料の窒化過程において、窒化珪素を
ウィスカー状結晶として形成せしめるためには原料が薄
肉てかつウィスカーの成長に十分な空隙を保有する形状
を維持しうることが重要であり、この役割を担う炭素分
は純粋なものが工業的に多量に供給されるので、これを
利用する。
上述のようにして供給される珪素原料と炭素原料は前述
のよにつなぎ剤としてメチルセルロース液を少量、加え
て混練して小寸法の中空短管状に成形することによつて
安定した原料源として期待できる。次に、このような炭
化させた籾殼等の原料のトレーへの装填は、原料がその
形状を崩さずに各原料相互間に、ガスが流通しやすいよ
うに、空隙を保有させておこなうことが必要である。
又、好ましくはトレーに装填する前の原料に結晶核とし
てβ−Si3N4粉末を付着せしめておく。このβ一S
i3N4粉末は粒径が5μ以下が望ましく、付着量は経
験的に原料のS1重量に対して1〜80Wt%、好まし
くは10〜20Wt%、最も好ましくは12〜15Wt
%とする。そして原料が装填されたトレーを常法により
非酸化性雰囲気とした炉内に導く。
炉内は400℃から1450℃に至る段階的に昇温する
温度域まで、たとえば400〜7000C,900℃,
1100℃,12000C,13000C,1350℃
,1450℃と温度域が区分されており、各温度域では
下方から上方向へ窒素ガスが常に流通せしめられている
なお、1300℃までの低温域ではArガスが用いられ
ると一層、好ましい。トレーは上記各温度域を低温部か
ら高温部域へ所定時間をおいて間欠的に移動せられ、こ
の間にトレー中の原料は加熱され、不純成分を飛散除去
したのち窒化される。
トレーがいわゆる低温部から段階的に昇温して至る高温
部域まて間欠的に移動され不純物を飛散させるために各
温度域でトレーを停滞させる所要時間は400〜700
℃,900℃,1100要C,1200℃,1300℃
の各温度域で1〜2肴間、好ましくは5〜2橋問が適当
であり、13000C〜1450℃の温度域で窒化する
時間は2〜1CB!間、好ましくは4〜1時間が適当で
ある。この際、窒素ガスの流量、流速、ガス温度は炉の
内容積、原料の炉内への仕込み量等の条件により異なる
が、ガス温度は極端に低いものを送入しないように注意
を要する。かくて上述のごとき条件下で窒化された原料
にはその内外面ならびに各原料相互間の空隙に、さらに
炉天井部に、綿状ないしは羽毛状に窒化珪素ウィスカー
が成長生成する。そして、窒化が十分な時間、おこなわ
れると、原料中の珪酸分のほとんど全量が窒化珪素に変
換される。次いで、このように原料の内面ならびに各原
料相互間の珪素に成長生成した窒化珪素ウィスカーは次
に述べるウィスカー分離法により捕集する。
具体的に説明するに、炉内から取出した原料は窒化珪素
ウィスカーがからみ合つて互いに結合しているのでこれ
を水中に入れ、ウィスカーが損傷しないように静かに攪
拌する。攪拌は、機械的方法のほかにエアーレーシヨン
や超音波などの方法で行う。原料がほぐれたならば、こ
れに疎水性で、かつ親炭素性の液体、たとえば灯油を加
え、更に攪拌してからしばらく静置する。すると、水と
灯油とが分離した際に、炭素の親油性により炭化した籾
殻は上部の灯油中に、窒化珪素ウィスカーは下部の水側
に入つて容易に分離できる。次いで、水側に分離捕集さ
れたウィスカーは市販洗剤、金属石けんなどを用い、浮
遊選鉱技術で精選するか、あるいは酸洗い、水洗等によ
り不純物を除くことによつて、窒化珪素ウィスカーのみ
を得ることができる。又、灯油は最初から水に加えてお
いてもよく、原料がよく解きほぐされるように水に分散
効果を示す助剤を添加してもよいが、灯油を乳化させな
いものを選ぶことが必要である。なお、炉内から取出し
た窒化珪素ウィスカーが生成せしめられた原料は、上述
のごとく灯油一水混合液による分離に供する前に、機械
的に解きほぐしてもよいが、この場合は多少のウィスカ
ーの損傷は避けられない。一方、灯油側で捕集した炭化
した籾殼等の原料はウィスカーと同質の粉体を含んでい
るのでこれを600〜1200゜Cの酸化雰囲気で焼成
して炭素分を除くと窒化珪素粉体が得られるが、これは
高温セラミック原料に利用できる。
また、炉から取出した原料を分離精製せず、そのまま焼
成すると、窒化珪素ウィスカー及び窒化珪素粉の混合物
が得られるが、これを高温セラミック原料に用いれば、
機械的強度が高い高温材料が得られる。次に本発明を工
業的に実施する際に使用する製造炉の一例を図面にもと
づいて説明する。
図面は外部構造ならびに内部仕切等が耐熱材料でつくら
れた製造炉の断面を示し、両端に入口ガス置換室1と、
出口ガス置換室2を有し、その間に上下二段に区分され
、下側には上部が開放され、下部にガス吹込口4のある
小室3が多数、設けられ(図面は中央部を省略)、その
中に適量のカーボンペレット5が収容されており、上側
には上部が開放され底部に、原料がこぼれ落ちない程度
の細孔6が多数、穿孔されたトレー7が前記小室の上に
小室と同数分、配設されている。
なお、トレーの材質はシリカ−アルミナ系のものでもよ
いが黒鉛系のものとすると、高低温部への移動の際の熱
衝撃抵抗が強いので、より望ましい材質である。ところ
で本発明製造方法のプロセスを上述の図面に添つて説明
すると、まず、籾殼等の原料8を入れたトレー7を非酸
化性ガスが送給されるガス置換室1内に搬送して非酸性
雰囲気下におく。
次いで扉9を引き上げて段階的に温度が高くなるように
設定してある炉本体内のもつとも低温部(図面では一番
左側)である小室3の上へ移動させる。
小室3にはカーボンペレットが収容されており、抵抗発
熱体10が設置されて、所定の温度(たとえば400℃
に維持できるようになつており、しかもガス吹込口4か
ら上方へ窒素ガスが所定流速で所定量、吹込まれている
ので、トレー7内の原料8は同トレーの底部に設けた細
孔6から流入する加熱された窒素ガスにより徐々にあた
ためられることになる。11はガス出口である。
小室3は図面上でその一部を省略したが、たとえば総数
20ぐらいあり、400℃から1200℃ぐらいまで1
000C〔毎に温度が上がる小室を各1〜2ずつ連続し
て設け、1300゜Cの小室が3室、1350℃ならび
に14500Cの小室が各4室ぐらいずつ設けられてお
り、これらの小室の直上にはトレー1ケース分が収容で
きる移動空間が設けられている。400〜1450℃ま
での各所定温度で所定時間、各小室上にトレーの移動空
間に間欠的に移動せしめられたトレー内の原料は400
〜1300℃に至る段階的に昇温する複数の温度域で充
分に予熱され、不純物成分を飛散除去せしめられたのち
、1350〜1450℃の間で窒化反応せしめられるこ
とになり、次に常温下で冷却せしめられることになる。
ここでトレーが炉本体内を移動中のNa,Cl,K,M
g,Al等の、窒化珪素の構成成分である元素以外の不
純物元素は徐々に飛散し、炉天井部分に結晶物として析
出除去され、1350〜1450℃で窒化されて原料の
内外に生成する窒化珪素ウィスカーならびに窒化珪素粉
体の純度は飛躍的に向上する。次に、原料中の不純物元
素が炉内の温度域において温度が高くなるにしたがい、
減少する、つまり、原料を所定温度て窒化して窒化珪素
を生成せしめた場合の窒化珪素の純度が高くなることを
実証する実験データを第3表として掲げる。
上記実験データは原料中の不純物元素を700℃におい
て100とした場合に各温度で、2時間、保持したとき
に原料中に残存する元素の量を示したものてあり、14
00℃ではかなりの量の不純物元素が飛散して、原料中
に占める割合が減少しているので、同温度て原料が窒化
せられて生成する窒化珪素ウィスカーの純度は上述のよ
うに原料中の不純物元素の減少分だけ高くなるものであ
る。
又、第4表は第3表の実験データから明らかなように原
料中から飛散した元素が炉天井部に於いて化合再結晶し
たものを捕集し、同析出結晶物中の不純物元素量を蛍光
X線分析により測定したデータである。上記実験データ
から炉内入口部の原料の予熱開始段階(400〜650
0C)では原料から比較的多く不純物元素が飛散し、炉
天井部に析出結晶として付着し700℃,1000℃,
1300℃,1400℃と温度が高くなるにしたがい、
一般的に不純物元素の飛散量が減少することにともない
炉天井部に付着する析出結晶中の不純物元素量は減少す
る傾向がみられ、冷却部(常温)では逆に析出結晶中の
不純物元素量が増加し出口部においてもほぼ同様の傾向
がみられる。
考察するに、不純物元素はその種類と温度により飛散状
態は異なるが、入口部から出口部に至るまで不純物元素
は炉天井部に於て化合再結晶として析出するので結局、
出口部におけるトレー中の原料の内外に生成する窒化珪
素ウィスカーならびに窒化珪素粉体の純度が飛躍的に向
上するものと考えられる。又、冷却部ならびに出口部に
おいては一般に析出結晶中の不純物元素量が窒化温度域
(1350〜1450℃)より多いのは温度の急激低下
により飛散状態にある不純物元素が凝縮するためと考え
られる。ところで、本発明製造方法においてその原料に
、結晶核としてβ−Si3N4粉末を付着せしめた場合
の効果を示す比較実験データを第5表として掲げる。
上記表の比較実験データから明らかなように原料に結晶
核としてβ−Sl3N4粉末を添加すればSl3N4ウ
ィスカーの収率は38.52%、同じくSi3N4粉体
の収率は44.31%と、β−Sl3N4粉末を全く添
加しない場合に比べ、きわめて良好であるが、α−Si
3N4粉末を添加すると、Si3N4ウィスカー等の生
成が逆に抑制されてきわめてウィスカーの収率が低くな
ることが判明した。
然して炉内て所定処理を経て窒化珪素ウィスカーならび
に同粉体を生成せしめられた原料は前述のことく、疎水
性有機質液体と水の混在液による分離により窒化珪素ウ
ィスカーのみを水層側に分離捕集し精選する。
以上のように構成される本発明によれば従来の方法と異
なり、原料から離れた位置ではなく、原料の内外面に窒
化珪素ウィスカーを生成せしめる.ものであるから原料
を疎水性有機質液体と水の混在液による分離捕集法によ
り、高収率で窒化珪素ウィスカーを得ることが可能で、
しかも原料中の珪素成分のほとんど100%を窒化珪素
に変換できる。
更に本発明の方法によつて炉内から取出した原料の内外
に生成せしめたウィスカーを分離の工程を経すにこのま
ま、窒化珪素粉体一窒化珪素ウイスカーー炭素の混合物
、あるいは炭素を焼失せしめて窒化珪素一窒化珪素ウィ
スカーの混合物とし、工業材料として利用てきる。
そしてまた、原料は炭化させた籾殻や無水珪酸原料であ
る珪石、珪砂の他にシラスや板ガラス研摩廃粉など、き
わめて安価て多量に入手できるものであるから製造コス
ト的にみて、きわめて経済的てある。
以下、本発明の実施例を説明する。
実施例1 化学分析値1y.I0SS79.61%,SiO2l7
.55%,Al2O3O.O4%,Fe2O3O.Ol
%,CaOO.O4%,MgOO.l6%の籾殼を駆−
HCIにて1時間煮沸し、温湯にて洗浄し乾燥させた(
この場合の不純物の化学分析値はAl。
O3O.O3%,Fe2O3O.OO2%,CaOO.
OO7%,MgOO.OO8%であつた)。また、Sl
3N4粉末(α−Sl3N43O%,β−Si3N47
O%)1.25yを若干のアルコール(代りに若干の水
でもよい)に分散させ、これを上記酸処理した籾殼10
0gに噴霧し、底部に多数の小孔を有する黒鉛製容器に
入れ、アルミナ製マツフル炉に黒鉛のペレットを5CT
f1程充填した上に置き、窒素ガスを0.5f/分で炉
底部より上部に流しつつ昇温し800℃で3時間、10
00゜Cで3時間、1200℃で3時間、保持した。こ
の後、30C1minの昇温率で1400℃になるまで
窒素ガスを流しつつ昇温し、1400℃で窒素ガスを5
e1minで流して8時間、保持した。その後、ガス流
量を0.5eIminとして1000℃まで降温し、こ
のあと、ガスの送給を止めて密閉冷却した。容器天井の
ウィスカー状の白色付着物はX線回折でα−Si3N4
と非晶質の混合物で蛍光X線分析ではAl2O32.7
8%,Fe2O3O.88%,CaOO.79%,Mg
OO.24%と高い値を示したが、いわゆる不純物が多
いのでこれは除外した。一方、炭化して黒色となりもと
の形状をそのままとどめている籾殼原料の相互間には白
色のウィスカー状物が生成しており、これを容器よりと
り出し灯油:水(水道水)=3:7の混合液中に投入し
1時間、攪拌後静置した。油側に入つた分離した炭化物
は酸化性雰囲気中て800℃、2時間、焼成し、灰白色
の粉体6.04yを、水側分離物は温湯にて洗浄し、乾
燥して5.25yのウィスカーを得た。X線回折によれ
ば上記粉体、ウィスカーともα−Sl3N4が主であり
、粉体はAl2O3O.O22%,Fe2O3O.OO
l%,CaOO.OO4%,MgOO.OO5%と不純
物がきわめて少なく、ウィスカーではAl2O3O.O
l2%,Fe2O3ND,CaOO.OOl%,MgO
NDと、その存在がほとんど無視できる程度に高純度で
あつた。尚、このウィスカーを電子顕微鏡で観察した結
果、その形状は直径0.5〜1.0μ、長さは50〜3
00μのもので、制限視野電子線回折によればα−Si
3N4の単結晶であることが認められた。
また、原料中のS1量に対してほぼ95%以上の収率で
Si3N4の粉体とウィスカーが得られ、5%近くが不
純物として除去されることがわかつた。実施例2 実施例1と同じ籾殻を600℃で仮焼し、この100y
に1.5yのSl3N4粉末(α−Si3N43O%,
β一Sl3N47O%)を若干のアルコール(代りに若
干の水でもよい)に分散させたものを噴霧し、実施例1
と同様の方法て窒化した。
天井付着物は除去し、容器内の焼成物のみを実施例1と
同じように灯油:水3:7の混合液中に投入し、1時間
、攪拌後、静置した。油側に分離捕集された炭化物は酸
化雰囲気中で800゜C12時間、焼成して灰白色の粉
体16.25yを、水側分離物は温湯にて洗浄し、乾燥
してウィスカー状物11.72yを得た。粉体、ウィス
カーとも実施例1と同様、α−Si3N4が主である不
純物の分析値では粉体はAl2O3O.O3%,Fe2
O3O.Ol%,CaOO.Ol%,MgOO.l2%
、ウィスカーは,Al2O3O.O2%,Fe2O3O
.Ol%,CaOO.OO7%,油ρ0.008%と不
純物の混在もきわめて少ないものであつた。また、原料
中のSi量に対してほぼ95%以上の収率でSi3N4
の粉体とウィスカーが得られ、実施例1の場合と同様で
あつた。実施例3濾紙にシリコンレジン(Si含有41
%)10yをトルエン60m1に溶解したものを含浸さ
せ、乾燥したものを巾57m程度のリボン状にし、実施
例1と同じSi3N4粉末を、濾紙に含浸させたSiに
対して2.0重量%をまぶしつつ、両手で波形に丸め、
空隙をもたせて、底部に多数の小孔を有する黒鉛製容器
に装填した。
実施例1と同じ方法で窒化、灯油一水の混合液で分離捕
集して、α−Si3N4を主とする粉体とウィスカーを
得たが、蛍光X線分析によれば実施例1,2よりさらに
高純度で物末、ウィスカーともMg,Ca,Al,Fe
等の不純物化合物はいずれも0.001%以下であつた
。実施例4 シラス(谷山産)1鍾量部にランプブラック10重量部
を、メチルセルロースをバインダーとして混練し、厚み
0.5萌の円管(径8顛)に押出し成形し、長さ15T
fnに切断し乾燥させた。
この乾燥物100Vの表面にSi3N4粉末2yを付着
せしめてのち、実施例1と同様に底部に多数の小孔を有
する黒鉛製容器に乾燥物相互間に空隙をもつようにして
装填し実施例1と同様の条件、方法て窒化し、粉状物9
.2Vならびにウィスカー状物14.9yを分離回収し
た。X線回折による粉体、ウィスカーとも主としてα−
Si3N4からなるもので、蛍光X線分析では粉体はA
l。O3l.4l%,CaOO.52%,MgOO.2
l%,Fe2O3O.l7%、ウィスカーはAl2O3
O.56%,CaOO.43%,MgOO.O6%の微
量不純物を含むものであつた。尚、原料中のSi量に対
して約90%の収率でSi3N4の粉体とウィスカーが
得られ、約10%が不純物成分として除去されているこ
とがわかつた。実施例5 ガラス工業研摩廃粉25重量部、珪石粉25重量部、ラ
ンプブラック5鍾量部にメチルセルロースをバインダー
として混練し、実施例4と同様にして押出し成形し、長
さ15wnに切断し乾燥させた。
この乾燥物100yの表面にSi3N4粉末2yを付着
せしめてのち、底部に多数の小孔を有する黒鉛製容器に
軽く装填し実施例1と同様の条件、方法で窒化し、粉状
物11.2yならびにウィスカー状物13.5yを分離
回収した。また、粉状物、ウィスカーともα−Si3N
4て実施例4とほぼ同様の純度であつた。実施例6 脱脂綿にシリコンオイルを含ませ、乾燥させたものを実
施例1と同様の条件、方法で窒化し、生成物の分離回収
をおこなつた。
得られた生成物はほとんどがウィスカー状物で、X線回
折によるとα−Si3N4で、蛍光X線分析によれば不
純物の存在がほとんど無視できる程度で、きわめて高純
度のもので、電子顕微鏡にて観察すると、その形状は実
施例1〜5で得られたものより径が細く、長さが長い、
すなわち径が約0.1μ、長さは1〜2?でアスペクト
比が10000〜20000のものであつた。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明製造方法を工業的に実施する際に使用する
製造炉の一例を示す一部切欠断面図てある。 1・・・入口ガス置換室、2・・・出口ガス置換室、3
・・・小室、4・・・ガス吹込口、5・・・カーボンペ
レット、6・・・細孔、7・・・トレー、8・・・原料
、9・・・扉、10・・・抵抗発熱体、11・・・ガス
出口。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 珪素を含有し、薄肉でかつウィスカーの成長に十分
    な空隙を保有する形状の原料をガス流通性を保有できる
    状態にしてトレーに装填し、これを非酸化性雰囲気の炉
    内で、上記原料の空隙に窒素ガスを流通させつつ、40
    0〜1300℃に至る段階的に昇温する複数の温度域を
    高温部方向へ間欠的に移動させながら不純物成分を飛散
    除去せしめたのち、1350℃〜1450℃の温度域で
    窒化せしめることを特徴とする窒化珪素ウィスカーの製
    造方法。 2 珪素を含有し、薄肉でかつウィスカーの成長に十分
    な空隙を保有する形状の原料に、結晶核としてβ−Si
    _3N_4粉末を付着せしめて、これをガス流通性を保
    有できる状態にしてトレーに装填し、これを非酸化性雰
    囲気の炉内で、上記原料の空隙に窒素ガスを流通させつ
    つ、400〜1300℃に至る段階的に昇温する複数の
    温度域を高温部方向へ間欠的に移動させながら不純物成
    分を飛散除去せしめたのち、1350%〜1450℃の
    温度域に窒化せしめることを特徴とする窒化珪素ウィス
    カーの製造方法。
JP57055196A 1982-04-01 1982-04-01 窒化珪素ウイスカ−の製造方法 Expired JPS6052119B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57055196A JPS6052119B2 (ja) 1982-04-01 1982-04-01 窒化珪素ウイスカ−の製造方法
US06/476,200 US4525335A (en) 1982-04-01 1983-03-17 Method of manufacturing crystalline silicon nitride and method of separation thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57055196A JPS6052119B2 (ja) 1982-04-01 1982-04-01 窒化珪素ウイスカ−の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58172298A JPS58172298A (ja) 1983-10-11
JPS6052119B2 true JPS6052119B2 (ja) 1985-11-18

Family

ID=12991927

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57055196A Expired JPS6052119B2 (ja) 1982-04-01 1982-04-01 窒化珪素ウイスカ−の製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4525335A (ja)
JP (1) JPS6052119B2 (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60235706A (ja) * 1984-05-09 1985-11-22 Central Glass Co Ltd シリコン系セラミツクス粉末の連続製造方法
US4988564A (en) * 1986-08-25 1991-01-29 Gte Laboratories Incorporated Metal carbide, nitride, or carbonitride whiskers coated with metal carbides, nitrides, carbonitrides, or oxides
US4810530A (en) * 1986-08-25 1989-03-07 Gte Laboratories Incorporated Method of coating metal carbide nitride, and carbonitride whiskers with metal carbides, nitrides, carbonitrides, or oxides
US4900525A (en) * 1986-08-25 1990-02-13 Gte Laboratories Incorporated Chemical vapor deposition reactor for producing metal carbide or nitride whiskers
US4756791A (en) * 1986-08-25 1988-07-12 Gte Laboratories Incorporated Chemical vapor deposition process for producing metal carbide or nitride whiskers
US5165916A (en) * 1989-10-02 1992-11-24 Phillips Petroleum Company Method for producing carbide products
US5176893A (en) * 1989-10-02 1993-01-05 Phillips Petroleum Company Silicon nitride products and method for their production
US5108729A (en) * 1989-10-02 1992-04-28 Phillips Petroleum Company Production of carbide products
US5250278A (en) * 1991-06-19 1993-10-05 Phillips Petroleum Company Method for producing a ceramic product
US7588745B2 (en) * 2004-04-13 2009-09-15 Si Options, Llc Silicon-containing products
DE102011052121A1 (de) 2011-07-25 2013-01-31 Eckart Gmbh Beschichtungsverfahren nutzend spezielle pulverförmige Beschichtungsmaterialien und Verwendung derartiger Beschichtungsmaterialien
CN106518126B (zh) * 2016-10-26 2019-02-26 湖北三江航天江北机械工程有限公司 晶须增强石英复合陶瓷透波材料的制备方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3084998A (en) * 1960-12-20 1963-04-09 Union Carbide Corp Method of making foamed silicon nitride
US3244480A (en) * 1964-03-03 1966-04-05 Robert C Johnson Synthesis of fibrous silicon nitride
GB1273145A (en) * 1968-04-26 1972-05-03 Plessey Co Ltd An improved process for nitriding silicon
GB1414143A (en) * 1972-03-03 1975-11-19 Lucas Industries Ltd Method of manufacturing silicon nitride powder
GB1410841A (en) * 1972-06-30 1975-10-22 Advanced Materials Eng Production of refractory material
US3855395A (en) * 1972-09-06 1974-12-17 Univ Utah Production of silicon nitride from rice hulls
US4206190A (en) * 1974-03-11 1980-06-03 Westinghouse Electric Corp. Plasma arc production of silicon nitride
US4235857A (en) * 1979-07-02 1980-11-25 Ford Motor Company Method of nitriding silicon
US4256571A (en) * 1979-10-09 1981-03-17 Silag, Inc. Recovery of silicon carbide whiskers from coked, converted rice hulls by selective flocculation-liquid extraction
JPS5854120B2 (ja) * 1980-06-30 1983-12-02 工業技術院長 窒化ケイ素ウイスカ−の製造方法
JPS6037078B2 (ja) * 1981-05-29 1985-08-23 タテホ化学工業株式会社 窒化珪素ウイスカ−の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US4525335A (en) 1985-06-25
JPS58172298A (ja) 1983-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6052120B2 (ja) 炭化珪素の製造方法
JPS6052119B2 (ja) 窒化珪素ウイスカ−の製造方法
US4619905A (en) Process for the synthesis of silicon nitride
JPH01111800A (ja) 炭化ケイ素ホイスカーの製法
JPS5820799A (ja) 炭化珪素ウイスカ−の製造法
Liu et al. Effect of removal of silicon on preparation of porous SiC ceramics following reaction bonding and recrystallization
US3421851A (en) Method of growing alpha-alumina single crystal ribbons
EP0371770B1 (en) Process for producing silicon carbide platelets and the platelets so-produced
JPS59128300A (ja) 窒化珪素ウイスカ−を回収後、炭化珪素ウイスカ−を製造する方法
JPS63117906A (ja) 多結晶シリコン製造装置用部材
GB2168333A (en) Production of Si3N4 and SiC whiskers
JPH03187998A (ja) 窒化アルミニウムウィスカーの製造方法
JPS6111885B2 (ja)
JPH0151443B2 (ja)
JPS6037078B2 (ja) 窒化珪素ウイスカ−の製造方法
JPS6149245B2 (ja)
JPS6037079B2 (ja) 原料内の空隙に成長したウイスカ−の分離法
JP2649813B2 (ja) もみ殻を原料とする窒化ケイ素ウィスカーの製造方法
JPS6259599A (ja) 窒化ケイ素と酸窒化ケイ素よりなる繊維状集合体の製造法
JP2579949B2 (ja) 炭化ケイ素ウイスカ−の製造方法
JP2604753B2 (ja) 炭化ケイ素ウイスカーの製造方法
Xiao et al. Fabrication and properties of Si3N4f/RBSN porous ceramic composite
JPH06127915A (ja) 多結晶シリコン製造用流動層反応器
JPS60200814A (ja) 窒化珪素と炭化珪素との複合微粉末の製造方法
JPS62235274A (ja) ケイ酸カルシウム成形体の製造法