CN110180744A - 涂覆装置及涂覆方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及涂覆装置及涂覆方法。本发明的课题为，在与形成于长条带状基材的第1主面上的第1涂覆膜相对应地在基材的第2主面上形成第2涂覆膜的涂覆技术中，以高精度使第2涂覆膜的涂覆宽度与第1涂覆膜的涂覆宽度一致。本发明的涂覆装置具备：位置获取部，其在长度方向上于第2主面侧涂布部的上游侧获取基材的第1主面上的第1涂覆膜的位置；变化信息获取部，其获取与长度方向垂直的宽度方向上的第2涂覆膜的宽度尺寸相对于第2主面侧湿膜的宽度尺寸的变化量作为第2主面侧变化信息；和供给调节部，其基于第1涂覆膜的位置及第2主面侧变化信息而对来自第2主面侧喷嘴的涂覆液的供给进行调节。

Description

涂覆装置及涂覆方法

技术领域

本发明涉及在基材的两个主面上形成涂覆膜的涂覆装置及涂覆方法。

背景技术

对于例如日本特开2016-186371号公报中记载的涂覆装置而言，在以辊对辊方式连续地输送长条状基材(作为集电体发挥功能的金属等导电体片材、在表面上形成有金属薄膜的树脂片材等)的同时，在基材的两个主面上形成涂覆膜。在该涂覆装置中，为了在基材的一个主面上涂覆第1涂覆膜，在对基材的一个主面供给涂布液而形成湿膜后输送至第1干燥装置，促进构成湿膜的涂布液的溶剂成分的挥发，使涂布液干燥固化。由此，使湿膜变化为干膜从而完成第1涂覆膜的涂覆处理。然后，基于用照相机对第1涂覆膜(干膜)进行摄像而得到的图像数据来测定涂覆宽度，基于该涂覆宽度来执行针对基材的另一主面的涂覆处理。即，向基材的另一主面中的与第1涂覆膜相对应的位置供给涂布液从而形成湿膜之后，输送至第2干燥装置，使该湿膜变化为干膜从而完成第2涂覆膜的涂覆处理。

发明内容

发明要解决的课题

在上述现有装置中，虽然基于第1涂覆膜的图像数据而在基材的另一主面上形成湿膜，但存在下述情况：在该湿膜从第2干燥装置通过的期间内，湿膜的溶剂成分挥发，第2涂覆膜的最终的涂覆宽度发生大幅变化(参见后文中说明的图5)。这种情况下，第1涂覆膜与第2涂覆膜之间的涂覆宽度相异，从而导致制品品质的降低。

本发明是鉴于上述课题而作出的，其目的在于，在与形成于长条带状基材的第1主面上的第1涂覆膜相对应地在基材的第2主面上形成第2涂覆膜的涂覆技术中，以高精度使第2涂覆膜的涂覆宽度与第1涂覆膜的涂覆宽度一致。

用于解决课题的手段

本发明的第1方式为与形成于沿长度方向延伸的长条带状基材的第1主面上的第1涂覆膜相对应地、在基材的第2主面上形成第2涂覆膜的涂覆装置，所述涂覆装置的特征在于，具备：输送部，其沿长度方向对基材进行输送；第2主面侧涂布部，其具有第2主面侧喷嘴，所述第2主面侧喷嘴向由输送部输送的基材的第2主面供给涂覆液从而形成第2主面侧湿膜；第2主面侧干燥部，其使由输送部从第2主面侧涂布部输送而来的基材的第2主面上所形成的第2主面侧湿膜干燥，从而形成第2涂覆膜；位置获取部，其在长度方向上于第2主面侧涂布部的上游侧获取基材的第1主面上的第1涂覆膜的位置；变化信息获取部，其获取与长度方向垂直的宽度方向上的第2涂覆膜的宽度尺寸相对于第2主面侧湿膜的宽度尺寸的变化量作为第2主面侧变化信息；和供给调节部，其基于第1涂覆膜的位置及第2主面侧变化信息而对来自第2主面侧喷嘴的涂覆液的供给进行调节。

本发明的第2方式为与形成于沿长度方向延伸的长条带状基材的第1主面上的第1涂覆膜相对应地、在基材的第2主面上形成第2涂覆膜的涂覆方法，所述涂覆方法的特征在于，包括下述工序：涂覆工序，在将形成有第1涂覆膜的基材沿长度方向输送的同时，在涂覆液供给位置向基材的第2主面供给涂覆液从而形成第2主面侧湿膜，并且，在长度方向上于涂覆液供给位置的下游侧使基材的第2主面上的第2主面侧湿膜干燥，从而形成第2涂覆膜；和调节工序，在开始涂覆工序前，基于基材的第1主面上的第1涂覆膜的位置、和与长度方向垂直的宽度方向上的第2涂覆膜的宽度尺寸相对于第2主面侧湿膜的宽度尺寸的变化量，对来自第2主面侧喷嘴的涂覆液的供给进行调节。

在以上述方式构成的发明中，与已形成于第1主面上的第1涂覆膜相对应地，对沿长度方向输送的基材的第2主面供给涂覆液。由此，第2主面侧湿膜形成于基材的第2主面上。将该第2主面侧湿膜利用第2主面侧干燥部进行干燥从而形成第2涂覆膜。这里，存在下述情况：在第2主面侧湿膜从第2主面侧干燥部通过的期间内，湿膜的溶剂成分挥发从而导致第2涂覆膜的最终的涂覆宽度、即宽度方向上的第2涂覆膜的宽度尺寸大幅变化。然而，在本发明中，第2涂覆膜的宽度尺寸相对于第2主面侧湿膜的宽度尺寸的变化量作为第2主面侧变化信息而被获取，与其相应地执行来自第2主面侧喷嘴的涂覆液的供给调节。需要说明的是，所谓“与第1涂覆膜相对应地在基材的第2主面上形成第2涂覆膜”，是指以在宽度方向上第1涂覆膜的形成位置与第2涂覆膜的形成位置一致的状态，夹着基材而相对地形成了第1涂覆膜和第2涂覆膜。另外，“涂覆液的供给调节”中，如后文所详述的那样，包括对来自第2主面侧喷嘴的涂覆液的每单位时间的供给量进行调节的动作、对第2主面侧喷嘴与基材的间隙进行调节的动作等。

发明效果

如上文所述，基于利用第2干燥部使形成于基材的第2主面上的第2主面侧湿膜干燥从而形成第2涂覆膜时的宽度尺寸的变化量，来进行涂覆液的供给调节。因此，能够高精度地使第2涂覆膜的涂覆宽度与第1涂覆膜的涂覆宽度一致。

附图说明

[图1]为示出本发明涉及的涂覆装置的第1实施方式的概略构成的图。

[图2]为示出图1所示涂覆装置的电气构成的框图。

[图3]为示出利用图1所示涂覆装置执行的涂覆处理的概要的流程图。

[图4]为示出在涂覆处理中执行的调节工序的流程图。

[图5]为示意性地示出图4所示调节工序的图。

[图6]为示意性地示出在调节工序后形成于基材上的湿膜及干膜的图。

[图7]为示出本发明涉及的涂覆装置的第2实施方式的调节工序的流程图。

[图8]为示意性地示出当干燥部的干燥性能具有不均匀性时发生的涂覆膜的变动的图。

[图9]为示出本发明涉及的涂覆装置的第3实施方式的调节工序的流程图。

附图标记说明

1…输送部

2a…第1涂布部

2b…第2涂布部

3a…第1干燥部

3b…第2干燥部

4…控制单元

5ad、5bd、5aw、5bw…摄像照相机

21a…第1喷嘴

21b…第2喷嘴

22…送液机构

41…存储部

42…运算处理部

100…涂覆装置

Ds…长度方向(输送方向)

Fa…第1涂覆膜

Fb…第2涂覆膜

Fad…第1干膜

Fbd…第2干膜

Pad、Paw…摄像位置

Faw…第1湿膜

Fbw…第2湿膜

PS1…第1涂覆液供给位置

PS2…第2涂覆液供给位置

Sa…第1主面

Sb…第2主面

W…涂覆宽度

W…宽度尺寸

X…宽度方向

α、β…变化率

具体实施方式

图1为示出本发明涉及的涂覆装置的第1实施方式的概略构成的图。另外，图2为示出图1所示涂覆装置的电气构成的框图。该涂覆装置100为对以辊对辊方式被输送的沿长度方向延伸的长条片状基材S的两个主面涂布糊状涂覆液从而形成涂覆膜的装置，其用于例如锂离子二次电池这样的电池用电极的制造。为了将以下各图中的方向统一示出，如图1所示地设定XYZ直角坐标系。这里，XY平面为水平面，X轴为沿基材S的宽度方向延伸的轴，另一方面，Y轴为与X轴垂直、沿基材S的水平输送方向延伸的轴。Z轴表示铅垂轴，(-Z)方向表示铅垂向下的方向。

涂覆装置100具有用于以辊对辊方式对基材S进行输送的输送部1。输送部1具备供给辊11、卷取辊12以及多个辅助辊13。已被卷绕成卷状的长条片状基材S被设置于供给辊11，并且从卷中拉出的基材S的一个端部被卷绕于卷取辊12。在卷取辊12上连接有辊驱动机构14(图2)，根据来自对装置整体进行控制的控制单元4的控制指令而使卷取辊12沿图1的箭头Dr方向进行旋转。由此，基材S一边被从供给辊11送出并沿基材S的长度方向Ds输送而被引导至多个辅助辊13，一边被卷取辊12所卷取。多个辅助辊13配置于被连续输送的基材S的输送路径上的适当位置。因此，输送方向(长度方向)Ds并非限定于一个固定方向，而是例如如图1所示，可利用多个辅助辊13而适当变更。需要说明的是，关于辅助辊13的个数以及配置位置，不限于图1所示的情况，可根据需要而适当增减。

沿着上述基材S的输送路径而依次设置有第1涂布部2a、第1干燥部3a、第2涂布部2b、第2干燥部3b。它们之中，第1涂布部2a被配置于最接近供给辊11的位置，第2涂布部2b被配置于基材S的输送路径的中间位置。

第1涂布部2a具有：朝向基材S的第1主面(后文中说明的图5、图6中的标记Sa)喷出涂覆液的喷嘴21、和利用泵而将贮存于罐中的涂覆液向喷嘴21送液的送液机构22(图2)。喷嘴21在第1涂覆液供给位置PS1将由送液机构22送液的涂覆液喷出，所述第1涂覆液供给位置PS1为与辅助辊13之中作为支承辊发挥功能的辅助辊(图1中的标记13a)所抵接的区域相对的位置。由此，在稳定地维持喷嘴21与基材S的一个主面之间的间隙的同时进行涂布，在基材S的第1主面上形成湿膜(参见图5(a)、图6(a))。另外，根据来自控制单元4的指令而对泵进行控制，由此能够高精度地控制每单位时间的涂覆液的喷出量，能够调节湿膜的宽度(与输送方向Ds垂直的水平方向上的尺寸)。

这里，例如，通过使用包含活性物质材料的糊剂作为涂覆液，从而能够制造在集电体层的表面上层合活性物质层而成的电池用电极。这样的涂覆液通常粘度较高，例如可使用剪切速率10s^-1时的粘度为50Pa·s至300Pa·s左右的涂覆液。

在基材S的输送方向Ds上，在第1涂布部2a的下游侧配置第1干燥部3a，使利用第1涂布部2a形成的湿膜干燥固化。对于干燥部3a而言，针对在被传送至其内部的基材S的第1主面上涂布的湿膜，供给例如干燥空气、热风、红外线等，由此促进构成湿膜的涂覆液的溶剂成分的挥发，使湿膜干燥固化从而形成干膜(参见图5(b)、图6(b))。在涂覆液为包含感应特定的电磁波而发生干燥固化的材料的情况下，也可以构成为向涂覆液照射该电磁波。沿着基材S输送路径的干燥部3a的长度与涂覆液的干燥固化时间相对应。

在该第1干燥部3a的输送方向Ds的下游侧，在输送方向Ds上依次配置有第2涂布部2b及第2干燥部3b。对于第2涂布部2b而言，除了涂覆液的供给目标为基材S的另一主面这点以外，其具有与第1涂布部2a相同的构成。也即，第2涂布部2b在第2涂覆液供给位置PS2将由送液机构22(图2)送液的涂覆液喷出，所述第2涂覆液供给位置PS2为与辅助辊13之中作为支承辊发挥功能的辅助辊(图1中的标记13b)所抵接的区域相对的位置。由此，在稳定地维持喷嘴21与基材S的第2主面之间的间隙的同时进行涂覆液的涂布，在基材S的第2主面上形成湿膜(参见图5(c)、图6(c))。需要说明的是，在以下说明中，当对第1涂布部2a的喷嘴21与第2涂布部2b的喷嘴21进行区分说明时，将各自称为“喷嘴21a”、“喷嘴21b”，在不将它们区分的情况下，简称为“喷嘴21”。

另外，第2干燥部3b具有与干燥部3a相同的构成，促进构成在被传送至其内部的基材S的第2主面上涂布的湿膜的涂覆液的溶剂成分的挥发，使湿膜干燥固化从而形成干膜(参见图5(d)、图6(d))。

为了对以上述方式形成于基材S的各主面上的湿膜及干膜(涂覆膜)的宽度方向X上的宽度尺寸(有时也称为涂覆宽度、膜宽度)进行管理，涂覆装置100具有4个摄像照相机5aw、5ad、5bw、5bd。它们之中，摄像照相机5aw为第1湿膜用摄像照相机，其在基材S的长度方向Ds上被配置于第1涂布部2a与第1干燥部3a之间，对利用第1涂布部2a而涂布于基材S的第1主面上的第1湿膜进行摄像，将该图像数据发送至控制单元4。另外，摄像照相机5ad为第1干膜用摄像照相机，其在基材S的长度方向Ds上被配置于第1干燥部3a与第2涂布部2b之间，对利用第1干燥部3a而被干燥固化从而形成于基材S的第1主面上的第1干膜(即第1涂覆膜)进行摄像，将该图像数据发送至控制单元4。另外，摄像照相机5bw为第2湿膜用摄像照相机，其在基材S的长度方向Ds上被配置于第2涂布部2b与第2干燥部3b之间，对利用第2涂布部2b而被涂布于基材S的第2主面上的第2湿膜进行摄像，将该图像数据发送至控制单元4。此外，摄像照相机5bd为第2干膜用摄像照相机，其在基材S的长度方向Ds上被配置于第2干燥部3b与卷取辊12之间，对利用第2干燥部3b而被干燥固化从而形成于基材S的第2主面上的第2干膜(即第2涂覆膜)进行摄像，将该图像数据发送至控制单元4。

如图2所示，控制单元4除了具有存储部41以外还具有运算处理部42。运算处理部42具有CPU等，按照预先存储于存储部41的程序而对装置各部进行控制，并执行将调节工序与涂覆工序组合而成的处理。在该调节工序中，运算处理部42基于由摄像照相机5ad摄像而得的第1干膜、即第1涂覆膜的图像来获取基材S的第1主面上的第1涂覆膜的位置。另外，运算处理部42基于由摄像照相机5bw摄像而得的基材S的第2主面上的第2湿膜的图像以及由摄像照相机5bd摄像而得的第2干膜、即第2涂覆膜的图像，来获取第2涂覆膜的宽度尺寸相对于湿膜的宽度尺寸的变化量(本实施方式中，为变化率)作为第2主面侧变化信息。此外，运算处理部42基于第1涂覆膜的位置及第2主面侧变化信息而对来自构成第2涂布部2b的喷嘴21的涂覆液的供给进行调节。由此，运算处理部42作为本发明的“位置获取部”、“变化信息获取部”以及“供给调节部”发挥功能，并执行调节工序。需要说明的是，图2中的标记6示出操作显示部，其用于将接下来说明的涂覆处理(＝调节工序+涂覆工序)的进行状况、异常的发生等根据需要而报知用户、并且接收来自用户的各种信息的输入。

图3为示出利用图1所示涂覆装置执行的涂覆处理的概要的流程图。图4为示出在涂覆处理中执行的调节工序的流程图。图5为示意性地示出图4所示调节工序的图。图6为示意性地示出在调节工序后形成于基材上的湿膜及干膜的图。图5及图6中的(a)～(d)栏分别示意性地示出摄像照相机5aw、5ad、5bw、5bd的摄像位置Paw、Pad、Pbw、Pbd处的第1主面Sa的平面、基材S的侧面以及第2主面Sb的平面。更详细而言，(a)栏中，由摄像照相机5aw摄像而得的包含湿膜Faw的图像示于“第1主面的俯视图”；(b)栏中，由摄像照相机5ad摄像而得的包含干膜Fad(第1涂覆膜Fa)的图像示于“第1主面的俯视图”；(c)栏中，由摄像照相机5bw摄像而得的包含湿膜Fbw的图像示于“第2主面的俯视图”；(d)栏中，由摄像照相机5bd摄像而得的包含干膜(第2涂覆膜)Fbd的图像示于“第2主面的俯视图”。需要说明的是，其他附图为用于说明发明内容的示意图，并非实际摄像而得的图像。另外，对于摄像而得的图像，以粗线示出；对于用于说明的示意图，以细线示出。另外，为便于说明，将湿膜Faw、Fbw分别称为“第1湿膜Faw”及“第2湿膜Fbw”，并且将干膜Fad、Fbd分别称为“第1干膜Fad”及“第2干膜Fbd”。

涂覆处理可通过下述方式实现：控制单元4执行预先存储于存储部41的程序，并使装置各部进行规定的动作。在该存储部41中预先设定有下述涂覆条件(基材S的输送速度、涂覆液的供给条件、干燥部中的干燥条件等)，该涂覆条件用于以目标涂覆宽度W在基材S的第1主面Sa上形成第1涂覆膜Fa(＝第1干膜Fad)、并且以与该第1涂覆膜Fa相对应的方式在基材S的第2主面Sb上形成第2涂覆膜Fb(＝第2干膜Fbd)。

在上述涂覆条件没有变更的情况下(步骤S1中为“否”)，不进行调节工序(步骤S2)，而按照存储于存储部41的涂覆条件来执行用于在基材S上形成涂覆膜Fa、Fb的涂覆工序(步骤S3～S9)。另一方面，在涂覆条件发生了变更的情况下，在执行上述涂覆工序前，执行调节工序(步骤S2)。

在调节工序中，来自各喷嘴21a、21b的涂覆液的供给条件被从存储部41读取(步骤S201)。然后，在卷取辊12旋转而使得开始基材S的输送后，在上述供给条件下执行利用第1喷嘴21a进行的调节用涂覆。即，按照供给条件，将涂覆液从泵送出至第1喷嘴21a从而在基材S的第1主面Sa上形成宽度方向X上的宽度尺寸为W的第1湿膜Faw。另外，第1湿膜Faw经受利用第1干燥部3a进行的干燥固化处理从而成为第1干膜Fad。与如上所述的针对第1主面Sa的调节用涂覆联动地，摄像照相机5aw、5ad分别对第1湿膜Faw及第1干膜Fad进行摄像(步骤S202)。

若针对第1主面Sa的调节用涂覆仅持续一定时间即完成向第1主面Sa的调节用涂覆(步骤S203中判定为“是”)，则泵的工作停止，来自第1喷嘴21a的涂覆液的供给被停止(步骤S204)。

在接下来的步骤S205中，基于形成于第1主面Sa上的第1湿膜Faw的图像(图5的(a)栏中的左侧图)和形成于第1主面Sa上的第1干膜Fad的图像(图5的(b)栏中的左侧图)来获取宽度方向X上的湿膜Faw的宽度尺寸Waw和第1干膜Fad的宽度尺寸Wad，并进一步获取第1干膜Fad的宽度尺寸Wad相对于湿膜Faw的宽度尺寸Waw的变化量。在本实施方式中，测定变化率α(＝Wad/Waw)作为变化量(步骤S205)。

上述变化率α是由第1干燥部3a处的构成第1湿膜Faw的涂覆液的溶剂成分的挥发所引起的，根据基材S的材质、涂覆液的种类等而发生变动。例如随着变化率α变大，第1干膜Fad、即第1涂覆膜Fa的宽度尺寸变小。因此，在本实施方式中，基于变化率α来对利用第1喷嘴21a的涂覆液的供给条件进行修正，并将存储于存储部41的涂覆条件更新(步骤S206)。更具体而言，通过使利用泵的涂覆液向第1喷嘴21a的每单位时间的供给量成为(1/α)倍，从而在调节工序后所执行的涂覆处理中，在第1主面Sa上形成具有所期望的宽度尺寸W的第1干膜Fad(第1涂覆膜Fa)。

另外，从上述利用第1喷嘴21a进行的调节用涂覆起仅延迟规定时间、而在上述供给条件下以与先前的调节用涂覆同样的方式执行利用第2喷嘴21b进行的调节用涂覆。这是由于第2涂布部2b远离第1涂布部2a而位于输送方向Ds的下游侧，并且通过使调节用涂覆的开始时机错开，从而能够与第1涂覆膜Fa相对应地在基材S的第2主面上形成调节用的涂覆膜。

在上述调节用涂覆中，按照供给条件，将涂覆液从泵送出至第2喷嘴21b从而在基材S的第2主面Sb上形成宽度方向X上的宽度尺寸为W的第2湿膜Fbw。另外，第2湿膜Fbw经受利用第2干燥部3b进行的干燥固化处理而成为第2干膜Fbd。与如上所述的针对第2主面Sb的调节用涂覆联动地，摄像照相机5bw、5bd分别对第2湿膜Fbw及第2干膜Fbd进行摄像(步骤S207)。

若针对第2主面Sb的调节用涂覆仅持续一定时间即完成向第2主面Sb的调节用涂覆(步骤S208中判定为“是”)，则泵的工作停止，来自第2喷嘴21b的涂覆液的供给被停止(步骤S209)。

在接下来的步骤S210中，基于形成于第2主面Sb上的第2湿膜Fbw的图像(图5的(c)栏中的右侧图)和形成于第2主面Sb上的第2干膜Fbd的图像(图5的(d)栏中的右侧图)来获取宽度方向X上的第2湿膜Fbw的宽度尺寸Wbw和第2干膜Fbd的宽度尺寸Wbd，并进一步获取第2干膜Fbd的宽度尺寸Wbd相对于第2湿膜Fbw的宽度尺寸Wbw的变化量。在本实施方式中，测定变化率β(＝Wbd/Wbw)作为变化量(步骤S210)。

上述变化率β是由第2干燥部3b处的构成第2湿膜Fbw的涂覆液的溶剂成分的挥发所引起的，根据基材S的材质、涂覆液的种类等而发生变动。例如随着变化率β变大，第2干膜Fbd、即第2涂覆膜Fb的宽度尺寸变小。因此，在本实施方式中，基于变化率β来对利用第2喷嘴21b的涂覆液的供给条件进行修正，并将存储于存储部41的涂覆条件更新(步骤S211)。更具体而言，通过使利用泵的涂覆液向第2喷嘴21b的每单位时间的供给量成为(1/β)倍，从而在调节工序后所执行的涂覆处理中，在第2主面Sb上形成具有所期望的宽度尺寸W的第2干膜Fbd(第2涂覆膜Fb)。

由此，完成调节工序，在经修正的供给条件下执行涂覆工序(步骤S3～S9)。以下，返回至图3继续针对涂覆工序进行说明。

这里，在执行了调节工序(步骤S2)时，可以与调节工序连续地执行涂覆工序，也可以暂时停止基材S的输送并等待接下来的涂覆指令而执行涂覆工序。另外，虽然也存在不执行调节工序(步骤S2)而直接执行涂覆工序的情况，但在任意情况下，均在对基材S在输送方向Ds上的输送进行确认后、基于存储于存储部41的涂覆条件来执行向基材S的第1主面Sa的涂覆(步骤S3)。例如在如上所述地通过调节工序(步骤S2)而对利用第1喷嘴21a的涂覆液的供给条件进行了修正的情况下，如图6的(a)栏中的左侧图所示，涂覆液在存储于存储部41的修正后的供给条件下被供给至基材S的第1主面Sa，从而以将所期望的宽度尺寸W乘以(1/α)倍而得到的宽度Wa来形成第1湿膜Faw。其后，利用第1干燥部3a使第1湿膜Faw干燥固化从而形成具有所期望的宽度尺寸W的第1干膜Fad、即第1涂覆膜。

其后，若随着基材S的输送而使得第1干膜Fad到达摄像照相机5ad的摄像位置Pad(步骤S4中判定为“是”)，则基于由摄像照相机5ad摄像而得的图像(图6的(b)栏中的左侧图)来测定宽度方向X上的第1涂覆膜、即第1干膜Fad的位置(步骤S5)。然后，在第1主面Sa上形成有第1涂覆膜的基材S到达第2涂覆液供给位置PS2的时间点，基于测得的第1干膜Fad的位置及存储于存储部41的供给条件而开始向基材S的第2主面Sb的涂覆(步骤S6)。例如在如上所述地通过调节工序(步骤S2)而对利用第2喷嘴21b的涂覆液的供给条件进行了修正的情况下，如图6的(c)栏中的右侧图所示，涂覆液在存储于存储部41的修正后的供给条件下被供给至基材S的第2主面Sb，从而以将所期望的宽度尺寸W乘以(1/β)倍而得到的宽度Wb来形成第2湿膜Fbw。其后，利用第2干燥部3b使第2湿膜Fbw干燥固化，从而以与第1涂覆膜相对应的方式形成具有所期望的宽度尺寸W的第2干膜Fbd、即第2涂覆膜Fb。

在未确认到在规定长度的涂布结束时所发出的涂覆停止指令(步骤S7中判定为“否”)的期间，持续进行上述第1涂覆膜及第2涂覆膜的形成。另一方面，若规定长度量的涂布结束(步骤S7中判定为“是”)，则停止利用第1喷嘴21a进行的涂覆(步骤S8)，并进一步停止利用第2喷嘴21b进行的涂覆(步骤S9)。

如上所述，根据本实施方式，在获取第1干膜Fad(＝第1涂覆膜Fa)的宽度尺寸Wad相对于第1湿膜Faw的宽度尺寸Waw的变化率α作为第1主面侧变化信息、并与其相应地调节来自第1喷嘴21a的每单位时间的涂覆液的供给量的同时，涂覆了第1涂覆膜Fa。因此，即使在第1湿膜Faw从第1干燥部3a通过的期间内第1湿膜Faw的溶剂成分大量挥发的情况下，也能够将第1涂覆膜Fa的最终的涂覆宽度控制为所期望的值W。

另外，在获取第2干膜Fbd(＝第2涂覆膜Fb)的宽度尺寸Wbd相对于第2湿膜Fbw的宽度尺寸Wbw的变化率β作为第2主面侧变化信息、并与其相应地调节来自第2喷嘴21b的每单位时间的涂覆液的供给量的同时，对应于第1涂覆膜Fa而涂覆了第2涂覆膜Fb。因此，即使在第2湿膜Fbw从第2干燥部3b通过的期间内第2湿膜Fbw的溶剂成分大量挥发的情况下，也能够将第2涂覆膜Fb的最终的涂覆宽度形成为所期望的值W，从而高精度地使其与第1涂覆膜Fa的涂覆宽度一致。结果，能够制造高品质的电池用电极。

图7为示出本发明涉及的涂覆装置的第2实施方式的调节工序的流程图。在该第2实施方式涉及的涂覆装置100中，第1干燥部3a与第2干燥部3b具有相同构成，且具有大致同样的干燥性能。因此，在使用相同涂覆液来形成涂覆膜Fa、Fb的情况下，可推测变化率α、β大致等同。因此，如图7所示，在第2实施方式中，仅针对第1主面Sa执行调节用涂覆并测定涂覆膜的宽度尺寸的变化率α(步骤S201～S205)，基于该变化率α来对利用第1喷嘴21a及第2喷嘴21b的涂覆液的供给条件进行修正(步骤S212)。如上所述，在第2实施方式中，能够在省略针对第2主面Sb的调节用涂覆以及变化率β的测定的情况下，得到与第1实施方式同样的作用效果。

另外，在第2干燥部3b中的干燥性能不均匀的情况下，例如如图8所示，存在干燥速度在宽度方向X上不同的情况。这样的干燥速度不均使第2干膜Fbd的中心位置Pd由第2湿膜Fbw的中心位置Pw沿宽度方向X位移。因此，即使基于由摄像照相机5ad摄像而得的图像而使得第2湿膜Fbw的形成位置与第1涂覆膜Fa(第1干膜Fad)相对应的情况下，在利用第2干燥部3b进行的干燥固化处理中，中心位置也会发生位移而导致在第2主面Sb上涂覆的第2涂覆膜Fb(第2干膜Fbd)与第1主面Sa上的第1涂覆膜Fa变得不对应。因此，也可以构成为：将第2喷嘴21b构成为能沿宽度方向X位移，并且如图9所示地在调节工序中调节第2喷嘴21b的配设位置。在此方面，在第1主面Sa侧也是同样的。即，在第1干燥部3a中的干燥性能不均匀的情况下，在第1主面Sa中有时发生第1涂覆膜Fa的位移，因此，理想的是，将第1喷嘴21a构成为能沿宽度方向X位移，并且如图9所示地在调节工序中调节第1喷嘴21a的配设位置。

图9为示出本发明涉及的涂覆装置的第3实施方式的调节工序的流程图。在该第3实施方式涉及的涂覆装置100中，代替第1实施方式中的调节工序的步骤S205、S206、S210、S211，而执行以下说明的步骤S205A、S206A、S210A、S211A。需要说明的是，由于其他动作基本相同，因此，针对相同工序标注相同标记，并省略说明。

第3实施方式中，在步骤S201中读取的供给条件下针对沿输送方向Ds输送的基材S的第1主面Sa而执行利用第1喷嘴21a进行的调节用涂覆，并且，与该调节用涂覆联动地，摄像照相机5aw、5ad分别对第1湿膜Faw及第1干膜Fad进行摄像(步骤S202)。另外，若针对第1主面Sa的调节用涂覆完成(步骤S203中判定为“是”)，则泵的工作停止(步骤S204)，并执行步骤S205A。

在步骤S205A中，与第1实施方式同样地，基于第1湿膜Faw的图像和形成于第1主面Sa上的第1干膜Fad的图像来测定变化率α(＝Wad/Waw)，并且测定宽度方向X上的第1干膜Fad相对于第1湿膜Faw的位置的变化量(即位置变动量)作为第1主面侧变化信息。另外，基于变化率α和位置变动量来对利用第1喷嘴21a的涂覆液的供给条件(从第1喷嘴21a供给的涂覆液的宽度方向X上的位置(供给位置)及每单位时间的涂覆液的供给量)进行修正，从而将存储于存储部41的涂覆条件更新(步骤S206A)。若在上述经修正的供给条件下进行涂覆处理，则不仅能够与第1实施方式同样地以所期望的宽度尺寸W在第1主面Sa上形成第1干膜Fad、即第1涂覆膜Fa，还能够在宽度方向X上将第1涂覆膜Fa形成于所期望的位置。

另外，从上述利用第1喷嘴21a进行的调节用涂覆起仅延迟规定时间、而在上述供给条件下以与先前的调节用涂覆同样的方式执行利用第2喷嘴21b进行的调节用涂覆，并且与该调节用涂覆联动地，摄像照相机5bw、5bd分别对第2湿膜Fbw及第2干膜Fbd进行摄像(步骤S207)。另外，若针对第2主面Sb的调节用涂覆完成(步骤S208中判定为“是”)，则泵的工作停止(步骤S209)，并执行步骤S210A。

在步骤S210A中，基于形成于第2主面Sb上的第2湿膜Fbw的图像和形成于第2主面Sb上的第2干膜Fbd的图像来测定变化率β(＝Wbd/Wbw)，并且测定宽度方向X上的第2干膜Fbd相对于第2湿膜Fbw的位置的变化量(即位置变动量)作为第2主面侧变化信息。另外，基于变化率β和位置变动量而对利用第2喷嘴21b的涂覆液的供给条件(从第2喷嘴21b供给的涂覆液的宽度方向X上的位置(供给位置)及每单位时间的涂覆液的供给量)进行修正，从而将存储于存储部41的涂覆条件更新(步骤S211A)。若在上述经修正的供给条件下进行涂覆处理，则不仅能够与第1实施方式同样地以所期望的宽度尺寸W在第2主面Sb上形成第2干膜Fbd、即第2涂覆膜Fb，还能够在宽度方向X上将第2涂覆膜Fb形成于与第1涂覆膜Fa一致的位置。需要说明的是，在以上述方式执行调节工序后，在经修正的供给条件下执行涂覆处理。

如上所述，根据第3实施方式，即使在第1干燥部3a、第2干燥部3b中产生了干燥性能的不均匀性，也能够将具有所期望的涂覆宽度W的第1涂覆膜Fa及第2涂覆膜Fb以相互对应的方式涂覆于基材S。结果，能够制造高品质的电池用电极。

如上述那样，在本发明中，第1涂布部2a、第1喷嘴21a、第1干燥部3a、第1湿膜Faw及第1干膜Fad(第1涂覆膜Fa)分别相当于本发明的“第1主面侧涂布部”、“第1主面侧喷嘴”、“第1主面侧干燥部”、“第1主面侧湿膜”及“第1涂覆膜”的一例。另外，第2涂布部2b、第2喷嘴21b、第2干燥部3b、第2湿膜Fbw及第2干膜Fbd(第2涂覆膜Fb)分别相当于本发明的“第2主面侧涂布部”、“第2主面侧喷嘴”、“第2主面侧干燥部”、“第2主面侧湿膜”及“第2涂覆膜”的一例。另外，摄像照相机5ad、5bw、5bd、5aw分别相当于本发明的“第1摄像部”、“第2摄像部”、“第3摄像部”、“第4摄像部”的一例。

需要说明的是，本发明不限于上述实施方式，只要不超出其主旨，则在上述实施方式以外也能够进行各种变更。例如，在上述实施方式中，将本发明应用于在基材S的第1主面Sa上涂覆3张涂覆膜Fa、并且与它们相对应地在第2主面Sb上涂覆3张涂覆膜Fb的涂覆装置100，但涂覆膜的张数是任意的。即，能够将本发明应用于在基材S的两个主面Sa、Sb上对应地形成涂覆膜的所有涂覆技术。

另外，上述实施方式中，通过调节作为供给条件的供给量而控制了涂覆膜Fa、Fb的宽度尺寸W，但也可以将第1喷嘴21a、第2喷嘴21b与基材S的间隙作为供给条件，通过对其进行调节而控制涂覆膜Fa、Fb的宽度尺寸W。

另外，在上述实施方式中，使用成为集电体的金属膜作为基材S、并使用活性物质材料作为涂覆膜F来制造电池用电极，但作为适用本发明的对象的基材及涂覆膜(涂覆液)的材料不限于此，是任意的。

本发明能够适用于在基材的两个主面上形成涂覆膜的所有涂覆技术。

Claims (7)

1.涂覆装置，其特征在于，其为与形成于沿长度方向延伸的长条片状基材的第1主面上的第1涂覆膜相对应地、在所述基材的第2主面上形成第2涂覆膜的涂覆装置，所述涂覆装置具备：

输送部，其沿所述长度方向对所述基材进行输送；

第2主面侧涂布部，其具有第2主面侧喷嘴，所述第2主面侧喷嘴向由所述输送部输送的所述基材的所述第2主面供给涂覆液从而形成第2主面侧湿膜；

第2主面侧干燥部，其使由所述输送部从所述第2主面侧涂布部输送而来的所述基材的所述第2主面上所形成的所述第2主面侧湿膜干燥，从而形成所述第2涂覆膜；

位置获取部，其在所述长度方向上于所述第2主面侧涂布部的上游侧获取所述基材的所述第1主面上的所述第1涂覆膜的位置；

变化信息获取部，其获取与所述长度方向垂直的宽度方向上的所述第2涂覆膜的宽度尺寸相对于所述第2主面侧湿膜的宽度尺寸的变化量作为第2主面侧变化信息；和

供给调节部，其基于所述第1涂覆膜的位置及所述第2主面侧变化信息而对来自所述第2主面侧喷嘴的所述涂覆液的供给进行调节。

2.如权利要求1所述的涂覆装置，其具备：

第1摄像部，其在所述长度方向上被配置于所述第2主面侧涂布部的上游侧，对所述基材的所述第1主面上的所述第1涂覆膜进行摄像，

所述位置获取部基于由所述第1摄像部摄像而得的图像来获取所述基材的所述第1主面上的所述第1涂覆膜的位置。

3.如权利要求2所述的涂覆装置，其具备：

第2摄像部，其在所述长度方向上被配置于所述第2主面侧涂布部与所述第2主面侧干燥部之间，对所述第2主面侧湿膜进行摄像；和

第3摄像部，其在所述长度方向上被配置于所述第2主面侧干燥部的下游侧，对所述第2涂覆膜进行摄像，

所述变化信息获取部基于由所述第2摄像部摄像而得的图像和由所述第3摄像部摄像而得的图像来获取所述第2主面侧变化信息。

4.如权利要求3所述的涂覆装置，其具备：

第1主面侧涂布部，其具有第1主面侧喷嘴，所述第1主面侧喷嘴向由所述输送部输送的所述基材的所述第1主面供给涂覆液从而形成第1主面侧湿膜；

第1主面侧干燥部，其使由所述输送部从所述第1主面侧涂布部输送而来的所述基材的所述第1主面上所形成的所述第1主面侧湿膜干燥，从而形成所述第1涂覆膜；和

第4摄像部，其在所述长度方向上被配置于所述第1主面侧涂布部与所述第1主面侧干燥部之间，对所述第1主面侧湿膜进行摄像，

所述变化信息获取部基于由所述第1摄像部摄像而得的图像及由所述第4摄像部摄像而得的图像，来获取所述宽度方向上的所述第1涂覆膜的宽度尺寸相对于所述第1主面侧湿膜的宽度尺寸的变化量作为第1主面侧变化信息，

所述供给调节部基于所述第1主面侧变化信息而对来自所述第1主面侧喷嘴的所述涂覆液的供给进行调节。

5.如权利要求2所述的涂覆装置，其具备：

第1主面侧涂布部，其具有第1主面侧喷嘴，所述第1主面侧喷嘴向由所述输送部输送的所述基材的所述第1主面供给所述涂覆液从而形成第1主面侧湿膜；

第1主面侧干燥部，其具有与所述第2主面侧干燥部相同的构成，使由所述输送部从所述第1主面侧涂布部输送而来的所述基材的所述第1主面上所形成的所述第1主面侧湿膜干燥，从而形成所述第1涂覆膜；和

第4摄像部，其在所述长度方向上被配置于所述第1主面侧涂布部与所述第1主面侧干燥部之间，对所述第1主面侧湿膜进行摄像，

所述变化信息获取部基于由所述第1摄像部摄像而得的图像和由所述第4摄像部摄像而得的图像，来获取所述第1涂覆膜相对于所述第1主面侧湿膜的变化作为所述第1主面侧变化信息。

6.如权利要求1、2或5所述的涂覆装置，其中，

所述变化信息获取部获取所述宽度方向上的所述第2涂覆膜的位置相对于所述第2主面侧湿膜的位置的变化量而与所述宽度尺寸的变化量一同作为所述第2主面侧变化信息，

所述供给调节部根据所述位置的变化量而使所述第2主面侧喷嘴沿所述宽度方向移动，并且根据所述宽度尺寸的变化量而对来自所述第2主面侧喷嘴的所述涂覆液的供给量、和所述第2主面侧喷嘴与所述基材的间隙之中的至少一者进行调节。

7.涂覆方法，其特征在于，其为与形成于沿长度方向延伸的长条片状基材的第1主面上的第1涂覆膜相对应地、在所述基材的第2主面上形成第2涂覆膜的涂覆方法，所述涂覆方法包括下述工序：

涂覆工序，在将形成有所述第1涂覆膜的所述基材沿所述长度方向输送的同时，在涂覆液供给位置向所述基材的所述第2主面供给涂覆液从而形成第2主面侧湿膜，并且，在所述长度方向上于所述涂覆液供给位置的下游侧使所述基材的所述第2主面上的所述第2主面侧湿膜干燥，从而形成所述第2涂覆膜；和

调节工序，在开始所述涂覆工序前，基于所述基材的所述第1主面上的所述第1涂覆膜的位置、和与所述长度方向垂直的宽度方向上的所述第2涂覆膜的宽度尺寸相对于所述第2主面侧湿膜的宽度尺寸的变化量，对来自第2主面侧喷嘴的所述涂覆液的供给进行调节。