CN103680534A - 多层光记录介质制造用片材、多层光记录介质以及粘合剂 - Google Patents

多层光记录介质制造用片材、多层光记录介质以及粘合剂 Download PDF

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Abstract

多层光记录介质制造用片材1，其用于制造将光记录层11与粘合剂层12层叠而成的多层光记录介质10，由光记录层11与粘合剂层12层叠而成；粘合剂层12由以聚合物作为主成分的粘合剂构成，所述聚合物含有含氟单体和／或含硅单体作为构成单体成分，并且粘合剂层12不具有区域结构，或者具有区域的大小为110nm以下的区域结构；将聚合物中作为构成单体成分的单体总量设为100质量％时，含氟单体以及含硅单体的合计含量为10～100质量％。利用该多层光记录介质制造用片材1，在光记录层11与粘合剂层12的界面，可以检出充分强度的反射光，并且可以制造在粘合剂层12的散射光少，杂讯少的多层光记录介质。

Description

多层光记录介质制造用片材、多层光记录介质以及粘合剂
技术领域
本发明关于层叠光记录层和粘合剂层而成的多层光记录介质以及其制造中可以使用的多层光记录介质制造用片材及粘合剂。
背景技术
近年，为实现光记录介质中记录信息的高密度化，提出了利用多光子吸收性材料的多层光记录介质。为了降低在这种多层光记录介质中的串扰(cross talk)，提出了在光记录层与光记录层之间设置非光记录层的结构(例如，参照专利文献1及专利文献2)。并且，在这种结构的多层光记录介质中，研究探讨了通过照射记录光而使光记录层的形状改变，光记录层相对于中间层形成凸结构，由此将信息记录于光记录层的方法(参照专利文献3)。
为了制造如上所述结构的多层光记录介质，通常采用利用旋涂法来形成各层，进行层叠的方法。不过，此法有多层光记录介质难于大面积化，材料受到限制等的问题。
为了解决上述问题，提出使用压敏粘合性片材(pressure-sensitive adhesive sheet)制造多层光记录介质的方法，这种压敏粘合性片材通过将含有感光材料的光记录层和粘合剂层进行层叠而形成(参照专利文献4)。通过使用这种压敏粘合性片材的制造方法，可以容易且大面积地制造多层光记录介质。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：特开平11-250496号公报
专利文献2：特开2000-67464号公报
专利文献3：特开2012-89195号公报
专利文献4：特开2005-209328号公报
发明内容
本发明要解决的课题
在以往的多层记录介质中，通过利用溅射等设置反射层，利用在反射层界面的反射光进行各层的检出。近年，有研究进行了如下的探讨：在上述那样的多层记录介质中，通过利用来自光记录层与粘合剂层的界面的反射光检出各层界面，从光记录层进行信息的读取。
像这样在利用来自光记录层与粘合剂层的界面的反射光的情况下，与设置反射层的情况相比，必须检出强度弱的反射光。以往的粘合剂层折射率比较高，与光记录层的折射率差小，因此存在难于得到检出所必需强度的反射光的问题。而且，由于粘合剂层的相分离状态，散射光多，其散射光成为检出反射光时的杂讯(noise)，有发生反射光检出不良的时候。
本发明是鉴于上述情况而进行的，本发明的目的是提供能够在光记录层与粘合剂层的界面检出充分强度的反射光，而且在粘合剂层的散射光少，杂讯少的多层光记录介质，以及可以用于制造该多层光记录介质的多层光记录介质制造用片材及粘合剂。
用于解决课题的方法
上述本发明的目的，可以用如下发明达成：第一，本发明提供多层光记录介质制造用片材，其是用于制造层叠光记录层和粘合剂层而成的多层光记录介质的多层光记录介质制造用片材，其特征在于：由光记录层和粘合剂层叠层而成；所述粘合剂层由以聚合物作为主成分的粘合剂构成，所述聚合物含有含氟单体和／或含硅单体作为构成单体成分，并且所述粘合剂层不具有区域结构(domain structure)，或者具有区域(domain)的大小为110nm以下的区域结构；将上述聚合物中作为构成单体成分的单体总量设为100质量％时，上述含氟单体以及上述含硅单体的合计含量为10～100质量％(发明1)。
上述发明(发明1)中的粘合剂层的折射率低，与光记录层的折射率差大，因此在光记录层与粘合剂层的界面，能够得到检出所必需的充分强度的反射光。而且上述发明(发明1)中的粘合剂层，散射光少，因此在光记录层与粘合剂层的界面检出反射光时的杂讯少，可以抑制反射光检出不良的发生。
上述发明(发明1)中，所述含氟单体优选为含氟丙烯酸类单体，所述含硅单体优选为含硅丙烯酸类单体(发明2)。
上述发明(发明1，2)中，所述聚合物优选含有具有官能团的丙烯酸类单体作为构成单体成分(发明3)。
上述发明(发明1～3)中，所述聚合物优选用交联剂交联(发明4)。
上述发明(发明4)中，所述交联剂优选为选自由金属类交联剂、环氧类交联剂以及氮丙啶类交联剂所构成的组中的至少一种(发明5)。
上述发明(发明1～5)中，所述粘合剂层优选折射率为1.45以下(发明6)。
上述发明(发明1～6)中，所述光记录层优选含有光子吸收性材料(发明7)。
第二，本发明提供多层光记录介质，其特征在于：使用所述多层光记录介质制造用片材(发明1～7)而得到(发明8)。
第三，本发明提供多层光记录介质，其特征在于：将光记录层与粘合剂层叠层而成；所述粘合剂层由以聚合物作为主成分的粘合剂构成，所述聚合物含有含氟单体和／或含硅单体作为构成单体成分，并且所述粘合剂层不具有区域结构(domain structure)，或者具有区域(domain)的大小为110nm以下的区域结构；将所述聚合物中作为构成单体成分的单体总量设为100质量％时，所述含氟单体以及所述含硅单体的合计含量为10～100质量％(发明9)。
上述发明(发明8，9)所述的多层光记录介质，如果向所述多层光记录介质照射记录光，则可在所述光记录层与所述粘合剂层的界面，在所述光记录层形成凸部，在与形成了所述凸部的部分相接的所述粘合剂层形成凹部(发明10)。
第四，本发明提供粘合剂，其以聚合物作为主成分，所述聚合物含有含氟单体和／或含硅单体作为构成单体成分，其特征在于：将所述共聚物中作为构成单体成分的单体总量设为100质量％时，所述含氟单体以及所述含硅单体的合计含量为10～100质量％；所述粘合剂不具有区域结构(domain structure)，或者具有区域(domain)的大小为110nm以下的区域结构；将所述粘合剂制成厚度为10μm的粘合剂层时的折射率为1.45以下(发明11)。
发明效果
根据本发明，在光记录层与粘合剂层的界面能够检出充分强度的反射光，而且在粘合剂层中散射光少，可以得到检出反射光时的杂讯少的多层光记录介质。
附图说明
图1为本发明的一个实施方式所涉及的多层光记录介质制造用片材的截面图。
图2为本发明的一个实施方式所涉及的多层光记录介质的截面图。
图3为实施例3中粘合剂层的由SPM所得到的DFM相位像的照片。
图4为实施例14中粘合剂层的由SPM所得到的DFM相位像的照片。
图5为比较例4中粘合剂层的由SPM所得到的DFM相位像的照片。
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式进行说明。
在由本实施方式所提供的多层光记录介质中，利用记录材料的光子吸收进行记录。所谓光子吸收是指化合物吸收光子而被激发的现象。
〔光记录介质制造用片材〕
图1为本发明的一个实施方式涉及的多层光记录介质制造用片材的截面图。本实施方式涉及的多层光记录介质制造用片材1，由光记录层11、层叠于光记录层11的粘合剂层12、层叠于光记录层11的外侧表面的剥离片材13以及层叠于粘合剂层12的外侧表面的剥离片材13，构成。不过，剥离片材13、剥离片材13’，在多层光记录介质制造用片材1的使用时被剥离。多层光记录介质制造用片材1中的剥离片材13或剥离片材13’也可以没有。
〔光记录层〕
作为构成光记录层11的记录材料(光记录材料)，只要含有光子吸收性材料即可，可从所知的现有光记录介质中的光记录层的构成材料中适当地选择任意的材料使用。作为光子吸收性材料，例如，可以列举出一光子吸收性材料、多光子吸收性材料。所谓多光子吸收性材料，是指具有同时吸收两个以上的光子，向激发状态跃迁的性质的化合物。多光子吸收性材料因为光子吸收仅在光强度强的位置发生，因此空间分解能提高，能够以光记录介质内部的一点为目标进行记录。其中，从实用上可得到足够的记录感度的角度而言，光记录层11优选含有多光子吸收性材料，其中优选含有二光子吸收截面积为0.1GM以上的二光子吸收性材料，特别优选含有100GM以上的二光子吸收性材料。这里，「GM」的意思是10-50cm4·s·molecule-1·photon-1。
作为如上所述的光记录材料，可列举如下：例如，光子吸收性材料单独构成的材料，由光子吸收性材料和来自被激发的光子吸收性材料的能量转移所引起变化的其他反应性化合物构成的材料，或根据需要将上述材料在基材(matrix)中配合而得的材料等。
构成上述基材的材料，既可以是无机材料也可以是有机材料，但从多层光记录介质制造用片材1制造的方便性以及材料的选择项多的观点考虑，优选有机类高分子材料。这种高分子材料既可以是均聚物，也可以是共聚物，对于其单体的种类、分子量、聚合方式等没有特别限制。
作为上述高分子材料的具体例，可列举如下：各种聚乙烯、乙烯／1-丁烯共聚物、乙烯／4-甲基-1-戊烯共聚物、乙烯／1-己烯共聚物、聚丙烯、乙烯／丙烯共聚物、丙烯／1-丁烯共聚物、聚1-丁烯、1-丁烯／4-甲基-1-戊烯共聚物、聚4-甲基-1-戊烯、聚3-甲基-1-丁烯、乙烯／环状烯烃共聚物、环状烯烃类树脂等的聚烯烃类、乙烯／醋酸乙烯酯共聚物、乙烯／丙烯酸共聚物或其金属盐、聚甲基丙烯酸甲酯、脂环式丙烯酸系树脂等的聚(甲基)丙烯酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等的聚酯类树脂、聚全氟乙烯、全氟烯基乙烯基醚聚合物等的氟系树脂、聚苯乙烯、聚乙烯醇、聚碳酸酯、聚苯硫醚、聚醚砜、聚酰亚胺、聚苯醚、烯烃／N-取代马来酰亚胺共聚物、碳酸烯丙酯树脂、环氧丙烯酸酯树脂、氨基甲酸酯丙烯酸酯树脂等。这些高分子材料既可以单独使用1种，也可以两种以上组合使用。此外，在本说明书中，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯两者。其他类似用语也相同。
另一方面，对于上述基材，光子吸收性材料可作为主链或侧链成分进行化学结合，也可以仅分散或溶解于基材之中。作为这种光子吸收性材料没有特别限制，可以使用各种化合物。作为该光子吸收性材料，可列举如下：例如，花青色素、苯乙烯基色素、吡喃
Figure BSA0000095741570000061
色素、噻喃(thiapyrylium)色素、部花青色素、亚芳基色素、氧喏(oxonol)色素、方酸色素、薁
Figure BSA0000095741570000063
系(azulenium)色素、香豆素色素、吡喃色素、醌色素、蒽醌色素、三苯基甲烷色素、二苯基甲烷色素、呫吨色素、噻吨色素、吩噻嗪色素、偶氮色素、偶氮甲碱色素、芴酮色素、二芳基乙烯色素、螺吡喃(spiropyran)色素、俘精酸酐(fulgide)色素、二萘嵌苯色素、多烯色素、二苯胺色素、喹吖啶酮色素、薁
Figure BSA0000095741570000064
色素、卟啉色素、酞菁色素、苯乙烯系色素、亚苯基亚乙烯基色素、三苯胺系色素、咔唑系色素等。
作为上述光子吸收性材料的分子量，没有特别限制，优选为600以上。当分子量在600以上时，能够抑制光子吸收性材料向粘合剂层12的转移。对于分子量的上限，没有特别限制，通常，数均分子量Mn在100,000左右。如此高分子量的光子吸收性材料，例如，可以通过让其对于前述的基材，作为主链或侧链成分进行化学结合而获得。此外，上述数均分子量Mn，是根据凝胶渗透色谱法(GPC法)测量的标准聚苯乙烯换算的值。
作为利用如上所述的光子吸收性化合物记录的方式，可以列举出：例如，读取折射率变调的方式，使用由于光而发生荧光特性变化的材料读取荧光的方式，将由于光而产生酸的材料与酸发色性色素组合，或将消色剂与消色性色素组合来读取吸收率变调或折射率变调的方式等。其中，所述读取折射率变调的方式是使用像包含偶氮基或C=C基、C=N基的化合物那样，由于光而发生异构化的材料，或像(甲基)丙烯酸酯化合物那样，由于光而发生聚合反应的材料，或像有机光致变色材料那样，由于光而发生可逆构造变化的材料，由于光而发生电荷分布的有机折射材料等的方式。在这些记录方式中，可以是光子吸收性化合物本身由于光子吸收而发生结构变化或发生反应，也可以是通过由于光子吸收而得到的激发能量从由于光子吸收而激发的光子吸收性化合物向其他化合物移动而引起结构变化或反应。
光记录层11的厚度没有特别限制，通常为0.04μm～50μm左右，优选为0.05μm～10μm。
〔粘合剂层〕
粘合剂层12由以聚合物作为主成分的粘合剂构成，所述聚合物含有含氟单体和／或含硅单体作为构成单体成分，并且所述粘合剂层不具有区域结构，或者具有区域的大小为110nm以下的区域结构。将单体成分总量设为100质量％时，所述聚合物中作为构成单体成分的含氟单体以及含硅单体的合计含量为10～100质量％。而且，上述粘合剂可以为压敏粘合剂，也可以为非压敏粘合剂，但是从多层光记录介质制造用片材1使用的简便性的观点考虑，优选为压敏粘合剂。
由上述那样的材料及结构所构成的粘合剂层12，由于折射率低，与光记录层11的折射率差大，因此在光记录层11与粘合剂层12的界面，能够得到检出所必需的充分强度的反射光。而且由上述那样的材料及结构所构成的粘合剂层12，由于散射光少，因此在光记录层11与粘合剂层12的界面，检出反射光时的杂讯少，可以抑制反射光检出不良的发生。
这里，区域是指用扫描探针显微镜(SPM)的动态力模式(DFM)观察相位像时所见的粘合剂层中的粒状或岛状的树脂成分。「不具有区域结构」是指在粘合剂层中不存在区域，全体成为一样的状态。而且，「区域的大小」是指在粘合剂层中存在的区域，即粒状或岛状的树脂成分的大小，是指该粒状部分或岛状部分的最大长度。具体而言，是把30个区域的最大长度的平均值称为「区域的大小」。通过粘合剂层12不具有区域，或具有区域的大小为110nm以下的区域结构，在粘合剂层12的内部及界面的散射光少。本实施方式所涉及的粘合剂层12中的区域的大小，从相对于向光记录层11进行记录再生的光的波长，使粘合剂层12所具有的区域的大小充分小，使散射光少的目的考虑，为110nm以下，优选为80nm以下，特别优选为50nm以下。
作为含氟单体没有特别限定，可以列举在分子内具有1个以上的聚合性不饱和基和氟原子的化合物，例如，可列出在单末端或两末端具有(甲基)丙烯酰基、乙烯基、环氧基等的化合物等。其中，优选在单末端具有(甲基)丙烯酰基者。作为此类含氟单体，可以列举如下：例如，含氟丙烯酸类单体、四氟乙烯、六氟丙烯、氯氟乙烯、偏氟乙烯、氟乙烯、全氟烷基乙烯基醚等。其中，优选含氟丙烯酸类单体。
作为含氟丙烯酸类单体，只要是含有1个以上的氟原子的丙烯酸类单体，并无限定，例如，可列举出具有烷基的一部分或全部的氢原子被氟原子取代了的碳原子数2～20的氟烷基的氟(甲基)丙烯酸酯。作为这样的含氟丙烯酸类单体，例如，可列举如下：2，2，2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、1，1，1，3，3，3-六氟异丙基(甲基)丙烯酸酯、2，2，3，3-四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、2，2，3，3，3-五氟丙基(甲基)丙烯酸酯、1，2，2，2-四氟-1-(三氟甲基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2，2，3，3，4，4，4-七氟丁基(甲基)丙烯酸酯、3，3，4，4，5，5，6，6，7，7，8，8，8-十三氟辛基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟丁基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟己基)乙基(甲基)丙烯酸酯、3-(全氟丁基)-2-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、3-全氟己基-2-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、3-(全氟-3-甲基丁基)-2-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、1H，1H，3H-四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、1H，1H，3H-六氟丁基(甲基)丙烯酸酯、1H，1H，5H-八氟戊基(甲基)丙烯酸酯、1H，1H，7H-十二氟庚基(甲基)丙烯酸酯、1H-1-(三氟甲基)三氟乙基(甲基)丙烯酸酯等。这些含氟丙烯酸类单体，既可单独使用一种，也可两种以上组合使用。
作为含硅单体没有特别限制，可列举分子内具有一个以上聚合性不饱和基的硅氧烷类化合物，例如，可列举在单末端或两末端具有(甲基)丙烯酰基、乙烯基、环氧基等的物质。作为此类单体，可以列举，例如，含硅丙烯酸类单体。
作为含硅丙烯酸类单体，优选在侧链具有含有硅原子的基团，同时具有碳原子数2～20的烷基的(甲基)丙烯酸酯。
作为含硅丙烯酸类单体，例如，可以列举2-(三甲基甲硅烷氧基)乙基(甲基)丙烯酸酯、3-〔三(三甲基甲硅烷氧基)甲硅烷基〕丙基(甲基)丙烯酸酯等。作为含硅丙烯酸单体的具体产品，可列举出Chisso公司制的Silap1ane FM系列、TM系列(产品名)(例如，FM-7711、FM7721、FM7731、FM-0711、FM-0721、FM-0725、TM-0701、TM-0701T)等。这些含硅丙烯酸类单体既可以单独使用一种，也可以将两种以上组合使用。
上述聚合物通过含有规定量的含氟单体和／或含硅单体，粘合剂层12的折射率变低，在光记录层11与粘合剂层12的界面，可以得到检出所必需的充分强度的反射光。
聚合物除了上述含氟单体和／或含硅单体以外，作为构成单体，优选含有具有能够形成交联结构的官能团的丙烯酸类单体。该具有官能团的丙烯酸类单体，因为与后述的交联剂反应结合而形成交联结构，因此粘合剂层的凝集力提高，可以防止粘合剂层的渗出。
在聚合物中具有能够形成交联结构的官能团的丙烯酸类单体的含量，当将单体成分总量设为100质量％时，优选为0.1质量％～10质量％，更优选为0.1质量％～5质量％。
作为能够形成交联结构的官能团，也根据所使用的粘合剂的种类而不同，但是通常可列举出羧基、羟基、氨基及酰胺基。其中从与光记录层的粘合性优异的观点考虑，优选羧基以及羟基。
作为上述具有官能团的丙烯酸类单体，例如，可列举(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯等(甲基)丙烯酸羟基烷基酯、(甲基)丙烯酸单甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸单乙基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸单甲基氨基丙酯、(甲基)丙烯酸单乙基氨基丙酯等(甲基)丙烯酸单烷基氨基烷基酯；丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、马来酸、衣康酸、柠康酸、琥珀酸等烯属不饱和羧酸等。
其中，作为具有官能团的丙烯酸类单体，从聚合的均一性的观点考虑，优选为丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、马来酸、衣康酸、柠康酸、琥珀酸等烯属不饱和羧酸。它们既可以单独使用，也可以两种以上组合使用。
聚合物除了上述含氟单体和／或含硅单体以外，作为构成单体，根据希望也可以含有不具有能够形成交联结构的官能团的(甲基)丙烯酸酯。
作为不具有能够形成交联结构的官能团的(甲基)丙烯酸酯，优选烷基的碳数为1～20的(甲基)丙烯酸烷基酯。作为烷基的碳数为1～20的(甲基)丙烯酸烷基酯，例如，可以列举如下：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、乙氧基-二甘醇丙烯酸酯、丙烯酸异戊酯、甲氧基-三甘醇丙烯酸酯、2-乙基己基-二甘醇丙烯酸酯、甲氧基-聚乙二醇丙烯酸酯、甲氧基二丙二醇丙烯酸酯等。这些中，更优选烷基的碳数为4～20的(甲基)丙烯酸烷基酯。它们既可以单独使用，也可以两种以上组合使用。
聚合物根据希望，例如，也可以含有乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯类；乙烯、丙烯、异丁烯等烯烃类；氯乙烯、偏氯乙烯等卤化烯烃类；苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯类单体；丁二烯、异戊二烯、氯丁二烯等二烯系单体；丙烯腈、甲基丙烯腈等腈系单体；丙烯酰胺、N-甲基丙烯酰胺、N，N-二甲基丙烯酰胺等丙烯酰胺类等其他单体，这些既可以单独使用，也可以两种以上组合使用。
上述聚合物中作为构成单体成分的含氟单体以及含硅单体的合计含量，当将单体成分总量设为100质量％时，为10～100质量％。如果含氟单体以及含硅单体的合计含量不满10质量％，有可能难于如后所述那样降低所得到的粘合剂层12的折射率。从降低折射率的观点考虑，含氟单体以及含硅单体的合计含量，优选为55～99.9质量％，更优选为60～99质量％，特别优选为80～95质量％。
使用根据希望而用的其他单体(包含不具有能够形成交联结构的官能团的(甲基)丙烯酸酯)的情况下，上述聚合物中其他单体的含量优选为0.1～90质量％以下。通过使用该其他的单体，所得粘合剂易于设计成具有所希望的粘着物性。
对于上述聚合物的聚合形态，没有特别限制，可以是无规共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物中的任何一种。并且，聚合物的分子量，其重均分子量(Mw)的优选范围是1万～200万，特别优选的范围是5万～100万，更加优选的范围是10万～80万。应予说明，上述重均分子量(Mw)是通过凝胶渗透色谱(GPC)法测量的标准聚苯乙烯换算的值。
上述聚合物，能够采用常用的方法(例如，乳液聚合法、溶液聚合法、悬浮聚合法、本体聚合法、水溶液聚合法等)，将上述单体成分的混合物聚合而调制。其中，从聚合时的稳定性和使用时易处理的观点考虑，优选采用在有机溶剂中进行的溶液聚合法制造。
例如，可将单体成分的混合物溶解于有机溶剂中后，加入目前公知的偶氮二异丁腈、2，2’-偶氮双(2-氨基二丙烷)二盐酸盐、4，4’-偶氮双(4-氰基戊酸)等偶氮系聚合引发剂或过氧化苯甲酰等过氧化物系聚合引发剂，使其自由基聚合，从而制造上述聚合物。
上述聚合引发剂的量，相对于单体成分的混合物100质量份，优选0.01质量份～5质量份的范围，特别优选0.1质量份～1质量份的范围。
自由基聚合通常在10℃～100℃左右、优选50℃～90℃左右的温度下，加热1小时～20小时左右，优选加热3小时～10小时左右而进行。由此，可得到上述聚合物的有机溶剂溶液。
上述聚合物，既可以单独使用一种，也可以两种以上组合使用。
上述聚合物优选用交联剂交联。由此所得粘合剂的凝集力提高，优选作为多层光记录介质制造用片材1中的粘合剂层12。
作为交联剂，可以从金属类交联剂、环氧类交联剂、氮丙啶类交联剂以及异氰酸酯类交联剂等作为交联剂而惯用的物质中选择，其中优选为选自由金属类交联剂、环氧类交联剂和氮丙啶类交联剂所组成的群组中的至少一种。交联剂既可以单独使用一种，也可以两种以上组合使用。上述聚合物中的含氟单体以及含硅单体成分极性低，上述聚合物也容易极性低，因此一般而言上述聚合物与交联剂的相容性变差，用所得的粘合剂层有易于出现区域结构的倾向。但是，如果使用上述优选的交联剂，则上述聚合物与交联剂的相容性变高，所得的粘合剂层的区域结构的区域变小，光的散射变少。
作为金属类交联剂可列举金属螯合物化合物、金属醇盐、金属盐等，其中优选金属螯合物化合物。作为金属螯合物化合物没有特别地限制，可从作为丙烯酸类压敏粘合剂中使用的金属螯合物类化合物公知的化合物中适当选择任意的物质。在这些金属螯合物类化合物中，有金属原子为铝、锆、钛、锌、铁、锡等的螯合物化合物，从涂布液的使用期限(pot life)的设定等、易于控制反应性等观点考虑，优选铝螯合物化合物。
作为铝螯合物化合物，例如，可列举二异丙氧基铝单油基乙酰醋酸酯、单异丙氧基铝双油基乙酰醋酸酯、单异丙氧基铝单油酸单乙酰醋酸乙酯、二异丙氧基铝单十二烷基乙酰醋酸酯、二异丙氧基铝单硬脂基乙酰醋酸酯、二异丙氧基铝单异硬脂基乙酰醋酸酯、单异丙氧基铝单-N-月桂酰基-β-铝氢化物单十二烷基乙酰醋酸酯、三乙酰丙酮铝、单乙酰丙酮铝双(异丁基乙酰醋酸酯)螯合物、单乙酰丙酮铝双(2-乙基己基乙酰醋酸酯)螯合物、单乙酰丙酮铝双(十二烷基乙酰醋酸酯)螯合物、单乙酰丙酮铝双(油基乙酰醋酸酯)螯合物等。这些既可以单独使用一种，也可以两种以上组合使用。
作为环氧类交联剂，优选脂环式环氧类化合物或脂肪族环氧类化合物。作为脂环式环氧类化合物·脂肪族环氧类化合物，例如，可列举3，4-环氧环己基甲基、3，4-环氧环己基甲酸酯、1，3-双(N，N’-二缩水甘油基氨基甲基)环己烷、氢化双酚A二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚、1，6-己二醇缩水甘油酯、己二酸缩水甘油酯、癸二酸缩水甘油酯等。这些既可以单独使用一种，也可以两种以上组合使用。
作为氮丙啶类交联剂，优选脂肪族氮丙啶类化合物。作为脂肪族氮丙啶类化合物没有特别限制，可从作为丙烯酸类压敏粘合剂中使用的脂肪族氮丙啶类化合物公知的化合物中适当选择任意的物质。作为脂肪族氮丙啶类化合物，例如，可列举三羟甲基丙烷三(2-甲基-1-氮丙啶丙酸酯)、四羟甲基甲烷-三-β-氮丙啶基丙酸酯、2，2’-双羟基甲基丁醇-三[3-(1-氮丙啶基)丙酸酯]、1，6-环己烷二乙烯脲等。
上述交联剂的调配量，从粘合剂性能的观点考虑，相对于上述聚合物100质量份，通常可在0.01质量份～5.0质量份的范围内选定，优选的范围为0.05质量份～3.0质量份，特别优选的范围为0.1质量份～1.0质量份。
在不损害本实施方式的效果的范围内，根据需要，以上述聚合物为主成分的粘合剂中还可以添加增粘剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、软化剂、填充剂、阻燃剂等。
这里，构成粘合剂层12的粘合剂的玻璃化转变温度，优选为-30℃以下，更优选为-35℃～-85℃，特别优选为-40℃～-80℃。通过使粘合剂的玻璃化转变温度处于上述范围，在通过记录光的照射而光记录层形成凸结构，在粘合剂层侧伴有变形的记录方式的情况下，在粘合剂层与光记录层的界面记录点生成得良好，所得的多层光记录介质的记录感度优异。
而且，构成粘合剂层12的粘合剂在0℃的复数弹性模量优选为10MPa以下，更优选为0.0001～10MPa，进一步优选为0.01～5MPa，特别优选为0.1～5MPa。通过使0℃的复数弹性模量为上述范围，在通过照射记录光而光记录层形成凸结构，在粘合剂层侧伴有变形的记录方式的情况下，在粘合剂层与光记录层的界面记录点生成得良好，所得的多层光记录介质的记录感度优异。另外，在0℃的复数弹性模量为由下述方法所测定的值。
<粘合剂在0℃的复数弹性模量的测定方法>
使粘合剂层12的厚度成为约2mm的方式，层叠粘合剂层，将其裁断成直径为8mm的圆柱，制作测定用样品。关于该测定用样品，使用动态粘弹性测定装置，测定频率在1Hz，温度在0℃下的复数弹性模量。
粘合剂层12的厚度，优选为1μm～50μm，特别优选为2μm～40μm。通过使粘合剂层12的厚度为上述范围，可以利用来自光记录层11与粘合剂层12的界面的反射光检出各层的界面，从光记录层11进行信息的读取。
粘合剂层12的折射率优选为1.45以下，更优选为1.44以下，特别优选为1.42以下，更特别优选为1.40以下。通过粘合剂层12的折射率在所述范围，与光记录层11的折射率差变大，可从光记录层11与粘合剂层12的界面得到检出所需要的充分的反射光。另外，通常的光记录层11的折射率为1.58左右。本实施方式中的粘合剂层12通过使用上述粘合剂，可以实现上述折射率。另外，本说明书中的折射率是使用阿贝(Abbe)折射率计，基于JIS K7142(2008)而测定的值。
粘合剂层12的雾度值优选为1.3％以下，特别优选为0.7％以下，更优选为0.5％以下。雾度值大于1.3％时，则光的散射过多，有可能不能作为多层光记录介质的粘合剂层12使用。另外，本说明书中的雾度值为使用雾度计，基于JIS K7105而测定的值。
粘合剂层12的保持力，优选为保持70,000秒钟时没有错位。当粘合剂层12在25℃下的保持力处于上述范围时，粘合剂层12与其他层(主要是光记录层11)的粘合力充分。这里，本专利说明书中的保持力是在粘合剂层(25mm×25mm)的一面贴附聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，在另一面贴附由不锈钢(SUS304)构成的测试板，在粘合剂层安装1kg的重物，在40℃、50％RH的环境下，根据JIS Z0237(2009)，测定70,000秒后的错位量(μm)。
另外，构成上述粘合剂层12的粘合剂，在多层光记录介质的粘合剂层以外的用途中也可以使用。其中，可优选作为要降低折射率时的粘合剂使用，特别是可作为折射率为1.45以下的粘合剂优选使用。上述粘合剂，例如可以作为光导波路用树脂、光学粘合剂、氟类材料粘合用树脂等使用。
〔剥离片材〕
作为剥离片材13、剥离片材13’，只要是能够把本实施方式中的粘合剂层12剥离的剥离片材即可，可以使用以往公知的制品。例如，可使用聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚丙烯等的树脂膜，将这些树脂膜用以往公知的剥离剂(例如，有机硅类剥离剂、长链烷基类剥离剂、醇酸树脂类剥离剂等)进行剥离处理而得的剥离片材。
为了分别赋予光记录层11或粘合剂层12平滑性，剥离片材13、剥离片材13’与光记录层11或粘合剂层12接触侧的表面粗糙度(Ra)优选为1μm以下，特别优选为0.5μm以下。如果剥离片材13、剥离片材13’的表面粗糙度(Ra)超过1μm，则光记录层11或粘合剂层12的表面粗糙度变大，所得到的多层光记录介质的信号特性有可能下降。剥离片材13、剥离片材13’的厚度通常在20μm～150μm左右。
再有，剥离片材13、剥离片材13’优选以产生剥离力差异的方式构成。其中，优选将先剥离的一方做成轻剥离型，将后剥离的一方做成重剥离型。还有，作为产生剥离力差异的方法，也可以使剥离片材13、剥离片材13’中一方为未处理的树脂膜，使另一方为剥离片材。
〔多层光记录介质制造用片材的制造方法〕
上述多层光记录介质制造用片材1，例如，可按以下所示的方法进行制造。首先，调制光记录层11用的涂布剂，同时调制粘合剂层12用的涂布剂。所述光记录层11用的涂布剂包含构成光记录层11的材料，根据希望还包含溶剂。所述粘合剂层12用的涂布剂包含构成粘合剂层12的材料(粘合剂)，根据希望还包含溶剂。
接着，(1)将光记录层11用的涂布剂涂布到剥离片材13的有剥离性的面上，形成光记录层11，然后，在其上涂布粘合剂层12用的涂布剂形成粘合剂层12，将另一张剥离片材13’的有剥离性的面重合到该粘合剂层12的表面进行层叠，或者(2)将粘合剂层12用的涂布剂涂布到剥离片材13’的有剥离性的面上，形成粘合剂层12，然后，在其上涂布光记录层11用的涂布剂形成光记录层11，将另一张剥离片材13的有剥离性的面重合在该光记录层11的表面进行层叠，或者(3)将光记录层11用的涂布剂涂布到剥离片材13的有剥离性的面上，形成光记录层11，另一方面，将粘合剂层12用的涂布剂涂布到剥离片材13’的有剥离性的面上，形成粘合剂层12，以使光记录层11和粘合剂层12重合的方式将两者层叠。涂布剂的涂布，可以使用例如辊舐式涂布机(kiss-roll coater)、反转辊式涂布机、刮刀涂布机、辊式刮刀涂布机、模压涂布机等涂布机。
如上述那样得到的多层光记录介质制造用片材1，适合用作下面要介绍的多层光记录介质的制造材料。另外，图1的构成的多层光记录介质制造用片材1为一例，粘合剂层12以及光记录层11分别可以为单层，也可以为多层。
此外，本实施方式所涉及的多层光记录介质制造用片材1，根据需要，还可以存在用来加强该多层光记录介质制造用片材1的透明树脂层，为了在多层光记录介质内部设置位置信息而作为记录凹(pit)及／或槽(groove)在表面具有凹凸的位置信息赋予层，以及光导波层、反射层、介电体层等。此时，例如上述透明树脂层可设置在光记录层11与粘合剂层12之间、粘合剂层12的与光记录层11相反侧的面上、或光记录层11的与粘合剂层12相反侧的面上。此外，上述位置信息赋予层，从其形成的方便性的观点考虑，优选设置在与粘合剂层12相反侧的最外层。
〔多层光记录介质〕
图2为本发明的一个实施方式所涉及的多层光记录介质的截面图。本实施方式所涉及的多层光记录介质10由基板3、结构体(以下称为「多层结构体2」)和设置于多层结构体2上的透光性保护膜5构成，所述结构体设置于基板3上，由光记录层11与粘合剂层12层叠而成。此外，本实施方式所涉及的多层光记录介质10，根据需要，还可以存在用来加强光记录层11的透明树脂层、为了在多层光记录介质内部设置位置信息而作为记录凹及／或槽在表面具有凹凸的位置信息赋予层以及光导波层、反射层、介电体层等。此时，例如上述透明树脂层可设置在光记录层11的与粘合剂层12相反侧的面上。另外，多层光记录介质可以是如果照射记录光，则在光记录层11与粘合剂层12的界面在光记录层11形成凸部，在与形成了该凸部的部分接触的粘合剂层12形成凹部的记录方式。
基板3由光学特性及刚性优异的材料构成。例如，由聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚烯烃等合成树脂、玻璃类等构成。该基板3的厚度没有特别限制，通常为0.03～2mm左右，优选为0.05～1.5mm。基板3的厚度如果不到0.03mm，则有在层叠工序中处理困难的情况。基板3的厚度如果超过2mm，则多层光记录介质多会超出需要变得过厚。
多层结构体2是由光记录层11和粘合剂层12层叠而形成的结构体，优选用前述多层光记录介质制造用片材1来形成。
多层结构体2中光记录层11和粘合剂层12的各自的层叠数，没有特别限制，但下限通常为两层以上，优选为5层以上。用1层得不到足够的记录密度。另一方面，上限通常为500层以下，优选为200层以下。如果超过500层，则由于在各层的光吸收及层间的光反射等，信息的写入和读取有可能出现问题。
多层结构体2的厚度通常为10μm～5mm左右，优选为20μm～2mm，更优选为50μm～1.2mm。
作为透光性保护膜5，通常使用透光性树脂膜。作为所述树脂膜没有特别制限，可从以往作为光记录介质的保护膜所常用的保护膜中适宜地选择来使用。该透光性保护膜5的厚度，没有特别限制，但通常为3～600μm左右，优选为5～150μm。透光性保护膜5的厚度如果超过600μm，则有可能在各层不能聚焦。如果透光性保护膜5的厚度不到3μm，则有可能不能进行充分的保护。
关于上述多层光记录介质10的制造方法的一例进行说明。
首先，准备基板3，在其上形成粘合剂层4。该粘合剂层4的材料，既可以与构成上述粘合剂层12的粘合剂相同，也可以不同。
然后，将剥离片材13从多层光记录介质制造用片材1剥下，让露出的光记录层11与基板3上的粘合剂层4相对，将两者接合。接着，从该层叠体剥下剥离片材13’，让粘合剂层12露出，让该粘合剂层12与从另外的多层光记录介质制造用片材1剥下剥离片材13而露出的光记录层11相对，将两者接合。以下按照同样的操作方法，依次重复进行层叠，便得到由光记录层11及粘合剂层12分别多个层叠而构成的多层结构体2。
最后，将最上层的剥离片材13’剥下，在露出的粘合剂层12贴附透光性保护膜5，便得到多层光记录介质10。
作为制造多层光记录介质10的其他方法的例子，先准备基板3，将剥离片材13’从多层光记录介质制造用片材1剥下，让露出的粘合剂层12与基板3的表面相对，将两者接合。接着，从该层叠体剥下剥离片材13，让光记录层11露出，让该光记录层11与从另外的多层光记录介质制造用片材1剥下剥离片材13’而露出的粘合剂层12相对，将两者接合。以下按照同样的操作方法，依次重复进行层叠，便得到粘合剂层12及光记录层11多个层叠而成的多层结构体2。最后，将最上层的剥离片材13剥下，在露出的光记录层11贴附带粘合剂层的透光性保护膜，便得到多层光记录介质10。
本实施方式所述的多层光记录介质10中，通过使用所述粘合剂层12，在光记录层11与粘合剂层12的界面，能够得到检出所需要的充分强度的反射光。而且，在粘合剂层12的散射光少，杂讯少，因此可以抑制反射光检出不良的发生。
此外，多层光记录介质10也可以不使用多层光记录介质制造用片材1进行制造。例如，在规定的基材或基板3上涂布粘合剂层12用的涂布剂形成粘合剂层12，在该粘合剂层12上涂布光记录层11用的涂布剂形成光记录层11，再在该光记录层11上涂布粘合剂层12用的涂布剂形成粘合剂层12，重复该工序，便可制造多层光记录介质10。或者，预先在剥离片材上形成光记录层11，在规定的基材或基板3上涂布粘合剂层12用的涂布剂以形成粘合剂层12，在该粘合剂层12上层叠上述光记录层11，剥下剥离片材，再在该光记录层11上涂布粘合剂层12用的涂布剂以形成粘合剂层12，反复该工序，便可制造多层光记录介质10。
以上所说明的实施方式，是为了帮助理解本发明而记载的，并非为限定本发明而记载。因此，上述实施方式中所公开的各项要素，也应涵盖属于本发明技术范围的全部设计变更及等同物。
实施例
下面，通过实施例等对本发明进行更详细的说明，不过本发明的范围不受这些实施例等的限定。
〔实施例1～20，比较例1～5〕
(1)光记录层的形成
将作为光子吸收性材料的1，1-双-[4-[N，N-二(对-甲苯基)氨基]苯基]环己烷(东京化成工业公司制)10质量份与作为溶剂的甲苯90质量份进行混合，调配固形分浓度为10质量％的第1溶液。而且，将作为基材(matrix)的聚苯乙烯(Tosoh Corporation制造，F-80)10质量份与作为溶剂的甲苯90质量份进行混合，制成固形分浓度为10质量％的第2溶液。将上述第1溶液与上述第2溶液，以质量比为7∶3的比例进行混合，将其设为光记录层用涂布液。
向对厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜基材用醇酸树脂类剥离剂进行了剥离处理的剥离片材的剥离层面，用凹印辊涂布法涂布上述光记录层用涂布液，在110℃下干燥1分钟，形成厚度为约1μm的光记录层，得到了带剥离片材的光记录层。
(2)粘合剂层的形成
按照表1所示的配合比(组成)，配合表1所示的含氟单体和／或含硅单体、具有官能团的丙烯酸类单体和(甲基)丙烯酸酯，加入偶氮二异丁腈(聚合引发剂)0.25质量份后，在乙酸乙酯中进行反应，得到丙烯酸酯共聚物(Mw=200,000)的乙酸乙酯溶液(固形分浓度为20质量％)。向该溶液添加表1所示的交联剂，作为粘合剂层用涂布液。
向对厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的一个表面用有机硅剥离剂进行了剥离处理的剥离片材的剥离层面，用刮刀涂布机涂布上述粘合剂层用涂布液，在90℃下干燥1分钟，形成厚度为10μm的粘合剂层，得到带剥离片材的粘合剂层。
表1所示的记号如下。
<聚合物组成>
V-8F：丙烯酸1H，1H，5H-八氟戊酯(大阪有机工业公司制，产品名称「V-8F」)
V-4F：丙烯酸2，2，3，3-四氟丙酯(大阪有机工业公司制，产品名称「V-4F」)
V-13F：丙烯酸3，3，4，4，5，5，6，6，7，7，8，8，8-十三氟辛酯(大阪有机工业公司制，产品名称「V-13F」)
M-3F：甲基丙烯酸2，2，2-三氟乙酯(共荣社化学工业公司制，产品名称「M-3F」)
TM-0701T：甲基丙烯酸3-〔三(三甲基甲硅烷氧基)甲硅烷基〕丙酯(J NC公司制，产品名称「TM-0701T」)
BA：丙烯酸丁酯
2EHA：丙烯酸2-乙基己酯
HEA：丙烯酸2-羟基乙酯
HOA-MS(N)：2-丙烯酰氧乙基(acryloyloxy ethyl)-琥珀酸
AAc：丙烯酸
<交联剂>
M-5A：铝螯合物类交联剂(总研化学公司制，产品名称「M-5A」)
BXX5172：氮丙啶类交联剂(总研化学公司制，产品名称「BXX5172」)
8515：异氰酸酯类交联剂(东洋油墨公司制，产品名称「BHS-8515」)
Coronet HL：异氰酸酯类交联剂(Nippon Polyurethane Indus tryCo.，Ltd.制，产品名称「Coronet HL」)
TC-5：环氧类交联剂(三菱瓦斯化学公司制，产品名称「TC-5」)
(3)多层光记录介质制造用片材的制作
将在上述(2)中得到的带剥离片材的粘合剂层的粘合剂层侧的面与上述(1)中得到的带剥离片材的光记录层的光记录层侧的面重合，在室温下，通过两根橡胶辊进行压接，制造了由光记录层和粘合剂层层叠而成的多层光记录介质制造用片材。该多层光记录介质制造用片材由剥离片材／光记录层(1μm)／粘合剂层(10μm)／剥离片材构成。
(4)多层光记录介质的制作
剥下在上述(3)中制作的多层光记录介质制造用片材中的粘合剂层侧的剥离片材，在露出的粘合剂层，重合聚碳酸酯片材(厚度75μm)作为透光性保护膜，在室温下通过两根橡胶辊进行压接，从而将粘合剂层与透光性保护膜层叠，剥下剥离片材使光记录层露出，得到层叠体A。
另一方面，将上述(2)中所得的带剥离片材的粘合剂层的粘合剂层侧的面与镜面加工了的镜面聚碳酸酯基板(厚度1.1mm)重合，在室温下通过两根橡胶辊进行压接，从而将粘合剂层与镜面聚碳酸酯基板进行层叠，剥下剥离片材，使粘合剂层露出，得到层叠体B。
使层叠体A露出的光记录层与层叠体B露出的粘合剂层重合，在室温下通过两根橡胶辊进行压接，从而制作多层光记录介质。所得的多层光记录介质的构成为聚碳酸酯片材(75μm)／粘合剂(10μm)／光记录层／粘合剂(10μm)／镜面聚碳酸酯基板(1.1mm)。
〔试验例1〕(折射率的测定)
在上述(2)所形成的粘合剂层(厚度为10μm)的折射率，在测定波长为589nm，使用阿贝(Abbe)折射率计(Atago公司制)，基于JISK7142(2008)进行测定。结果示于表1。
〔试验例2〕(保持力的测定)
将在上述(2)形成的粘合剂层(25mm×25mm)的一面，与聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(东洋纺织公司制，产品名称：COSMOSHINE A4100，厚度：50μm)贴合，再从上述粘合剂层的相反面剥下剥离片材，将露出的粘合剂层压接到由不锈钢(SUS304)构成的测试板。然后，在粘合剂层安装1kg的重物，在40℃、50％RH的环境下，根据JISZ0237(2009)，测定70,000秒后重物错位量(μm)。结果示于表1。另外，将70,000秒后重物没有落下的情况视为良好，将70,000秒以内重物落下的情况视为不良。
〔试验例3〕(区域大小的测定)
关于在上述(2)所形成的粘合剂层，使用扫描探针显微镜(SPM；SII NanoTechno1ogy公司制，SPA300HV)，用动态力模式(DFM)观察相位像，测定区域的大小(nm)。具体地，从进行观察的相位像任意地抽出30个区域，测定各自的最大长度，将其平均值作为区域的大小。结果示于表1。
另外，图3表示实施例3中粘合剂层由SPM所得到的DFM相位像的照片，图4表示实施例14中粘合剂层由SPM所得到的DFM相位像的照片，图5表示比较例4中粘合剂层由SPM所得到的DFM相位像的照片。
〔试验例4〕(雾度值的测定)
在上述(2)所形成的粘合剂层的两面，贴附聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(东洋纺织公司制，PET50A-4100)。对该层叠体入射光，使用雾度计(日本电色工业公司制，NDH2000)，依照JIS K7105对雾度值进行测定。结果示于表1。
〔试验例5〕(杂讯水平的测定)
关于在上述(4)所制作的多层光记录介质，使用磁盘测试装置(disc tester)(Expert Magnetics公司制，BDT-SDX)，在波长405nm进行试验，使用频谱分析仪(spectrum analyzer)(Instek公司制，GSP-930)，检出RF信号。其结果是：2MHz的信号强度如果不到-77dBm，则将杂讯水平(noise level)判断为◎(极其良好)；如果为-77d Bm以上、不到-74dBm，则将杂讯水平判断为○(良好)；如果为-74dBm以上，则将杂讯水平判断为×(不良)。结果示于表1。
〔试验例6〕(玻璃化转变温度的测定)
使用示差扫描热量测定装置(TAinstruments公司制，商品名「DSCQ2000」)，以20℃／分的升温降温速度，在-70～40℃的范围，对构成粘合剂层的粘合剂的玻璃化转变温度(Tg；℃)进行了测定。结果示于表1。
〔试验例7〕(复数弹性模量的测定)
将剥离片从在上述(2)中得到的带剥离片的粘合剂层剥离，使粘合剂层层叠成约2mm的厚度，将其裁断成直径为8mm的圆柱，制作测定用样品。关于该测定用样品，使用动态粘弹性测定装置(Rheometric社，机种名「DYNAMIC ANALYZER RDA-II」)，在频率1Hz下，测定温在0℃下的复数弹性模量(MPa)。结果示于表1。
Figure BSA0000095741570000241
由表1可知，实施例中得到的粘合剂层由于雾度低，折射率低为1.45以下，而且区域的大小为110nm以下，因此在粘合剂层与光记录层的界面，反射光的强度强，杂讯少。另一方面，比较例1～比较例3的粘合剂层虽然杂讯低，但折射率过高，因此在粘合剂层与光记录层的界面，反射光的强度弱，没能检出RF信号。而且，比较例4、比较例5的粘合剂层虽然雾度以及折射率低，但区域过大，因此在粘合剂层12的内部以及界面的散射光多，没能得到充分的RF信号强度，杂讯增多。
产业上的可利用性
本发明可用于利用从光记录层与粘合剂层的界面的反射光检出各层的界面的多层光记录介质。
附图标记说明
1···多层光记录介质制造用片材
11···光记录层
12···粘合剂层
13、13’···剥离片材
2···多层结构体
3···基板
4···粘合剂层
5···透光性保护膜
10···多层光记录介质

Claims (11)

1.多层光记录介质制造用片材，其用于制造将光记录层与粘合剂层层叠而成的多层光记录介质，其特征在于：
由光记录层与粘合剂层层叠而成；
所述粘合剂层由以聚合物作为主成分的粘合剂构成，所述聚合物含有含氟单体和／或含硅单体作为构成单体成分，并且所述粘合剂层不具有区域结构，或者具有区域的大小为110nm以下的区域结构；
将所述聚合物中作为构成单体成分的单体总量设为100质量％时，所述含氟单体以及所述含硅单体的合计含量为10～100质量％。
2.根据权利要求1所述的多层光记录介质制造用片材，其特征在于：所述含氟单体为含氟丙烯酸类单体，所述含硅单体为含硅丙烯酸类单体。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的多层光记录介质制造用片材，其特征在于：所述聚合物含有具有官能团的丙烯酸类单体作为构成单体成分。
4.根据权利要求1至权利要求3的任一项所述的多层光记录介质制造用片材，其特征在于：所述聚合物用交联剂交联。
5.根据权利要求4所述的多层光记录介质制造用片材，其特征在于：所述交联剂为选自由金属类交联剂、环氧类交联剂以及氮丙啶类交联剂组成的组中的至少一种。
6.根据权利要求1至权利要求5的任一项所述的多层光记录介质制造用片材，其特征在于：所述粘合剂层的折射率为1.45以下。
7.根据权利要求1至权利要求6的任一项所述的多层光记录介质制造用片材，其特征在于：所述光记录层含有光子吸收性材料。
8.多层光记录介质，其特征在于：使用权利要求1至权利要求7的任一项所述的多层光记录介质制造用片材而得到。
9.多层光记录介质，其特征在于：
将光记录层与粘合剂层层叠而成；
所述粘合剂层由以聚合物作为主成分的粘合剂构成，所述聚合物含有含氟单体和／或含硅单体作为构成单体成分，并且所述粘合剂层不具有区域结构，或者具有区域的大小为110nm以下的区域结构；
将所述聚合物中作为构成单体成分的单体总量设为100质量％时，所述含氟单体以及所述含硅单体的合计含量为10～100质量％。
10.根据权利要求8或权利要求9所述的多层光记录介质，其特征在于：向所述多层光记录介质照射记录光时，在所述光记录层与所述粘合剂层的界面，在所述光记录层形成凸部，在与形成了所述凸部的部分相接的所述粘合剂层形成凹部。
11.粘合剂，其以聚合物作为主成分，所述聚合物含有含氟单体和／或含硅单体作为构成单体成分，其特征在于：
将所述(甲基)丙烯酸酯共聚物中作为构成单体成分的单体总量设为100质量％时，所述含氟单体以及所述含硅单体的合计含量为10～100质量％；
所述粘合剂不具有区域结构，或者具有区域的大小为110nm以下的区域结构；
将所述粘合剂制成厚度为10μm的粘合剂层时的折射率为1.45以下。
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