CN103752450B

CN103752450B - 喷涂设备

Info

Publication number: CN103752450B
Application number: CN201410010225.5A
Authority: CN
Inventors: 徐斌
Original assignee: BOE Technology Group Co Ltd; Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Current assignee: BOE Technology Group Co Ltd; Beijing BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date: 2014-01-09
Filing date: 2014-01-09
Publication date: 2017-01-25
Anticipated expiration: 2034-01-09
Also published as: CN103752450A

Abstract

本发明公开了一种喷涂设备，涉及显示技术领域，能够有效改善在喷涂过程中出现的喷涂不均匀的现象，改善了喷涂的效果。本发明提供的喷涂设备，包括连接装置和喷头，其中所述喷头包括喷涂部分，所述喷涂部分为梯形体结构，包括相连通的第一开口和第二开口，所述第一开口的尺寸大于所述第二开口的尺寸，所述第一开口位于所述喷涂部分的第一面，所述第二开口位于所述喷涂部分的第二面，所述第一面和所述第二面平行，所述第二开口的长度大于或等于待喷涂基板沿所述第二开口的长度方向上的最大尺寸；所述喷头与所述连接装置相连，并且所述喷头在所述连接装置的带动下移动。

Description

喷涂设备

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种喷涂设备。

背景技术

喷涂设备在电子、汽车、机械等多个领域均有十分广泛的应用。其主要部件为喷头，其中，喷头的结构、形状等在很大程度上决定了喷涂的效果。

示例性地，在液晶显示器的阵列基板上制作金属线的过程中，需要使用喷涂设备。具体地，金属线的制作过程如下：首先形成一层金属膜，然后在金属膜上涂覆光刻胶，进行光刻，接着对金属膜进行刻蚀，常采用湿法刻蚀，最后剥离光刻胶形成包括金属线的图形。其中，湿法刻蚀主要采取的是喷涂模式。图1为现有技术中采用喷涂模式的湿法刻蚀过程示意图，如图1所示，多个阵列式排布在阵列基板上方的喷头将化学品喷涂到阵列基板的金属膜上，进行刻蚀。

发明人发现，目前，在使用喷涂设备进行喷涂的过程中，常会出现喷涂不均匀的现象，严重影响了喷涂的效果。例如在如图1所示的湿法刻蚀过程中，每个喷头喷涂到阵列基板上的区域为一个圆形区域，为了保证喷头能将化学品喷涂到阵列基板上所有区域，相邻喷头的喷涂区域需要存在一定程度的叠加，形成化学品聚集区，造成刻蚀不均匀，影响阵列基板的良品率。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种喷涂设备，能够有效改善在喷涂过程中出现的喷涂不均匀的现象，改善了喷涂的效果。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种喷涂设备，采用如下技术方案：

一种喷涂设备，包括连接装置和喷头，其中所述喷头包括喷涂部分，所述喷涂部分为梯形体结构，包括相连通的第一开口和第二开口，所述第一开口的尺寸大于所述第二开口的尺寸，所述第一开口位于所述喷涂部分的第一面，所述第二开口位于所述喷涂部分的第二面，所述第一面和所述第二面平行，所述第二开口的长度大于或等于待喷涂基板沿所述第二开口的长度方向上的最大尺寸；

所述喷头与所述连接装置相连，并且所述喷头在所述连接装置的带动下移动。

所述喷头还包括：

贮存结构，所述贮存结构与所述喷涂部分的第一开口连接，为所述喷涂部分提供喷涂物质。

所述喷头还包括：

稳定结构，所述稳定结构包括分别设置于所述贮存结构的两个外侧壁的管道。

所述喷涂设备还包括：

第一调节部分，所述第一调节部分调节所述喷头与所述待喷涂基板的夹角；

第二调节部分，所述第二调节部分调节所述喷头喷出的喷涂物质的流量。

所述第一调节部分包括伺服马达和与所述喷头连接的转动轴，所述伺服马达通过所述转动轴调节所述喷头与所述待喷涂基板的夹角。

所述喷涂设备还包括：

驱动装置，所述驱动装置驱动所述连接装置移动。

所述驱动装置包括履带、马达或者导轨。

本发明提供了一种喷涂设备，该喷涂设备的喷头包括喷涂部分，其中喷涂部分的第二开口的长度大于或等于待喷涂基板沿第二开口的长度方向上的最大尺寸，在喷涂过程中，由于喷头与连接装置相连，并且喷头在连接装置的带动下移动，使得喷头可以在待喷涂基板上进行往返喷涂，进而使待喷涂基板上的各个位置均分布有等量的喷涂物质，喷涂均匀，喷涂效果好。

附图说明

为了更清楚地说明本发明或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中采用喷涂模式的湿法刻蚀过程示意图；

图2为本发明中的喷涂设备的示意图；

图3为本发明中的喷头的截面图；

图4为本发明中的喷头的立体图；

图5为本发明中的喷头的喷涂部分的立体图；

图6为本发明中的喷涂过程示意图一；

图7为本发明中的喷涂过程示意图二；

图8为本发明中的喷头与待喷涂基板的夹角示意图；

附图标记说明：

1—喷头；10—喷涂部分；101—第一面；

102—第二面；11—第一开口；12—第二开口；

13—贮存结构；14—稳定结构；2—连接装置；

3—第一调节部分；31—转动轴；32—伺服马达；

4—第二调节部分；41—储存箱；42—管路；

43—泵；5—夹角；6—驱动装置。

具体实施方式

下面将结合附图，对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明提供了一种如图2所示的喷涂设备，包括喷头1和连接装置2，其中，如图3和图4所示，喷头1包括喷涂部分10，具体地，如图5所示，喷涂部分10为梯形体结构，包括相连通的第一开口11和第二开口12，第一开口11的尺寸大于第二开口12的尺寸，第一开口11位于喷涂部分10的第一面101，第二开口12位于喷涂部分10的第二面102，第一面101和第二面102平行，第二开口12的长度大于或等于待喷涂基板沿第二开口12的长度方向上的最大尺寸；

喷头1与连接装置2相连，并且喷头1在连接装置2的带动下移动。其中，连接装置2的结构可以根据喷头1的实际情况进行设置，只要可以承载喷头1的重量以及便于对喷头1进行移动等操作的结构均可，本发明对此不进行限制。

此外，需要说明的是，如图5所示，喷头1沿其延伸方向的长度可以根据实际待喷涂基板的尺寸进行设定，只要能满足第二开口12的长度大于或等于待喷涂基板沿第二开口12的长度方向上的最大尺寸，进而保证喷头1沿垂直于喷头1的延伸方向的方向来回移动可以将喷涂物质均匀喷涂至整个待喷涂基板上即可，本发明对此不进行限制。

进一步地，为了使喷涂更加均匀，优选地，在喷涂过程中，如图6所示，喷头1从待喷涂基板的一端匀速移动至待喷涂基板的另一端，如图7所示，喷头1再以相同的速度返回，进而实现一次往返喷涂过程，喷涂过程包括至少一次往返喷涂过程。

喷涂过程包括的往返喷涂过程的次数可以根据待喷涂基板上实际需要的喷涂物质的厚度以及喷涂物质的流量等多种因素决定。

进一步地，在喷涂过程中，为了保证喷涂的持续进行，如图3和图4所示，喷头1还可以包括贮存结构13，贮存结构13与喷涂部分10的第一开口11连接，为喷涂部分10提供喷涂物质，进而使得喷涂物质从第一开口11进入喷涂部分10，从第二开口12喷涂至待喷涂基板上。喷涂物质可以为液体、气体、胶体以及粉末等多种形态的物质。

此外，为了进一步确保喷涂物质喷涂到待喷涂基板的指定位置，在喷涂期间喷涂物质的前进方向不发生改变，喷头1还包括稳定结构14，稳定结构14包括分别设置于贮存结构13的两个外侧壁的管道，稳定结构14喷出气体稳定喷涂部分10喷出的喷涂物质的前进方向。

需要说明的是，设置有稳定结构14的喷头不适用于进行气体的喷涂，在喷涂过程中容易出现喷涂气体和从稳定结构14中喷出的气体混合的状况。

进一步地，如图2所示，该喷涂设备还包括第一调节部分3和第二调节部分4。

具体地，第一调节部分3调节喷头1与待喷涂基板的夹角5。在喷涂过程中，喷头1与待喷涂基板呈一定夹角5，如图8所示，该夹角5定义为喷头1横截面轴向（如图8中虚线所示）与喷头1前进方向之间的夹角。该夹角5的数值可以根据实际情况进行设定，但为了喷涂更加均匀，在一次喷涂过程中夹角5为一个固定值。

示例性地，第一调节部分3可以包括与喷头1连接的转动轴31和伺服马达32，伺服马达32根据软件设计通过转动轴31精确调节喷头1与待喷涂基板的夹角5。其中，转动轴31可以为与喷头1连接的独立的结构，也可以为喷头1自身包括的一个结构，本发明优选转动轴31为与喷头1连接的独立的结构。第一调节部分3还可以包括其他结构，只要其能实现对喷头1和待喷涂基板之间的夹角5进行调节的功能即可。

在使用喷涂设备进行喷涂的过程中，首先，如图6所示，喷头1从待喷涂基板的一端开始移动，匀速移动至待喷涂基板的另一端，然后，第一调节部分3使喷头1发生转动，从而使喷头1与待喷涂基板之间夹角5固定，最后，如图7所示，喷头1再以同样的速度返回，实现一次往返喷涂过程。

进一步地，第一调节部分3和连接装置2可以为两个单独的结构，也可以使用同时具有第一调节部分3和连接装置2的功能的一个结构，本发明优选第一调节部分3和连接装置2为两个单独的结构。

此外，第二调节部分4调节喷头喷出的喷涂物质的流量。优选地，第二调节部分4包括：储存箱41，储存箱41用于储存喷涂物质；管路42，管路42用于将储存箱41和喷头1连接起来，从而将储存箱41中的喷涂物质输入到喷头1中；泵43，泵43用于对储存箱41施加压力，使储存箱41中的喷涂物质沿管路42进入喷头1中，并喷涂至待喷涂基板上。

进一步地，如图2所示，该喷涂设备还可以包括驱动装置6，驱动装置6驱动连接装置2，使得连接装置2带动喷头1移动，示例性地，连接装置2可以带动喷头1沿垂直于喷头1的延伸方向来回移动。进一步地，可以使驱动装置6驱动喷头1的一端的连接装置2，从而带动整个喷头1移动，也可以使驱动装置6驱动喷头1的两端使喷头1移动。示例性地，驱动装置6可以包括履带、马达或者导轨等结构。

需要说明的是，可以采取使用驱动装置6带动喷头1移动的方式使喷头1相对于待喷涂基板发生移动，还可以采取使用马达、传动轮等带动待喷涂基板发生移动的方式使待喷涂基板相对于喷头1发生移动，还可以采用喷头1和待喷涂基板同时移动的方式使喷头1相对于待喷涂基板发生移动。本发明优选使用驱动装置6带动喷头1移动的方式使喷头1相对于待喷涂基板发生移动。

以上所述的喷涂设备可以用于液体、气体、胶体以及粉末等多种形态的物质的喷涂，并且可以应用于电子、机械、汽车等多个领域。示例性地，当该喷涂设备可以应用于液晶显示器中的阵列基板的制作过程中，具体可以应用在金属线制作时的湿法刻蚀过程中。在湿法刻蚀过程中，应用本发明实施例中的喷涂设备向阵列基板上喷涂用于刻蚀的化学品，在阵列基板上不会形成化学品聚集区，刻蚀均匀，提高了阵列基板的良品率。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims

1.一种喷涂设备，包括连接装置和喷头，其中所述喷头包括喷涂部分，其特征在于，

所述喷涂部分为梯形体结构，包括相连通的第一开口和第二开口，所述第一开口的尺寸大于所述第二开口的尺寸，所述第一开口位于所述喷涂部分的第一面，所述第二开口位于所述喷涂部分的第二面，所述第一面和所述第二面平行，所述第二开口的长度大于或等于待喷涂基板沿所述第二开口的长度方向上的最大尺寸；

所述喷头与所述连接装置相连，并且所述喷头在所述连接装置的带动下移动；

所述喷头设备包括第一调节部分，所述第一调节部分调节所述喷头与所述待喷涂基板的夹角。

2.根据权利要求1所述的喷涂设备，其特征在于，所述喷头还包括：

3.根据权利要求2所述的喷涂设备，其特征在于，所述喷头还包括：

4.根据权利要求3所述的喷涂设备，其特征在于，还包括：

5.根据权利要求4所述的喷涂设备，其特征在于，所述第一调节部分包括伺服马达和与所述喷头连接的转动轴，所述伺服马达通过所述转动轴调节所述喷头与所述待喷涂基板的夹角。

6.根据权利要求5所述的喷涂设备，其特征在于，还包括：

驱动装置，所述驱动装置驱动所述连接装置移动。

7.根据权利要求6所述的喷涂设备，其特征在于，所述驱动装置包括履带、马达或者导轨。