CN103232603B - 碱可溶树脂及其制备方法、光刻胶组合物 - Google Patents
碱可溶树脂及其制备方法、光刻胶组合物 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103232603B CN103232603B CN201310116385.3A CN201310116385A CN103232603B CN 103232603 B CN103232603 B CN 103232603B CN 201310116385 A CN201310116385 A CN 201310116385A CN 103232603 B CN103232603 B CN 103232603B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- soluble resin
- alkali soluble
- preparation
- acid
- polyether chain
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G81/00—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers in the absence of monomers, e.g. block polymers
- C08G81/02—Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers in the absence of monomers, e.g. block polymers at least one of the polymers being obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F216/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical
- C08F216/02—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an alcohol, ether, aldehydo, ketonic, acetal or ketal radical by an alcohol radical
- C08F216/04—Acyclic compounds
- C08F216/06—Polyvinyl alcohol ; Vinyl alcohol
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/04—Acids; Metal salts or ammonium salts thereof
- C08F220/06—Acrylic acid; Methacrylic acid; Metal salts or ammonium salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F261/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of oxygen-containing monomers as defined in group C08F16/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F265/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
- C08F265/02—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of acids, salts or anhydrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/14—Esterification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/002—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
- C08G65/331—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen
- C08G65/332—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing carboxyl groups, or halides, or esters thereof
- C08G65/3322—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing carboxyl groups, or halides, or esters thereof acyclic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/34—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from hydroxy compounds or their metallic derivatives
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
- C08F222/1006—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
- C08F222/102—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
- C08F222/1006—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
- C08F222/104—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of tetraalcohols, e.g. pentaerythritol tetra(meth)acrylate
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
本发明提供一种碱可溶树脂及其制备方法、含该树脂的光刻胶组合物,属于高分子材料技术领域,其可解决现有的色光三原色(RGB)的膜层的坡度角较大的问题。本发明的碱可溶树脂为含聚醚链的丙烯酸碱可溶树脂。本发明的碱可溶树脂加入到光刻胶组合物中,使膜层的坡度角降低,避免了彩色膜层和黑矩阵之间连接容易出现空隙,从而造成漏光现象;同时,改善了后续工艺中液晶玻盒中取向层的涂覆及摩擦效果;改善了液晶取向,从而提高了画面的显示品质。
Description
技术领域
本发明属于高分子材料技术领域,具体涉及一种碱可溶树脂及其制备方法、含该树脂的光刻胶组合物。
背景技术
彩色滤光片主要由色光三原色(RGB)的膜层形成的图案组成。一般采用将光刻胶组合物应用到基体上形成光刻胶层,将光刻胶层曝光后形成预定的光刻胶图案,对光刻胶图案进行显影和后烘,获得色光三原色(RGB)的膜层形成的图案。
在彩色滤光片中,对上述膜层的坡度角有一定的要求,坡度角太大,很容易造成漏光。膜层的坡度角主要取决于光刻胶组合物的成膜性质,一般光刻胶组合物的主要成分包括碱可溶树脂、光活性化合物、光引发剂、颜料分散液、有机溶剂以及其它添加剂。其中,光活性化合物在曝光和高温后烘会形成聚合物,有些聚合物硬度较大,不易弯折下陷形成坡度,导致膜层坡度角很大,因此彩色膜层和黑矩阵之间的连接容易出现空隙,从而造成漏光现象;另外,坡度角太大影响后续工艺中液晶玻盒中取向层的涂覆及摩擦效果,也可能造成漏光;甚至会影响液晶取向,从而影响画面的显示品质。使色光三原色(RGB)的膜层的坡度角保持在适当的范围(23°-60°)成为光刻胶组合物研发的重点。
发明内容
本发明的目的是解决现有色光三原色(RGB)的膜层的坡度角较大的问题。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种碱可溶树脂,所述的碱可溶树脂为丙烯酸碱可溶树脂接枝聚醚链。
优选的是,所述的聚醚链结构式如下:
其中:n为7-30范围内的整数。
优选的是,所述的丙烯酸碱可溶树脂采用包括甲基丙烯酸酯、胺改性丙烯酸酯、多环芳侧基丙烯酸碱可溶树脂、高支化碱溶型丙烯酸化聚酯中的任意一种。
优选的是,所述的碱可溶树脂的结构式中的碳原子数小于100。
本发明所要解决的技术问题还包括,针对现有的色光三原色(RGB)的膜层的坡度角较大的问题,提供一种碱可溶树脂的制备方法。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种碱可溶树脂的制备方法,包括如下步骤:
1)己二酸活化物的制备
将己二酸、1,3-二溴-5,5-二甲基海因在溶剂二氯甲烷中反应获得1-溴己酸;将1-溴己酸与氢氧化钠反应获得1-羟基己酸钠;将1-羟基己酸钠与丙烯酰氯反应获得己二酸活化物;
2)含聚醚链的一元酸的制备
将聚乙二醇和己二酸活化物在溶剂N,N-二甲基甲酰胺中进行反应获得含聚醚链的一元酸;
3)含聚醚链的丙烯酸碱可溶树脂的制备
将含聚醚链的一元酸和丙烯酸碱可溶树脂在溶剂N,N-二甲基甲酰胺中进行反应获得含聚醚链的丙烯酸碱可溶树脂。
优选的是,步骤2中聚乙二醇、己二酸活化物的质量份数之比的范围为1︰0.5至1︰0.95。
优选的是,步骤3中含聚醚链的一元酸、丙烯酸碱可溶树脂的质量份数之比的范围为1︰0.45至1︰0.83。
本发明所要解决的技术问题还包括,针对现有的色光三原色(RGB)的膜层的坡度角较大的问题,提供一种光刻胶组合物。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种光刻胶组合物,所述的光刻胶组合物包括上述的碱可溶树脂。
优选的是,所述的光刻胶组合物,包括以下质量百分比的组分:
碱可溶树脂:7%-24%;
光活性化合物:10%-22%;
光致引发剂:1.3%-12.5%。
优选的是,所述的光致引发剂包括安息香类物质、二苯甲酮类物质、蒽醌类物质的一种或几种。
优选的是,所述的光活性化合物包括双季戊四醇五丙烯酸酯、双季戊四醇六丙烯酸酯、异戊四醇四丙烯酸酯、乙氧基化异戊四醇四丙烯酸酯中的一种或几种。
优选的是,所述的光刻胶组合物,还包括溶剂组分,所述的溶剂包括丙二酮甲醚醋酸酯、丙二醇二乙酸酯、3-乙氧基-3-亚胺丙酸乙酯、2-庚烷、3-庚烷、环戊酮、环己酮中的一种或几种。
本发明的碱可溶树脂加入到光刻胶组合物中,由于碱可溶树脂带有双键,在曝光和后烘时可参与聚合反应,形成更加致密的柔性网络;同时,在高温后烘后依然柔软,由于醚键的内旋转位垒较小,动态柔性好,在重力作用下,容易带动光刻胶的其他成分弯折下陷和自然流动形成较小的坡度。由含碱可溶树脂的光刻胶组合物制备的色光三原色(RGB)的膜层的坡度角较小,范围可控,即在25°-55°范围内;避免了彩色膜层和黑矩阵之间连接容易出现空隙,从而造成漏光现象;同时,改善了后续工艺中液晶玻盒中取向层的涂覆及摩擦效果;改善了液晶取向,从而提高了画面的显示品质。
附图说明
图1为本发明实施例1中碱可溶树脂的制备工艺流程图。
图2为本发明实施例1中接枝的聚醚链的结构图。
图3为本发明实施例1所制备的色光三原色(RGB)的膜层的坡度角的示意图。
图4为本发明实施例2所制备的色光三原色(RGB)的膜层的坡度角的示意图。
图5为本发明实施例3所制备的色光三原色(RGB)的膜层的坡度角的示意图。
图6为本发明实施例4所制备的色光三原色(RGB)的膜层的坡度角的示意图。
图7为本发明对比例所制备的色光三原色(RGB)的膜层的坡度角的示意图。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
实施例1
本实施例提供一种碱可溶树脂及其制备方法、含该碱可溶树脂的光刻胶组合物。
其中碱可溶树脂的制备方法介绍如下(制备工艺流程见图1):
1.1)己二酸活化物的制备
将1质量份的己二酸、0.5质量份的1,3-二溴-5,5-二甲基海因、50质量份的二氯甲烷(溶剂)加入到100mL圆底烧瓶中,室温搅拌,反应2.5h。反应结束后,过滤,滤液用40质量份的水洗涤3次,合并有机相,用无水硫酸钠干燥,得1-溴己酸。
将1质量份的1-溴己酸加入到30%的氢氧化钠溶液中,加热到100℃反应4h,用50质量份的二氯甲烷(溶剂)萃取3次,有机相用无水硫酸钠干燥,得到1-羟基己酸钠。
将1质量份的1-羟基己酸钠加入到20%硫酸溶液中,加热到100℃反应3h,用50质量份的二氯甲烷(溶剂)萃取3次,有机相用无水硫酸钠干燥,得到1-羟基己酸。
将2质量份的1-羟基己酸和0.6质量份的丙烯酰氯加入到三口瓶中,加入适量的四氢呋喃溶剂,在冰浴下加入适量的三乙胺催化剂,升温到70℃,在氮气氛下回流过夜,反应完成后减压蒸馏除去溶剂,并用高压液相色谱做分离,进一步除去溶剂,固体用环己烷做重结晶,过滤,真空干燥,得到己二酸活化物。该己二酸活化物的核磁共振数据如下:1H NMR(300MHz,CDCl3,ppm)δ:2.11-2.72(m,6H),3.82(s,1H),4.06(s,1H),4.89(s,2H),5.3(s,1H),11.8(s,2H)。
1.2)含聚醚链的一元酸的制备
将聚乙二醇400、己二酸活化物、作为溶剂的N,N-二甲基甲酰胺(DMF)加入到圆底烧瓶中(三者的质量比见表1),在80℃下回流6h,停止反应冷却后,减压蒸馏除去DMF溶剂,逐滴加入30质量份的丙酮中,用上述方法洗涤三次,得到白色固体,真空干燥,得到含聚醚链的一元酸,其中,聚醚链的结构式见图2。
1.3)含聚醚链的丙烯酸碱可溶树脂的制备
将1.2)中制备的含聚醚链的一元酸、高支化碱溶型丙烯酸化聚酯、作为溶剂的N,N-二甲基甲酰胺(DMF)加入到圆底烧瓶中(三者的质量比见表1),加适量的浓硫酸作催化剂,135℃下回流12h,停止反应冷却后,减压蒸馏除去DMF溶剂,逐滴加入50质量份环己酮中,用上述方法洗涤3次,真空干燥,得到白色固体,即碱可溶树脂,其结构式见图1,其中,R1为甲基或乙基;R2为甲基、乙基、苯基、萘基、多环芳基、甲氨基、联氨基中的任意一种;R3为氢或甲基;m、q、p均为9-15范围内的整数;a,b均为1-5范围内的整数。
含该碱可溶树脂的光刻胶组合物,包括以下质量百分比的组分:
碱可溶树脂:7%-24%;
光活性化合物:10%-22%;
光致引发剂:1.3%-12.5%;
颜料分散液:48%-69%;
溶剂:3%-21%;
添加剂:0.07%-1.0%。
具体的组分和质量百分比见表1。
其中,溶剂只要能够溶解或分散上述组合物的组分,不和上述的组分反应,并有一定的挥发性即可。溶剂可以为丙二酮甲醚醋酸酯、丙二醇二乙酸酯、3-乙氧基-3-亚胺丙酸乙酯、2-庚烷、3-庚烷、环戊酮、环己酮中的一种或几种。
添加剂可根据需要添加,如:颜料分散液、表面活性剂、流平剂或其它助剂等,在此不一一列举。
将上述的组分充分搅拌,制成光刻胶组合物,涂覆于具有黑矩阵的玻璃基板上,标记为样品1,厚度为2.6微米。在80-110℃烘箱中烘烤3min,用照度为125mJ/cm2的紫外光进行曝光处理后,在室温下显影液中显影30s,经去离子水洗净后,吹干,在230℃的温度条件下烘烤45min。
将玻璃切片、制样,采用扫描电子显微镜(SEM)测试截面、观察坡度,结果见图3,其中坡度角为28.3°。可见膜层的坡度角较小,能有效地避免漏光。
实施例2
本实施例提供一种碱可溶树脂及其制备方法、含该碱可溶树脂的光刻胶组合物。
其中碱可溶树脂的制备方法介绍如下:
2.1)己二酸活化物的制备
己二酸活化物的制备方法与实施例1中己二酸活化物的制备方法相同。
2.2)含聚醚链的一元酸的制备
将聚乙二醇800、己二酸活化物、作为溶剂的N,N-二甲基甲酰胺(DMF)加入到圆底烧瓶中(三者的质量比见表1),在120℃下回流10h,停止反应冷却后,减压蒸馏除去DMF溶剂,逐滴加入100质量份的丙酮中,用上述方法洗涤三次,得到白色固体,真空干燥,得到含聚醚链的一元酸,其中,聚醚链的结构式见图2。
2.3)含聚醚链的丙烯酸碱可溶树脂的制备
将2.2)中制备的含聚醚链的一元酸、胺改性丙烯酸酯、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)加入到圆底烧瓶中(三者的质量比见表1),加适量的浓硫酸作催化剂,180℃下回流18h,停止反应冷却后,减压蒸馏除去DMF溶剂,逐滴加入150质量份环己酮中,用上述方法洗涤3次,真空干燥,得到白色固体,即碱可溶树脂。
含该碱可溶树脂的光刻胶组合物,包括以下质量百分比的组分:
碱可溶树脂:7%-24%;
光活性化合物:10%-22%;
光致引发剂:1.3%-12.5%;
颜料分散液:48%-69%;
溶剂:3%-21%;
添加剂:0.07%-1.0%。
具体的组分和质量百分比见表1。
其中,溶剂只要能够溶解或分散上述组合物的组分,不和上述的组分反应,并有一定的挥发性即可。溶剂可以为丙二酮甲醚醋酸酯、丙二醇二乙酸酯、3-乙氧基-3-亚胺丙酸乙酯、2-庚烷、3-庚烷、环戊酮、环己酮中的一种或几种。
添加剂可根据需要添加,如:颜料分散液、表面活性剂、流平剂或其它助剂等。
将上述的组分充分搅拌,制成光刻胶组合物,涂覆于具有黑矩阵的玻璃基板上,标记为样品2,厚度为2.6微米。在80-110℃烘箱中烘烤3min,用照度为125mJ/cm2的紫外光进行曝光处理后,在室温下显影液中显影30s,经去离子水洗净后,吹干,在230℃的温度条件下烘烤45min。
将玻璃切片、制样,扫描电子显微镜(SEM)测试截面、观察坡度,结果见图4,其中坡度角为39.5°。可见膜层的坡度角较小,能有效地避免漏光。
实施例3
本实施例提供一种碱可溶树脂及其制备方法、含该碱可溶树脂的光刻胶组合物。
其中碱可溶树脂的制备方法介绍如下:
3.1)己二酸活化物的制备
己二酸活化物的制备方法与实施例1中己二酸活化物的制备方法相同。
3.2)含聚醚链的一元酸的制备
将聚乙二醇1200,己二酸活化物、作为溶剂的N,N-二甲基甲酰胺(DMF)加入到圆底烧瓶中(三者的质量比见表1),在100℃下回流6-10h,停止反应冷却后,减压蒸馏除去DMF溶剂,逐滴加入70质量份的丙酮中,用上述方法洗涤三次,得到白色固体,真空干燥,得到含聚醚链的一元酸,其中,聚醚链的结构式见图2。
3.3)含聚醚链的丙烯酸碱可溶树脂的制备
将3.2)中制备的含聚醚链的一元酸、多环芳侧基丙烯酸碱可溶树脂、作为溶剂的N,N-二甲基甲酰胺(DMF)加入到圆底烧瓶中(三者的质量比见表1),加适量的浓硫酸作催化剂,150℃下回流15h,停止反应冷却后,减压蒸馏除去DMF溶剂,逐滴加入100质量份环己酮中,用上述方法洗涤3次,真空干燥,得到白色固体,即碱可溶树脂。
含该碱可溶树脂的光刻胶组合物,包括以下质量百分比的组分:
碱可溶树脂:7%-24%;
光活性化合物:10%-22%;
光致引发剂:1.3%-12.5%;
颜料分散液:48%-69%;
溶剂:3%-21%;
添加剂:0.07%-1.0%。
具体的组分和质量百分比见表1。
其中,溶剂只要能够溶解或分散上述组合物的组分,不和上述的组分反应,并有一定的挥发性即可。溶剂可以为丙二酮甲醚醋酸酯、丙二醇二乙酸酯、3-乙氧基-3-亚胺丙酸乙酯、2-庚烷、3-庚烷、环戊酮、环己酮中的一种或几种。
添加剂可根据需要添加,如:颜料分散液、表面活性剂、流平剂或其它助剂等。
将上述的组分充分搅拌,制成光刻胶组合物,涂覆于具有黑矩阵的玻璃基板上,标记为样品3,厚度为2.6微米。在80-110℃烘箱中烘烤3min,用照度为125mJ/cm2的紫外光进行曝光处理后,在室温下显影液中显影30s,经去离子水洗净后,吹干,在230℃的温度条件下烘烤45min。
将玻璃切片、制样,扫描电子显微镜(SEM)测试截面、观察坡度,结果见图5,其中坡度角为51.7°。可见膜层的坡度角较小,能有效地避免漏光。
实施例4
本实施例提供一种碱可溶树脂及其制备方法、含该碱可溶树脂的光刻胶组合物。
其中碱可溶树脂的制备方法介绍如下:
4.1)己二酸活化物的制备
己二酸活化物的制备方法与实施例1中己二酸活化物的制备方法相同。
4.2)含聚醚链的一元酸的制备
将聚乙二醇400、己二酸活化物、作为溶剂的N,N-二甲基甲酰胺(DMF)加入到圆底烧瓶中(三者的质量比见表1),在90℃下回流7h,停止反应冷却后,减压蒸馏除去DMF溶剂,逐滴加入80质量份的丙酮中,用上述方法洗涤三次,得到白色固体,真空干燥,得到含聚醚链的一元酸,其中,聚醚链的结构式见图2。
4.3)含聚醚链的丙烯酸碱可溶树脂的制备
将4.2)中制备的含聚醚链的一元酸、甲基丙烯酸酯、作为溶剂的N,N-二甲基甲酰胺(DMF)加入到圆底烧瓶中(三者的质量比见表1),加适量的浓硫酸作催化剂,160℃下回流14h,停止反应冷却后,减压蒸馏除去DMF溶剂,逐滴加入80质量份环己酮中,用上述方法洗涤3次,真空干燥,得到白色固体,即碱可溶树脂。
含该碱可溶树脂的光刻胶组合物,包括以下质量百分比的组分:
碱可溶树脂:7%-24%;
光活性化合物:10%-22%;
光致引发剂:1.3%-12.5%;
颜料分散液:48%-69%;
溶剂:3%-21%;
添加剂:0.07%-1.0%。
具体的组分和质量百分比见表1。
其中,溶剂只要能够溶解或分散上述组合物的组分,不和上述的组分反应,并有一定的挥发性即可。溶剂可以为丙二酮甲醚醋酸酯、丙二醇二乙酸酯、3-乙氧基-3-亚胺丙酸乙酯、2-庚烷、3-庚烷、环戊酮、环己酮中的一种或几种。
添加剂可根据需要添加,如:颜料分散液、表面活性剂、流平剂或其它助剂等。
将上述的组分充分搅拌,制成光刻胶组合物,涂覆于具有黑矩阵的玻璃基板上,标记为样品4,厚度为2.6微米。在80-110℃烘箱中烘烤3min,用照度为125mJ/cm2的紫外光进行曝光处理后,在室温下显影液中显影30s,经去离子水洗净后,吹干,在230℃的温度条件下烘烤45min。
将玻璃切片、制样,扫描电子显微镜(SEM)测试截面、观察坡度,获得膜层的坡度角见图7,其中坡度角为45.0°。可见膜层的坡度角较小,能有效地避免漏光。
本发明的碱可溶树脂加入到光刻胶组合物中,由于碱可溶树脂带有双键,在曝光和后烘时可参与聚合反应,形成更加致密的柔性网络;同时,在高温后烘后依然柔软,由于醚键的内旋转位垒较小,动态柔性好,在重力作用下,容易带动光刻胶的其他成分弯折下陷和自然流动形成较小的坡度。由含该碱可溶树脂的光刻胶组合物制备的色光三原色(RGB)的膜层的坡度角较小,范围可控,即在25°-55°范围内;避免了彩色膜层和黑矩阵之间连接容易出现空隙,从而造成漏光现象;同时,改善了后续工艺中液晶玻盒中取向层的涂覆及摩擦效果;改善了液晶取向,从而提高了画面的显示品质。
对比例
将实施例4中的光刻胶组合物中的碱可溶树脂的替换为同等质量百分比的丙烯酸碱可溶树脂,其它组分和含量与实施例4相同,制成光刻胶组合物,涂覆于具有黑矩阵的玻璃基板上,标记为样品5,厚度为2.6微米。其它步骤与实施例4相同,获得膜层的坡度角见图7,其中坡度角为76.0°。可见膜层的坡度角较大,容易漏光。
表1本发明实施例中各物质的质量比及光刻胶组合物的组分及其质量百分比
可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
Claims (11)
1.一种碱可溶树脂,其特征在于,所述的碱可溶树脂为丙烯酸碱可溶树脂接枝聚醚链;所述的聚醚链结构式如下:
其中:n为7-30范围内的整数。
2.如权利要求1所述的碱可溶树脂,其特征在于,所述的丙烯酸碱可溶树脂采用包括甲基丙烯酸酯、胺改性丙烯酸酯、多环芳侧基丙烯酸碱可溶树脂、高支化碱溶型丙烯酸化聚酯中的任意一种。
3.如权利要求1所述的碱可溶树脂,其特征在于,所述的碱可溶树脂的结构式中的碳原子数小于100。
4.一种如权利要求1-3任一所述的碱可溶树脂的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
1)己二酸活化物的制备
将己二酸、1,3-二溴-5,5-二甲基海因在溶剂二氯甲烷中反应获得1-溴己酸;将1-溴己酸与氢氧化钠反应获得1-羟基己酸钠;将1-羟基己酸钠与丙烯酰氯反应获得己二酸活化物;
2)含聚醚链的一元酸的制备
将聚乙二醇和己二酸活化物在溶剂N,N-二甲基甲酰胺中进行反应获得含聚醚链的一元酸;
3)含聚醚链的丙烯酸碱可溶树脂的制备
将含聚醚链的一元酸和丙烯酸碱可溶树脂在N,N-二甲基甲酰胺溶剂中进行反应获得含聚醚链的丙烯酸碱可溶树脂。
5.如权利要求4所述的碱可溶树脂的制备方法,其特征在于,步骤2中聚乙二醇、己二酸活化物的质量份数之比的范围为1︰0.5至1︰0.95。
6.如权利要求4所述的碱可溶树脂的制备方法,其特征在于,步骤3中含聚醚链的一元酸、丙烯酸碱可溶树脂的质量份数之比的范围为1︰0.45至1︰0.83。
7.一种光刻胶组合物,其特征在于,所述的光刻胶组合物包括如权利要求1-3任一所述的碱可溶树脂。
8.如权利要求7所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述的光刻胶组合物,包括以下质量百分比的组分:
碱可溶树脂:7%-24%;
光活性化合物:10%-22%;
光致引发剂:1.3%-12.5%。
9.如权利要求7所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述的光致引发剂包括安息香类物质、二苯甲酮类物质、蒽醌类物质的一种或几种。
10.如权利要求7所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述的光活性化合物包括双季戊四醇五丙烯酸酯、双季戊四醇六丙烯酸酯、异戊四醇四丙烯酸酯、乙氧基化异戊四醇四丙烯酸酯中的一种或几种。
11.如权利要求7所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述的光刻胶组合物,还包括溶剂组分,所述的溶剂包括丙二酮甲醚醋酸酯、丙二醇二乙酸酯、3-乙氧基-3-亚胺丙酸乙酯、2-庚烷、3-庚烷、环戊酮、环己酮中的一种或几种。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310116385.3A CN103232603B (zh) | 2013-04-03 | 2013-04-03 | 碱可溶树脂及其制备方法、光刻胶组合物 |
PCT/CN2013/080171 WO2014161251A1 (zh) | 2013-04-03 | 2013-07-26 | 碱可溶树脂及其制备方法、含有其的光刻胶组合物 |
US14/239,552 US9279037B2 (en) | 2013-04-03 | 2013-07-26 | Alkaline soluble resin, process for preparing same, and photoresist composition containing same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310116385.3A CN103232603B (zh) | 2013-04-03 | 2013-04-03 | 碱可溶树脂及其制备方法、光刻胶组合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103232603A CN103232603A (zh) | 2013-08-07 |
CN103232603B true CN103232603B (zh) | 2015-03-18 |
Family
ID=48880678
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201310116385.3A Active CN103232603B (zh) | 2013-04-03 | 2013-04-03 | 碱可溶树脂及其制备方法、光刻胶组合物 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9279037B2 (zh) |
CN (1) | CN103232603B (zh) |
WO (1) | WO2014161251A1 (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104360428B (zh) | 2014-11-28 | 2016-08-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 制作彩色滤光片的方法及彩色滤光片、显示装置 |
CN108003273B (zh) * | 2017-12-14 | 2020-12-01 | 合肥鑫晟光电科技有限公司 | pH响应型聚合物及其制备方法以及光刻胶组合物 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009204641A (ja) * | 2008-02-26 | 2009-09-10 | Toray Ind Inc | カラーフィルター用感光性着色組成物、およびカラーフィルター |
CN102653581A (zh) * | 2011-06-16 | 2012-09-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 碱可溶性树脂及其制作方法、感光性树脂组合物、光刻胶 |
CN102786631A (zh) * | 2012-08-16 | 2012-11-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光敏性碱可溶性树脂、其制备方法及彩色光刻胶 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5563187A (en) | 1995-02-16 | 1996-10-08 | Rohm And Haas Company | Grafted polymer composition |
JP3405631B2 (ja) | 1996-02-28 | 2003-05-12 | 互応化学工業株式会社 | エポキシ樹脂組成物及びフォトソルダーレジストインク並びにプリント配線板及びその製造方法 |
JP3769171B2 (ja) * | 2000-05-17 | 2006-04-19 | 東京応化工業株式会社 | フレキソ印刷版製造用多層感光材料 |
CN1233678C (zh) * | 2003-05-30 | 2005-12-28 | 北京化工大学 | 一种降低丙烯酸酯橡胶玻璃化转变温度的方法 |
US20060252878A1 (en) * | 2005-05-09 | 2006-11-09 | Razdik Jason M | Plasticized aqueous alkali-soluble resin coating compositions with reduced odor and pH |
JP2007262233A (ja) * | 2006-03-28 | 2007-10-11 | Nippon Zeon Co Ltd | 重合体ラテックスおよびその製造方法 |
KR20070103109A (ko) | 2006-04-18 | 2007-10-23 | 주식회사 동진쎄미켐 | 감광성 수지 조성물 |
KR101604645B1 (ko) * | 2006-09-01 | 2016-03-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 안료분산 조성물, 광경화성 조성물, 컬러필터 및컬러필터의 제조방법 |
TWI403838B (zh) | 2007-04-11 | 2013-08-01 | Lg Chemical Ltd | 包含由做為鹼溶性樹脂之大分子單體所製備之聚合物之光感樹脂組成物 |
CN101290473A (zh) | 2008-05-26 | 2008-10-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 感光树脂组合物及其制备方法 |
CN101625525B (zh) * | 2008-07-11 | 2013-06-12 | 住友化学株式会社 | 感光性树脂组合物 |
KR20100099048A (ko) * | 2009-03-02 | 2010-09-10 | 주식회사 동진쎄미켐 | 감광성 수지 조성물 |
CN102391398B (zh) * | 2011-08-31 | 2013-07-17 | 武汉理工大学 | 一种碱溶性光敏改性聚丙烯酸预聚物及其制备方法 |
-
2013
- 2013-04-03 CN CN201310116385.3A patent/CN103232603B/zh active Active
- 2013-07-26 US US14/239,552 patent/US9279037B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2013-07-26 WO PCT/CN2013/080171 patent/WO2014161251A1/zh active Application Filing
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009204641A (ja) * | 2008-02-26 | 2009-09-10 | Toray Ind Inc | カラーフィルター用感光性着色組成物、およびカラーフィルター |
CN102653581A (zh) * | 2011-06-16 | 2012-09-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 碱可溶性树脂及其制作方法、感光性树脂组合物、光刻胶 |
CN102786631A (zh) * | 2012-08-16 | 2012-11-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 光敏性碱可溶性树脂、其制备方法及彩色光刻胶 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2014161251A1 (zh) | 2014-10-09 |
CN103232603A (zh) | 2013-08-07 |
US20150152210A1 (en) | 2015-06-04 |
US9279037B2 (en) | 2016-03-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103357346B (zh) | 颜料分散剂、颜料分散液、彩色光刻胶及其制备和应用 | |
CN102854746B (zh) | 用于感光间隔物的固化性树脂组合物、柱状间隔物以及液晶显示器 | |
CN102807768A (zh) | 彩色滤光片用色素、使用该色素的着色树脂组合物及由该树脂组合物形成的彩色滤光片 | |
CN102914944A (zh) | 着色树脂组合物 | |
CN104086675B (zh) | 环糊精衍生物及其制备方法、光阻组合物和显示装置 | |
CN104880856A (zh) | 一种彩色光阻剂及其应用、彩膜基板、液晶显示器 | |
CN107266634B (zh) | 非水系分散剂的制造方法及彩色滤光片用着色树脂组合物 | |
CN103492948A (zh) | 光敏化合物及包括其的光敏树脂组合物 | |
TW201518422A (zh) | 染料分散液 | |
CN101526739A (zh) | 用于形成绿色像素的放射线敏感性组合物、滤色器和彩色液晶显示元件 | |
CN103232603B (zh) | 碱可溶树脂及其制备方法、光刻胶组合物 | |
CN111638632B (zh) | 一种cf工序光刻胶返工液组合物 | |
TWI646391B (zh) | 黑色矩陣用之感光性樹脂組成物及其應用 | |
JP2009538958A (ja) | カラーフィルタ用二色性染料、これを含むカラーフィルタ形成組成物、及びこれで製造されたカラーフィルタアレイ基板 | |
CN109563372A (zh) | 黑矩阵用组合物、以及使用其的黑矩阵的制造方法 | |
WO2015007049A1 (zh) | 光刻胶单体、光刻胶及它们的制备方法、彩色滤光片 | |
CN101644892A (zh) | 着色感光树脂组合物及彩色滤光片的制备方法 | |
CN105974738A (zh) | 蓝色感光性树脂组合物、滤色器和包含其的液晶显示装置 | |
KR101269048B1 (ko) | 아크릴계 유도체가 치환된 아조 염료 화합물 및 이를 이용한 액정 디스플레이용 염료형 컬러 필터 | |
CN101013264A (zh) | 放射线敏感性组合物、滤色器和液晶显示元件 | |
CN112851547B (zh) | 芴肟酯类化合物及其制备方法、感光性树脂组合物 | |
CN107463067A (zh) | 黑色感光性树脂组成物及其应用 | |
TWI680960B (zh) | 肟酯化合物以及包括該肟酯化合物的光聚合性組合物 | |
CN108864154A (zh) | 一种利用Cu(I)催化制备的有机二阶非线性光学双发色团及其制备方法和应用 | |
TWI700335B (zh) | 著色劑化合物、包括該化合物的著色組成物、以及包括該著色組成物的彩色濾光片及包括該彩色濾光片的顯示裝置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |