CN102826802A - 一种赤泥免烧轻质保温砖 - Google Patents

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赵明伦
韩克余
许善文
马昌文
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Abstract

一种赤泥免烧轻质保温砖,采用重量份配比,赤泥60、珠岩15、石粉5、水泥20、硫酸钡0.5、硫酸镁0.05为原料;把上述各种原料混匀后加水搅拌,加水量以能使原料混合体拌成柔软的固体,如揉好的面团状为度,拌好后待2~3小时入模具内成型,成型后脱模、再把砖坯放入50℃温度、湿度70%的场所内预养护12小时,再放入180℃温度、蒸气压力1.2MPa的蒸气炉内养护8小时后出炉,即制成了该种赤泥免烧轻质保温的实心砖。采用本技术方案生产一种免烧轻质保温砖,既能充分利用拜耳法生产氧化铝的废弃物赤泥,减少土地占用和环境污染,又能获得质轻、保温隔热的建筑材料。

Description

一种赤泥免烧轻质保温砖
技术领域
本发明涉及新型建材的技术领域,尤其涉及建筑非墙体的温室、冷库的墙壁建材,是一种赤泥免烧轻质保温砖及生产方法。
背景技术
我国氧化铝生产主要用拜耳法,在生产过程会产生大量有毒有害的固体废弃物,生产一吨氧化铝会产生赤泥1.5~2吨,由于赤泥中含Gao的含量低,含有镭、钍、钾等微量放射元素,PH值高,因此没有很好的利用,大量的赤泥堆积占用大量的土地,并造成周边地下水污染。现虽然有多项用赤泥制砖的技术问世,但是赤泥生产免烧轻质保温墙砖及其生产工艺还未见报道。
发明内容
本发明的目的是,提供一种赤泥免烧轻质保温砖及生产方法,把生产氧化铝产生的废弃物赤泥作为资源利用。
赤泥免烧轻质保温砖采用重量份配比:赤泥60、珠岩15、石粉5、水泥20、硫酸钡0.5、硫酸镁0.05为原料;把上述各种原料混匀后加水搅拌,加水量以能使原料混合体拌成柔软的固体,如揉好的面团状为度,拌好后等待2~3小时后入模具内成型,成型后脱模、再把砖坯放入50℃温度、湿度70%的场所内预养护12小时,再放入180℃温度、蒸气压力1.2mpa的蒸气炉内养护8小时后出炉,或者脱模后直接在露天场所地上自然养护6~8天即制成了该种赤泥免烧轻质保温的实心砖。
赤泥为拜耳法生产氧化铝产生的遗弃物赤泥。采用的珍珠岩为开孔膨胀珍珠岩颗粒,料径为2~3mm,容重为75~80Kg/m3或者采用加入少部分珍珠岩粉替代珍珠岩颗粒、用于替代的珍珠岩粉应在珍珠岩用量的百分之三十以下。采用模具成型是机械化模具成型或者手工模具成型。采用的水泥为普返325硅酸盐水泥。
采用本技术方案的有益效果:采用本技术方案生产一种免烧轻质保温砖,既能充分利用拜耳法生产氧化铝的废弃物赤泥,减少土地占用和环境污染,又能获得质轻、保温隔热的建筑材料。
具体实施方式
采用拜耳法生产氧化铝产生的赤泥为主料,辅助加入颗粒状的开孔膨胀珍珠岩、料径为2~3mm或者替代加入部分粉状珍珠岩,占珍珠岩总量的30%以内添加,还加入水泥、石粉和少量的硫酸钡、硫酸镁。各种料的配比重量份为:赤泥占60、珠岩15、石粉5、水泥20、硫酸钡0.5、硫酸镁0.05。把上述各种料混合均匀后,加入水进行搅拌,加入水量加水量以能使原料混合体拌成柔软的固体,如揉好的面团状为度。搅拌好后等待2小时,让原料吸收水份,再入模成型,成型以后脱模,脱模后的砖坯放入50℃温度、湿度70%的场所预养护12小时,再进入180℃温度、湿度、蒸气压力1.2mpa的蒸气炉内养护8小时出炉,既能获得该产品,该种赤泥免烧砖轻质保温的实心砖有240×120×120和240×120×60两种规格,经测试机械强度达到了GB-15229-2002《轻集料混泥土小型空心砌块》的性能要求,能用于温室、冷库及其它非承重墙体墙壁建材。

Claims (5)

1. 一种赤泥免烧轻质保温砖,其特征是采用重量份配比,赤泥60、珠岩15、石粉5、水泥20、硫酸钡0.5、硫酸镁0.05为原料;把上述各种原料混匀后加水搅拌,加水量以能使原料混合体拌成柔软的固体,如揉好的面团状为度,拌好后待2~3小时入模具内成型,成型后脱模、再把砖坯放入50℃温度、湿度70%的场所内预养护12小时,再放入180℃温度、蒸气压力1.2mpa的蒸气炉内养护8小时后出炉,即制成了该种赤泥免烧轻质保温的实心砖。
2. 根据权利要求1所述的赤泥免烧轻质保温砖,其特征于:所述的赤泥为拜耳法生产氧化铝产生的遗弃物赤泥。
3.根据权利要求1所述的赤泥免烧轻质保温砖,其特征于:所述采用的珍珠岩为开孔膨胀珍珠岩颗粒,料径为2~3mm,容重为75~80Kg/m3或者采用加入少部分珍珠岩粉替代珍珠岩颗粒、用于替代的珍珠岩粉应在珍珠岩用量的百分之三十以下。
4.根据权利要求1所述的赤泥免烧轻质保温砖,其特征于:所述采用模具成型是机械化模具成型或者手工模具成型。
5.根据权利要求1所述的赤泥免烧轻质保温砖,其特征于:所述采用的水泥为普通325硅酸盐水泥。
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PB01 Publication
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C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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