CN103155183B - 具有减小的外延应力的发光器件 - Google Patents

具有减小的外延应力的发光器件 Download PDF

Info

Publication number
CN103155183B
CN103155183B CN201180049451.9A CN201180049451A CN103155183B CN 103155183 B CN103155183 B CN 103155183B CN 201180049451 A CN201180049451 A CN 201180049451A CN 103155183 B CN103155183 B CN 103155183B
Authority
CN
China
Prior art keywords
luminescent device
metal level
channel
ray structure
cte
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201180049451.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103155183A (zh
Inventor
F.S.迪亚纳
Y.魏
S.夏亚菲诺
B.J.莫兰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Koninklijke Philips Electronics NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koninklijke Philips Electronics NV filed Critical Koninklijke Philips Electronics NV
Priority to CN201610808930.9A priority Critical patent/CN106159055B/zh
Publication of CN103155183A publication Critical patent/CN103155183A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103155183B publication Critical patent/CN103155183B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/36Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
    • H01L33/40Materials therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/64Heat extraction or cooling elements
    • H01L33/641Heat extraction or cooling elements characterized by the materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/12Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a stress relaxation structure, e.g. buffer layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/483Containers
    • H01L33/486Containers adapted for surface mounting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/52Encapsulations
    • H01L33/56Materials, e.g. epoxy or silicone resin
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/62Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/64Heat extraction or cooling elements
    • H01L33/642Heat extraction or cooling elements characterized by the shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/64Heat extraction or cooling elements
    • H01L33/644Heat extraction or cooling elements in intimate contact or integrated with parts of the device other than the semiconductor body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/64Heat extraction or cooling elements
    • H01L33/647Heat extraction or cooling elements the elements conducting electric current to or from the semiconductor body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)

Abstract

元件被添加到发光器件以减小发光器件中由热循环造成的应力。可替换地或者附加地,基于材料的热膨胀系数和它们的相对成本选择材料用于在发光器件中形成接触,铜合金不如金昂贵并且提供比铜低的热膨胀系数。发光器件的元件也可以被结构化从而在热循环期间分配应力。

Description

具有减小的外延应力的发光器件
技术领域
本发明涉及发光器件的领域,并且具体地涉及具有减小的外延应力的发光器件(LED)的制造。
背景技术
随着发光二极管(LED)的发光能力持续改善,它们在传统照明应用中的使用持续增加,以成本有效方式提供可靠持久产品的竞争压力也持续增加。由于这些器件的日益增长的市场,即使LED产品成本较低,每个器件节约甚至几分钱可以对利润率具有显著影响。
为了减小LED器件的成本,铜可以取代金作为用于LED管芯的电接触的体金属。然而金仍然是提供倒装芯片配置中LED与其载具之间的高效和可靠的电和机械互连的优选金属,在该倒装芯片配置中LED管芯的上层附着到载具,并且来自LED的光从与载具相对的表面发射。
图1A说明发光器件100的传统倒装芯片载具配置。载具可包括接触120形成于其上的底座110;接触可以被电镀125以促进与倒装芯片接触150的连接145。倒装芯片可包括生长衬底170、发光元件160、互连层165和接触150。在倒装芯片附着到载具之后,通常为蓝宝石或其它刚性材料的生长衬底170可以被移除。
图1A中说明通过通道130分离的两个接触120,该通道提供两个接触130之间的电隔离。按照相似方式,接触150被说明为通过通道135分离。通道135可以小于通道130,从而增加由接触150提供到互连层165和发光元件170的支撑量。在移除生长衬底170期间,这种增加的支撑会是特别有利的。另外,通道130可以大于通道135,从而在倒装芯片被放置在载具上时容纳潜在的对齐不准确。
图1B说明在生长衬底170被移除之后,当发光器件100经历高温时可能造成的示例性热形变190。此形变190可能在制造期间以及每次发光器件100从切断到接通循环时出现。形变190会对互连层165和发光元件160引起反复的应力,并且会造成器件100永久失效。附加地,发光器件的上层175可以被蚀刻以增大发光元件170的光提取效率,这可能导致上层175更易遭受应力引起的失效。
发明内容
将有利的是,减轻由热循环造成的发光器件中应力的量。将有利的是,减轻此应力而不显著增加发光器件的成本。
在此发明的实施例中,元件被添加到发光器件以减小由热循环造成的应力。可替换地或者附加地,基于材料的热膨胀系数和它们的相对成本选择材料用于在发光器件中形成接触,铜合金提供比铜低的热膨胀系数。发光器件的元件也可以被结构化从而在热循环期间分配应力。
该发光器件可包括:载具;发光结构,其具有金属层,该金属层具有通过通道分离的接触;以及一个或多个元件,其被添加以减小发光结构中通道附近的热致应力。所添加的元件例如可包括:发光结构中金属层和发光元件之间的缓冲层,金属层中的一个或多个间隙,通道中的填料材料,载具上的接触之间的填料材料,以及在毗邻通道的区域中的附加微凸块。
发光器件也可以或者可替换地使用具有较低CTE的合金用于该金属层。可以使用铜合金,其例如包括CuNi、CuNiTi、CuW、CuFe和CuMo。该合金的CTE优选地低于铜的CTE(约16ppm/K),更优选地小于10ppm/K,以及更优选地小于8ppm/K。
附图说明
参考附图更详细地并且通过示例方式解释本发明,在附图中:
图1A-1B说明在载具发光器件上的示例性倒装芯片。
图2说明在金属层上具有缓冲层的示例性发光器件。
图3说明具有毗邻通道的增加密度的互连材料的示例性发光器件。
图4说明具有添加到金属层的间隙的示例性发光器件。
相同附图标记在各图中始终表示相似或对应的特征或功能。附图被包括用于说明目的并且不是旨在限制本发明的范围。
具体实施方式
在下述说明书中,出于解释而非限制的目的,阐述了诸如具体架构、界面、技术等的特定细节,从而提供对本发明构思的彻底理解。然而本领域技术人员将显见,本发明可以在背离这些特定细节的其它实施例中实践。按照类似方式,此说明书的文本是针对如各图中说明的示例性实施例,并且不是旨在将所要求保护的发明限制为超出权利要求中明确包括的限制。出于简化和清楚的原因,省略了对公知器件、电路和方法的详细描述,从而不由于不必要的细节而模糊本发明的说明书。
为了便于参考,因为应力会在发光元件160的最上/表面层175(下文称为外延层)表现得最显著,此公开内容将解决在外延层175处的应力,不过本领域技术人员将意识到应力引起的失效会出现在发光元件160或互连165中的任何位置。因此,诸如'外延层开裂'的术语被解释为'外延层或者外延层下的任何层开裂'。按照类似方式,包括接触150的层可包括接触以外的元件;为了便于参考,术语'金属层150'在下文用于表示对发光元件160提供支撑的金属层。
金已经表现为用于形成图1A和1B的发光器件的金属层150的合适材料。为了减小成本,已经提出使用铜替代金用于此金属层150。然而,铜到铜互连不会为发光器件100提供期望可靠性;因此,金可以被用作连接材料145,其可以为微凸块层的形式。按此方式,如果金属层120的电镀层125也是金,则金到金互连可以被形成,从而提供倒装芯片和载具之间更可靠的电和/或热互连。
铜具有110GPa的杨氏模量,该杨氏模量大于金的杨氏模量,金的杨氏模量为77GPa(或者经退火的金丝为26GPa)。此外,铜具有比金小得多的塑性效应。因此,将铜用于金属层150减小了如果/当生长衬底170被移除时外延层175开裂的可能性。然而,在热循环期间,铜金属层将引入比金金属层显著更大的形变190,这会增大在热循环期间外延层175开裂的可能性。
另外,如果金微凸块145被用在铜金属层150和载具之间,由铜金属层150造成的形变190的量可能将更显著,因为金是相对柔顺的材料,允许铜金属层150在通道135的边缘抬升得甚至更远。
在实施例中,被选择用于金属层150的材料是基于其热膨胀系数(CTE)选择。具体地,具有比铜低的热膨胀系数的合金可以用于形成金属层150。例如,此合金可包括CuNi、CuNiTi、CuW、CuFe、CuMo等。NiTi合金会是非常有效的,因为它具有负CTE。
铜在20-250C的温度范围内具有16-18.5ppm/K的CTE。此CTE远高于用于形成发光器件的大多数其它材料,并且远高于氧化铝的CTE,氧化铝可以被用作载具,具有小于10ppm/K的CTE。将铜与低或甚至负CTE材料形成合金将提供CTE比铜小的合金。
有限元分析(FEA)已经演示了当金属层的CTE从18ppm/K减小到8ppm/K时,由热循环造成的最大应力可以从1481MPa向下减小到384.5MPa。为了获得8ppm/K的CTE,可以使用电镀工艺形成Ni、TiNi、W、Fe、Mo等等的铜合金。具体地,Ti0.507Ni0.493合金具有-21ppm/K的负CTE,并且会是最有效的。
如图2中说明,可替换地或者附加地,诸如金或铝的柔顺金属化层210可以被引入在金属层150和互连160之间,从而充当金属层150和互连165之间的缓冲以吸收一些由热循环造成的应力。
诸如金或铝的较软材料的层210可以被应用,对应于用于形成金属层150的图案。此层250充当缓冲以减轻金属层150与上层160和165之间的CTE失配。已经估计1μm厚金层可以将外延层150中的最大主应力减小多达42%,并且3μm厚金层可以将外延层150中的最大主应力减小49%。代替此柔顺材料的连续层,可以使用一层微凸块进一步增强此缓冲层的柔顺性。
另外,可替换地或附加地,可以减小微凸块层145的柔顺性。正如引入缓冲以吸收一部分由热循环造成的形变那样,减小微凸块层的柔顺性将有助于约束此畸变。例如通过下述可以减小柔顺性:通过减小微凸块层145的高度,或者特别是在通道135附近,如在图3的310所说明,通过增加微凸块的密度或尺寸。
可替换地或附加地,通道区域130或135可以用具有与金属层150的材料更接近的CTE的材料填充,由此提供更加热一致的层,减小畸变190。
LED 100可以用硅树脂包覆成形,该硅树脂被成形或定形以形成透镜。由于透镜包覆成形材料将可能流入通道130和135,并且会具有大约200ppm/K的CTE,其热膨胀将进一步增大金属层150的畸变以及外延层175中的相应应力。通过用更低CTE的材料填充载具侧面上的通道130,通道中的热膨胀以及来自此膨胀的效应将被减小。另外,通过用具有与金属层150的CTE更接近的CTE的材料填充通道135,金属层150的膨胀和翘曲将减小。
如图4中说明,可替换地或者附加地,金属层150可以被结构化或图案化以减小由热循环造成的应力。
例如,用于形成金属层150的掩模可包括小的间隙或沟槽410,即未金属化区域,该未金属化区域用于重新分配金属层150与上层160和165之间的CTE失配的效应。这些间隙410使由于层150热膨胀在上层160和165中引发的横向应力和应变分裂,由此也减轻在通道135上方的区域的应力。
尽管本发明已经在附图和前述说明书中予以详细说明和描述,这种说明和描述被认为是说明性或示例性的,而不是限制性的;本发明不限于所公开的实施例。
本领域技术人员在实践所要求保护的发明时,通过研究附图、公开内容和所附权利要求可以理解和达成对所公开实施例的其它变动。在权利要求中,措辞"包括"不排除其它元件或步骤,并且不定冠词"一"("a"或"an")不排除多个。单个处理器或其它单元可以完成在权利要求中列举的若干项目的功能。在互不相同的从属权利要求中阐述某些措施的纯粹事实并不表示不能有利地使用这些措施的组合。计算机程序可以存储/分配于与其它硬件一起或者作为其它硬件的一部分一起被供应的合适介质,诸如光学存储介质或固态介质,但是也可以以其它形式分配,诸如经由因特网或其它有线或无线远程通信系统。权利要求中的任何附图标记不应解读为限制范围。

Claims (17)

1.一种发光器件,包括:
载具,其具有通过至少一个第一通道(130)分离的第一接触(120),
发光结构,其具有金属层,该金属层具有通过至少一个第二通道(135)分离的第二接触(150),
将所述发光结构与所述载具进行耦合的互连材料(145); 以及
一个或多个元件,其被添加到该发光结构以减小该发光结构中第二通道附近的热致应力,
其中该一个或多个元件包括通过该金属层的一个或多个间隙(410),所述间隙位置设为将应力分配到第二通道附近之外。
2.根据权利要求1的发光器件,其中该一个或多个元件包括位于发光结构中金属层和发光元件之间的缓冲层(210),该缓冲层具有比该金属层高的柔顺性。
3.根据权利要求2的发光器件,其中该缓冲层(210)包括金。
4.根据权利要求1的发光器件,其中该一个或多个元件包括在第二通道(135)中的填料材料,该填料材料基于其CTE被选择。
5.根据权利要求1的发光器件,其中该一个或多个元件包括在第一通道(130)中的填料材料,该填料材料基于其CTE被选择。
6.根据权利要求1的发光器件,
其中该金属层包括在20-250℃的温度范围内具有比铜的CTE小的CTE的合金。
7.根据权利要求6的发光器件,其中该合金包括铜合金。
8.根据权利要求7的发光器件,其中该铜合金包括下述中的至少一种:CuNi、CuNiTi、CuW、CuFe和CuMo。
9.根据权利要求7的发光器件,其中该铜合金包括CuNiTi。
10.根据权利要求6的发光器件,其中该合金在20-250℃的温度范围内的CTE小于10ppm/K。
11.根据权利要求6的发光器件,其中该合金在20-250℃的温度范围内的CTE小于8ppm/K。
12.一种发光器件,包括:
载具,其具有通过至少一个第一通道(130)分离的第一接触(120),以及
发光结构,其具有金属层,该金属层具有通过至少一个第二通道(135)分离的第二接触(150),
一个或多个元件,其被添加到该发光结构以减小该发光结构中第二通道附近的热致应力,
其中每个所述第二接触通过连接材料(145)耦合到相应的第一接触,所述连接材料(145)包括布置在与所述第二通道毗邻的第二接触上的区域中的多个第一微凸块以及布置在与所述第二通道远离的第二接触上的区域中的多个第二微凸块,其中所述多个第一微凸块的密度大于所述多个第二微凸块的密度,以减小在所述第二通道附近的所述发光结构中的热致应力。
13.根据权利要求12的发光器件,其中该发光结构包括倒装芯片结构。
14.根据权利要求12的发光器件,其中该金属层包括合金。
15.根据权利要求14的发光器件,其中该合金包括铜合金。
16.根据权利要求15的发光器件,其中该铜合金包括下述中的至少一种:CuNi、CuNiTi、CuW、CuFe和CuMo。
17.根据权利要求15的发光器件,其中该铜合金包括CuNiTi。
CN201180049451.9A 2010-10-12 2011-10-07 具有减小的外延应力的发光器件 Active CN103155183B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610808930.9A CN106159055B (zh) 2010-10-12 2011-10-07 具有减小的外延应力的发光器件

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US39234910P 2010-10-12 2010-10-12
US61/392,349 2010-10-12
US61/392349 2010-10-12
PCT/IB2011/054430 WO2012049602A1 (en) 2010-10-12 2011-10-07 Light emitting device with reduced epi stress

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610808930.9A Division CN106159055B (zh) 2010-10-12 2011-10-07 具有减小的外延应力的发光器件

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103155183A CN103155183A (zh) 2013-06-12
CN103155183B true CN103155183B (zh) 2016-10-05

Family

ID=44906268

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610808930.9A Active CN106159055B (zh) 2010-10-12 2011-10-07 具有减小的外延应力的发光器件
CN201180049451.9A Active CN103155183B (zh) 2010-10-12 2011-10-07 具有减小的外延应力的发光器件

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610808930.9A Active CN106159055B (zh) 2010-10-12 2011-10-07 具有减小的外延应力的发光器件

Country Status (7)

Country Link
US (2) US9093630B2 (zh)
EP (1) EP2628192B1 (zh)
JP (2) JP5919284B2 (zh)
KR (1) KR101881178B1 (zh)
CN (2) CN106159055B (zh)
TW (1) TWI569476B (zh)
WO (1) WO2012049602A1 (zh)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101098338B1 (ko) * 2005-04-22 2011-12-26 삼성전자주식회사 광학 패키지, 광학 렌즈 및 이를 갖는 백라이트 어셈블리및 표시장치
CN106159055B (zh) 2010-10-12 2019-04-23 皇家飞利浦电子股份有限公司 具有减小的外延应力的发光器件
TW201320253A (zh) * 2011-11-01 2013-05-16 Walsin Lihwa Corp 封裝結構及其製造方法
JP2014013818A (ja) * 2012-07-04 2014-01-23 Sony Corp デバイスおよび電子装置
CN104576907B (zh) * 2014-12-18 2017-10-24 上海大学 倒装led芯片封装结构
WO2016197077A1 (en) * 2015-06-05 2016-12-08 Sensor Electronic Technology, Inc. Heterostructure with stress controlling layer
JP7224020B2 (ja) * 2015-10-15 2023-02-17 スージョウ レキン セミコンダクター カンパニー リミテッド 半導体素子、半導体素子パッケージ、およびこれを含む照明システム
CN106653977B (zh) * 2017-02-24 2018-11-13 厦门多彩光电子科技有限公司 一种倒装芯片封装结构及成型方法
CN108630645A (zh) * 2017-03-17 2018-10-09 永道无线射频标签(扬州)有限公司 一种芯片和天线基材的接合结构及其制备方法
JP7189441B2 (ja) * 2019-04-17 2022-12-14 日亜化学工業株式会社 実装方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1820376A (zh) * 2003-08-08 2006-08-16 维切尔公司 高亮度氮化物微发光二极管及其制造方法
CN101855734A (zh) * 2007-11-15 2010-10-06 松下电器产业株式会社 半导体发光装置

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6514782B1 (en) * 1999-12-22 2003-02-04 Lumileds Lighting, U.S., Llc Method of making a III-nitride light-emitting device with increased light generating capability
JP3912044B2 (ja) * 2001-06-06 2007-05-09 豊田合成株式会社 Iii族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法
JP4029843B2 (ja) * 2004-01-19 2008-01-09 豊田合成株式会社 発光装置
JP2006066868A (ja) * 2004-03-23 2006-03-09 Toyoda Gosei Co Ltd 固体素子および固体素子デバイス
JP4568092B2 (ja) * 2004-11-17 2010-10-27 Dowaホールディングス株式会社 Cu−Ni−Ti系銅合金および放熱板
US7125734B2 (en) 2005-03-09 2006-10-24 Gelcore, Llc Increased light extraction from a nitride LED
US7736945B2 (en) * 2005-06-09 2010-06-15 Philips Lumileds Lighting Company, Llc LED assembly having maximum metal support for laser lift-off of growth substrate
US7754507B2 (en) * 2005-06-09 2010-07-13 Philips Lumileds Lighting Company, Llc Method of removing the growth substrate of a semiconductor light emitting device
TWI394300B (zh) * 2007-10-24 2013-04-21 Advanced Optoelectronic Tech 光電元件之封裝結構及其製造方法
US7566913B2 (en) * 2005-12-02 2009-07-28 Nitronex Corporation Gallium nitride material devices including conductive regions and methods associated with the same
US20070148467A1 (en) * 2005-12-23 2007-06-28 World Properties, Inc. Thermal management circuit materials, method of manufacture thereof, and articles formed therefrom
JP2007267650A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Toshiba Corp 神経毒性を検出するための方法およびキット
US8062925B2 (en) * 2006-05-16 2011-11-22 Koninklijke Philips Electronics N.V. Process for preparing a semiconductor light-emitting device for mounting
TWI301331B (en) * 2006-05-17 2008-09-21 Epistar Corp Light emitting device
WO2007148866A1 (en) * 2006-06-23 2007-12-27 Lg Electronics Inc. Light emitting diode having vertical topology and method of making the same
US20080149946A1 (en) * 2006-12-22 2008-06-26 Philips Lumileds Lighting Company, Llc Semiconductor Light Emitting Device Configured To Emit Multiple Wavelengths Of Light
US7682959B2 (en) 2007-03-21 2010-03-23 Stats Chippac, Ltd. Method of forming solder bump on high topography plated Cu
JP2009302159A (ja) * 2008-06-10 2009-12-24 Seiko Epson Corp 発光ダイオード装置および電子機器
JP5361569B2 (ja) * 2008-06-26 2013-12-04 京セラ株式会社 半導体発光素子及びその製造方法
TW201010122A (en) * 2008-08-21 2010-03-01 Univ Nat Central Flip-chip light-emitting diode having the epitaxy strengthening layer, and fabrication method thereof
CN106159055B (zh) 2010-10-12 2019-04-23 皇家飞利浦电子股份有限公司 具有减小的外延应力的发光器件

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1820376A (zh) * 2003-08-08 2006-08-16 维切尔公司 高亮度氮化物微发光二极管及其制造方法
CN101855734A (zh) * 2007-11-15 2010-10-06 松下电器产业株式会社 半导体发光装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN106159055A (zh) 2016-11-23
US20130193476A1 (en) 2013-08-01
JP5919284B2 (ja) 2016-05-18
JP2013539922A (ja) 2013-10-28
KR20130118883A (ko) 2013-10-30
WO2012049602A1 (en) 2012-04-19
EP2628192A1 (en) 2013-08-21
KR101881178B1 (ko) 2018-07-23
JP6171043B2 (ja) 2017-07-26
TW201222881A (en) 2012-06-01
JP2016165002A (ja) 2016-09-08
US9660164B2 (en) 2017-05-23
EP2628192B1 (en) 2018-08-08
TWI569476B (zh) 2017-02-01
US9093630B2 (en) 2015-07-28
CN106159055B (zh) 2019-04-23
CN103155183A (zh) 2013-06-12
US20150318459A1 (en) 2015-11-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103155183B (zh) 具有减小的外延应力的发光器件
JP6374062B2 (ja) マイクロledモジュール及びその製造方法
TW200425450A (en) Leadframe, plastic-encapsulated semiconductor device, and method for fabricating the same
US20050095875A1 (en) Fabrication method of semiconductor package with heat sink
US20090152696A1 (en) Semiconductor device
US20070029683A1 (en) Method for fabricating semiconductor package with heat sink
US10084110B2 (en) Low warpage wafer bonding through use of slotted substrates
US20090050930A1 (en) Light-emitting device and the manufacturing method thereof
KR20090015430A (ko) 패드 재배열을 이용한 반도체 발광 다이오드 및 그의제조방법
JP6056146B2 (ja) 半導体レーザ装置
CN104953000A (zh) 发光二极管及发光装置
CN205159366U (zh) 发光元件
TWI307175B (en) Non-substrate light emitting diode and fabrication method thereof
CN110634853A (zh) 具有可伸张软性载板的发光装置
US20200235271A1 (en) Carrier and Component with a Buffer Layer, and Method for Producing a Component
JP2004253719A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP4872394B2 (ja) 放熱板及びこの放熱板を備えた半導体装置
JP2013077728A (ja) Led発光素子用リードフレーム及びそれを用いたledパッケージ、およびその製造方法
JP2013211422A (ja) Led用リードフレーム及びその製造方法並びにled装置
KR102198918B1 (ko) 엘이디 금속 기판
KR20070037883A (ko) 방열핀과 이를 이용한 발광소자
JP5946128B2 (ja) パワーモジュール
TWM399431U (en) Thermally enhanced thin flip-chip package

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: Eindhoven, Netherlands

Patentee after: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.

Address before: Eindhoven, Netherlands

Patentee before: KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.

TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20200716

Address after: Holland Schiphol

Patentee after: KONINKLIJKE PHILIPS NV

Address before: Eindhoven, Netherlands

Patentee before: KONINKLIJKE PHILIPS N.V.