CN102343317A - 液处理装置及喷嘴的启动加注处理方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种在喷嘴的启动加注处理中,缩短辊子绕涂药液的绕涂距离以及减少绕涂量,辊子的清洗也简单易行的方法。在沿着辊子(23)的长度方向的正上方,使喷嘴(10)的狭缝状喷出口对峙的状态下,从上述喷嘴向上述辊子喷出药液R,然后实施药液介于上述喷嘴和辊子的间隙之间的液粘附步骤。然后,实施将向上述辊子(23)上喷出的药液R暂时向喷嘴一侧吸引的回吸步骤。通过实施上述回吸步骤,能够缩短辊子绕涂药液的绕涂距离,所以,在一个辊子中,能够增加能够用于启动加注处理的次数。
Description
技术领域
本发明涉及对被处理基板涂布处理液的液处理装置以及搭载于该液处理装置的喷嘴的启动加注(priming)处理方法。
背景技术
例如,在LCD的制造领域中,实施有选择地将形成于LCD基板上的半导体层、绝缘体层、电极层等蚀刻成规定图形的工序。在此情况下,应用所谓光刻技术,即在上述LCD基板上涂布抗蚀剂液来形成抗蚀膜,与电路图案对应使抗蚀膜曝光,对其进行显像处理。
在上述LCD基板上涂布抗蚀剂液的情况下,有一种方法是,采用将感光性树脂溶解于溶剂中而成的抗蚀剂液成带状喷出的抗蚀剂供给喷嘴,使方形的LCD基板沿着与上述喷嘴的长度方向正交的方向相对地移动来涂布。
在此情况下,在上述抗蚀剂供给喷嘴中配备有沿着LCD基板的宽度方向延伸的具有微小间隔的狭缝状的喷出开口,将从该狭缝状的喷出开口成带状(线状)喷出的抗蚀剂液供给基板的整个表面,形成抗蚀层。
对于用于上述液处理装置中的抗蚀剂供给喷嘴,在向基板上即刻涂布抗蚀剂液之前,实施在喷嘴的喷出口均匀地粘附抗蚀剂液的启动加注处理。
即,使能够旋转的启动加注辊的正上方与喷嘴的喷出口对峙,从喷嘴喷出口朝着辊子喷出抗蚀剂液。使辊子旋转来绕涂上述抗蚀剂液,于是,调整喷嘴喷出口中的抗蚀剂液的粘附状态,能够稳定喷嘴喷出口中的抗蚀剂液的喷出状态。
对于上述启动加注处理方法及其装置,有几个技术方案,例如在以下的专利文献1中公开。
先行技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2007-237046号公报
然而,对于启动加注处理,如前上述,伴随在启动加注辊的正上方,实施从喷嘴向辊子上喷出作为处理液(药液)的抗蚀剂液的操作,向辊子上喷出的抗蚀剂液通过辊子的旋转被绕涂。
图9表示现有技术的启动加注处理的示意图,表示喷嘴10与启动加注辊23的正上方对峙,用在与辊子及喷嘴的长度方向正交的方向切断时的截面图表示实施启动加注处理的情况。
图9(A)表示,从喷嘴10向停止旋转中的辊子23的顶部中央喷出预先确定的量的抗蚀剂液R,抗蚀剂液R介于喷嘴10的顶端和辊子23之间的间隙中,抗蚀剂液R粘附在辊子23上的状态(着液状态)。
在此状态下,如图9(B)所示,处于数秒左右的停止状态(待机状态),在此期间,抗蚀剂液R扩散至喷嘴10的整个喷出口。
接着,在图9(C)中,如箭头a所示,辊子23被顺时针旋转驱动,辊子23以绕涂从喷嘴10喷出的抗蚀剂液R的方式操作。根据上述辊子23绕涂抗蚀剂液R的绕涂操作,药液介于喷嘴和辊子之间的状态被解除,如图9(D)所示,抗蚀剂液R从喷嘴10的顶端变成中断状态(断液状态)。
这样,调整粘附在喷嘴10顶端的抗蚀剂液的量使其在整体上变得均匀,启动加注处理结束。
发明内容
发明要解决的课题
在上述的启动加注处理方法中,从喷嘴10喷出规定量的抗蚀剂液,并用辊子23将其绕涂,所以,辊子23上的抗蚀剂液的绕涂距离相应地变长。因此,即使改变辊子的表面位置,实施下一个启动加注处理,也不能增加启动加注处理的实施次数。
图9(A)所示的抗蚀剂液R的粘附部位的抗蚀剂液的量变得最多,随着辊子的旋转,液体滴下并卷绕在辊子上,难以确保下一个启动加注处理中的辊子上的液体的喷出部位。
因此,清洗处理启动加注辊子的频率增加,且大量的抗蚀剂液粘附在辊子上,因此,不仅浪费清洗液,而且也浪费启动加注处理的抗蚀剂液R。
为了解决前述问题,可以考虑预先进行调整来减少启动加注处理中的抗蚀剂液的喷出量,但是,在仅仅减少液体的喷出量的情况下,在狭缝喷嘴的整个长度方向上无法一样地喷出液体,结果是,无法一样地调整喷嘴的喷出口中的抗蚀剂液的粘附状态。
即,在上述启动加注处理中,在其初期需要扩散液体的作用,以使抗蚀剂液在辊子上的长度方向一样地着液,因此,特别是在上述的着液工序中,需要从喷嘴喷出一定程度的液量。
本发明就是为了解决前述现有技术中的诸多问题,其目的在于,提供一种液处理装置及喷嘴的启动加注处理方法,在配备在基板的宽度方向具有长的狭缝状喷出口的喷嘴的液处理装置中,不仅能够减少启动加注辊上的作为处理液(药液)的抗蚀剂液的绕涂距离及绕涂量,也能够使启动加注辊的清洗变得容易。
对于解决上述课题而产生的本发明的液处理装置,具有:从喷出口喷出药液的长条状的喷嘴和使上述基板相对于上述喷嘴相对移动的相对移动单元,该液处理装置的特征在于,包括:配置于上述液处理装置的局部、向上述基板涂布药液的用于液处理准备的启动加注辊;能够使上述喷嘴的喷出口与上述启动加注辊的正上方对峙的喷嘴移动机构;和配置于向上述喷嘴供给药液的药液供给路径中,且能够将从上述喷嘴喷出的药液暂时吸引的减压单元,构成为:利用上述喷嘴移动机构,沿着上述启动加注辊的长度方向的正上方使上述喷嘴的喷出口与其对峙,实施向上述启动加注辊上喷出药液的启动加注处理,在此状态下,利用上述减压单元,能够实施将喷出在启动加注辊上的药液暂时吸引在喷嘴一侧的操作。
对于解决上述课题而产生的本发明的启动加注处理方法,是液处理装置的启动加注处理方法,其特征在于,具有从喷出口喷出药液的长条状的喷嘴和使上述基板相对于上述喷嘴相对移动的相对移动单元,该启动加注处理方法包括:在沿着启动加注辊的长度方向的正上方使上述喷嘴的喷出口与其对峙的状态下,将药液从上述喷嘴喷出至上述辊子,使药液介于上述喷嘴与辊子之间的间隙中的着液步骤;将喷出在上述启动加注辊上的药液暂时吸引在喷嘴一侧的回吸步骤;和通过使上述启动加注辊旋转驱动,将介于上述间隙中的药液绕涂在辊子一侧,解除药液介于喷嘴和辊子之间的状态,使其成断液状态的绕涂步骤。
在根据上述液处理装置及喷嘴的启动加注处理方法,从喷嘴向启动加注辊上喷出药液然后实施启动加注处理的状态下,从喷嘴喷出预先确定了量的抗蚀剂液,形成药液介于喷嘴和辊子的间隙间的着液状态。之后,实施将喷出在上述启动加注辊上的药液暂时吸引在喷嘴一侧的回吸步骤。
于是,在最初的步骤的着液状态下,能够从喷嘴喷出预先确定了量的抗蚀剂液,所以,抗蚀剂液扩散至喷嘴的整个喷出口,能够顺利地进行其后的启动加注处理。
之后,由于实施了上述回吸操作,所以,这次将要扩散至辊子上的剩余抗蚀剂液被暂时回收,能够减少启动加注辊上的抗蚀剂液的绕涂距离和绕涂量。
因此,由于在启动加注处理中粘附在辊子上的抗蚀剂液的粘附量减少,因此,不仅能够使辊子的清洗变得容易,也能够控制辊子的清洗液及由于启动加注处理的抗蚀剂液的浪费。
而且,也能够缩短辊子绕涂抗蚀剂液的绕涂距离,所以,在一个辊子中,能够增加可用于启动加注处理的次数。这样,也能获得以下效果:能够减少辊子的清洗频率,或者也能够使用小径的辊子等。
发明的效果
根据本发明,能够提供一种液处理装置及喷嘴的启动加注处理方法,在配备在基板的宽度方向上具有长的狭缝状的喷出口的喷嘴的液处理装置中,能够减少启动加注辊上的处理液的绕涂距离和绕涂量,所以,也能使启动加注辊的清洗变得容易。
附图说明
图1是表示本发明的液处理装置的整体结构的俯视图。
图2是表示搭载于图1所示的液处理装置中的喷嘴形态的纵截面图。
图3是从图2的A-A线沿着箭头方向看到的喷嘴的放大截面图。
图4是表示搭载于图1所示的液处理装置中的回吸阀的例子的截面图。
图5是表示在图1所示的液处理装置中所实施的启动加注处理的第一例子的示意图。
图6是表示该启动加注处理的第2例子的示意图。
图7是表示该启动加注处理的第3例子的示意图。
图8是表示该启动加注处理的第4例子的示意图。
图9是表示现有的一例启动加注处理的示意图。
图10是在第二实施方式中所实施的启动加注处理的说明图。
图11是在第三实施方式中所实施的启动加注处理的说明图。
符号说明
1 液处理装置
10 喷嘴
14 喷出口
23 辊子(启动加注辊)
42、43 泵
46 减压单元(回吸阀)
47 药液供给路径
G 被处理基板
具体实施方式
下面,根据附图,对本发明的液处理装置及喷嘴的启动加注处理方法进行说明。根据在一边上升搬运作为被处理基板的玻璃基板一边在上述基板上形成抗蚀剂液的涂布膜的单元中应用本发明的液处理装置的例子,对图1所示的实施方式进行说明。
如图1所示,液处理装置1包括:单片式一片一片地上升搬运玻璃基板G的上浮搬运部2A、和从上述上浮搬运部2A接受基板G并将其滚轮搬运的滚轮搬运部2B,构成所谓的平流式搬运基板G的方式。在上述上浮搬运部2A中设有在作为基板的搬运方向的X方向延长的上浮台3。
在上浮台3的上面,如图所示,多个气体喷出口3a和气体吸入口3b在X方向和Y方向按照一定间隔交替设置,通过将来自气体喷出口3a的惰性气体的喷出量和来自气体吸入口3b的吸气量的压力负荷固定,使玻璃基板G上升。
在本实施方式中,因气体的喷出及吸入而使基板G上升,但是并非局限于此,也可以仅采用气体喷出的结构来使基板上升。
在上述滚轮搬运部2B中,在上浮台3的后段并列地设有被滚轮驱动部4所旋转驱动的多根滚轴4a。在各个滚轴4a上安装有多个搬运滚轮4b,利用这些搬运滚轮4b的旋转来搬运基板G。
在上述上浮台3的宽度方向(Y方向)的左右一侧,配置有在X方向平行地延伸的一对导轨5。在这一对导轨5上设有将玻璃基板G的四角边部从下方吸附保持并在导轨5上移动的四个基板载体6。这些基板载体6使上升至上浮台3上的玻璃基板G沿着搬运方向(X方向)移动。
为了顺利地从上述上浮搬运部2A向滚轮搬运部2B交接基板,导轨5不仅延伸至上述上浮台3的左右一侧,也延伸至滚轮搬运部2B的一侧。上述基板载体6对基板G的保持及搬运操作被由计算机构成的控制部30所控制。
如图1所示,在液处理装置1的上浮台3上设有向玻璃基板G喷出抗蚀剂液的喷嘴10。上述喷嘴10形成朝着Y方向的长的呈大致长方体形的形状,形成比玻璃基板G的Y方向上的宽度长,将在后面根据图2及图3说明其详细情况。
在图1所示的结构中,在喷嘴10的下方和上浮台3之间,在X方向搬运玻璃基板G。即,导轨5及基板载体6构成使基板G朝着喷嘴10相对地移动的相对移动单元。
如图1所示,在喷嘴10的两个外侧配置有在X方向延伸的一对导轨21。上述喷嘴10通过在导轨21上移动的喷嘴臂22被保持。利用喷嘴臂22所具有的驱动机构,喷嘴10能够沿着导轨21向X方向移动。而且,在上述喷嘴臂22还设有升降机构,这样,喷嘴10就能升降至规定的高度。
根据该结构,上述喷嘴10能够在向玻璃基板G喷出抗蚀剂液的喷出位置、和与其相比位于上流一侧的辊子23及待机部25之间移动。
喷嘴臂22的上述驱动机构及升降机构被由计算机形成的上述控制部30控制,构成使上述喷嘴10在对基板G涂布抗蚀剂液的位置、和固定配置于上述基板G的搬运区域的上部的上述辊子23及待机部25的位置之间移动的喷嘴移动机构。
上述辊子23被用于在使抗蚀剂液均匀地粘附在喷嘴10的后述喷出口14的启动加注处理中。该辊子23以能够绕轴旋转的方式被收纳在清洗罐24内,并且根据上述控制部30的指令,接受来自未图示的驱动源的动力并被旋转控制。
在上述喷嘴10的启动加注处理时,使喷嘴10的喷出口14与辊子23的正上方对峙,一边旋转辊子23,一边从喷出口14向辊子23喷出抗蚀剂液。这样,调整喷出口14中的抗蚀剂液的粘附状态,能够稳定喷出口14中的抗蚀剂液的喷出状态。
在上述待机部25中还包括:清除粘附在上述喷嘴10的喷出口14的多余的抗蚀剂液的喷嘴清洗部25a、以及利用喷嘴10来进行所谓的虚拟喷出的虚拟实施部25b。
在上述液处理装置1中,作为其他的附带设置具备抗蚀剂液的供给源40、清洗液的供给源41,在它们和上述喷嘴10之间,通过泵及三向阀等供给药液。
即,在抗蚀剂液供给源(在图1中,表示为抗蚀剂供给源)40中配备有送出泵42,能够从抗蚀剂液供给源40通过送出泵42、三向阀44、具有减压单元功能的回吸阀46、药液供给路径47,向喷嘴10供给抗蚀剂液。
在清洗液供给源41中储存用来清洗喷嘴10内的冲淡剂,能够将该清洗液通过送出泵43、三向阀44、药液供给管线47等供给喷嘴10。
上述送出泵42、43、三向阀44以及回吸阀46被由计算机构成的上述控制部30控制其操作。
图2及图3表示搭载于图1所示的液处理装置1中的狭缝喷嘴10的结构。即,图2是沿着喷嘴的狭缝部分截断时的纵截面图,图3是从图2中的A-A线在箭头方向上所看到的状态的放大截面图。
该狭缝喷嘴10采用形成长条状的第1和第2喷嘴零件11、12隔着规定的间隙对峙的结构。
在第1和第2喷嘴零件11、12中的至少一个上,即在图中所示的方式中,在第1喷嘴零件11的内侧面的大致中央部,沿着长度方向形成半圆柱形的空腔13,它构成喷嘴10的空腔。在喷嘴10的中央的上端部,按照与上述空腔13连通的方式安装有药液导入部15。
在上述结构的喷嘴10中,从形成于其长度方向的中央的药液导入部15导入上述抗蚀剂液,抗蚀剂液通过空腔13在喷嘴的长度方向流动,并且在喷嘴10的下端部,从形成狭缝状的喷出口14呈带状(线状)喷出抗蚀剂液。
下面,图4表示搭载于图1所示的液处理装置1中,且配置于泵42、43和喷嘴10之间的药液供给路径47中的回吸阀46的例子。它由以下部件构成:气缸46a、在该气缸46a内上下运动的阀46b、支承阀46b的活塞杆46c、使上述活塞杆46c上下移动的传动器(actuator)46d、以及盘簧46e。
在上述结构中,传动器46d接受来自图1所示的控制部30的指令然后操作,于是,活塞杆46c在图的上方移动,与此同时,阀46b也向该同一方向移动。因此,阀46b的正下方的空间容积46f暂时扩大,连接有回吸阀46的上述药液供给路径47内被减压。
另一方面,如果上述传动器46d变成非动作状态,那么,利用上述弹簧46e,阀46b的位置返回初始状态。
根据图5~图8所示的各个例子,对以上说明的图1~图4所示的液处理装置1所进行的喷嘴10的启动加注处理方法进行说明。图5~图8所示的各个例子表示沿着与辊子23及喷嘴10的长度方向正交的方向切割时的截面图,用与已经说明的表示现有的启动加注处理方法的图9相同的截面图表示。
图5表示本发明的启动加注处理方法的第1个例子。首先,在喷嘴10的起动操作中,按照图1所说明的那样,利用包括喷嘴臂22的上述喷嘴移动机构,喷嘴10的狭缝状喷出口14沿着上述辊子23的长度方向的正上方以对峙的方式移动。
图5(A)表示启动加注处理初期所进行的着液步骤,利用喷嘴10向停止旋转中的辊子23的顶部中央喷出预先确定喷出量的抗蚀剂液R。这样,抗蚀剂液R就会着液在辊子23上,呈抗蚀剂液R介于喷嘴10的顶端和辊子23之间的间隙的状态。
根据实施该步骤,抗蚀剂液R在辊子23上扩散,同时扩散至喷嘴10的整个狭缝状喷出口14。
图5(B)表示回吸步骤,它利用用作减压单元的上述回吸阀46的功能。这样,被喷射在辊子23上的抗蚀剂液R被暂时吸引在喷嘴10一侧。
接着,图5(C)表示药液(抗蚀剂液R)的绕涂步骤的初期状态,此处,上述辊子23沿着图中的箭头a方向、即沿着顺时针方向旋转驱动,这样,辊子23将介于它和喷嘴10之间的间隙的抗蚀剂液R向辊子23一侧绕涂。
图5(D)表示上述绕涂步骤的最终状态,在该图所示的例子中,介于上述间隙中的药液(抗蚀剂液R)被绕涂在辊子23一侧,介于喷嘴和辊子之间的状态被解除,药液变成从喷嘴10的顶端中断的状态(断液状态)。
在上述断液状态下,粘附在喷嘴10的顶端的抗蚀剂液的量被调整成在其长度方向上大致均匀。在此时刻,辊子23的旋转驱动停止,启动加注处理结束。
图5所示的例子是包括回吸步骤的本发明的启动加注处理方法的最基本的动作,能够获得在解决上述课题的方法一栏中所记载的独创的作用效果。
在上述启动加注处理方法中,在图5(B)所示的回吸步骤中,在辊子23的旋转处于停止状态下,吸引着液在辊子上的药液,然后开始绕涂步骤。
但是,在实施回吸步骤的过程中,即使开始上述绕涂步骤,这也能够得到同样的效果。
图6表示启动加注处理方法的第2个例子。该例子作为绕涂步骤,继启动加注辊的向一个方向的旋转动作后,接着实施启动加注辊向相反方向的旋转动作。
即,图6(A)表示着液步骤,这与已经说明的图5(A)所示的着液步骤的例子同样。
接着,图6(B)表示回吸步骤,在该例子中,与药液的回吸动作同时,辊子23向一个方向、即箭头a方向旋转驱动。
接着,如图6(C)所示,辊子23向其他方向、即箭头b方向旋转驱动。此时,在图6(C)所示的例子中,药液的回吸动作停止,但是,在该图6(C)所示的状态下,也可以继续回吸动作。
图6(D)表示药液被绕涂在辊子23一侧而变成断液状态的例子,表示根据上述回吸动作以及辊子23的正反旋转的作用,在较短的辊子上的旋转方向的距离中变成断液状态,进行正常的启动加注处理。
图7表示启动加注处理方法的第3个例子。该例子是为了加快在绕涂步骤的最后所进行的断液状态而设计的。
即,图7中的(A)~(C)的作用与已经说明的图5(A)~(C)相同。
图7(D)表示成断液状态时的情况,在绕涂步骤结束时,将上述辊子23的旋转速度与箭头a所示的旋转速度相加,如箭头c所示使其加速,从而促进断液状态。通过实施这样的操作,能够在辊子上的较短的旋转方向的距离中形成断液状态。
为了使其促进断液状态,如图7(D)中的箭头d所示,在水平方向移动喷嘴10,实施将上述喷嘴10和辊子23的水平方向的距离暂时分离的操作,这种方式也很有效。
在图7(D)所示的例子中,通过利用上述喷嘴移动机构使喷嘴10沿着图1所示的X方向移动,就能够实现,根据该操作,也能够在辊子上的较短的旋转方向的距离中变成断液状态。
如图7(D)中的箭头d所示,并不使喷嘴10沿着水平方向移动,而是使启动加注辊23沿着水平方向相对地移动,也能获得同样的作用效果。如图7(D)所示,如果同时使用如箭头c所示来加速辊子23的旋转速度的设备以及如箭头d所示来使喷嘴10沿着水平方向移动的设备,那么,就能够更有效地变成断液状态。
图8表示启动加注处理方法的第4个例子。该例子是在实施着液步骤后,实施缩小喷嘴和辊子之间间隙的操作,在实施回吸步骤后,使喷嘴和辊子之间的间隔恢复至实施上述着液步骤时的状态。
即,图8(A)表示着液步骤,这与已经说明的图5(A)所示的着液步骤的例子同样。
接着,图8(B)表示回吸步骤,在该例子中,与药液的回吸操作同样,喷嘴10沿着箭头e方向下降,辊子23和喷嘴10之间的间隙变窄。
在实施回吸步骤后,如图8(C)所示,喷嘴10沿着箭头f方向上升,辊子23和喷嘴10之间的间隙返回实施上述着液步骤时的状态。
根据上述操作,辊子和喷嘴之间的间隙暂时变窄,所以,药液的喷出量少,同时,能够在辊子上的较短的旋转方向的距离中变成断液状态。
而且,在变成图8(D)所示的断液状态的情况下,将辊子23的旋转速度与箭头a所示的旋转速度相加,然后如箭头c所示使其加速,这样就能有效地变成断液状态。
在以上所说明的实施方式中,作为实施药液的回吸操作的减压单元,利用了回吸阀46,但是,它也可以通过图1所示的泵42的再填装操作来进行。
下面,说明第二实施方式。与上述实施方式相同的部分省略其说明。在该实施方式中,当进行启动加注处理时,首先,使喷嘴10和辊子23的距离S1与实际在基板上涂布时液体接触时的喷嘴10和基板的距离S2大致相等(步骤1)。然后,在保持辊子23停止旋转的状态下从喷嘴10喷出抗蚀剂液(步骤2、图10(A))。
如果产生在喷嘴10和辊子23之间连接的液体积存,那么,保持连续的液体积存,使喷嘴10上升至规定的高度(图10(B))。喷嘴10上升的位置与上述实施方式的着液步骤中的位置大致相同。与喷嘴10的上升同时或者在其后,辊子23开始旋转(步骤3、图10(C))。如果使辊子23旋转,那么,从喷嘴10变成液体中断状态,启动加注处理结束(图10(D))。
如上所述,不进行回吸操作,在启动加注处理中就能够减少被涂布在辊子23上的抗蚀剂液的量。在喷嘴10和辊子23尽可能接近的状态下喷出抗蚀剂液,所以,能够减少液体积存的液量。而且,由于两者接近,所以,很容易连续地形成液体积存。当喷嘴10接近辊子23时,辊子23停止旋转,所以,即使辊子23的旋转轴偏心,喷嘴10和辊子23也不会碰撞而损坏。在辊子23上着液后使喷嘴10上升,辊子23开始旋转,所以,促进喷嘴10的断液状态。另外,由于不需要回吸操作,所以,能够缩短启动加注处理时间。
如果想进一步减少被涂布在辊子23上的抗蚀剂量,那么,也可以在上述步骤2后进行回吸操作。然后进行步骤3的操作。
下面,说明第三实施方式。与上述实施方式相同的部分省略其说明。在第三实施方式中,在进行启动加注处理的情况下,首先,将喷嘴10和辊子23配置在与图5(A)相同的位置,从喷嘴10向已停止旋转的辊子23上喷出抗蚀剂(步骤B1、图11(A))。
接着,辊子23开始旋转,抗蚀剂液被绕涂在辊子23一侧(步骤B2、图11(B))。
被辊子23绕涂的抗蚀剂长度变成规定长度后,进行回吸操作(图11(C))。于是,在启动加注处理中,能够使形成于辊子23上的抗蚀剂液的长度变成预期的长度(图11(D))。这样,能够很容易地设定在辊子23的局部表面上例如进行四次或者五次启动加注处理。
也可以部分地组合上述实施方式,并且能够减少粘附在辊子23上的抗蚀剂液的量。
喷嘴10并非局限于具有狭缝状的喷出口的狭缝喷嘴,例如形成比玻璃基板G的宽度长的长条状的喷嘴、和作为喷出口成列设置多个细微孔的喷嘴,也能获得同样的效果。
以上,根据在抗蚀剂涂布处理设备中应用本发明的液处理装置的例子进行了说明,但是,本发明的液处理装置并非局限于这种设备,也能够应用在其他的处理设备和液处理装置等中。
Claims (12)
1.一种液处理装置,其具备将药液从喷出口喷出的长条状的喷嘴,和使所述基板相对于所述喷嘴相对移动的相对移动单元,该液处理装置的特征在于,
包括:
配置于所述液处理装置的局部、用于对所述基板进行药液的液处理准备的启动加注辊;
能够使所述喷嘴的喷出口与所述启动加注辊的正上方对峙的喷嘴移动机构;
和配置于向所述喷嘴供给药液的药液供给路径中,且能够将从所述喷嘴喷出的药液暂时吸引的减压单元,其中,
通过所述喷嘴移动机构,沿所述启动加注辊的长度方向的正上方,使所述喷嘴的喷出口对峙,在实施将药液喷出在所述启动加注辊上的启动加注处理的状态下,通过所述减压单元,能够实施将喷出在启动加注辊上的药液暂时吸引在喷嘴一侧的操作。
2.如权利要求1所述的液处理装置,其特征在于:
所述减压单元是设置在所述喷嘴与从该喷嘴将药液喷出的泵之间的药液供给路径中的能够暂时扩大空间容积的回吸阀。
3.一种液处理装置,其具备将药液从喷出口喷出的长条状的喷嘴,和使所述基板相对于所述喷嘴相对移动的相对移动单元,该液处理装置的特征在于,
包括:
配置于所述液处理装置的局部,用于对所述基板进行药液的液处理准备的启动加注辊;
能够使所述喷嘴的喷出口与所述启动加注辊的正上方对峙的喷嘴移动机构;和
对所述喷嘴移动机构的操作和药液的喷出操作进行控制的控制部,其中,
所述控制部进行以下控制:通过所述喷嘴移动机构,沿所述启动加注辊的长度方向的正上方,使所述喷嘴的喷出口对峙,将药液喷出在所述启动加注辊上,之后,一边在所述喷嘴与所述启动加注辊之间维持连续的积液,一边使所述喷嘴上升至规定高度后停止,之后,使所述启动加注辊旋转来进行所述喷嘴的断液。
4.一种启动加注处理方法,其是液处理装置中的喷嘴的启动加注处理方法,其特征在于:
具备将药液从喷出口喷出的长条状的喷嘴,和使所述基板相对于所述喷嘴相对移动的相对移动单元,
所述启动加注处理方法包括:在沿启动加注辊的长度方向的正上方,在使所述喷嘴的喷出口对峙的状态下,通过所述喷嘴将药液喷出在所述启动加注辊上,使药液介于所述喷嘴与所述启动加注辊之间的间隙的着液步骤;
将喷出在所述启动加注辊上的药液暂时吸引在喷嘴一侧的回吸步骤;和
通过旋转驱动所述启动加注辊,将介于所述间隙中的药液绕涂在所述启动加注辊一侧,解除药液介于喷嘴和启动加注辊之间的状态,使其成为断液状态的绕涂步骤。
5.如权利要求4所述的启动加注处理方法,其特征在于:
在所述回吸步骤的实行中,开始所述绕涂步骤。
6.如权利要求4所述的启动加注处理方法,其特征在于:
在所述绕涂步骤中,在继所述启动加注辊向一个方向的旋转动作后,实施启动加注辊的逆向旋转操作,至少在所述启动加注辊的向一个方向的旋转操作过程中,实施所述回吸步骤。
7.如权利要求4所述的启动加注处理方法,其特征在于:
在所述绕涂步骤结束时,使所述启动加注辊的旋转速度加快,形成所述断液状态。
8.如权利要求4所述的启动加注处理方法,其特征在于:
在所述绕涂步骤结束时,通过将所述喷嘴与所述启动加注辊的水平方向的距离离开的操作而成为所述断液状态。
9.如权利要求4所述的启动加注处理方法,其特征在于:
在所述着液步骤实施后,实施将所述喷嘴与所述启动加注辊之间的间隙缩小的操作,在所述回吸步骤实施后,使所述喷嘴与所述启动加注辊之间的间隙恢复至所述着液步骤实施时的状态,开始所述绕涂步骤。
10.如权利要求9所述的启动加注处理方法,其特征在于:
在所述绕涂步骤结束时,通过加快所述启动加注辊的旋转速度,成为所述断液状态。
11.一种启动加注处理方法,其是液处理装置中的喷嘴的启动加注处理方法,其特征在于:
具备将药液从喷出口喷出的长条状的喷嘴,和使所述基板相对于所述喷嘴相对移动的相对移动单元,
所述启动加注处理方法包括:
沿启动加注辊的长度方向的正上方使所述喷出口对峙的工序;
之后将药液从所述喷出口喷出的工序;
之后停止从所述喷出口喷出药液,使所述喷嘴上升至规定高度的工序;和
之后,一边使停止的所述启动加注辊旋转一边进行所述喷嘴的断液的工序。
12.如权利要求11所述的启动加注处理方法,其特征在于:
在使所述喷出口对峙的工序中,所述喷出口和所述启动加注辊之间的距离与对基板实际涂布时的所述喷出口和基板之间的距离相同。
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