CN103492087A - 真空辅助的狭缝模具涂覆技术 - Google Patents

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Abstract

提供了使用狭缝模具来将湿膜(18)施加到基底上的系统、设备、技术和方法。在一种形式中，在该狭缝模具的至少一部分排出端周围的空气压力可以通过施加真空力来调节以控制施加到基底上的湿膜的宽度和厚度。在这种形式的一个方面，该湿膜是施加到移动的基底幅材上的窄的、连续的试剂材料条，由其可以获得多个测试元件。但是，不同的形式和应用也是可以想到的。

Description

真空辅助的狭缝模具涂覆技术
一次性测试元件的使用在测量选定的被分析物在测试样品中的存在和/或浓度已经变成很常见。例如糖尿病和类似医疗状况的患者经常进行血糖的自我监测，其中患者监测其血糖水平。监测血糖水平的目的是确定浓度水平，然后基于该水平是过高还是过低来采取矫正行动，以使得该水平回到正常范围内。不采取矫正行动会具有严重的医学影响。葡萄糖监测是糖尿病患者日常生活中的一个事实。不正确地和定期地测试血糖水平会导致严重的糖尿病相关的并发症，包括心血管疾病、肾病、神经损害和失明。
许多的被分析物测量系统目前是可以获得的，其与一次性测试元件相组合，允许个人测试或测量测试样品中的目标被分析物。例如一次性测试元件可以与葡萄糖计一起用于电化学或光学测量血液样品中的葡萄糖量。在目前的葡萄糖计中，作为成功的血糖测量的结果而显示的信息是各自的血糖值，典型地以mg/dL或mmol为单位来显示，并且可能还有进行测量的时间和日期。该信息与计算计划的或已知的碳水化合物摄入或计划的或已知的活动以及其他情形或个体因素的知识结合，在大部分情况下足以允许糖尿病患者调整或得出他们的膳食摄入量和/或即时注射胰岛素的剂量以短期控制血糖水平。同样，在低葡萄糖值的情况下，糖尿病患者可以察觉到需要摄入糖来避免低血糖。
在被分析物测试和测试元件中的目前趋势要求更小的测试样品和更快的分析时间。在例如糖尿病患者的情况下，这为患者提供了显著的益处，这允许使用更少的血液样品，其可以获自不太敏感的身体区域。此外，更快的测试时间和更精确的结果使得患者能够更好地控制他们的血糖水平。
在一种形式中，与用于电化学测量血液样品中的葡萄糖量的仪表一起使用的一次性测试元件包括电极装置和试剂材料涂层，所述试剂材料涂层用于在葡萄糖存在下产生电化学信号。根据待测试的具体被分析物，试剂涂层的诸多变体是可能的，并且通常存在着诸多的化学性质(chemistry)可用于每个不同的被分析物。但是，通常而言，令人期望的是在测试条或生物传感器中形成尽可能薄和尽可能均匀的试剂层。例如更薄的试剂层将更快地水合，并且因此将产生更快的测试结果。另外，试剂层厚度的变化越来越多地影响测试结果的准确度。从而，试剂层中的不均匀性会导致在填充测试元件的样品接收室时的不一致性，延长的分解间隔，和试剂与样品流体的不均匀混合，并最终导致差的测试结果。同样的考虑不仅适用于电化学测试条，而且适用于利用光学原理如吸收、透射、再发射（remission）、荧光等的测试元件，其可以与分别设计的仪器一起使用。
但是，虽然令人期望的是形成薄的和均匀的以小体积快速水合的试剂层，但是它是不易获得的，这归因于使用小体积的液体试剂时的困难、测试元件基底材料的变化和处理装置的限制。例如当试剂层通过狭缝模具涂覆方法施加到测试元件时，目前在测试元件基底上实现厚度均匀的试剂层的努力是通过将该狭缝模具相对于基底移动，以响应于例如基底厚度的变化而来调节试剂层的厚度。但是，通过这种方案来控制试剂层厚度均匀性的能力是有限的，这是因为该狭缝模具相对于基底的移动往往会延迟和/或导致该狭缝模具排出端与基底之间的降低的涂覆间隙，这会导致由困在狭缝模具与基底之间的碎片(debris)造成的湿膜缺损如拖尾和/或由于基底厚度的变化而以其它方式影响涂覆过程。
关于狭缝模具涂覆方法，还已知与试剂涂层本身有关的某些其他方法和参数可以促进厚度均匀性。例如参见美国专利No.7749437和美国专利No.7879619，其公开内容以它们的全部通过引用并入本文。
鉴于前述内容和考虑到精确分析测试样品中选定的被分析物的分歧，仍然需要改进试剂层在测试元件上的施加。
提供了使用狭缝模具将湿膜施加到基底上的系统、设备、技术和方法。在一方面，在该狭缝模具的至少一部分排出端周围的空气压力是可调节的，以控制施加到基底上的湿膜上的宽度和厚度。特别是，该技术允许增大狭缝模具排出端与基底之间的涂覆间隙，这导致了减少了由困在狭缝模具与基底之间的碎片造成的湿膜缺损如拖尾。增大的涂覆间隙也降低了基底厚度变化对涂覆过程的影响。另外，控制湿膜宽度和厚度的能力也提高了沿基底的厚度均匀性，其在基底被用于形成测试元件来测量测试样品中选定的被分析物的存在和/或浓度的情况下，产生了测试元件中批与批之间的更大的一致性和精确性。
在一方面，一种将湿膜施加到基底上的方法，包括将涂料从狭缝模具的排出端施加到基底的移动幅材上，以在该基底上形成湿膜。该湿膜具有相对于该基底的宽度和厚度。该方法还包括在狭缝模具的排出端附近施加真空力，和在施加涂料的同时实时调节该真空力，以控制湿膜的宽度和厚度。
在该方面的一种改进中，该方法进一步包括检测湿膜的宽度，和响应于确定该宽度对应于不同于预定值的值而进行该真空力的调节。
在该方面的一种改进中，该预定值为大约5毫米。
在该方面的一种改进中，该预定值为大约7毫米。
在该方面的另一种改进中，该预定值为大约4.7毫米-大约5.3毫米。
在该方面的另一种改进中，该预定值为大约6.7毫米-大约7.5毫米。
在该方面的另一种改进中，该基底是由聚合物材料形成的，在其上可以布置有多个电极图案。
在该方面的另一种改进中，该方法进一步包括将涂料从狭缝模具排出端施加到电极图案上，以在该电极图案上形成湿膜。
在该方面的另一种改进中，施加真空力包括将真空箱布置在该狭缝模具的排出端附近。该真空箱包括彼此相对布置并且位于湿膜上游的一对真空出口。
在该方面的另一种改进中，该方法进一步包括在该狭缝模具与该移动幅材之间保持恒定的涂覆间隙。
在该方面的另一种改进中，该涂覆间隙为大约40µm-大约450µm。
在该方面的另一种改进中，该涂料包含用于在测试被分析物的存在下产生光学或电化学信号的试剂。
在该方面的另一种改进中，该测试被分析物为葡萄糖且该试剂包括酶、辅酶和辅因子中的至少一种。
在另一种改进中，该湿膜的厚度为大约40µm-大约100µm。
在另一种改进中，该方法进一步包括干燥该湿膜以在该基底上提供涂料的干燥层。所述涂料的干燥层包括大约3 µm-大约20µm的干燥厚度。
在另一种改进中，施加真空力在所述排出端上游侧和排出端下游侧之间产生了压力差。
在另一方面，一种用于将湿膜施加到基底上的设备，包括狭缝模具，其可邻近所述基底布置并且包括排出端，涂料可以从所述排出端排出到所述基底上以形成所述湿膜。该设备还包括空气压力调节系统，所述系统可以运行来通过当将涂料排出到基底上时调节狭缝模具的排出端附近的空气压力，来控制所述湿膜相对于基底的宽度和厚度。
在该方面的一种改进中，该空气压力调节系统包括至少部分包围所述狭缝模具的排出端的围隔(enclosure)，和与所述围隔相连的真空源。
在该方面的另一种改进中，该设备进一步包括传感器，其配置来测定所述湿条的宽度和提供相应的代表该宽度的传感器信号。该设备还包括控制器，当所述传感器信号代表了对应于不同于预定值的值的宽度时，该控制器响应于所述传感器信号来调节通过所述真空源施加到围隔的真空量。
在该方面的另一种改进中，该预定值为大约4.7毫米-大约5.3毫米。
在该方面的另一种改进中，该预定值为大约6.7毫米-大约7.5毫米。
在该方面的另一种改进中，该真空源是在该湿膜上游的位置与围隔相连的。
在该方面的另一种改进中，该围隔包括彼此相对布置的一对真空出口。
在该方面的另一种改进中，该设备进一步包括所述基底的移动幅材，所述幅材由聚合物材料形成，在其上可以布置有多个电极图案。所述狭缝模具可定位在所述电极图案之上，以使得涂料可以从排出端排出以在电极图案上形成湿膜。
在该方面的另一种改进中，大约40µm-大约450µm的涂覆间隙在所述狭缝模具的排出端与基底之间延伸。
在该方面的另一种改进中，该设备进一步包括辊系统，该系统可以运行来将基底的幅材相对于狭缝模具移动。
在该方面的另一种改进中，该设备进一步包括含有一定量的涂料的存储器，和所述涂料包含用于在测试被分析物的存在下产生光学或电化学信号的试剂。
在该方面的另一种改进中，该测试被分析物是葡萄糖且该试剂包含酶、辅酶和辅因子中的至少一种。
在另一方面，一种将湿膜施加到基底上的方法，其包括将涂料从狭缝模具的排出端施加到基底上，以在基底上形成湿膜；通过调节狭缝模具的上游侧和狭缝模具的下游侧之间存在的压力差来控制所述湿膜相对于基底的厚度；和在控制所述湿膜厚度的同时，保持狭缝模具的排出端与基底之间的涂覆间隙恒定。
在该方面的一种改进中，调节该压力差包括改变施加到该狭缝模具的排出端上游侧附近的真空量。
在该方面的另一种改进中，响应于确定湿膜宽度对应于不同于预定值的值而进行该压力差的调节。
在该方面的另一种改进中，该预定值为大约2.5毫米-7.5毫米。
在该方面的另一种改进中，该方法进一步包括在控制所述湿膜厚度的同时，保持涂料流过狭缝模具的流速恒定。
在该方面的另一种改进中，该方法进一步包括将基底相对于狭缝模具移动，和在控制所述湿膜厚度的同时保持基底相对于该狭缝模具的移动速率恒定。
在该方面的另一种改进中，涂覆间隙为大约40µm-大约450µm。
在该方面的另一种改进中，该涂料包含用于在测试被分析物的存在下产生光学或电化学信号的试剂。
本申请的另一方面是一种用于形成测试元件的独特技术，该元件可用于测量测试样品中选定的被分析物的存在和/或浓度。其他方面包括涉及狭缝模具涂覆过程的独特方法、系统、装置、套件、组件、装置和/或设备，包括用于将试剂材料施加到测试元件的那些。
另外的方面、实施方案、形式、特征、益处、目标和优点将从详细说明和随其提供的附图中变得显而易见。
图1是狭缝模具涂覆设备的一个图示。
图2是图1的设备的狭缝模具组件的放大的侧视平面图。
图3是图2所示的狭缝模具组件相对于图2的视图旋转90度的前视平面图。
图4是用图1所示的狭缝模具涂覆设备将涂料施加到基底上的操作的放大的图示。
图5是配置来与图2的狭缝模具组件相连的真空供给系统的图示。
图6是其上已经形成了湿膜的基底材料的侧视平面图。
图7是用于控制图1的狭缝模具涂覆设备和图6的真空供给系统的操作的系统的图示。
图8-9是试剂材料层沿它的宽度的厚度轮廓图示。
图10是基底材料的一部分幅材的透视图，由其将获得多个测试元件。
图11是表示狭缝模具涂覆技术的不同加工参数之间的关系的图示。
为了促进对本发明原理的理解，现在参见附图中所示的实施方案，并且将使用专用语言来对其进行描述。不过应当理解并不打算由此限制本发明的范围，在所示装置中这样的改变和进一步的变化以及此处所示的本发明的原理的这种进一步的应用将是本发明所属领域技术人员通常能够想到的。
提供了使用狭缝模具来将涂料的湿膜施加到基底上的系统、设备、技术和方法。在一方面，调节狭缝模具排出端附近和/或周围的空气压力，以控制施加到基底上的涂料湿膜的宽度和厚度。更具体地，在一种形式中，将真空源施加到狭缝模具的上游侧，并且适当调节该真空源所施加的真空量，以控制施加到基底上的涂料湿膜的宽度和厚度。作为一个非限定性的例子，控制湿膜的宽度和厚度可以包括将该宽度和厚度保持在某个值或一定的值范围内和/或改变该宽度和厚度。在一方面，真空源 调节是在确定施加到基底上的涂料湿膜的宽度落到预定范围之外之后自动发生的。此外，虽然此下所述涉及到将试剂材料形式的涂料施加到基底材料幅材上，由其将获得多个测试元件，但是应当理解，此处公开的系统、设备、技术和方法也可以与将一种或多种不同的涂料施加到一种或多种不同类型的基底上相关来使用。本申请的其它方面和特征将结合下面所示的实施方案来描述。
参见图1，显示了狭缝模具涂覆设备10，其配置来将呈试剂材料14形式的涂料12施加到基底材料18的幅材16上(参见例如图4)，由其获得多个测试元件。设备10包括多个辊20a-c，通过其供给幅材16。更具体地，对于例如辊20b，在幅材16供给通过设备10时它以箭头A所示的顺时针方向旋转。设备10还包括位于辊20b邻近的狭缝模具组件22，通过管道21a与狭缝模具组件22流体相连并且配置来保持一定量的涂料12的存储器21，和通过管道23a(图1中仅仅显示了其中一个)与狭缝模具组件22相连的真空系统23。这些特征的进一步细节将在下面参考图2-5来提供。
更具体地，狭缝模具组件22包括狭缝模头26和与该狭缝模头26协作的围隔28，并且所述围隔28上连接有真空系统23，如下面将讨论的那样。狭缝模头26包括位于下游块32对面的上游块30。如图4所示，狭缝模头26包括排出端35，其包括上游块30上的面对幅材16的通常平坦的表面31，和下游块32上的面对幅材16的通常平坦的表面33。在所示的形式中，表面31相对于表面33朝着幅材16偏移，不过其中表面31、33等高或表面33相对于表面31朝着幅材16偏移的形式也是可以预期的。狭缝36形成在上游块30和下游块32之间，并且穿过狭缝模头26在表面31、33附近开口。狭缝36通常允许涂料12穿过狭缝模头26到位于辊20b和狭缝模头26之间的幅材16上。在一种形式中，上游块30和下游块32可以是相对于彼此可调节移动的，以允许改变位于其间的狭缝36的尺寸。此外，在其他未示出的形式中，上游块30可以包括与其相连的滴落围沿(drip bib)。
现在转向围隔28，它包括一对相对布置的侧部侧板38，40，并且侧板38在第一端42和第二端44之间延伸，侧板40在第一端46和第二端48之间延伸。如图2所示，侧板38包括在第一端42和第二端44之间延伸的凹形表面39。另外，侧板40还包括在第一端46和第二端48之间延伸的表面41，其是类似于表面39的凹形的。表面39，41的凹度通常配置为对应于辊20b的凸度，以使得侧板38，40可以靠着或接近于辊20b来布置。但是，在其他未示出的形式中，表面39，41的不同构造是可以预期的。如图3所示，上游块30和一部分的下游块32位于侧板38，40之间及其第一端42，46和第二端44，48之间，以使得狭缝36也位于侧板38，40和第一端42，46和第二端44，48之间。横向构件50在面对辊20b的围隔28的第一侧上侧板38，40之间邻近第二端44，48地延伸，背板51在相对的第二侧上的侧板38，40之间延伸。在一种或多种未示出的形式中，横向构件50可以包括凹进部分，幅材16在它沿辊20b移动时穿过其中。横向构件50还可以包括位于所述凹进部分的相对侧上的部分，当存在时，其可以靠着或邻近辊20b布置。
虽然前面没有讨论，但是应当理解侧板38，40和横向构件50可以紧邻辊20b布置，使得在狭缝36上游提供通常封闭的环境或室58。此外，如下面更详细解释的那样，狭缝模头26的表面31，33是相对紧邻幅材16布置的。类似地，当涂料12施加到幅材16上时，狭缝模头26 相对于幅材16的这种布置，以及涂料12从狭缝36的排出，通常包围或密封邻近侧板38，40的第一端42，46的室58。由于前述公开内容，应当理解当涂料12施加到幅材16上时，室58通常是与周围环境封闭或密封的。应当理解室58不必完全与周围环境密封，不过其中它以这样的方式密封的形式也是可以预期的。相反，通常以使得室58内的空气压力相对于周围环境受控的方式将室58与周围环境密封或封闭就已足够，其进一步细节将在下面提供。例如在一种形式中，可以预期围隔28可以相对于辊20b布置，使得在辊20b和表面39，41之间延伸有大约5µm-250µm的间隙。其中围隔28与辊20b接触地布置的形式也是可以预期的。例如在一种形式中，侧板38，40的表面39，41和横向构件50可以由聚四氟乙烯(PTFE)或另一种合适的材料形成，该材料允许侧板38，40和横向构件50在辊20b旋转时靠着它布置。在另一种形式中，一个或多个橡胶、硅树脂或其他合适的密封件可以布置在表面39，41和横向构件50上，使得侧板38，40和横向构件50紧邻或邻近辊20b布置，并且所述密封件填充了它们之间的任何间隙。
围隔28还包括一对相对布置的出口60，62，其彼此相对地开口到室58中，并且处于狭缝模头26的上游。在所示的形式中，出口60，62通过管道23a与真空系统23相连，所述真空系统23可以运行来调节室58中的空气压力。更具体地，例如参见图5，提供了一种可用于调节室58中的空气压力的真空系统23的一种非限定形式的图示。真空系统23包括鼓风机72，其通过管道76与挡板槽74流体连通相连。鼓风机72通常配置来推动空气朝向和远离挡板槽74，来产生真空。在其他未示出的形式中，可以预期真空可以使用泵或除了或代替鼓风机72的其他源来产生。管道23a从挡板槽74伸出，并且与围隔28的出口60，62相连。类似地，通过鼓风机72施加到挡板槽74上的真空从挡板槽74通过管道23a转移到室58。系统23还包括管道82，其连接到和延伸于围隔28的排泄出口和排泄槽84之间，并且可运行来排出可能收集在围隔28中的任何液体。
系统23进一步包括流动控制阀86，其位于鼓风机72和挡板槽74之间，并且当鼓风机72运行时与管道76中存在的真空力连通。通气装置88邻近控制阀86布置，并且可以响应于控制阀86的某些操作运行来使得环境空气进入到管道76中。例如在一种形式中，真空系统23可以包括一个或多个传感器，其配置来确定管道76、挡板槽74或室58中的真空力的强度或水平，仅仅来提供几个非限定性的可能性，控制阀86可以响应该一个或多个传感器来调节进入管道76的环境空气的量，以调节系统23中的真空力的水平。在这种或其他形式中，系统23还可以包括一个或多个控制器，例如变频驱动器，其配置来控制鼓风机72的运行，以使得响应于所述一个或多个传感器测量的真空水平调节鼓风机72所产生的真空的量或力。如上所示，所示的真空系统23的形式是非限定性的，并且应当进一步理解系统23的其他形式和排列是可能的和可预期的。
再次参见图4，现在将提供关于将涂料12施加到幅材16上来在其上形成湿膜15的进一步的细节。应当理解，为了更清楚，在图4中没有显示围隔28和辊20b。另外，下面的参数和说明适用于将试剂材料14形式的涂料12施加到幅材上。类似地，应当理解用于下面所讨论的加工参数的可选择的值可以适用于此处所述狭缝模具涂覆技术，用于与其他形式的涂料12一起使用或出现其他变化时。另外还应当理解当湿膜15的期望的厚度T和宽度W(图6)变得与下述值不同时，下述参数也可以变化。
狭缝模头26的排出端35紧邻幅材16布置，以使得涂覆间隙CG在其之间延伸。在一种非限定性的形式中，涂覆间隙CG为大约20µm-大约600µm。在另一种更具体的形式中，涂覆间隙CG为大约40µm-大约450µm。另外，在另一种更具体的形式中，涂覆间隙GC为大约40µm-大约200µm。但是应当理解涂覆间隙GC的其它值是可能的和可以想到的，并且会受涂料12的流变性和重量、幅材16的表面张力和速度、辊20b的半径、狭缝模头26的上游和下游块30，32的长度、狭缝模头26的入口间隙和长度、上游块30相对于下游块32的角度(如果存在的话)影响。
在用于施加试剂材料14的一种形式中，狭缝36包括侧板38，40之间的宽度，其为大约4毫米-大约10毫米。在用于施加试剂材料14的另一种更具体的形式中，围隔28的侧板38，40之间的狭缝36的宽度是5毫米。在用于施加试剂材料14的另一种更具体的形式中，围隔28的侧板38，40之间的狭缝36的宽度是7毫米。不过，围隔28的侧板38，40之间的狭缝36的宽度的其他值是可能的。另外，狭缝36还包括上游块30和下游块32之间的高度37，其为大约100µm-大约300µm。在其中狭缝36的宽度是5毫米-7毫米的具体形式中，高度37为大约250µm。如图4所示，狭缝模头26通常在与幅材16相邻布置排出端35之处的位置上与幅材16正交地延伸。但是在其他形式中，还可以预期狭缝模头26可以相对于幅材16倾斜地延伸。另外如图1中最佳所见，狭缝模头26是在相对于辊20b的中心轴25呈斜角的方向上取向的，其在一种形式中可以为大约10度-大约25度，虽然其他变化也是可以预期的。
如上所示，幅材16是通过设备10的辊20a-c相对于狭缝模具组件22移动的。在一种形式中，幅材16是相对于狭缝模具组件22以大约35.0m/min-大约45.0m/min的速率移动的。在另一种更具体的形式中，幅材16是相对于狭缝模具组件22以大约38.0m/min-大约44m/min的速率移动的，虽然幅材16移动速率的其他变化也是可以预期的，其取决于相对于此处公开的方法和设备的具体应用所期望的涂层的宽度和厚度，以及取决于排出的涂料的流速。例如在本说明书的“实施例”部分中更详细描述的某些实验涂覆方法中，该幅材是相对于该狭缝模具组件以大约8.0m/min-12.0m/min的速率移动的，和更具体地为大约10.0m/min的速率。
当幅材16相对于狭缝模具组件22移动时，涂料12被使用，作为非限定性的例子，一个或多个泵、活塞、注射器或囊袋系统而从存储器21递送到狭缝模头26。涂料12被迫通过狭缝模头26，并且在排出端35离开狭缝36，在排出端35处其被施加到基底18的幅材16上以形成湿膜15，其包括如图6所示的相对于幅材16的宽度W和厚度T。在一种形式中，涂料12从排出端35的排出速率为大约10.0mL/min-大约20.0mL/min。在另一种更具体的形式中，涂料12从排出端35的排出速率为大约12.0mL/min-大约18.0mL/min。在另一种形式中，涂料12从排出端35的排出速率为大约15.0mL/min-大约18.0mL/min。不过，涂料12从排出端35排出速率的其他变化也是可以预期的，并且可取决于特别是相对于此处公开的方法和设备的具体应用，涂层的期望宽度和厚度，以及取决于幅材16相对于狭缝模头22的移动速率等。例如，在下面本说明书的“实施例”部分中将更详细描述的某些实验涂覆方法中，涂料从狭缝模头的排出速率为大约2.0mL/min-大约4.0mL/min。
在一种形式中，湿膜15的目标宽度W为大约4毫米-大约8毫米。在一种更具体的形式中，湿膜15的目标宽度W为大约5毫米-大约7毫米。在另一种更具体的形式中，湿膜15的目标宽度W为大约4.7毫米-大约5.3毫米。在又一种更具体的形式中，湿膜15的目标宽度W为大约6.7毫米-大约7.5毫米。另外在一种形式中，湿膜15的目标厚度T为大约20µm-大约200µm。在另一种更具体的形式中，湿膜15的目标厚度T为大约40µm-大约100µm。但是，应当理解湿膜15的目标宽度W和厚度T的其它值也是可以预期的。
图4还显示了第一压力P1存在于狭缝模头26下游和第二压力P2存在于狭缝模头26上游。更具体地，第一压力P1表示设备10周围的大气中的环境空气压力，而第二压力P2表示围隔28的室58中的空气压力。当真空系统23将真空力施加于室58时，第二压力P2小于第一压力P1，并且第一压力P1和第二压力P2的压力差限定了涂覆真空。在一种形式中，该涂覆真空为大约1英寸H2O(0.2491 kPa)-大约10英寸H2O(2.4908 kPa)。在另一种形式中，该涂覆真空为大约2英寸H2O(0.4982 kPa)-大约9英寸H2O(2.2417 kPa)。在又一种形式中，涂覆真空为大约1英寸H2O(0.2491 kPa)-大约6英寸H2O(1.4945 kPa)。在仍然的另一种形式中，该涂覆真空为大约1英寸H2O(0.2491 kPa)-大约4英寸H2O(0.9963 kPa)。但是应当理解涂覆真空的其他值也是可以预期的，并且落入本发明的范围内。
已经令人惊讶地发现，涂覆真空的调节可以用于实时控制将施加到幅材16上的湿膜15的宽度W和厚度T。更具体地，通过真空系统23施加到室58上的真空力的量的增加通常将导致在该真空力的量的增加之后由施加到幅材16上的涂料12所形成的湿膜15的宽度W的增加。此外，应当理解，作为非限定性的例子，湿膜15从0.3毫米变化到5.0毫米的宽度W将导致湿膜15的厚度T的6%的变化。类似地，通过控制施加到室58上的真空力的量来调节湿膜15的宽度W是控制沿幅材16的湿膜15的厚度T的一种有效方式。此外，以此方式控制湿膜15的厚度T的能力提供了一种实现和保持湿膜15的厚度T沿幅材16的相对一致性和均匀性的改进的方案。类似地，获自幅材16的每个测试元件将具有更均匀的试剂材料14厚度T，由此在最终的测试元件中形成更大的批与批之间的一致性。
现在将结合图7中的系统100的图示来描述关于保持湿膜15的宽度W和转而厚度T的一致性和均匀性的一种非限定性方案。更具体地，系统100包括设备10，其包括真空系统23，它们都已经在上面进行了描述。系统100还包括传感器110，其用于测量通过设备10施加到幅材16上之后的湿膜15的宽度W。在一种形式中，传感器110可以是光学传感器，如数码相机，虽然传感器110的其他形式也是可以预期的。传感器110也可以运行来产生相应于湿膜15的测定宽度W的传感器信号，并且将该传感器信号传输到第一控制器120。第一控制器120被编程为确定通过传感器110所测定的湿膜15的宽度W是否对应于不同于预定值或值范围的值，如果是的话，则将相应的控制器信号传输到第二控制器140，指示必须对湿膜15的宽度W进行的改变，以基于下面的等式实现湿膜15的目标厚度T：
厚度T = ( 涂料流速 )
(幅材速率)(宽度 W)
在一种形式中，宽度W的预定值是5毫米。在另一种形式中，宽度W的预定值是7毫米。在仍然的另一种形式中，宽度W的预定范围值是2.5-大约7.5毫米。在另一种形式中，宽度W的预定范围值为大约4.7毫米-大约5.3毫米。在又一种形式中，宽度W的预定范围值为大约6.7毫米-大约7.5毫米。但是应当理解宽度W的预定值或值范围内的其他变化也是可能的。
第二控制器140通常编程来响应于从第一控制器120a接收的控制器信号和/或响应于从真空传感器130接收的传感器信号来控制通过真空系统23施加的真空量，其所述控制器信号指示必须对湿膜15的宽度W进行改变，所示传感器信号表示施加到围隔28的室58上的实际真空量与通过控制器140所确定的应当施加到其上的真空量不对应。考虑到前述内容，应当理解，作为非限定性的例子，系统100可以自动和实时控制施加到幅材16上的湿膜15的宽度W以及转而厚度T。更具体地，如果通过传感器110所测定的湿膜15的任何宽度W不对应于预定值或值范围，则通过真空系统23施加的真空量将自动适当调节，以使湿膜15的宽度W回预定值或预定值范围之内。以此方式自动调节湿膜15宽度W特别是导致了湿膜15的厚度T沿幅材16更均匀和一致，其在试剂材料14的情况下导致了将获自施加了湿膜15的幅材14的单个测试元件之间更大的一致性。
除了前述之外，还已经令人惊讶地发现，控制施加到室58上的真空量来调节湿膜15的厚度T导致了沿湿膜15干燥后形成的试剂层的试剂材料14宽度更均匀的厚度轮廓。更具体地，图8提供了用FRT非接触轮廓仪(Non-Contact Profilometer)的轮廓测定法所测量的沿干燥的试剂材料14的条宽度的试剂材料14的厚度轮廓的图示，其中所述试剂材料14的条是利用103-114µm的涂覆间隙CG在没有施加任何真空力来调节湿膜的宽度W和厚度T的情况下形成在幅材16上的。相反，图9提供了沿干燥的试剂材料14的条的宽度的试剂材料14的厚度轮廓的图示，其中所述试剂材料14的条是利用恒定的190µm涂覆间隙CG在施加真空力来控制湿膜的宽度W和厚度T的情况下形成在幅材16上的。如比较图8和9的图示可见，施加真空力来控制湿膜的宽度W和厚度T产生了沿干燥的试剂材料14条的宽度更均匀和恒定的试剂材料14厚度T。
用于产生图8和9的图的FRT非接触轮廓仪的设置如下：
•扫描：沿试剂条的一个维度上(仅仅X轴)。
•数据点编号=两种扫描宽度都是2000个。
•扫描宽度：7.0或9.0mm，这取决于试剂条的宽度。试剂条处于扫描中心。
•扫描时间：大约11.7s(在最大扫描速率下2000个点)。
•最小强度：30-100范围。
•最大工作距离：3.0mm。
•工作距离：从仪器基底表面1.7-1.8mm。减去标称PET膜厚10密耳––1.45-1.55mm。
•在x-y平面内的测量点直径：1-2微米(取决于工作距离)。
•沿z轴的表面位移解析度：10nm。
如本领域技术人员将理解的，其他轮廓仪如Dektak III表面轮廓仪也同样适于这类测量。
另外，虽然前面没有讨论，但是也应当理解，通过控制施加到室58上的真空量来调节湿膜15的宽度W和厚度T也消除了任何这样的需要，即，将狭缝模头26 相对于幅材16移动以使得在涂料12施加到其上时，在所述狭缝模头26和幅材16之间能够保持恒定的涂覆间隙CG。此外，当通过控制施加到室58上的真空量来调节湿膜15的宽度W和厚度T时，也可以保持恒定的涂料12穿过狭缝模头26的流速和恒定的幅材16 相对于狭缝模头26的速度。同样，此处所述方案便利地仅仅需要改变单个方法参数来调节湿膜15的宽度W和厚度T。
虽然前面没有讨论，但是应当理解，设备10和/或系统100可以具有另外的可用于在形成湿膜15之前或之后来处理幅材16的特征。例如在一种形式中，设备10还包括干燥器或干燥机构，其促进了湿膜15干燥以形成试剂材料14的层。在一方面，试剂材料14的干燥层包括相对于基底18为大约1 µm-大约20µm，大约3 µm-大约20µm或大约2 µm-大约10µm的厚度，虽然试剂材料14的干燥层的其他厚度值也是可以预期的。设备10还可以包括一个或多个清洁器或其他部件，用于准备和/或处理幅材16以便施加涂料12。设备10还可以包括一个或多个切割装置来在形成和干燥湿膜15后将幅材16切割成多个测试元件。在一种形式中，该测试元件包括大约20毫米-大约50毫米的长度和大约5毫米-大约15毫米的宽度。在一种更具体的形式中，该测试元件包括大约33毫米-大约38毫米的长度和大约7毫米-大约9毫米的宽度。
如上所示，涉及涂料12的施加的前述说明是参照在基底材料18的幅材16上形成试剂材料14的湿膜层来进行的，由其将获得多个测试元件。一旦形成，该测试元件可以用于能用于评估样品流体中的被分析物的系统中。在一种形式中，该被分析物评估可以是从检测被分析物的存在到测定被分析物的浓度。该被分析物和样品流体可以是该测试系统适用的任何流体。作为非限定性的例子，下面描述了一种实施方案，其中被分析物是葡萄糖，样品流体是血液或间质液。但是，不同的样品流体中其他被分析物的评估也是能够预期的。
该测试元件提供了包括用于样品流体的样品接收室的电化学传感器，且试剂材料14适于在测试被分析物存在下产生电化学信号。在一种形式中，该测试元件呈一次性测试条的形式。该测试元件是与用于测定样品流体中的被分析物的仪器一起使用的。该仪器通常包括与测试元件上的电极的连线，和用于评估对应于被分析物浓度的电化学信号的电路。该仪器还可以包括用于确定样品流体已经被测试元件接收和样品流体的量足以进行测试的装置。该仪器典型地将存储和显示分析结果，或者可以向独立的装置提供该数据。本领域技术人员将理解，根据这里的教导，类似于电化学传感器，也可以制造光学传感器(即配置有试剂材料来在被分析物存在下产生光学信号的传感器)。
该测试元件被认为可用于测定各种被分析物。例如该测试元件可以容易地适应与具有任何的可用于评估被分析物存在的合适的化学性质的试剂材料14一起使用。在一种具体形式中，该测试元件被配置和用于测试生物流体中的被分析物。这样的被分析物可以包括例如葡萄糖、胆固醇、HDL胆固醇、甘油三酸酯、乳酸酯、乳酸脱氢酶、醇、尿酸和3-羟基丁酸(酮体)。可以评估其中的被分析物的生物流体的非限定性例子包括可以测量其中的被分析物的任何体液，例如 间质液、真皮流体、汗、眼泪、尿、羊水、脊髓液和血液。在本文的上下文中，术语“血液”包括全血和它的无细胞组分，即，血浆和血清。当该测试元件配置用于测试葡萄糖时，该样品流体可以特别是包括，例如，获自指尖或经认可的替代部位(例如前臂、手掌、耳垂、上臂、小腿和大腿)的新鲜毛细管血液、和新鲜的静脉血液。另外，该测试元件也可用于与控制流体一起使用，所述控制液体被用于以常规方式来检查测试系统的完整性。
含有待评估的被分析物的体液可以以任何方式获得和递送到测试元件。例如血液样品可以以常规方式通过切开皮肤，例如用柳叶刀，然后使测试元件与出现在皮肤表面的流体接触来获得。在一方面，该测试元件可以运行来仅仅使用非常小的流体样品来评估目标被分析物。类似地，在一方面，仅仅需要很小的皮肤切口来产生测试所需的流体体积，并且疼痛和与这种方法有关的其他症状可被最小化或消除。
由其上沉积了试剂材料14的层的幅材16所形成的测试元件包括几个基本部件。更具体地，该测试元件包括限定了室的小的器体(body)，所述室中接收样品流体用于测试。该“样品接收室”可以用样品流体通过合适的手段填充，例如通过毛细管作用，但是也任选地通过压力或真空辅助。该样品接收室包括电极和适于产生表示样品流体中的被分析物的电化学信号的化学品。
现在参见图10，例如，显示了一部分的幅材16，其包括多个电极系统150a-e，这些电极系统将单独地包括在由所示部分的幅材16形成的不同的测试元件上。每个电极系统150a-e包括多个电极和电极线，其终止于接触板。试剂材料14的层17的一部分叠置于每个电极系统150a-e的一部分上。类似地，应当理解，在幅材16上上形成电极系统150a-e之后，将试剂材料14施加到幅材16上。关于电极系统150a-e的进一步细节以及其中使用了它们的测试元件和系统的其他方面提供在美国专利No.7727467中，其内容以其全部通过引用并入本文。同样如图10所示，试剂层17作为窄条沿所示部分的幅材16的长度和跨过位于其上的每个电极系统150a-e延伸。
幅材16的基底材料18是由绝缘材料形成的，其上布置有电极系统150a-e。典型地，塑料例如乙烯基聚合物、聚酰亚胺、聚酯和苯乙烯，能提供所需的电和结构性能。此外，因为该测试元件可以由材料辊来大规模生产，因此令人期望的是该材料性能适宜地具有用于辊加工的足够的柔性，同时还赋予了最终元件以可用的刚度。基底材料18可以选择为柔性聚合物材料，如聚酯，包括高温聚酯材料；聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)；和聚酰亚胺，或它们中的两种或更多种的混合物。聚酰亚胺可商购获得，例如在商标名Kapton®下市售自E.I.duPont de Nemours and Company of Wilmington，Del.(duPont)。基底材料18的一种具体可能是MELINEX®329，获自duPont。
该测试元件配置来通过电化学氧化和还原反应来检测被分析物的存在和/或测量其浓度。这些反应被转换成与被分析物的量或浓度有关的电信号。类似地，在每个测试元件上的电极系统包括一组测量电极，如至少一个工作电极和对电极，它们位于样品接收室内。该样品接收室配置成使得进入该室的样品流体与工作电极和对电极二者呈电解接触。这使得电流能够在所述测量电极之间流动以实现被分析物的电氧化或电还原。
“工作电极”是被分析物在具有或不具有氧化还原介体机构的情况下其上发生电氧化或电还原的电极，而术语“对电极”在此指的是与工作电极配对的电极，并且与通过工作电极传输的电流大小相等符号相反的电流传输通过它。术语“对电极”意在包括也充当参比电极的对电极(即，对/参比电极)。
该工作电极和对电极以及电极系统的其余部分可以由各种材料形成。在一方面，该电极应当具有相对低的电阻和应当在测试元件的工作范围内是电化学惰性的。适合工作电极的导体包括金、钯、铂、碳、钛、二氧化钌和氧化铟锡和铱以及其他。对电极可以由相同或不同的材料制成，例如银/氯化银。在一种具体的实施方案中，该工作电极和对电极都是金电极。
该电极可以以能产生具有足够导电率和完整性的电极的任何方式施加到基底材料18上。示例性方法包括溅射和印刷，只是提供几个非限定性的可能性。在一种具体形式中，金电极是通过涂覆基底材料18，然后除去选定的部分涂层来产生电极系统而获得的。一种用于除去部分涂层的具体方法包括激光烧蚀，更具体地宽域激光烧蚀，如美国专利No.7073246所公开的，其内容以其全部通过引用并入本文。
激光烧蚀技术通常包括烧蚀单个金属层或多层组合物，所述多层组合物包含绝缘材料和导电材料，例如涂覆或层合到绝缘材料上的金属层的金属层合体。该金属层可以包含纯金属、合金或其他材料，其是金属导体。金属或金属状导体的例子包括：铝、碳(例如石墨)、钴、铜、镓、金、铟、铱、铁、铅、镁、汞(作为汞合金)、镍、铌、锇、钯、铂、铼、铑、硒、硅(例如高掺杂的多晶硅)、银、钽、锡、钛、钨、铀、钒、锌、镐、其混合物和这些材料的合金或固溶体。在一方面，选择该材料以基本上与生物系统不反应，其非限定性的例子包括金、铂、钯、铱、银或这些金属的合金或氧化铱锡。该金属层可以是任何期望的厚度的，其在一种具体形式中为大约500nm。
该电极系统可以具有各种适于测试元件和相应的仪器操作的构造。在一种形式中，布置和尺寸化工作电极和对电极，以使得覆盖它们所需的样品流体的体积最小。另外也可以配置所述电极以保持足够大小的电流通量，以便可使用相对廉价的手持仪器来测量。
又例如，一种具体形式包括绕工作电极两侧延伸的对电极。该对电极所以具有两个元件，当样品流体进入样品接收室时，一个在工作电极前面而另一个在工作电极后面。更具体地，该对电极包括跨样品接收室延伸的元件。这些元件中的每个为大约250µm宽。该工作电极元件的宽度为大约250µm，并且与两个对电极元件中每个间隔大约255µm。但是应当理解前述内容仅仅是用于测量电极的众多构造中的一种。
电极导线和接触板可以以多种与它们相对于测试元件的目标功能一致的方式提供。电极系统的这些部件可以由与电极相同的材料构成，并且以与电极的施加相同的方式和同时施加到基底上。在一种具体的实施方案中，该导线和接触板是金的，并且是通过激光烧蚀形成的，特别是如美国专利No.7073246中所述，其通过引用并入本文。但是，可以使用替代材料和施加方法。
试剂材料14可以运行来与测试的被分析物反应，以产生电化学信号，该信号代表了样品流体中被分析物的存在。试剂层17可以包含各种活性组分，其选择来确定各种被分析物的存在和/或浓度。该测试化学因此是相对待评估的被分析物来选择的。作为本领域所公知的，存在着众多的化学可用于与各种被分析物中的每一个一起使用。例如在一种具体形式中，试剂层17可以包含一种或多种酶、辅酶和辅因子，其可以选择来测定血液中葡萄糖的存在。在一种更具体的形式中，其中被分析物是葡萄糖，试剂材料14的活性组分将典型地包含氧化还原酶，如用于葡萄糖的酶；任选地辅酶或辅因子；和氧化还原介体。这些组分通常溶解或悬浮在基质中。该液体测试样品水合或溶解该基质，该被分析物扩散穿过基质以与一种或多种活性组分反应。典型地，所述酶将测试样品中的葡萄糖氧化成葡萄糖内酯和/或葡糖酸。该介体接着与还原和酶反应或将其氧化，并且因此该介体在所述过程中被还原。该还原的调节剂可以在测试条上的其中一个电极处被检测到。有关用于测定血液中葡萄糖的存在的试剂材料14的具体形式的更具体的细节可以在美国专利No.7727467中找到，其内容以其整体通过引用并入本文。
在常规方式中，试剂材料14可以包含多个辅助剂来增强其不同的性能或特性。参见例如此上提及的美国专利No.7749437。例如试剂材料14可以包含这样的材料，其有利于将试剂材料14置于幅材16上和改进它对于幅材16的粘附性，或提高试剂材料14被样品流体水合的速率。此外，试剂材料14可以包含这样的组分，其选择来增强所形成的干燥的试剂层的物理性能，和吸收液体测试样品用于分析。与试剂材料14一起使用的辅助剂材料的例子包括增稠剂、粘度调节剂、成膜剂、稳定剂、缓冲剂、清洁剂、胶凝剂、填料、膜开孔剂(film opener)、着色剂和赋予触变性的试剂。
能够包含在试剂材料14中的增稠剂的非限定性例子包括(1)淀粉，树胶(例如果胶、瓜尔胶、槐豆(角豆)胶、魔芋胶（konjac gum）、黄原胶、藻酸盐和琼脂)、酪蛋白、动物胶和藻胶；(2)纤维素和半合成纤维素衍生物(羧甲基纤维素、甲基纤维素、羟甲基纤维素、羟乙基纤维素、甲基羟乙基纤维素)；(3)聚乙烯醇和羧基乙烯基化物(carboxy vinylate)；和(4)斑脱土、硅酸盐和胶体二氧化硅。增稠剂的更具体形式包括在商标名Keltrol F下由CP Kelco US，Inc.销售的黄原胶与在商标名AQUALON® CMC7F PH下由Hercules Inc.，Aqualon Division销售的羧甲基纤维素的组合。
能够包含在试剂材料14中的成膜剂和触变剂包括聚合物和二氧化硅。一种更具体的触变剂包括在商标名Kieselsaure Sipemate FK320DS下由Degussa AG销售的二氧化硅，而更具体的成膜剂包括聚乙烯吡咯烷酮，在商标名聚乙烯吡咯烷酮Kollidon 25下由BASF销售，和聚乙烯丙酸酯分散体。
用于试剂材料14中的酶的稳定剂可以选自糖类和单或二脂肪酸盐。更具体的稳定剂包括在商标名D-(+)-Trehalose dihydrate下由Sigma Chemical Co.销售的海藻糖和琥珀酸钠。
能够包含在试剂材料14中的清洁剂的非限定性例子包括水溶性皂以及水溶性合成表面活性化合物，如高级脂肪酸(例如油酸或硬脂酸、天然脂肪酸的混合物，例如来自椰子或牛油)的碱、碱土或任选地取代的铵盐，脂肪硫酸盐，磺酸的酯，烷基磺酸的盐，脂肪酸的牛磺酸盐，脂肪酸酰胺和酯酰胺。更具体形式的清洁剂包括酯酰胺，正辛酰基-N-甲基葡糖酰胺，在商标名Mega-8下由Dojindo Molecular Technologies，Inc.销售，和脂肪酸盐，N-甲基油基牛磺酸钠盐，在商标名Geropon T77下由Rhodia HPCII(Home，Personal Care and Industrial Ingredients)销售。
在一种形式中，试剂材料14被配制为包含增稠剂和触变剂的粘性溶液，来增强试剂层17的物理性能。选择该增稠剂来提供增稠的液体基质，其余组分均匀地分散在其中。该增稠剂和触变剂也防止了液体或半糊材料在它已经沉积之后和它干燥之前，在幅材16的表面上流挂或蔓延。在试剂材料14沉积后，它快速干燥成容易水合的基质。
测试元件的一个例子(其配置与电化学技术一起使用，并且包括可以根据此处公开的技术来施加的试剂材料层)是ACCU-CHEK® Aviva测试条，其更完全地描述在美国专利No.7727467中，其公开内容以其整体通过引用并入本文。该示例性测试元件在美国是由印第安纳州的印第安纳波利斯的Roche Diagnostics Corporation分销的。
实施例
下面的实施例是用于说明目的，并不解释为将本文所公开的发明限制于仅在这些实施例中公开的实施方案。
实施例 I
提供下面的实施例来说明与试剂材料14向幅材16的施加有关的流速、涂覆间隙和真空参数之间的关系。下面所述各个实施例A-G表明当在试剂材料14的多个不同流速下涂覆间隙增加时且基底相对于狭缝模头以大约10m/min的速率移动时，必须施加真空来保持7毫米的湿膜宽度。
Figure 131781DEST_PATH_IMAGE002
Figure 125145DEST_PATH_IMAGE003
Figure 879474DEST_PATH_IMAGE004
Figure 803437DEST_PATH_IMAGE005
Figure 326822DEST_PATH_IMAGE006
Figure 694350DEST_PATH_IMAGE007
图11进一步提供了各个实施例A-G的参数之间的关系的图示。如上所示，这些实施例不解释为限制本文所公开的发明。此外，还应当理解这些实施例中所公开的一个或多个值可以随着不同的加工参数例如幅材速率和/或试剂流速的变化而变化。
在一种实施方案中，用狭缝模具设备来施加涂料的技术包括调节该狭缝模具的至少一部分排出端周围的空气压力，以控制施加到基底上的涂料的湿膜的宽度和厚度。这种技术特别是允许增大狭缝模具排出端与基底之间的涂覆间隙，其导致了减少的由困在狭缝模具与基底之间的碎屑造成的湿膜缺损如拖尾。增大的涂覆间隙也降低了基底厚度的变化对于涂覆过程的影响。另外，控制湿膜的宽度和厚度的能力也提高了沿基底和跨湿膜宽度的厚度均匀性，其在基底被用于形成测试元件，来测量测试样品中选定的被分析物的存在和/或浓度的情况下，导致了测试元件中更大的批与批之间的一致性和精度。不受限于任何具体形式，在这种实施方案的一个方面，该涂料包含用于检测体液(如血液)中葡萄糖的存在和/或浓度的试剂材料。但是，在其他方面中，还可以预期该涂料可以是适于用狭缝模具涂覆方法施加的任何材料。
在另一种实施方案中，用于在基底上形成涂料的窄的连续条或湿膜(宽度小于大约9毫米和厚度小于大约100µm)的方法包括，调节狭缝模具的至少一部分排出端周围的空气压力，以控制基底上的涂料湿膜的宽度和厚度。该实施方案的一个方面包括当控制涂料的湿膜的宽度和厚度时，保持涂料的流速、狭缝模具与基底之间的涂覆间隙和基底相对于狭缝模具的速度中的一个或多个恒定。在该实施方案的另一个方面，控制湿膜的宽度和厚度包括保持湿膜的宽度和厚度恒定和改变湿膜的宽度和厚度中的一个或两者。在又一个方面，狭缝模具的至少一部分排出端周围的空气压力是响应于确定一部分已经施加到基底上的湿膜的宽度不对应于预定值或落入预定值的范围内而自动调节的。在这个方面的一种形式中，空气压力是以一定方式自动调节的，即，导致随后施加的湿膜具有对应于落入预定值范围内的预定值的宽度。
虽然在附图和前面的说明中详细地说明和描述了本发明，但是其被认为是示例性的，而非限制性的，应当理解仅仅显示和描述了某些实施方案，并且在本发明主旨内的所有变化和改变都期望获得保护。应当理解虽然使用了在上面的说明书中诸如优选、优选地，优选的或更优选的等措辞的使用表示所述特征可能是更令人期望的，但是它可以不是必需的，并且缺少其的实施方案可被预期处于本发明的范围之内，该范围是由后面的权利要求定义的。在阅读权利要求时，当使用措辞如“一个”、“一种”、“至少一种”或“至少一部分”时，除非在权利要求中有明确的相反指示，并非打算将权利要求限制到仅仅一个项目。当使用语言“至少一部分”和/或“一部分”，除非有相反的明确指示，该项目可以包括一部分的和/或整个项目。
下面是本发明的实施方案列表：
1.一种将湿膜施加到基底上的方法，其包括：
将涂料从狭缝模具的排出端施加到所述基底的移动幅材上，以在所述基底上形成所述湿膜，所述湿膜具有相对于所述基底的宽度和厚度；
在所述狭缝模具的所述排出端邻近施加真空力；和
在施加所述涂料的同时实时调节所述真空力，以控制所述湿膜的所述宽度和厚度。
2.实施方案1的方法，其进一步包括检测所述湿膜的所述宽度，和其中响应于确定所述宽度对应于不同于预定值的值来进行所述真空力的调节。
3.实施方案2的方法，其中所述预定值为大约5毫米。
4.实施方案2的方法，其中所述预定值为大约7毫米。
5.实施方案2的方法，其中所述预定值为大约4.7毫米-大约5.3毫米。
6.实施方案2的方法，其中所述预定值为大约6.7毫米-大约7.5毫米。
7.实施方案1的方法，其中所述基底是由聚合物材料形成的，在其上布置有多个电极图案。
8.实施方案7的方法，其包括将所述涂料从所述狭缝模具的所述排出端施加在所述电极图案之上，以在所述电极图案上形成所述湿膜。
9.实施方案1的方法，其中施加所述真空力包括将真空箱布置在所述狭缝模具的所述排出端附近，所述真空箱包括彼此相对布置并且处于所述湿膜上游的一对真空出口。
10.实施方案1的方法，其进一步包括保持所述狭缝模具与所述移动幅材之间的涂覆间隙恒定。
11.实施方案10的方法，其中所述涂覆间隙为大约40µm-大约450µm。
12.实施方案1的方法，其中所述涂料包含用于在测试被分析物的存在下产生电化学信号的试剂。
13.实施方案12的方法，其中所述测试被分析物是葡萄糖，且所述试剂包含酶、辅酶和辅因子中的至少一种。
14.实施方案1的方法，其中所述湿膜的所述厚度为大约40µm-大约100µm。
15.实施方案1的方法，其进一步包括干燥所述湿膜来提供所述涂料在所述基底上的干燥层，所述涂料的所述干燥层包括大约3 µm-大约20µm的干燥厚度。16.实施方案1的方法，其中施加所述真空力在所述排出端的上游侧和所述排出端的下游侧之间产生了压力差。
17.一种用于将湿膜施加到基底上的设备，包括：
狭缝模具，其可邻近所述基底布置并且包括排出端，涂料可以从所述排出端排出到所述基底上以形成所述湿膜；和
空气压力调节系统，所述系统可以运行来通过当将所述涂料排出到所述基底上时调节所述狭缝模具的所述排出端附近的空气压力，来控制所述湿膜相对于所述基底的宽度和厚度。
18.实施方案17的设备，其中所述空气压力调节系统包括至少部分包围所述狭缝模具的所述排出端的围隔，和与所述围隔相连的真空源。
19.实施方案18的设备，其进一步包括：
传感器，其配置来测定所述湿膜的宽度和提供相应的代表所述宽度的传感器信号；和
控制器，当所述传感器信号代表了对应于不同于预定值的值的宽度时，所述控制器响应于所述传感器信号来调节通过所述真空源施加到所述围隔上的真空量。
20.实施方案19的设备，其中所述预定值为大约4.7毫米-大约5.3毫米。
21.实施方案19的设备，其中所述预定值为大约6.7毫米-大约7.5毫米。
22.实施方案18的设备，其中所述真空源是在所述湿膜上游的位置与所述围隔相连的。
23.实施方案22的设备，其中所述围隔包括彼此相对布置的一对真空出口。
24.实施方案17的设备，其进一步包括所述基底的移动幅材，所述幅材由聚合物材料形成，在其上布置有多个电极图案。
25.实施方案24的设备，其中所述狭缝模具可定位在所述电极图案之上，以使得所述涂料可以从所述排出端排出以在所述电极图案上形成所述湿膜。
26.实施方案17的设备，其中大约40µm-大约450µm的涂覆间隙在所述狭缝模具的所述排出端与所述基底之间延伸。
27.实施方案17的设备，其进一步包括辊系统，所述系统可以运行来将所述基底相对于所述狭缝模具移动。
28.实施方案17的设备，其进一步包括与所述狭缝模具的所述排出端流体连通的存储器，所述存储器含有一定量的所述涂料，和所述涂料包含用于在测试被分析物的存在下产生电化学信号的试剂。
29.实施方案28的设备，其中所述测试被分析物是葡萄糖，且所述试剂包含酶、辅酶和辅因子中的至少一种。
30.一种将湿膜施加到基底上的方法，其包括：
将涂料从狭缝模具的排出端施加到所述基底上，以在所述基底上形成所述湿膜；
通过调节所述狭缝模具的上游侧和所述狭缝模具的下游侧之间存在的压力差来控制所述湿膜相对于所述基底的厚度；和
在控制所述湿膜厚度的同时，保持所述狭缝模具的所述排出端与所述基底之间的涂覆间隙恒定。
31.实施方案30的方法，其中调节所述压力差包括改变施加到所述狭缝模具的所述上游侧附近的真空量。
32.实施方案30的方法，其中调节所述压力差是响应于确定所述湿膜宽度对应于不同于预定值的值而进行的。
33.实施方案32的方法，其中所述预定值为大约2.5毫米-7.5毫米。
34.实施方案30的方法，其进一步包括相对于所述狭缝模具移动所述基底，和在控制所述湿膜厚度的同时保持所述基底相对于所述狭缝模具的移动速率恒定。
35.实施方案30的方法，其进一步包括在控制所述湿膜厚度的同时，保持所述涂料流过所述狭缝模具的流速恒定。
36.实施方案30的方法，其中所述涂覆间隙为大约40µm-大约450µm。
37.实施方案30的方法，其中所述涂料包含用于在测试被分析物的存在下产生电化学信号的试剂。

Claims (19)

1.一种将湿膜施加到基底上的方法，其包括：
将涂料从狭缝模具的排出端施加到所述基底的移动幅材上，以在所述基底上形成所述湿膜，所述湿膜具有相对于所述基底的宽度和厚度；
在所述狭缝模具的所述排出端附近施加真空力；和
在施加所述涂料的同时，实时调节所述真空力，以控制所述湿膜的所述宽度和/或厚度。
2.权利要求1的方法，其进一步包括检测所述湿膜的宽度，且其中响应于确定所述宽度对应于不同于预定值的值而进行所述真空力的调节。
3.权利要求1或2的方法，其中所述基底是由聚合物材料形成的，在其上可以布置有多个电极图案。
4.权利要求1、2或3的方法，其中施加所述真空力包括将真空箱布置在所述狭缝模具的所述排出端附近，所述真空箱包括彼此相对布置并且位于所述湿膜上游的一对真空出口。
5.前述任一项权利要求的方法，其进一步包括保持所述狭缝模具与所述移动幅材之间的涂覆间隙恒定。
6.前述任一项权利要求的方法，其中所述涂料包含用于在测试被分析物的存在下产生光学或电化学信号的试剂。
7.前述任一项权利要求的方法，其中施加所述真空力在所述排出端的上游侧和所述排出端的下游侧之间产生了压力差。
8.一种用于将湿膜(15)施加到基底(16)上的设备(10)，其包括：
狭缝模具(22)，其可邻近所述基底布置并且包括排出端(35)，涂料(12)可以从所述排出端(35)排出到所述基底上以形成所述湿膜；和
空气压力调节系统(100)，所述系统可以运行来通过当将所述涂料排出到所述基底上时调节所述狭缝模具的所述排出端附近的空气压力，来控制所述湿膜相对于所述基底的宽度和厚度。
9.权利要求8的设备，其中所述空气压力调节系统包括至少部分包围所述狭缝模具的所述排出端的围隔(58)，和与所述围隔相连的真空源(23)。
10.权利要求8或9的设备，其进一步包括：
传感器(110)，其配置来测定所述湿膜的宽度(W)和提供相应的代表所述宽度的传感器信号；和
控制器(120，140)，当所述传感器信号代表了对应于不同于预定值的值的宽度时，所述控制器响应于所述传感器信号来调节通过所述真空源施加到所述围隔上的真空量。
11.权利要求9或10的设备，其中所述真空源是在所述湿膜上游的位置与所述围隔连接的。
12.权利要求11的设备，其中所述围隔包括彼此相对布置的一对真空出口。
13.权利要求8-12任一项的设备，其进一步包括与所述狭缝模具的所述排出端流体连通的存储器(21)，所述存储器含有一定量的所述涂料，和所述涂料包含用于在测试被分析物的存在下产生光学或电化学信号的试剂。
14.一种将湿膜施加到基底上的方法，其包括：
将涂料从狭缝模具的排出端施加到所述基底上，以在所述基底上形成所述湿膜；
通过调节所述狭缝模具的上游侧和所述狭缝模具的下游侧之间存在的压力差来控制所述湿膜相对于所述基底的厚度；和
在控制所述湿膜厚度的同时，保持所述狭缝模具的所述排出端与所述基底之间的涂覆间隙恒定。
15.权利要求14的方法，其中调节所述压力差包括改变施加到所述狭缝模具的所述上游侧附近的真空量。
16.权利要求14或15的方法，其中调节所述压力差是响应于确定所述湿膜宽度对应于不同于预定值的值而进行的。
17.权利要求14、15或16的方法，其进一步包括相对于所述狭缝模具移动所述基底，和在控制所述湿膜厚度的同时保持所述基底相对于所述狭缝模具的移动速率恒定。
18.权利要求14-17任一项的方法，其进一步包括在控制所述湿膜厚度的同时保持所述涂料流过所述狭缝模具的流速恒定。
19.权利要求14-18任一项的方法，其中所述涂料包含用于在测试被分析物的存在下产生光学或电化学信号的试剂。
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