CN103135375B - 电子照相感光构件、电子照相感光构件的生产方法、处理盒和电子照相设备 - Google Patents

电子照相感光构件、电子照相感光构件的生产方法、处理盒和电子照相设备 Download PDF

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Abstract

本发明涉及电子照相感光构件、电子照相感光构件的生产方法、处理盒和电子照相设备。在具有包含通过聚合具有链聚合性官能团的化合物而获得的聚合物的表面层的电子照相感光构件中，所述具有链聚合性官能团的化合物包含由式(1)表示的化合物。

Description

电子照相感光构件、电子照相感光构件的生产方法、处理盒和电子照相设备
技术领域
本发明涉及电子照相感光构件、电子照相感光构件的生产方法、处理盒和电子照相设备。 
背景技术
近年来，为了延长电子照相感光构件的寿命和改善其图像品质并且增加电子照相设备的处理速度的目的，期望改善包含有机光导电性物质的有机电子照相感光构件(下文中称为"电子照相感光构件")的机械耐久性(耐磨耗性)。为了改善机械耐久性，根据一种技术，电子照相感光构件的表面层包含通过聚合具有聚合官能团的化合物而生产的聚合物。 
日本专利特开2000-066425公开了通过将借助于聚合具有两个以上的链聚合性官能团的电荷输送性化合物而获得的聚合物添加至电子照相感光构件的表面层来改善电子照相感光构件的耐磨耗性和电位稳定性的技术。日本专利特开2010-156835公开了通过将借助于聚合具有两个以上的甲基丙烯酰氧基的电子输送化合物而获得的聚合物添加至表面层来改善具有链聚合性官能团(甲基丙烯酰氧基)的电荷输送性化合物的聚合性的技术。 
然而，如果使用具有两个以上的链聚合性官能团的电荷输送性化合物，电荷输送性结构在链聚合中容易变形。结果，有时得不到高电位稳定性。因此，日本专利特开2007-241140公开了将通过将包含具有单一链聚合性官能团的电荷输送性化合物以及具有三个以上的链聚合性官能团但不具有电荷输送性结构 的化合物的组合物聚合而获得的聚合物添加至表面层的技术。日本专利特开2009-015306公开了通过使用具有单一链聚合性官能团和其中亚烷基插入链聚合性官能团和电荷输送性结构之间的电荷输送性化合物而得到高电位稳定性的技术。 
然而，从通过本发明的发明人进行的研究发现以下。即，在日本专利特开2007-241140和2009-015306中公开的具有单一链聚合性官能团的电荷输送性化合物中，有助于链聚合反应的链聚合性官能团在一个分子中的比例低，在具有单一链聚合性官能团的电荷输送性化合物中不进行聚合反应的可能性比在具有两个以上的链聚合性官能团的电荷输送性化合物中的可能性高。因此，残余电位趋于增加。 
发明内容
本发明提供具有表面层的电子照相感光构件，所述表面层包含通过聚合具有链聚合性官能团的化合物而获得的聚合物。在电子照相感光构件中，残余电位显著降低。本发明还提供电子照相感光构件的生产方法。本发明还提供各自包括该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。 
这些可通过下述本发明来实现。 
在本发明的一方面中，电子照相感光构件包括支承体和形成于支承体上的感光层，其中电子照相感光构件的表面层包括可通过聚合由下式(1)表示的化合物而获得的聚合物。 
在式(1)中，Ar1和Ar2各自独立地表示取代的苯基。Ar3表示未取代或取代的亚苯基。M为上述由式(M)表示的基团，在式(M)中，n表3或4。取代的苯基的取代基和取代的亚苯基的取代基各自独立地为甲基、乙基、正丙基、甲氧基、乙氧基或丙氧基。 
在本发明的另一方面中，生产上述电子照相感光构件的方法包括以下步骤：通过使用包含由式(1)表示的化合物的表面层涂布液而形成表面层用涂层，并通过聚合在涂层中的由式(1)表示的化合物而形成表面层。 
在本发明的另一方面中，可拆卸地安装于电子照相设备的主体的处理盒一体化支承电子照相感光构件和选自由充电装置、显影装置、转印装置和清洁装置组成的组中的至少一种装置。 
在本发明的另一方面中，电子照相设备包括电子照相感光构件、充电装置、曝光装置、显影装置和转印装置。 
本发明可提供具有表面层的电子照相感光构件，所述表面层包含通过聚合具有链聚合性官能团的化合物而获得的聚合物。在电子照相感光构件中，残余电位显著降低。本发明还可以提供电子照相感光构件的生产方法。本发明还可以提供各自包括电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。 
本发明的进一步特征将参考附图从以下示例性实施方案的描述中变得显而易见。 
附图说明
图1A和1B为各自示出根据本发明实施方案的电子照相感光构件的层结构的实例的示意图。 
图2为示出包括处理盒的电子照相设备的实例的示意图，所述处理盒包括根据本发明实施方案的电子照相感光构件。 
具体实施方式
在本发明的实施方案中，电子照相感光构件的表面层包括通过聚合由式(1)表示的化合物而获得的聚合物。 
本发明的发明人认为根据本发明实施方案的电子照相感光构件在减少残余电位方面是优良的原因如下。 
由式(1)表示的化合物是一种具有单一链聚合性官能团的电荷输送性化合物。具有单一链聚合性官能团的电荷输送性化合物具有相对高的电荷输送性结构与链聚合性官能团的比例，并且由于与单一链聚合性官能团的聚合而趋于提供稳定的分子取向。因此，能够期望该化合物的聚合物展示高的电位稳定性。 
然而，在具有单一链聚合性官能团的电荷输送性化合物中不进行聚合反应的可能性比在具有两个以上的链聚合性官能团的电荷输送性化合物中的可能性大。因此，认为沿膜深度方向容易出现不均匀聚合，由此残余电位趋于增加。另外，如果电荷输送性结构的自由度过大，容易引起电荷输送性结构之间的微聚集(microaggregation)。还认为在其中电荷输送性结构的密度在聚合之后低的部分残余电位增加。 
作为通过本发明的发明人进行研究的结果，从日本专利特开2010-156835中发现了：当使用具有单一甲基丙烯酰氧基的电荷输送性化合物时，与使用具有丙烯酰氧基的电荷输送性化合物的情况相比，聚合反应迅速进行，并且聚合效率相对增加。然而，发现了：由于通过甲基丙烯酰氧基的聚合反应速率的增加，电荷输送性结构引起依赖于电荷输送性结构的尺寸和官能团的空间位阻，因而阻止聚合效率充分增加或容易引起电荷输送性结构之间的微聚集。还发现使用日本专利特开2009-015306中公开的技术仅通过将亚烷基插入电荷输送性结构和甲基丙烯 酰氧基之间，残余电位不会充分减少。 
作为通过本发明的发明人进行的深入研究的结果，发现了：为了减少残余电位，电荷输送性结构和甲基丙烯酰氧基之间的亚烷基需要具有按照电荷输送性结构的骨架和尺寸的适当长度。还发现需要设置适当的取代基以抑制电荷输送性结构之间的微聚集和聚合效率的降低。 
根据本发明实施方案的电子照相感光构件的表面层包括通过聚合由下式(1)表示的化合物而获得的聚合物。 
在式(1)中，Ar1和Ar2各自独立地表示取代的苯基。取代的苯基的取代基实例包括甲基、乙基、正丙基、甲氧基、乙氧基和丙氧基。如果取代的苯基的取代基为除了上述取代基以外的取代基，则该取代基在聚合反应期间引起空间位阻，并且聚合反应不充分进行。当Ar1和Ar2各自独立地表示未取代的苯基时，聚合效率不降低，但是引起三苯胺结构之间的微聚集，因而残余电位容易增加。Ar3表示未取代或取代的亚苯基。取代的亚苯基的取代基的实例包括甲基、乙基、正丙基、甲氧基、乙氧基和丙氧基。如果取代的亚苯基的取代基为除了上述取代基以外的取代基，则该取代基在聚合反应期间引起空间位阻，并且聚合效率降低。 
在式(1)中，M为由上式(M)表示的基团，在式(M)中，n表示 3或4。当n为0以上且2以下时，亚烷基的长度相对于三苯胺结构不足够大。因此，电荷输送性结构由于通过甲基丙烯酰氧基的聚合反应速率的增加而引起空间位阻，并且聚合效率降低。结果，沿膜深度方向容易发生不均匀聚合。当n为5以上的整数时，三苯胺结构的自由度过度增加。因此，容易引起三苯胺结构之间的微聚集，并且残余电位容易增加。另外，如果氧原子或亚苯基存在于亚烷基和甲基丙烯酰氧基之间，则在聚合反应期间从该氧原子或亚苯基处引起断裂。这容易引起聚合效率的减少和三苯胺结构之间的微聚集，因而残余电位容易增加。 
当形成电子照相感光构件的表面层时，由式(1)表示的化合物可以单独使用或以其两种以上的组合使用。 
由式(1)表示的化合物可以通过例如日本专利特开2005-227761中公开的合成方法来合成。由式(1)表示的化合物的具体实例描述如下，但是本发明不限于此。示例化合物中的M3和M4各自为作为由式(M)表示的基团的具体实例的甲基丙烯酰氧基。具体结构如下描述。 
感光层可以为包含电荷产生物质和电荷输送物质的单层感光层，或者包括含有电荷产生物质的电荷产生层和含有电荷输送物质的电荷输送层的多层(功能分离的)感光层。根据本发明实施方案的电子照相感光构件可以具有多层感光层。电荷输送 层也可以具有多层结构。电荷输送层可覆盖有保护层。 
图1A和1B为各自示出根据本发明实施方案的电子照相感光构件的层结构的实例的示意图。图1A和1B中的层结构包括支承体101、电荷产生层102、电荷输送层103和保护层(第二电荷输送层)104。如果必要的话，底涂层(中间层)可以设置在支承体101和电荷产生层102之间。术语根据本发明实施方案的电子照相感光构件的"表面层"是指最外层。例如，在具有图1A中示出的层结构的电子照相感光构件中，电子照相感光构件的表面层为电荷输送层103。在具有图1B中示出的层结构的电子照相感光构件中，电子照相感光构件的表面层为保护层104。 
根据本发明实施方案的电子照相感光构件能够通过包括以下的方法来生产：使用包含由式(1)表示的化合物的表面层涂布液来形成涂层，并且通过聚合(链聚合)涂层中由式(1)表示的化合物而形成表面层。 
表面层中包含的聚合物可以是通过将包括由式(1)表示的化合物以及包含两个以上的甲基丙烯酰氧基且不包含电荷输送性结构的化合物的组合物聚合而获得的。为抑制由式(1)表示的化合物的三苯胺结构之间的微聚集并减少残余电位，可以使用由下式(A)表示的化合物(金刚烷化合物)。为抑制通过放电产物而引起的残余电位的累积，可以使用由下式(B)表示的化合物和由下式(C)表示的化合物(脲化合物)。金刚烷化合物和脲化合物可以各自具有两个甲基丙烯酰氧基，这是因为在式(1)中展示电荷输送性的三苯胺结构的聚合效率增加。 
在式(A)中，R11至R16各自独立地表示氢原子、甲基、乙基、正丙基、三氟甲基、羟基、甲氧基、乙氧基、氨基、二甲氨基、三甲基甲硅烷基、氟原子、氯原子或溴原子。X11至X20各自独立地表示单键或亚烷基。P1至P10各自独立地表示氢原子、甲基、乙基、正丙基、三氟甲基、羟基、甲氧基、乙氧基、氨基、二甲氨基、三甲基甲硅烷基、氟原子、氯原子、溴原子或甲基丙烯酰氧基。当X11为单键时，P1和R11可以合并以形成氧基(=O)。当X12为单键时，P2和R12可以合并以形成氧基(=O)。当X13为单键时，P3和R13可以合并以形成氧基(=O)。当X14为单键时，P4和R14可以合并以形成氧基(=O)。当X15为单键时，P5和R15可以合并以形成氧基(=O)。当X16为单键时，P6和R16可以合并以形成氧基(=O)。P1至P10的至少之一为甲基丙烯酰氧基。当P1为甲基丙烯酰氧基时，R11为氢原子。当P2为甲基丙烯酰氧基时，R12为氢原子。当P3为甲基丙烯酰氧基时，R13为氢原子。当P4为甲基丙烯酰氧基时，R14为氢原子。当P5为甲基丙烯酰氧基时，R15为氢原子。当P6为甲基丙烯酰氧基时，R16为氢原子。 
在式(B)和(C)中，R1至R5各自独立地表示甲基、乙基、正丙基、甲氧基甲基、三氟甲基、三氯甲基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、甲氧基甲氧基、三氟甲氧基、三氯甲氧基、二甲氨基或氟原子。X21至X24和X41至X46各自独立地表示亚烷基。P11至P14和P31至P36各自独立地表示氢原子或甲基丙烯酰氧基。P11至P14中的至少两个为甲基丙烯酰氧基。P31至P36中的至少两个为甲基丙烯酰氧基。另外，a、b、g和h各自独立地表示选自0-5的整数，i表示选自0-4的整数，以及c、d、j和k各自独立地表示0或1。 
根据本发明实施方案的电子照相感光构件的表面层可以包含各种添加剂。添加剂的实例包括抗降解剂如抗氧化剂和紫外线吸收剂，润滑剂如聚四氟乙烯(PTFE)树脂微粒和氟碳，以及聚合控制剂如聚合引发剂和聚合终止剂。表面层可以包含由下式(D)、(E)或(F)表示的化合物(脲化合物)，其能够抑制通过放电产物引起的残余电位的累积。 
在式(D)、(E)和(F)中，R31至R34、R41至R46、和R51至R58各自独立地表示烷基。Ar32、Ar42和Ar43，以及Ar52至Ar54各自独立地表示未取代或取代的亚芳基。取代的亚芳基的取代基为烷基、烷氧基取代的烷基、卤素取代的烷基、烷氧基、烷氧基取代的烷氧基、卤素取代的烷氧基或卤素原子。Ar31、Ar33、Ar41、Ar44、Ar51和Ar55各自独立地表示未取代或取代的芳基，或者稠环。取代的芳基的取代基为羧基、氰基、二烷基氨基、羟基、烷基、烷氧基取代的烷基、卤素取代的烷基、烷氧基、烷氧基取代的烷氧基、卤素取代的烷氧基、硝基或卤素原子。 
表面层可以包含选自由以下化合物组成的组的至少一种化合物：由下式(G)表示的化合物和由下式(H)表示的化合物。这些化合物可以使源自由式(1)表示的化合物的甲基丙烯酰氧基的大量自由基(radical)失活，并且控制甲基丙烯酰氧基之间的聚合反应。因此，抑制沿膜深度方向的不均匀聚合，因而残余电位能够减少。从控制聚合反应的角度，由下式(G)表示的化合物和由下式(H)表示的化合物的量各自为聚合物总质量的5ppm以上且1500ppm以下，优选5ppm以上且100ppm以下，和更优选10ppm以上且90ppm以下。 
在式(G)和(H)中，R71至R74、R76、R77、R79和R80各自独立地表示氢原子、羟基、未取代或取代的烷基、未取代或取代的芳基、或者未取代或取代的烷氧基。R71和R74的至少之一，R72和R73的至少之一，R76和R80的至少之一，和R77和R79的至少之一各自独立地表示氢原子、甲基或羟基。R75和R78各自独立地表示氢原子、未取代或取代的烷基、或者未取代或取代的芳基。R75和R78的至少之一为氢原子。取代的烷基的取代基、取代的芳基的取代基和取代的烷氧基的取代基各自为羧基、氰基、二烷基氨基、羟基、烷基、烷氧基取代的烷基、卤素取代的烷基、烷氧基、烷氧基取代的烷氧基、卤素取代的烷氧基、硝基或卤素原子。 
由式(G)表示的化合物的实例包括苯醌类如对苯醌、2,6-二甲基-对苯醌、甲基-对苯醌和叔丁基-对苯醌。由式(H)表示的化合物的实例包括氢醌单甲基醚、氢醌和2,5-双(叔丁基)-1,4-苯二酚(2,5-bis(tert-butyl)-1,4-benzenediol)。 
在式(H)中，R75可以为氢原子，和R78可以为取代或未取代的烷基、或者取代或未取代的芳基。另外，R78可以为甲基，特别地，可以为氢醌单甲基醚。 
在由式(A)至(H)表示的化合物中，烷基的实例包括甲基、乙基和正丙基。亚烷基的实例包括亚甲基、亚乙基和亚正丙基。烷氧基取代的烷基的实例包括甲氧基甲基和乙氧基甲基。卤素取代的烷基的实例包括三氟甲基和三氯甲基。烷氧基的实例包括甲氧基和乙氧基。烷氧基取代的烷氧基的实例包括甲氧基甲 氧基和乙氧基甲氧基。卤素取代的烷氧基的实例包括三氟甲氧基和三氯甲氧基。卤素原子的实例包括氟原子、氯原子和溴原子。二烷基氨基的实例包括二甲氨基和二乙氨基。 
用于表面层涂布液的溶剂的实例包括醇溶剂如甲醇、乙醇和丙醇；酮溶剂如丙酮、甲乙酮和环己酮；酯溶剂如乙酸乙酯和乙酸丁酯；醚溶剂如四氢呋喃和二噁烷；卤素溶剂如1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷、二氯甲烷、二氯乙烷和氯苯；芳香族溶剂如苯、甲苯和二甲苯；和溶纤剂溶剂如甲基溶纤剂和乙基溶纤剂。这些溶剂可以单独使用或以其两种以上的组合来使用。 
根据本发明实施方案的电子照相感光构件的结构描述如下。 
支承体
用于根据本发明实施方案的电子照相感光构件的支承体为例如由铝、铝合金或不锈钢制成的具有导电性的支承体(导电性支承体)。铝或铝合金支承体可以为ED管、EI管、或者通过切削、电化学机械抛光、或者湿式或干式搪磨(honing)ED或EI管而制成的支承体。金属支承体或树脂支承体可以覆盖有导电性材料如铝、铝合金或氧化铟-氧化锡合金制成的薄膜。支承体的表面可以进行切削、表面粗糙化或耐酸铝处理(alumite treatment)。 
用于电子照相感光构件的支承体可以为通过将树脂等用导电性颗粒如炭黑、氧化锡颗粒、氧化钛颗粒或银颗粒浸渍而获得的支承体。支承体也可以为包含导电性粘结剂树脂的塑料。 
在根据本发明实施方案的电子照相感光构件中，包含导电性颗粒和树脂的导电层可以形成于支承体上。在将包含导电性颗粒和树脂的导电层形成于支承体上的方法中，导电层包含含有导电性颗粒的粉末。导电性颗粒的实例包括炭黑；乙炔黑；金属如铝、镍、铁、镍铬合金、铜、锌和银的粉末；金属氧化 物如导电性氧化锡和氧化铟锡(ITO)的粉末。 
用于导电层的树脂的实例包括丙烯酸类树脂、醇酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、丁醛树脂、聚缩醛树脂、聚氨酯、聚酯、聚碳酸酯和三聚氰胺树脂。 
用于导电层涂布液的溶剂的实例包括醚溶剂、醇溶剂、酮溶剂和芳族烃溶剂。导电层的厚度优选为0.2μm以上且40μm以下和更优选5μm以上且40μm以下。 
根据本发明实施方案的电子照相感光构件可以包括支承体或导电层与感光层之间的底涂层。底涂层能够通过将包含树脂的底涂层涂布液施涂至支承体或导电层上并将底涂层涂布液干燥或硬化而形成。 
用于底涂层的树脂的实例包括聚丙烯酸、甲基纤维素、乙基纤维素、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺酰亚胺树脂、聚酰胺酸树脂、三聚氰胺树脂、环氧树脂和聚氨酯树脂。底涂层可以包含上述导电性颗粒。 
用于底涂层涂布液的溶剂的实例包括醚溶剂、醇溶剂、酮溶剂和芳族烃溶剂。底涂层的厚度优选为0.05μm以上且40μm以下和更优选0.4-20μm。底涂层可以包含半导电性颗粒、电子输送物质或电子接受物质。 
感光层
在根据本发明实施方案的电子照相感光构件中，感光层(电荷产生层、电荷输送层)形成于支承体、导电层或底涂层上。 
用于根据本发明实施方案的电子照相感光构件的电荷产生物质实例包括吡喃鎓、噻喃鎓染料、酞菁化合物、二苯并[cd,jk]芘-5,10-二酮颜料、二苯并芘醌颜料、皮蒽酮颜料、偶氮颜料、靛蓝颜料、喹吖啶酮颜料和喹啉菁(quinocyanine)颜料。电荷产生物质可以为镓酞菁。鉴于高感光度，可以特别使用在CuKα特 征X-射线衍射中在布拉格角2θ为7.4°±0.3°和28.2°±0.3°处具有强峰的羟基镓酞菁晶体。 
电荷产生层能够通过施涂电荷产生层涂布液并干燥电荷产生层涂布液来形成。电荷产生层涂布液通过将电荷产生物质与粘结剂树脂和溶剂一起分散来制备。电荷产生层可以为由电荷产生物质制成的蒸发膜。 
在根据本发明实施方案的多层感光层的电荷产生层中使用的粘结剂树脂的实例包括聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、丁醛树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、丙烯酸类树脂、乙酸乙烯酯树脂和尿素树脂。粘结剂树脂可以特别地为丁醛树脂。这些树脂可以单独使用或以其两种以上的组合作为混合物或共聚物来使用。 
在电荷产生层中，粘结剂树脂的含量相对于1质量份电荷产生物质可以为0.3质量份以上且4质量份以下。可以用均质器、超声波、球磨机、砂磨机、超微磨碎机或辊磨机来进行分散。 
用于电荷产生层涂布液的溶剂的实例包括醇溶剂、亚砜溶剂、酮溶剂、醚溶剂、酯溶剂和芳族烃溶剂。电荷产生层的厚度优选为0.01μm以上且5μm以下和更优选0.1μm以上且1μm以下。电荷产生层可以任选地包含各种添加剂如敏化剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂和增塑剂。 
在具有多层感光层的电子照相感光构件中，电荷输送层形成于电荷产生层上。在当电荷输送层为图1A中示出的表面层的情况下，电荷输送层通过使用包含溶解于溶剂中的由式(1)表示的化合物的电荷输送层涂布液来形成涂层，并且聚合(链聚合)涂层中的由式(1)表示的化合物来形成。在当保护层为图1B中示出的表面层的情况下，电荷输送层可以通过使用包含溶解于溶剂中的电荷输送物质和粘结剂树脂的电荷输送层涂布液而形成涂层并干燥涂层来形成。 
在当保护层为图1B中示出的表面层的情况下，用于电荷输送层的电荷输送物质的实例包括三芳胺化合物、腙化合物、茋化合物、吡唑啉化合物、噁唑化合物、噻唑化合物和三烯丙基甲烷化合物。 
在当保护层为图1B中示出的表面层的情况下，用于电荷输送层的粘结剂树脂的实例包括聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚芳酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、苯氧基树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、丙烯酸类树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚酰胺树脂、聚乙烯基吡啶、纤维素树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、琼脂糖树脂、干酪素、聚乙烯醇树脂和聚乙烯基吡咯烷酮。 
在当保护层为图1B中示出的表面层的情况下，电荷输送物质的比例相对于电荷输送层的总质量可以为30质量%以上且70质量%以下。 
在当保护层为图1B中示出的表面层的情况下，用于电荷输送层涂布液的溶剂的实例包括醚溶剂、醇溶剂、酮溶剂和芳族烃溶剂。电荷输送层的厚度可以为5μm以上且40μm以下。 
根据本发明的实施方案，保护层可以形成于电荷输送层上。保护层能够通过使用包含溶解于溶剂中的由式(1)表示的化合物的保护层涂布液形成涂层，并且聚合(链聚合)涂层中的由式(1)表示的化合物来形成。 
在当保护层包含具有甲基丙烯酰氧基但不具有电荷输送功能的化合物的情况下，由式(1)表示的化合物的比例相对于保护层涂布液的总固成分可以为50质量%以上且小于100质量%。 
保护层的厚度可以为2μm以上且20μm以下。 
这些涂布液能够通过例如，浸涂法(浸渍)、喷涂法、旋涂法、珠涂法、刮刀涂法或束流涂法来施涂。 
在形成表面层时的聚合反应描述如下。具有链聚合性官能 团(甲基丙烯酰氧基)的化合物可以利用热、光(例如紫外线)或辐射线(例如电子束)来聚合。此类化合物可以利用辐射线、特别地电子束来聚合。 
利用电子束的聚合可以产生具有非常高密度的三维网络结构并且得到高电位稳定性。由于利用电子束的聚合有效地进行并且在短时间内完成，因此生产性高。在用电子束照射的情况下，可以使用扫描型、电子帘(electrocurtain)型、宽束型、脉冲型或层(laminar)型的加速器。 
在以下条件下用电子束进行照射。根据本发明的实施方案，当电子束的加速电压为120kV以下时，电子束不引起材料性质的显著劣化而同时维持聚合效率。对于电子照相感光构件表面的电子束吸收剂量优选为5kGy以上且50kGy和更优选1kGy以上且10kGy以下。 
当根据本发明实施方案的具有链聚合性官能团的化合物利用电子束聚合时，在惰性气氛中用电子束进行照射，然后在惰性气氛中进行加热以防止氧抑制聚合。惰性气体的实例包括氮气、氩和氦。 
图2为示出包括处理盒的电子照相设备的实例的示意图，所述处理盒包括根据本发明实施方案的电子照相感光构件。 
在图2中，根据本发明实施方案的鼓型电子照相感光构件1围绕轴2沿由箭头指示的方向在预定的圆周速度(处理速度)下旋转。在旋转期间，将电子照相感光构件1的周面通过充电装置(一次充电装置)3在预定的电位下均匀地正或负充电。然后，响应预期图像信息的时间序列电子数字图像信号，电子照相感光构件1用从曝光装置(未示出)如狭缝曝光装置或激光束扫描曝光装置中发出的强度调制的曝光光4照射。因而，对应于预期图像信息的静电潜像连续地形成于电子照相感光构件1的表面上。 
然后将静电潜像用显影装置5中的调色剂进行常规或反转显影，并使其作为调色剂图像可见。将形成于电子照相感光构件1的表面上的调色剂图像通过转印装置6连续地转印至转印材料7。将与电子照相感光构件1的旋转同步地从进纸器(未示出)中取出的转印材料7进给至电子照相感光构件1和转印装置6之间。将具有与调色剂的电荷极性相反的极性的偏置电压从偏置电源(未示出)施加至转印装置6。转印装置可以为包括一次转印构件、中间转印构件和二次转印构件的中间转印装置。 
然后将其上已经转印调色剂图像的转印材料7从电子照相感光构件1的表面分离，并且传送至定影装置8。在将调色剂图像定影之后，转印材料7作为图像形成品(如打印件或复印件)从电子照相设备中输出。 
将已经转印调色剂图像之后的电子照相感光构件1的表面通过用清洁装置9除去沉积物如残余调色剂来清洁。可以用显影装置等回收残余调色剂。如果有必要，用来自预曝光装置(未示出)的预曝光光10除电，并且将电子照相感光构件1重复用于图像形成。在充电装置3为接触充电装置如充电辊的情况下，预曝光不是必要的。 
根据本发明的实施方案，可以将选自电子照相感光构件1、充电装置3、显影装置5、转印装置6和清洁装置9的多个组件容纳入容器中从而提供处理盒。该处理盒可以可拆卸地安装于电子照相设备如复印机或激光束打印机的主体。例如，选自由充电装置3、显影装置5、转印装置6和清洁装置9组成的组中的至少一种装置可以与电子照相感光构件1一起一体化支承从而提供处理盒11，所述处理盒11可拆卸地安装于使用导向单元12如主体的导轨的电子照相设备的主体上。 
实施例 
现在基于实施例和比较例将进一步详细地描述本发明。在实施例中，"份"是指"质量份"。 
实施例1 
将直径为30mm、长度为357.5mm和厚度为1mm的铝圆筒用作支承体(导电性支承体)。 
接下来，将50份包覆有包含10%氧化锑的氧化锡的氧化钛颗粒(商品名：ECT-62，由Titan Kogyo,Ltd.制造)、25份可溶性酚醛树脂(商品名：Phenolite J-325，由Dainippon Ink andChemicals,Inc.制造，固成分：70质量%)、20份甲基溶纤剂、5份甲醇和0.002份硅油(平均分子量为3000的聚二甲基硅氧烷-聚氧化烯共聚物)用使用直径为0.8mm的玻璃珠的砂磨机分散2小时以制备导电层涂布液。 
将导电层涂布液通过浸涂法施涂至支承体上并在140℃下干燥30分钟从而形成厚度为15μm的导电层。 
随后，将2.5份尼龙6-66-610-12四元共聚物树脂(商品名：CM8000，由Toray Industries,Inc.制造)和7.5份N-甲氧基甲基化6尼龙树脂(商品名：Toresin EF-30T，由Nagase ChemteXCorporation制造)溶解于100份甲醇和90份丁醇的混合溶剂中以制备底涂层涂布液。 
将底涂层涂布液通过浸涂法施涂至导电层上并在100℃下干燥10分钟从而形成厚度为0.7μm的底涂层。 
随后，制备11份羟基镓酞菁晶体(电荷产生物质)。该晶体在CuKα特征X-射线衍射中在布拉格角(2θ±0.2°)为7.4°和28.2°处具有强峰。然后，将5份聚乙烯醇缩丁醛树脂(商品名：S-LECBX-1，由Sekisui Chemical Co.,Ltd.制造)和130份环己酮添加至其，并将该混合物与500份直径为1mm的玻璃珠一起在1800rpm下分散2小时，同时将该混合物用18℃下的冷却水冷却。分散之 后，将该混合物用300份乙酸乙酯和160份环己酮稀释以制备电荷产生层涂布液。 
如用由Horiba,Ltd.制造的、其原理基于液相沉降的离心式粒度分析仪(商品名：CAPA 700)测量的，在电荷产生层涂布液中的羟基镓酞菁晶体的平均粒径(中值)为0.18μm。 
将电荷产生层涂布液通过浸涂法施涂至底涂层上并在110℃下干燥10分钟从而形成厚度为0.17μm的电荷产生层。 
接下来，将5份由下式(2)表示的化合物(电荷输送物质)、5份由下式(3)表示的化合物(电荷输送物质)和10份聚碳酸酯树脂(商品名：Iupilon Z400，由Mitsubishi Gas Chemical Co.,Inc.制造)溶解于70份一氯苯和30份二甲氧基甲烷的混合溶剂中以制备电荷输送层涂布液。 
将电荷输送层涂布液通过浸涂法施涂至电荷产生层上并在100℃下干燥30分钟从而形成厚度为18μm的电荷输送层。 
接下来，将80份用作由式(1)表示的化合物的示例化合物(1A-1)、20份三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯(商品名：MiramerM301，由TOYO CHEMICALS CO.,LTD.制造)和0.005份氢醌单甲基醚(由TOKYO CHEMICAL INDUSTRY Co.,Ltd.制造)溶解于100份正丙醇。另外，将100份1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷(商品名：ZEORORA H，由ZEON CORPORATION制造)添加至该混合物以制备保护层涂布液。 
将保护层涂布液通过浸涂法施涂至电荷输送层上，并且将 所得膜在50℃下加热处理5分钟。然后在氮气气氛中在加速电压70kV和吸收剂量50000Gy下用电子束照射该膜1.6秒。然后将该膜在氮气气氛中在膜的温度为130℃的条件下加热处理30秒。在氧浓度为19ppm下进行从电子束照射至30秒加热处理的工序。因而，形成厚度为5μm的保护层。 
由此，生产电子照相感光构件。电子照相感光构件包括支承体、导电层、底涂层、电荷产生层、电荷输送层和保护层。保护层为表面层。 
实施例2-5和7-9
除了使用表1中列出的示例化合物作为由式(1)表示的化合物来制备保护层涂布液以外，以与实施例1中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例6
除了使用40份示例化合物(1A-1)和40份示例化合物(1A-2)的混合物作为由式(1)表示的化合物来制备保护层涂布液以外，以与实施例1中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例10和11
除了使用表1中列出的示例化合物作为由式(1)表示的化合物且不使用三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯来制备保护层涂布液以外，以与实施例1中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例12和13
除了使用三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(商品名：MiramerM300，由TOYO CHEMICALS CO.,LTD.制造)代替三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯和使用表1中列出的示例化合物作为由式(1)表示的化合物来制备保护层涂布液以外，以与实施例1中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例14和15
除了使用以下由式(A-1)表示的化合物代替三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯和使用表1中列出的示例化合物作为由式(1)表示的化合物来制备保护层涂布液以外，以与实施例1中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例16
除了使用以下由式(A-2)表示的化合物代替三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯和使用表1中列出的示例化合物作为由式(1)表示的化合物来制备保护层涂布液以外，以与实施例1中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例17
除了通过将示例化合物(1A-1)的量从80份变为60份和将由式(A-2)表示的化合物的量从20份变为40份来制备保护层涂布液以外，以与实施例16中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例18
除了通过将示例化合物(1A-1)的量从80份变为40份和将由式(A-2)表示的化合物的量从20份变为60份来制备保护层涂布液以外，以与实施例16中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例19
除了使用表1中列出的示例化合物作为由式(1)表示的化合物来制备保护层涂布液以外，以与实施例16中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例20和21
除了使用以下由式(B-1)表示的化合物代替三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯和使用表1中列出的示例化合物作为由式(1)表示的化合物来制备保护层涂布液以外，以与实施例1中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例22和23
除了使用以下由式(C-1)表示的化合物代替三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯和使用表1中列出的示例化合物作为由式(1)表示的化合物来制备保护层涂布液以外，以与实施例1中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例24
除了通过将示例化合物(1A-1)的量从80份变为75份和添加5份下述由式(D-1)表示的化合物来制备保护层涂布液以外，以与实施例1中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例25
除了使用表1中列出的示例化合物作为由式(1)表示的化合物来制备保护层涂布液以外，以与实施例24中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例26
除了以下以外，以与实施例1中相同的方式来生产电子照相感光构件。将实施例1中的保护层涂布液变为通过以下制备的保护层涂布液：将80份示例化合物(1A-1)、20份三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯(商品名：Miramer M301，由TOYO CHEMICALSCO.,LTD.制造)、0.005份氢醌单甲基醚(由TOKYO CHEMICALINDUS TRY Co.,Ltd.制造)和1份1-羟基环己基苯基酮(商品名：Irgacure 184，由Ciba Specialty Chemicals制造)溶解于100份正丙醇并且进一步添加100份1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷(商品名：ZEORORA H，由ZEON CORPORATION制造)。将保护层涂布液通过浸涂法施涂至电荷输送层上，并且将所得膜在50℃下加热处理5分钟，用来自金属卤化物灯的光以照射强度500mW/cm2照射20秒，然后在膜的温度为130℃的条件下加热处理30分钟从而形成厚度为5μm的保护层。 
实施例27
除了使用表1中列出的示例化合物作为由式(1)表示的化合物来制备保护层涂布液以外，以与实施例26中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例28
除了通过用电子束在氮气气氛中以加速电压50kV和吸收剂量5000Gy进行照射1.6秒来形成保护层以外，以与实施例1中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例29
除了使用表1中列出的示例化合物作为由式(1)表示的化合物来制备保护层涂布液以外，以与实施例28中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例30
在实施例1中，不形成保护层，并且将电荷输送层涂布液变为通过以下制备的电荷输送层涂布液：将80份示例化合物(1A-1)、20份三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯(商品名：MiramerM301，由TOYO CHEMICALS CO.,LTD.制造)和0.005份氢醌单甲基醚(由TOKYO CHEMICAL INDUSTRY Co.,Ltd.制造)溶解于100份正丙醇并进一步添加100份1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷(商品名：ZEORORA H，由ZEON CORPORATION制造)。将电荷输送层涂布液通过浸涂法施涂至电荷产生层，并且将所得膜在50℃下加热处理5分钟。然后在氮气气氛中以加速电压70kV和吸收剂量50000Gy用电子束照射该膜1.6秒。然后将该膜在氮气气氛中在膜的温度为130℃的条件下加热处理30秒。在氧浓度为19ppm下进行从电子束照射至30秒加热处理的工序。因而，形成厚度为10μm的电荷输送层。因此，生产如下的电子照相感光构件，所述电子照相感光构件包括支承体、导电层、底涂层、电荷产生层和电荷输送层，并且其中电荷输送层为表面层。 
实施例31
除了使用表1中列出的示例化合物作为由式(1)表示的化合物来制备电荷输送层涂布液以外，以与实施例30中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例32和33
除了使用表1中列出的示例化合物作为由式(1)表示的化合物且不使用氢醌单甲基醚来制备保护层涂布液以外，以与实施例1中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
实施例34
除了通过将氢醌单甲基醚的量从0.005份变为0.15份来制备保护层涂布液以外，以与实施例1中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
比较例
以下比较化合物(R-1)至(R-15)用作由式(1)表示的化合物的比较化合物。 
比较例1至15
除了使用表1中列出的比较化合物作为由式(1)表示的化合物且不使用氢醌单甲基醚来制备保护层涂布液以外，以与实施例1中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
比较例16和17
除了使用表1中列出的比较化合物作为由式(1)表示的化合物且不使用氢醌单甲基醚来制备保护层涂布液以外，以与实施例10中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
比较例18和19
除了使用表1中列出的比较化合物作为由式(1)表示的化合物且不使用氢醌单甲基醚来制备保护层涂布液以外，以与实施例12中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
比较例20和21
除了使用表1中列出的比较化合物作为由式(1)表示的化合物且不使用氢醌单甲基醚来制备保护层涂布液以外，以与实施例14中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
比较例22和23
除了使用表1中列出的比较化合物作为由式(1)表示的化合物且不使用氢醌单甲基醚来制备保护层涂布液以外，以与实施例16中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
比较例24和25
除了使用表1中列出的比较化合物作为由式(1)表示的化合物且不使用氢醌单甲基醚来制备保护层涂布液以外，以与实施例20中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
比较例26和27
除了使用表1中列出的比较化合物作为由式(1)表示的化合物来制备保护层涂布液以外，以与实施例32中相同的方式来生 产电子照相感光构件。 
比较例28和29
除了使用表1中列出的比较化合物作为由式(1)表示的化合物且不使用氢醌单甲基醚来制备电荷输送层涂布液以外，以与实施例30中相同的方式来生产电子照相感光构件。 
表1 
评价电子照相感光构件
实施例1-34和比较例1-29的电子照相感光构件如下评价。 
链聚合性官能团残存率如下测定。 
用剃刀除去距各所生产的电子照相感光构件的一端179mm的表面层部分。将表面层部分进行傅里叶变换红外衰减全反射光谱研究以测定在聚合反应中未涉及的残存的链聚合性官能团(甲基丙烯酰氧基或丙烯酰氧基)的IR峰比例。将由PerkinElmer Instruments制造的Spectrum One FT-IR Spectrometer用作傅里叶变换红外光谱仪。测定在1394cm-1以上且1413cm-1以下的波数的归属于甲基丙烯酰氧基的末端烯烃(CH2=)的面内弯曲振动的峰面积。测定在1689cm-1以上且1759cm-1以下的波数的归属于甲基丙烯酰氧基的羰基(C=O)的伸缩振动的峰面积。计算烯烃峰面积与羰基峰面积的比例作为残存的链聚合性官能团的IR峰比例。测定在1400cm-1以上且1413cm-1以下的波数的归属于丙烯酰氧基的末端烯烃(CH2=)的面内弯曲振动的峰面积。测定在1699cm-1以上且1769cm-1以下的波数的归属于丙烯酰氧基的羰基(C=O)的伸缩振动的峰面积。计算烯烃峰面积与羰基峰面积的比例作为残存的链聚合性官能团的IR峰比例。表2和3示出结果。 
电子照相感光构件的残余电位如下评价。 
将各所生产的电子照相感光构件固定至由Gen-Tech,Inc.制造的鼓式试验机CYNTHIA 59。测量初始残余电位和电子照相感光构件旋转1000转之后的残余电位。使用电晕式(scorotron)电晕充电器将电子照相感光构件表面充电。一次电流设定为150μA。设定栅压(grid voltage)以致施加至电子照相感光构件表面的电压为-750V。卤素灯用作预曝光光源。使用676-nm干扰滤波器测定预曝光光的波长以致预曝光光的光量为其中亮区电位为-200V的光量的5倍。旋转速度为每转0.20秒。在30℃温度和 80%湿度下进行评价。表2和3示出结果。 
表2 
表3 
虽然已经参考示例性实施方案来描述本发明，但是应理解 本发明不限于公开的示例性实施方案。以下权利要求的范围应符合最宽泛的解释以便涵盖所有此类改造以及等同的结构和功能。 

Claims (10)

1.一种电子照相感光构件，其包括：
支承体；和
形成于所述支承体上的感光层，
其中所述电子照相感光构件的表面层包含可通过聚合由下式(1)表示的化合物而获得的聚合物；
其中，在所述式(1)中，
Ar1和Ar2各自独立地表示取代的苯基，
Ar3表示未取代或取代的亚苯基，
M为由上式(M)表示的基团，在所述式(M)中，n表示3或4，和
所述取代的苯基的取代基和所述取代的亚苯基的取代基各自独立地为甲基、乙基、正丙基、甲氧基、乙氧基或丙氧基；
其中所述表面层进一步包括醌衍生物，所述醌衍生物为选自由以下化合物组成的组中的至少一种化合物：
由下式(G)表示的化合物，和
由下式(H)表示的化合物，
其中所述醌衍生物在所述表面层中的含量相对于所述聚合物的总质量为不小于5ppm且不大于1500ppm；
其中，在所述式(G)和(H)中，
R71至R74、R76、R77、R79和R80各自独立地表示氢原子、羟基、未取代或取代的烷基、未取代或取代的芳基、或者未取代或取代的烷氧基，
R71和R74的至少之一为氢原子、甲基或羟基，
R72和R73的至少之一为氢原子、甲基或羟基，
R76和R80的至少之一为氢原子、甲基或羟基，
R77和R79的至少之一为氢原子、甲基或羟基，
R75和R78各自独立地表示氢原子、未取代或取代的烷基、或者未取代或取代的芳基，和
R75和R78的至少之一为氢原子。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，
其中所述聚合物可通过聚合包含以下物质的组合物而获得：
所述由式(1)表示的化合物，和
包含两个以上的甲基丙烯酰氧基并且不包含电荷输送性结构的化合物。
3.根据权利要求2所述的电子照相感光构件，
其中所述包含两个以上的甲基丙烯酰氧基并且不包含电荷输送性结构的化合物为由下式(A)表示的化合物；和
其中，在所述式(A)中，
R11至R16各自独立地表示氢原子、甲基、乙基、正丙基、三氟甲基、羟基、甲氧基、乙氧基、氨基、二甲氨基、三甲基甲硅烷基、氟原子、氯原子或溴原子，
X11至X20各自独立地表示单键或亚烷基，
P1至P10各自独立地表示氢原子、甲基、乙基、正丙基、三氟甲基、羟基、甲氧基、乙氧基、氨基、二甲氨基、三甲基甲硅烷基、氟原子、氯原子、溴原子或甲基丙烯酰氧基，
P1至P10中的至少两个为甲基丙烯酰氧基，
然而，当X11为单键时，P1和R11可以合并以形成氧基(＝O)，当X12为单键时，P2和R12可以合并以形成氧基(＝O)，当X13为单键时，P3和R13可以合并以形成氧基(＝O)，当X14为单键时，P4和R14可以合并以形成氧基(＝O)，当X15为单键时，P5和R15可以合并以形成氧基(＝O)，以及当X16为单键时，P6和R16可以合并以形成氧基(＝O)，和
当P1为甲基丙烯酰氧基时，R11为氢原子，当P2为甲基丙烯酰氧基时，R12为氢原子，当P3为甲基丙烯酰氧基时，R13为氢原子，当P4为甲基丙烯酰氧基时，R14为氢原子，当P5为甲基丙烯酰氧基时，R15为氢原子，和当P6为甲基丙烯酰氧基时，R16为氢原子。
4.根据权利要求2所述的电子照相感光构件，
其中所述包含两个以上的甲基丙烯酰氧基并且不包含电荷输送性结构的化合物为选自由以下化合物组成的组中的至少一种化合物：由下式(B)表示的化合物和由下式(C)表示的化合物；和
其中，在所述式(B)和(C)中，
R1至R5各自独立地表示甲基、乙基、正丙基、甲氧基甲基、三氟甲基、三氯甲基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、甲氧基甲氧基、三氟甲氧基、三氯甲氧基、二甲氨基或氟原子，
X21至X24和X41至X46各自独立地表示亚烷基，
P11至P14和P31至P36各自独立地表示氢原子或甲基丙烯酰氧基,
P11至P14中的至少两个为甲基丙烯酰氧基，
P31至P36中的至少两个为甲基丙烯酰氧基，
a、b、g和h各自独立地表示选自0-5的整数，
i表示选自0-4的整数，和
c、d、j和k各自独立地表示0或1。
5.根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件，
其中所述表面层进一步包含选自由以下化合物组成的组中的至少一种化合物：由下式(D)表示的化合物、由下式(E)表示的化合物和由下式(F)表示的化合物；和
其中，在所述式(D)、(E)和(F)中，
R31至R34、R41至R46、以及R51至R58各自独立地表示烷基，
Ar32、Ar42和Ar43、以及Ar52至Ar54各自独立地表示未取代或取代的亚芳基，
Ar31、Ar33、Ar41、Ar44、Ar51和Ar55各自独立地表示未取代或取代的芳基或稠环，
所述取代的亚芳基的取代基为烷基、烷氧基取代的烷基、卤素取代的烷基、烷氧基、烷氧基取代的烷氧基、卤素取代的烷氧基或卤素原子，和
所述取代的芳基的取代基为羧基、氰基、二烷基氨基、羟基、烷基、烷氧基取代的烷基、卤素取代的烷基、烷氧基、烷氧基取代的烷氧基、卤素取代的烷氧基、硝基或卤素原子。
6.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，
其中所述由式(H)表示的化合物为氢醌单甲基醚。
7.一种生产根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件的方法，
其中所述方法包括以下步骤：
通过使用包含所述由式(1)表示的化合物的表面层涂布液形成表面层用涂层，和
通过所述涂层中的所述由式(1)表示的化合物的聚合而形成表面层。
8.根据权利要求7所述的方法，
其中通过用电子束照射所述涂层来实现所述由式(1)表示的化合物的聚合。
9.一种处理盒，其可拆卸地安装于电子照相设备的主体上，其中所述处理盒一体化支承：
根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件，和
选自由充电装置、显影装置、转印装置和清洁装置组成的组中的至少一种装置。
10.一种电子照相设备，其包括：
根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件；
充电装置；
曝光装置；
显影装置；和
转印装置。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5875455B2 (ja) 2011-05-24 2016-03-02 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、電子写真装置、電子写真感光体の製造方法、及びウレア化合物
JP5680015B2 (ja) 2011-05-24 2015-03-04 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、および電子写真装置
JP5546574B2 (ja) * 2011-11-30 2014-07-09 キヤノン株式会社 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
JP6226714B2 (ja) * 2013-11-22 2017-11-08 キヤノン株式会社 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
JP6391400B2 (ja) * 2014-09-30 2018-09-19 キヤノン株式会社 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
JP6628555B2 (ja) * 2015-10-30 2020-01-08 キヤノン株式会社 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
JP7034769B2 (ja) * 2018-02-28 2022-03-14 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP7054366B2 (ja) * 2018-05-31 2022-04-13 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
JP7150485B2 (ja) * 2018-05-31 2022-10-11 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP7059112B2 (ja) * 2018-05-31 2022-04-25 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真画像形成装置
JP7059111B2 (ja) * 2018-05-31 2022-04-25 キヤノン株式会社 電子写真感光体およびその製造方法、並びにプロセスカートリッジおよび電子写真画像形成装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1577114A (zh) * 2003-07-25 2005-02-09 佳能株式会社 电子照相感光体、处理盒和电子照相装置
JP2005062302A (ja) * 2003-08-08 2005-03-10 Canon Inc 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
CN101762995A (zh) * 2008-12-25 2010-06-30 富士施乐株式会社 电子照相感光体、处理盒和成像设备

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2660574B2 (ja) * 1989-05-25 1997-10-08 富士写真フイルム株式会社 電子写真感光体
US5232801A (en) * 1991-12-23 1993-08-03 Eastman Kodak Company Hole-transport liquid crystalline polymeric compounds, electrophotographic elements comprising same, and electrophotographic process
JPH05297611A (ja) * 1992-04-17 1993-11-12 Mita Ind Co Ltd 電子写真感光体
JP4011791B2 (ja) 1998-06-12 2007-11-21 キヤノン株式会社 電子写真感光体の製造方法
JP4512495B2 (ja) 2004-01-15 2010-07-28 株式会社リコー 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ
JP2007086522A (ja) * 2005-09-22 2007-04-05 Canon Inc 電子写真感光体並びに該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置
JP2007241140A (ja) 2006-03-10 2007-09-20 Ricoh Co Ltd 像担持体及びそれを用いた画像形成方法、並びに画像形成装置、プロセスカートリッジ
JP2008096520A (ja) * 2006-10-06 2008-04-24 Ricoh Co Ltd 電子写真感光体、及びそれを用いた電子写真方法、電子写真装置、電子写真装置用プロセスカートリッジ、電子写真感光体製造方法
JP5453733B2 (ja) 2007-06-07 2014-03-26 株式会社リコー 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ
JP5194923B2 (ja) * 2008-03-25 2013-05-08 コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 有機感光体
JP4702448B2 (ja) 2008-12-26 2011-06-15 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体及びその製造方法、プロセスカートリッジ、並びに画像形成装置。
US8617778B2 (en) * 2009-12-28 2013-12-31 Ricoh Company, Ltd. Image bearing member, image forming apparatus, and process cartridge
JP5445763B2 (ja) * 2009-12-28 2014-03-19 株式会社リコー 電子写真感光体及び画像形成装置、画像形成装置用プロセスカートリッジ
JP5636690B2 (ja) * 2010-02-25 2014-12-10 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置
JP5691578B2 (ja) * 2011-02-04 2015-04-01 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置
JP5875455B2 (ja) * 2011-05-24 2016-03-02 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、電子写真装置、電子写真感光体の製造方法、及びウレア化合物
JP5697629B2 (ja) * 2011-05-24 2015-04-08 キヤノン株式会社 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1577114A (zh) * 2003-07-25 2005-02-09 佳能株式会社 电子照相感光体、处理盒和电子照相装置
JP2005062302A (ja) * 2003-08-08 2005-03-10 Canon Inc 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置
CN101762995A (zh) * 2008-12-25 2010-06-30 富士施乐株式会社 电子照相感光体、处理盒和成像设备

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